JPH01221702A - Production of pellicle film - Google Patents
Production of pellicle filmInfo
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- JPH01221702A JPH01221702A JP63047091A JP4709188A JPH01221702A JP H01221702 A JPH01221702 A JP H01221702A JP 63047091 A JP63047091 A JP 63047091A JP 4709188 A JP4709188 A JP 4709188A JP H01221702 A JPH01221702 A JP H01221702A
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Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明はフォトマスクやレチクルの防塵カバーとしての
ペリクルに使用される反射防止層を有するペリクル膜の
製造方法に関するものである。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Field of Industrial Application] The present invention relates to a method for manufacturing a pellicle film having an antireflection layer used in a pellicle as a dustproof cover for a photomask or reticle.
半導体露光工程において、ペリクルと称する防塵カバー
をフォトマスクまたはレチクルと組合わせて使用するこ
とによって、塵による露光工程への影響を防止し、生産
性を向上する方法が提案されている(特公昭54−28
716号)。ペリクルはペリクル枠の一側面にペリクル
膜を張った構造であり、フォトマスクやレチクルに重ね
て使用される。In the semiconductor exposure process, a method has been proposed for preventing the influence of dust on the exposure process and improving productivity by using a dustproof cover called a pellicle in combination with a photomask or reticle (Japanese Patent Publication No. 54 -28
No. 716). A pellicle has a structure in which a pellicle film is stretched on one side of a pellicle frame, and is used over a photomask or reticle.
このようなペリクルを構成するペリクル膜としては、従
来ニトロセルロースの単層薄膜が主として利用されてい
るが、露光工程におけるスループットの向上等を目的と
してニトロセルロースの透明薄膜上に反射防止層を設け
たペリクル膜が提案されている(特開昭60−2374
50号、特開昭61−53601号あるいは特開昭61
−209449号)。Conventionally, a single-layer thin film of nitrocellulose has been mainly used as the pellicle membrane that makes up such a pellicle, but in order to improve throughput in the exposure process, an anti-reflection layer is provided on a transparent thin film of nitrocellulose. A pellicle membrane has been proposed (Japanese Patent Application Laid-Open No. 60-2374
No. 50, JP-A-61-53601 or JP-A-61
-209449).
このうち特開昭60−237450号には、フッ素系ポ
リマーまたはシリコン系ポリマーを反射防止層として利
用することが記載されているが、フッ素系ポリマーとし
て示されているのはテトラフルオロエチレン・ビニリデ
ンフルオライドコポリマーまたはテトラフルオロエチレ
ン・ビニリデンフルオライド°ヘキサフルオロプロピレ
ンコポリマーである。また特開昭61−53601号に
も、フッ素系ポリマーやシリコン系ポリマーを反射防止
層として使用できることが示されているが、フッ素系ポ
リマーとして具体的に示されているものはテトラフルオ
ロエチレン・ビニリデンフルオライド・ヘキサフルオロ
プロピレンコポリマーである。特開昭61−20944
9号には、 ポリフルオロ(メタ)アクリレートを含む
フッ素系ポリマーが反射防止Mとして使用できると記載
されているが、具体的に説明されているのは前記と同じ
くテトラフルオロエチレン・ビニリデンフルオライド・
ヘキサフルオロプロピレンポリマーである。Among these, JP-A No. 60-237450 describes the use of fluorine-based polymers or silicone-based polymers as antireflection layers, but the fluorine-based polymers shown are tetrafluoroethylene vinylidene fluorocarbons. Ride copolymer or tetrafluoroethylene vinylidene fluoride ° hexafluoropropylene copolymer. JP-A-61-53601 also indicates that fluorine-based polymers and silicone-based polymers can be used as antireflection layers, but the fluorine-based polymers specifically shown are tetrafluoroethylene, vinylidene, etc. It is a fluoride/hexafluoropropylene copolymer. Japanese Patent Publication No. 61-20944
No. 9 states that fluorine-based polymers containing polyfluoro(meth)acrylate can be used as antireflection M, but the specific explanation is similar to the above, such as tetrafluoroethylene vinylidene fluoride.
It is a hexafluoropropylene polymer.
