JPH0413652Y2 - - Google Patents

Info

Publication number
JPH0413652Y2
JPH0413652Y2 JP1983123665U JP12366583U JPH0413652Y2 JP H0413652 Y2 JPH0413652 Y2 JP H0413652Y2 JP 1983123665 U JP1983123665 U JP 1983123665U JP 12366583 U JP12366583 U JP 12366583U JP H0413652 Y2 JPH0413652 Y2 JP H0413652Y2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
valve
sampling
gas
sample gas
metering tube
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired
Application number
JP1983123665U
Other languages
English (en)
Other versions
JPS6031663U (ja
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed filed Critical
Priority to JP12366583U priority Critical patent/JPS6031663U/ja
Publication of JPS6031663U publication Critical patent/JPS6031663U/ja
Application granted granted Critical
Publication of JPH0413652Y2 publication Critical patent/JPH0413652Y2/ja
Granted legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Sampling And Sample Adjustment (AREA)

Description

【考案の詳細な説明】 本考案はタール等の高沸点物を含むガスの成分
を測定するガス分析計、例えばプロセスガスクロ
マトグラフのリモートサンプリング装置に関し、
特にサンプリング弁および計量管の洗浄に関する
ものである。
ナフサ分解炉出口などから高温度(例300℃〜
400℃)のサンプルガスを採取してその成分を測
定するような場合、精度良く測定するための要件
の一つは、サンプルガス中の非測定成分であるタ
ールをいかに取り除くかにある。
第1図は従来例におけるサンプリング装置の構
成を示し、1はプロセス流体が流れる管、2は管
1に挿入され、サンプルガスを採取するためのプ
ローブ、3はゲート弁、4は遮断弁である。5は
サンプリングボツクスでこの中には、ガス透過性
膜を用いた第1のフイルタ6、脱脂綿を用いた第
2のフイルタ7、サンプリング弁8、計量管9等
が収納されている。10はアナライザである。な
おサンプリングボツクス5内は例えば160℃に保
温されている。
以上のような構成において、ゲート弁3を通し
て差し込まれたプローブ2から採取されたサンプ
ルガスは、遮断弁4、第1のフイルタ6、第2の
フイルタ7を通りサンプリング弁8へ導かれる。
なお第1のフイルタ6へ導入されたサンプルガス
の一部は矢印A方向へベントする。
サンプリング弁8へ導入されたサンプルガスは
実線で示された経路に沿つて、イ→ロ→計量管9
→ト→チのように流れ矢印B方向へベントする。
この経路をサンプリング弁8が閉の状態とする。
この時アナライザ10からはキヤリアガスが矢印
C方向へ、ハ→ニ→ホ→ヘを経由して矢印D方向
へ流れている。次にサンプリング弁8が開になる
と、点線で示してある部分が開通し、実線で示し
てある部分が閉塞する。するとサンプルガスの一
部は計量管9内に閉じ込められ、その他のサンプ
ルガスは、イ→チをへて矢印B方向へバイパスす
る。そして計量管9内のサンプルガスはキヤリア
ガスの経路に従い、矢印C→ハ→ロ→ト→ヘ→矢
印Dのように流れアナライザ10内に取り込まれ
る。
前記のような従来例においては、フイルターが
2段がまえで設けられてそれなりの効果をもつて
はいるが十分とは言えず、サンプリング弁8や計
量管9内へ侵入するタール分を完全に阻止するま
でには至らない。
タール分がサンプリング弁8や計量管9内へ侵