しかしながら、このような従来の反射防止層を有するペ
リクル膜は、それぞれの溶液を基板上に供給して回転製
膜法によって製造されるが、光線透過率が低いうえ、透
明薄膜と反射防止層の接着力が弱いという問題点があっ
た。このため基板上に形成されたペリクル膜を基板から
剥離する際、水中で膨潤剥離する必要があり、乾燥時に
ペリクル膜にシワが発生するおそれがあるうえ、生産性
も悪い。However, such a conventional pellicle film with an antireflection layer is manufactured by a rotational film forming method by supplying each solution onto a substrate, but in addition to having low light transmittance, it is difficult to separate the transparent thin film and the antireflection layer. There was a problem that the adhesive force was weak. Therefore, when the pellicle film formed on the substrate is peeled off from the substrate, it is necessary to swell and peel it off in water, which may cause wrinkles in the pellicle film when drying, and also has poor productivity.
本発明の目的は、光の反射を防止することにより干渉光
の発生を防止することが可能で、高い光線透過率を有す
るペリクル膜を、水中での膨潤剥離やシワの発生なしに
製造することができる方法を提案することである。An object of the present invention is to produce a pellicle film that can prevent the generation of interference light by preventing reflection of light and has high light transmittance without swelling or peeling in water or causing wrinkles. The aim is to propose a method that can do this.
すなわち本発明は、次のペリクル膜の製造方法である。 That is, the present invention is the following method for manufacturing a pellicle membrane.
(1)基板上にセルロース誘導体溶液を供給し、回転製
膜法によってセルロース誘導体薄膜を形成し乾燥したの
ち、一般式
%式%(1)
〔但し、R1はHまたはメチル基、R2は間にエーテル
酸素原子を含んでいてもよいフルオロアルキル基である
。〕
から選ばれる少なくとも1種のモノマーを含みかつ重合
体中のフッ素含有率が50重量%以上である含フツ素ポ
リ(メタ)アクリレートを、この含フツ素ポリ(メタ)
アクリレートを溶解できかつ前記セルロース誘導体を溶
解または膨潤させない溶媒に溶解した重合体溶液を前記
セルロース誘導体薄膜上に供給し、回転製膜法によって
反射防止層を形成することを特徴とする反射防止型ペリ
クル膜の製造方法。(1) A cellulose derivative solution is supplied onto the substrate, a cellulose derivative thin film is formed by a rotary film forming method, and after drying, the general formula % formula % (1) [where R1 is H or a methyl group, and R2 is between It is a fluoroalkyl group which may contain an ether oxygen atom. ] This fluorine-containing poly(meth)acrylate containing at least one monomer selected from the following and having a fluorine content of 50% by weight or more in the polymer
An antireflection type pellicle characterized in that a polymer solution dissolved in a solvent that can dissolve acrylate and does not dissolve or swell the cellulose derivative is supplied onto the cellulose derivative thin film, and an antireflection layer is formed by a rotational film forming method. Membrane manufacturing method.
(2)基板上に一般式
%式%()
〔但し、R1はHまたはメチル基、R1は間にエーテル
酸素原子を含んでいてもよいフルオロアルキル基である
。〕
から選ばれる少なくとも1種のモノマーを含みかつ重合
体中のフッ素含有率が50重量%以上である含フツ素ポ
リ(メタ)アクリレートの溶液を供給し、回転製膜法に
よって薄膜を形成し乾燥したのち、この薄膜上にセルロ
ース誘導体溶液を供給し、回転製膜法によってセルロー
ス誘導体薄膜を形成乾燥後、さらにこのセルロース誘導
体薄膜上に、前記含フツ素ポリ(メタ)アクリレートを
溶解できかつ前記セルロース誘導体を溶解または膨潤さ
せない溶媒に前記含フツ素ポリ(メタ)アクリレートを
溶解した重合体溶液を供給し、回転製膜法によって製膜
することを特徴とする両面に反射防止層が形成された反
射防止型ペリクル膜の製造方法。(2) On the substrate, the general formula % formula % () [However, R1 is H or a methyl group, and R1 is a fluoroalkyl group which may contain an ether oxygen atom between them. ] A solution of fluorine-containing poly(meth)acrylate containing at least one monomer selected from the following and having a fluorine content of 50% by weight or more in the polymer is supplied, a thin film is formed by a rotary film forming method, and then dried. After that, a cellulose derivative solution is supplied onto this thin film, and a cellulose derivative thin film is formed by a rotary film forming method. After drying, the fluorine-containing poly(meth)acrylate is dissolved and the cellulose is further added onto this cellulose derivative thin film. A reflective film in which antireflection layers are formed on both sides, characterized in that a polymer solution in which the fluorine-containing poly(meth)acrylate is dissolved is supplied to a solvent that does not dissolve or swell the derivative, and a film is formed by a rotational film forming method. A method for manufacturing a protective pellicle membrane.
本発明において、ペリクル膜の本体となる透明薄膜を形
成するセルロース誘導体としては、露光に採用される3
50〜450nmの波長における平均光線透過率の大き
いものであればよいが、ニトロセルロース、エチルセル
ロース、プロピオン酸セルロース等のセルロース誘導体
が好ましい。これらのうちでも、350〜450nm間
の平均光線透過率および膜強度の面から、ニトロセルロ
ースが好ましい。In the present invention, the cellulose derivative that forms the transparent thin film that is the main body of the pellicle membrane is 3, which is used for exposure.
Any material having a high average light transmittance at a wavelength of 50 to 450 nm may be used, but cellulose derivatives such as nitrocellulose, ethylcellulose, and cellulose propionate are preferred. Among these, nitrocellulose is preferred in terms of average light transmittance between 350 and 450 nm and film strength.
ニトロセルロースは11〜12.5%、特に11.5〜
12.2%の硝化度(N%)、および150,000〜
350,000、特に170,000〜320,000
の平均分子量(重量平均、M v )を有するものが好
ましい。Nitrocellulose is 11-12.5%, especially 11.5-12.5%
Nitrification degree (N%) of 12.2%, and 150,000~
350,000, especially 170,000-320,000
Those having an average molecular weight (weight average, Mv) of are preferred.
ここで平均光線透過率とは、350〜450nmの間で
起こる光線透過率の干渉波の山部と谷部を同数とり平均
した値である。Here, the average light transmittance is a value obtained by taking the same number of peaks and valleys of interference waves of light transmittance occurring between 350 and 450 nm and averaging them.
セルロース誘導体により形成される透明薄膜の厚みは、
350〜450nm間の目的とする波長に対する透過率
が高くなるように選択されるが、現在使用されている露
光波長の436nm+405nm+365nmに対する
透過率を高くするには通常2.85μm、また436n
mに対する透過率を高くするには0.865μmが選択
される。The thickness of the transparent thin film formed from cellulose derivatives is
It is selected to have high transmittance for the target wavelength between 350 and 450 nm, but to increase the transmittance for the currently used exposure wavelength of 436 nm + 405 nm + 365 nm, it is usually 2.85 μm or 436 nm.
0.865 μm is selected to increase the transmittance for m.
このような透明薄膜上に形成される反射防止層は、前記
一般式(1)から選ばれる少なくとも1種のモノマーを
含み、かつ重合体中のフッ素含有率が50重量%以上の
含フツ素ポリ(メタ)アクリレートからなるものである
。The antireflection layer formed on such a transparent thin film is made of a fluorine-containing polymer containing at least one monomer selected from the general formula (1) and having a fluorine content of 50% by weight or more. It is made of (meth)acrylate.
前記一般式(1)におけるR2としては、炭素数2〜1
4の、間にエーテル酸素原子を含んでいてもよいフルオ
ロアルキル基が好ましく、具体的には、−CH,CF、
、 −CH,C,F、、 −CH2C,F7.−CH2
C4F、。R2 in the general formula (1) has 2 to 1 carbon atoms;
4, a fluoroalkyl group which may contain an ether oxygen atom between them is preferable, and specifically, -CH, CF,
, -CH,C,F,, -CH2C,F7. -CH2
C4F.
−C82C,F、□、 −CH2C,F工s * −C
H2Cs Ft□、 −CH2C9F1. 。-C82C,F, □, -CH2C,F engineerings * -C
H2Cs Ft□, -CH2C9F1. .
−CH2C,。F21.−CH,CH,CF3.−CI
l、CH2C,Fs。-CH2C,. F21. -CH, CH, CF3. -CI
l, CH2C, Fs.
−C)l、CI(2C,F7.−C)I、CH□C4F
−−−CHz CH2C5Fよ、。-C)l, CI(2C,F7.-C)I, CH□C4F
---CHz CH2C5F.
−CH,CH,C,Fi、、 −CH2CIlzC,F
、、、 −CH,CH,C,F、、。-CH,CH,C,Fi,, -CH2CIlzC,F
,,, -CH,CH,C,F,,.