入すると水分を強く吸着するので、水分が測定成
分である場合は精度不良の原因となり、また水分
が測定成分でない場合であつてもサンプリングバ
ルブの切換不良や早期破損の原因となる。この様
な精度不良やサンプリングバルブの切換不良を防
止する考案として実公昭56−47557が知られてい
る。この考案は4方切換弁側は水蒸気により洗浄
を行い、試料計量弁側は設けた管路から保温した
不活性ガスを試料と共通な入口側から流して試料
計量部を経由させ排出導管側に流すものである。
しかしながらこの様な洗浄方法において、とく
に試料計量部に侵入する凝縮物が粘性の低いもの
であればそれなりに機能するかもしれないが、例
えばタールなどの様に粘性が高いものが含まれて
いた場合、そのタール分を計量部全体の管路に広
げてしまう事になる。そのため精度向上どころか
精度低下に寄与する事になりかねない。本考案は
この様な不具合や第1図に示すようなサンプリン
グ弁8や計量管9内へタールが侵入する事によつ
て引起こされる不具合を解決する為に成されたも
ので計量管9の排出側から加熱した窒素ガスやエ
タンガスを一定のサンプリング周期毎に吹込んで
サンプリング弁や計量管内に付着したタールをプ
ロセス側に押し戻す事によりランニング時間を長
くして、分析精度の劣化防止をはかるとともに故
障の少ないサンプリング装置を提供する事を目的
としたものである。
第2図は本考案実施例の構成図である。第2図
において第1図と同一要素には同一符号を付して
その重複説明は省略するが、この例においては第
1図に示すサンプリングボツクス内にパージガス
導入弁11、余熱管12、三方継手13、ベント
弁14が付加される。(なお、余熱管12は例え
ば250℃程度に加熱する) 本考案による各弁の動作をサンプリング周期を
例えば10分として第2図、第3図により説明す
る。
まず遮断弁4を2分間開く、このときサンプリ
ング弁8、パージガス導入弁11は閉じており、
ベント弁14は開いている。そしてサンプルガス
は第1のフイルター6、第2のフイルター7を経
てサンプリング弁8に入り、実線で示された経路
イ→ロ→計量管9→ト→チのように流れ矢印B方
向へベントする。2分経過後遮断弁4を閉じ同時
にサンプリング弁を開にする。すると計量管9の
中にサンプルガスが閉じ込められると同時に矢印
C方向からサンプリング弁のハ→ニ→ホ→ヘの経
路で流れていたキヤリアガスの流れがハ→ロ→計
量管9→ト→ヘのように切換わりサンプルガスを
アナライザ10内へ取込む。約30秒間経過後サン
プリング弁8を閉にする。サンプリング弁が閉に
なり約30秒経つたらパージガス導入弁11を開き
パージガスを流し同時にベント弁14を閉じる。
するとパージガスは余熱管12、三方継手13を
経てサンプリング弁8に入り前記サンプルガスの
流れと逆方向にチ→ト→計量管9→ロ→イと流
れ、第2のフイルター7、第1のフイルター6を
通つて矢印A方向へベントする。前記パージガス
6としては例えば窒素ガスやエタンガス等を使用
するが、測定ガスと同じ種類か又は測定ガスに近
い成分のガスが望ましい。パージガスの導入は約
7分間行いこの過程で計量管9やサンプリング弁
8内に付着したタールが除去される。そしてこの
パージが終了したらパージガス導入弁11を閉
じ、ベント弁14を開く。次に遮断弁4が開かれ
サンプリングが10分周期で繰り返えされる。
上記構成において、タール分はフイルター6お
よび7を通過してサンプリング弁側に徐々に侵入
してくる訳であるが、本考案においてはある一定
時間毎に計量管の排出側から逆方向にパージして
いるのでその侵入速度を緩めることが出来、長期
間にわたつて高精度の測定が可能となる。
以上実施例と共に具体的に説明した様に、本考
案によれば一定時間毎に計量管の排出側から加熱
した不活性ガスを流し、プロセス側に押し戻す様
にしたので測定精度が高く、サンプリング弁8の
切換不良の起きにくいサンプリング装置を実現で
き、更に余熱管を加熱状態にあるサンプリングボ
ツクス内に配置しているので余熱管の加熱エネル
ギーはこれを常温に配置した場合に比較して少な
くてよく、実用上の効果は大である。
【図面の簡単な説明】
第1図は従来のサンプリング装置を示す構成
図、第2図は本考案によるサンプリング装置を示
す構成図、第3図は弁の動作を示す説明図であ
る。 4……遮断弁、6……第1のフイルター、7…
…第2のフイルター、8……サンプリング弁、9
……計量管、11……パージガス導入弁、12…
…余熱管、13……三方断手、14……ベント
弁。