−CI、C1(2C1,F、1.−CHI□(CFz)
zl(、−Cut(Ck)J−−CH,(CF2)、)
l、 −cu、(cFs)、u、 −C)1.(CF2
)□、)I。-CI, C1 (2C1, F, 1.-CHI□(CFz)
zl(,-Cut(Ck)J--CH,(CF2),)
l, -cu, (cFs), u, -C)1. (CF2
)□,)I.
−C1((CF、)2.−CH,CH2C4FCF、、
−CH,CF、CHF(CF2)、H。-C1((CF,)2.-CH,CH2C4FCF,,
-CH, CF, CHF (CF2), H.
−CH,−CF (CF3)C)IFcF (CF、
)! 。-CH, -CF (CF3)C)IFcF (CF,
)! .
−CH2CF (C2F、 )CIl (CF、 )2
.−CH□’C,HF、□。-CH2CF (C2F, )CIl (CF, )2
.. -CH□'C, HF, □.
−CGHF、、、 −C1,C工。HF、、、 −Cl
、−C,F、H。-CGHF, -C1, C engineering. HF, -Cl
, -C,F,H.
−(CH2)、0CF(CF、)、 −(Co、)L□
OCF (CF、)z 。-(CH2), 0CF(CF,), -(Co,)L□
OCF (CF,)z.
−CH,(CF2)、OCF、 、 −CH2(CF、
)、OC,F、 。-CH, (CF2), OCF, -CH2(CF,
), OC,F, .
−CH,(CF、 )、 QC,F、 。-CH, (CF, ), QC, F,.
などが例示できる。For example,
含フツ素ポリ(メタ)アクリレートは上記七ツマー1種
の単独重合体でもよく、2種以上の共重合体でもよい。The fluorine-containing poly(meth)acrylate may be a homopolymer of one type of the above-mentioned heptamers, or a copolymer of two or more types.
共重合体の場合、エーテル酸素原子を含まない直鎖状の
フルオロアルキル基と、エーテル酸素原子を含む直鎖状
のフルオロアルキル基またはエーテル酸素原子を含んで
いてもよい分岐状のフルオロアルキル基とを組合せると
、光透過率が高くなるので好ましい。In the case of a copolymer, a linear fluoroalkyl group that does not contain an ether oxygen atom, a linear fluoroalkyl group that contains an ether oxygen atom, or a branched fluoroalkyl group that may contain an ether oxygen atom; A combination of these is preferable because the light transmittance increases.
また含フツ素ポリ(メタ)アクリレートは前記−般式(
I)の七ツマ−と他のモノマーとの共重合体であっても
よい。一般式(1)のモノマーと共重合させる他のモノ
マーとしては特に限定されないが、一般式
%式%()
〔但し、R3はHまたはメチル基、R4はエーテル酸素
を含んでいてもよいアルキル基である。〕から選ばれる
少なくとも1種のモノマーが好ましい。このような共重
合体からなる含フツ素ポリ(メタ)アクリレートは、R
1ないしR4の置換基の種類、共重合組成等を適宜変化
させることによって所望のフッ素含有率の重合体を製造
することができる。Further, the fluorine-containing poly(meth)acrylate has the above-mentioned general formula (
It may also be a copolymer of the hexamer I) and other monomers. Other monomers to be copolymerized with the monomer of general formula (1) are not particularly limited, but include those of the general formula % formula % () [However, R3 is H or a methyl group, and R4 is an alkyl group that may contain an ether oxygen. It is. ] At least one monomer selected from the following is preferred. The fluorine-containing poly(meth)acrylate made of such a copolymer has R
By appropriately changing the types of substituents 1 to R4, the copolymer composition, etc., a polymer having a desired fluorine content can be produced.
一般式[11)におけるR4としては、炭素数1〜50
、好ましくは4〜24のアルキル基が好ましく、具体的
には、−CH3,−C,H,、−C4H,、−CGH,
、。R4 in general formula [11] has 1 to 50 carbon atoms.
, preferably 4 to 24 alkyl groups, specifically -CH3, -C,H,, -C4H,, -CGH,
,.
−C,R17,−C,+(8,、−C工。H2□l −
czz)lzst −cm78351−C181(37
1−C24H491−C34H69などが例示でき、エ
ーテル酸素を含んでいてもよい。-C, R17, -C, + (8,, -C engineering. H2□l -
czz)lzst-cm78351-C181(37
Examples include 1-C24H491-C34H69, which may contain ether oxygen.
一般式〔I〕の含フッ素(メタ)アクリレートモノマー
と組合わせる一般式(II)のアルキル基含有(メタ)
アクリレート等の他のモノマーの混合1者は70モル%
以下、好ましくは5〜40モル%が好ましい。Alkyl group-containing (meth) of general formula (II) combined with fluorine-containing (meth)acrylate monomer of general formula [I]
The mixture of other monomers such as acrylate is 70 mol%
Hereinafter, preferably 5 to 40 mol%.
含フツ素ポリ(メタ)アクリレートは、重合体のフッ素
含有率が50重量%以上になることが必要であり、50
〜70重量%になるのが好ましい。上記範囲にある場合
に、透明で平均光線透過率が高く、かつ眉間の乱れによ
る色ムラや白化が生じない層が得られる。The fluorine-containing poly(meth)acrylate must have a fluorine content of 50% by weight or more, and 50% by weight or more.
Preferably, it is 70% by weight. When the amount is within the above range, a layer that is transparent, has a high average light transmittance, and does not cause color unevenness or whitening due to glabellar disorder can be obtained.
重合体中のフッ素含有率が50重量%未満になると、セ
ルロース誘導体等の透明薄膜の製膜時に侵されて色ムラ
を生じ、350〜450nm間の波長における最低光線
透過率が90%を下回って、平均光線透過率が低下する
とともに、干渉光による透過率変動のうねりがシャープ
となり、透過率の波長依存性が強くなる。If the fluorine content in the polymer is less than 50% by weight, it will be attacked during the formation of transparent thin films of cellulose derivatives, etc., resulting in uneven color, and the minimum light transmittance at wavelengths between 350 and 450 nm will be less than 90%. As the average light transmittance decreases, the undulation of the transmittance fluctuation due to interference light becomes sharper, and the wavelength dependence of the transmittance becomes stronger.
反射防止層となる上記含フツ素ポリ(メタ)アクリレー
トは、セルロース誘導体等の透明薄膜の片面もしくは両
面に形成されるが、その際の膜厚はターゲットとする光
の波長の1/4n (nは屈折率)とするのが好ましい
。The above-mentioned fluorine-containing poly(meth)acrylate, which becomes the antireflection layer, is formed on one or both sides of a transparent thin film such as a cellulose derivative, and the film thickness is 1/4n (n) of the wavelength of the target light. is preferably a refractive index).
本発明の反射防止層を有するペリクル膜の製造方法は、
片面反射防止型ペリクル膜の場合法のように行われる。The method for manufacturing a pellicle film having an antireflection layer of the present invention includes:
This is done as in the case of a single-sided anti-reflection pellicle film.
すなわち、まずガラス等の平滑な基板上にセルロース誘
導体溶液を供給し1回転製膜法によってセルロース誘導
体の透明薄膜を形成する。セルロース誘導体は溶媒に溶
解し、濾過等の精製を行った溶液を使用する。溶媒とし
てはメチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、メ
チルエチルケトン、アセトン、等のケトン類、酢酸ブチ
ル、酢酸イソブチル等の低級脂肪酸エステル類、および
前述のケトンまたはエステルとイソプロピルアルコール
等との混合溶媒が使用される。形成される透明薄膜の厚
みは、溶液粘度や基板の回転速度を変化させることによ
り適宜変化させることができる。That is, first, a cellulose derivative solution is supplied onto a smooth substrate such as glass, and a transparent thin film of the cellulose derivative is formed by a one-turn film forming method. A solution of the cellulose derivative dissolved in a solvent and purified by filtration or the like is used. As the solvent, ketones such as methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, methyl ethyl ketone, and acetone, lower fatty acid esters such as butyl acetate and isobutyl acetate, and mixed solvents of the above-mentioned ketones or esters with isopropyl alcohol and the like are used. The thickness of the transparent thin film formed can be changed as appropriate by changing the viscosity of the solution and the rotation speed of the substrate.
基板上に形成されたセルロース誘導体透明薄膜は、熱風
や赤外線ランプ照射等の手段によって乾燥させ、残存溶
媒を除去する。The cellulose derivative transparent thin film formed on the substrate is dried by means such as hot air or infrared lamp irradiation to remove residual solvent.