Claims (1)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. プロセスから採取したサンプルガスが流れる管
    路を開閉する遮断弁と、前記サンプルガスが導入
    されるサンプリング弁と、該サンプリング弁に接
    続された計量管と、少なくとも前記サンプリング
    弁および計量管を加熱状態で収納するサンプリン
    グボツクスを有し、前記遮断弁が開のときに前記
    サンプルガスが前記計量管を通つて流れ、前記サ
    ンプリング弁が開のときに前記サンプルガスを前
    記計量管に閉じこめ、このサンプルガスをキヤリ
    アガスにより搬送する様にしたサンプリング装置
    において、前記計量管の排出側の管路に設けられ
    たベント弁と、該ベント弁と前記計量管を接続す
    る3方弁と、該3方弁に加熱手段を有する管路を
    介して接続されたパージガス導入弁と、前記遮断
    弁、サンプリング弁、ベント弁およびパージガス
    導入弁の開閉を制御するサンプリング周期設定手
    段とを有するとともに、前記加熱手段を前記サン
    プリングボツクス内に配置したことを特徴とする
    サンプリング装置。
JP12366583U 1983-08-09 1983-08-09 サンプリング装置 Granted JPS6031663U (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP12366583U JPS6031663U (ja) 1983-08-09 1983-08-09 サンプリング装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP12366583U JPS6031663U (ja) 1983-08-09 1983-08-09 サンプリング装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS6031663U JPS6031663U (ja) 1985-03-04
JPH0413652Y2 true JPH0413652Y2 (ja) 1992-03-30

Family

ID=30282207

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP12366583U Granted JPS6031663U (ja) 1983-08-09 1983-08-09 サンプリング装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS6031663U (ja)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP7326568B1 (ja) * 2022-09-26 2023-08-15 岩井機械工業株式会社 サンプリングシステム

Family Cites Families (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5139586B2 (ja) * 1973-07-02 1976-10-28
JPS5913638Y2 (ja) * 1979-09-18 1984-04-23 英彦 尾藤 赤道座表目盛を有する外球と地平座標目盛を有する内球とを組合せた天球儀

Also Published As

Publication number Publication date
JPS6031663U (ja) 1985-03-04

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US7730796B2 (en) Method for sampling flue gas for analysis containing gas component having high susceptibility to adsorption
CN104793002B (zh) 一种可实现采样/校准交替等效运行的大气自动监测装置及方法
CN111650104A (zh) 用于焦炉蓄热室的多通道令牌式窜漏分析系统及方法
JPH07113796A (ja) 自動ガス採取方法及び自動ガス分析方法
CN205192809U (zh) 一种火电厂烟气no和汞同时采样和检测的系统
CN108333380B (zh) 一种自动进样装置及其自动进样方法
WO2023093203A1 (zh) 分形态大气汞监测设备及监测方法
CN206756543U (zh) 一种脱硝高温烟气采样预处理装置
JP3651525B2 (ja) ガス試料採取装置
JP3195728B2 (ja) 硫黄成分測定装置
US6513397B2 (en) Process and unit for sampling aldehydes and ketones contained in exhaust gases
CN112362721A (zh) 连续流模式下检测气体中硫同位素的装置和方法
JPS6142212B2 (ja)
CN108693283B (zh) 用于气相色谱法测定磷化氢的自动进样预处理装置及方法
CN210465350U (zh) 一种软体家具中VOCs现场快速检测装置
CN209570559U (zh) 用于气体分析仪的非甲烷总烃测量辅助系统
CN209264376U (zh) 一种气相色谱取样装置
JPS6017729Y2 (ja) サンプリングプロ−ブ
JPH07270316A (ja) 赤外線ガス分析装置
KR102580759B1 (ko) 가스 샘플백 세정장치
JPH04151536A (ja) ガス採取器
CN114720638B (zh) 一种气体分子污染物的监测装置及监测方法
JPS6133548Y2 (ja)
JPS625641Y2 (ja)
JP2853603B2 (ja) 定流量サンプリング装置