次いで、乾燥されたセルロース誘導体薄膜上に前記含フ
ツ素ポリ(メタ)アクリレート重合体溶液を供給し、セ
ルロース誘導体薄膜と同様に回転製膜法によりフッ素ポ
リマーからなる反射防止層を形成する。この際、含フツ
素ポリ(メタ)アクリレートを溶解させる溶媒は、含フ
ツ素ポリ(メタ)アクリレートを溶解でき、かつ基板上
のセルロース誘導体を溶解または膨潤させない溶媒であ
り、沸点40〜220℃、好ましくは60〜150℃の
範囲のものが好ましく、芳香族ハロゲン化合物類、フル
オロアルキル化アルコール類、フルオロオレフィン類(
例えばテトラフルオロエチレンオリゴマー、 ヘキサフ
ルオロプロピレンオリゴマーなど)、フッ化環状エーテ
ル化合物類などが用いられる。具体的には
H(CF2)、CH,OH,CF、(CF、)2CH,
OH。Next, the fluorine-containing poly(meth)acrylate polymer solution is supplied onto the dried cellulose derivative thin film, and an antireflection layer made of a fluoropolymer is formed by the rotary film forming method in the same manner as the cellulose derivative thin film. At this time, the solvent for dissolving the fluorine-containing poly(meth)acrylate is a solvent that can dissolve the fluorine-containing poly(meth)acrylate and does not dissolve or swell the cellulose derivative on the substrate, and has a boiling point of 40 to 220 °C, Preferably, the temperature range is from 60 to 150°C, and aromatic halogen compounds, fluoroalkylated alcohols, fluoroolefins (
For example, tetrafluoroethylene oligomers, hexafluoropropylene oligomers, etc.), fluorinated cyclic ether compounds, etc. are used. Specifically, H(CF2), CH, OH, CF, (CF,)2CH,
Oh.
F(CF2−CF2)20H2CH,OH,CF、CF
2CH20H。F(CF2-CF2)20H2CH,OH,CF,CF
2CH20H.
などが例示でき、これらの中でもとくにメタキシレンヘ
キサフルオライド、五フッ化プロパツール、ペンシトリ
フルオライドなどが好ましい。Among these, meta-xylene hexafluoride, propatool pentafluoride, pencitrifluoride and the like are particularly preferred.
これらの特定の溶媒を使用することにより、回転製膜性
の良好な含フツ素ポリ(メタ)アクリレート重合体溶液
が得られるうえ、含フツ素ポリ(メタ)アクリレートか
らなる反射防止層の形成時に。By using these specific solvents, a fluorine-containing poly(meth)acrylate polymer solution with good rotary film forming properties can be obtained, and when forming an antireflection layer made of fluorine-containing poly(meth)acrylate, .
基層となるセルロース誘導体薄膜を溶解させたり膨潤さ
せたりする悪影響を防止できる。It is possible to prevent the adverse effects of dissolving or swelling the cellulose derivative thin film serving as the base layer.
反射防止層の厚みは、セルロース誘導体薄膜と同様に溶
液粘度、基板の回転速度等を適宜変化させることにより
制御できる。The thickness of the antireflection layer can be controlled by appropriately changing the solution viscosity, the rotation speed of the substrate, etc., similarly to the cellulose derivative thin film.
一方、両面反射防止型ペリクル膜の場合には。On the other hand, in the case of a double-sided anti-reflection pellicle film.
ガラス等の平滑基板上に含フツ素ポリ(メタ)アクリレ
ート重合体溶液(但し、溶媒はとくに前述の溶媒に限定
されず、同重合体を溶解できるものであればよい)を供
給し、回転製膜法によって含フツ素ポリ(メタ)アクリ
レート重合体薄膜を形成し、熱風や赤外線ランプ照射等
の手段によって乾燥させ、残存溶媒を除去する。その後
、この薄膜上に前記と同様の操作を行って、含フツ素ポ
リ(メタ)アクリレート重合体/セルロース誘導体/含
フツ素ポリ(メタ)アクリレート重合体の3層構造の両
面反射防止型ペリクル膜を製造できる。A fluorine-containing poly(meth)acrylate polymer solution (however, the solvent is not limited to the above-mentioned solvents, as long as it can dissolve the same polymer) is supplied onto a smooth substrate such as glass, and a rotating A thin film of fluorine-containing poly(meth)acrylate polymer is formed by a membrane method and dried by means such as hot air or infrared lamp irradiation to remove residual solvent. After that, the same operation as above was performed on this thin film to form a double-sided anti-reflection pellicle film with a three-layer structure of fluorine-containing poly(meth)acrylate polymer/cellulose derivative/fluorine-containing poly(meth)acrylate polymer. can be manufactured.
このようにして、基板上に形成された片面または両面反
射防止型ペリクル膜はペリクルとして使用するために基
板から剥離する。この場合、たとえば基板上に形成され
た積層膜の最外層すなわち外気と接している含フツ素ポ
リ(メタ)アクリレート重合体薄膜上にセロハンテープ
や接着剤を塗布した枠状治具をあてがって接着し、セロ
ハンテープや枠状治具を手や機械的手段によって一端か
ら持ち上げることによって基板上から直接引き剥すこと
ができる。この際、セルロース誘導体層と含フツ素ポリ
(メタ)アクリレート重合体層の層間接着力が大きいの
で、膜が分離することなく引き剥され、反射防止層を有
するペリクル膜が得られる。In this manner, the single-sided or double-sided antireflection pellicle film formed on the substrate is peeled off from the substrate for use as a pellicle. In this case, for example, cellophane tape or a frame-shaped jig coated with adhesive is applied to the outermost layer of a laminated film formed on a substrate, that is, a thin film of fluorine-containing poly(meth)acrylate polymer that is in contact with the outside air. However, by lifting cellophane tape or a frame-shaped jig from one end by hand or mechanical means, it can be directly peeled off from the substrate. At this time, since the interlayer adhesive force between the cellulose derivative layer and the fluorine-containing poly(meth)acrylate polymer layer is strong, the film is peeled off without separation, and a pellicle film having an antireflection layer is obtained.
こうして製造されたペリクル膜はペリクル粋に張付けて
ペリクルが形成される。The pellicle membrane thus manufactured is attached to a pellicle to form a pellicle.
本発明の製造方法によれば、透明薄膜と反射防止層間の
接着力が大きいので、製膜基板上から直接引き剥しても
積層状態で引き剥すことができ。According to the manufacturing method of the present invention, since the adhesive force between the transparent thin film and the antireflection layer is strong, even if the transparent thin film and the antireflection layer are peeled off directly from the film forming substrate, the layers can be peeled off in a laminated state.
水中での膨潤剥離やシワの発生なしに1回転製膜法によ
り反射防止膜を有するペリクル膜を製造することができ
る。A pellicle film having an antireflection film can be manufactured by a single rotation film forming method without swelling and peeling in water or causing wrinkles.
そして、本発明により製造された反射防止層を有するペ
リクル膜は、350〜450nn+の波長間における最
低光線透過率が向上し、反射光の干渉による光線透過率
の変動も小さくなるので、平均光線透過率も向上し、露
光工程におけるスループットが向上する。In addition, the pellicle film having the antireflection layer manufactured according to the present invention has an improved minimum light transmittance in the wavelength range of 350 to 450 nn+, and the variation in light transmittance due to interference of reflected light is reduced, so the average light transmittance is improved. This also improves the throughput in the exposure process.
以下、本発明の実施例について説明する。 Examples of the present invention will be described below.
実施例1
ニトロセルロースをメチルイソブチルケトンに溶解させ
6重量%溶液とした。一方、パーフルオロオクチルエチ
ルアクリレート33モル%およびトリフルオロエチルア
クリレート67モル%の共重合体〔フッ素含有率52.
8重量%〕をメタキシレンへキサフルオライドに溶解さ
せ1.0重量%溶液とした。Example 1 Nitrocellulose was dissolved in methyl isobutyl ketone to form a 6% by weight solution. On the other hand, a copolymer of 33 mol% perfluorooctylethyl acrylate and 67 mol% trifluoroethyl acrylate [fluorine content 52.
8% by weight] was dissolved in meta-xylene hexafluoride to make a 1.0% by weight solution.
回転塗布法により、上記ニトロセルロース溶液を石英基
板に滴下してニトロセルロース薄膜を形成、乾燥させ、
この上に上記含フツ素ポリマー溶液を滴下し、500r
praで60秒間回転させて乾燥させた。こうして得ら
れたペリクル膜を基板より剥離して所定枠に枠取りし、
片面に反射防止層を有するペリクルを得た。By a spin coating method, the above nitrocellulose solution is dropped onto a quartz substrate to form a nitrocellulose thin film, and dried.
The above fluorine-containing polymer solution was dropped onto this, and
It was dried by spinning for 60 seconds in a pra. The pellicle film thus obtained is peeled off from the substrate and framed in a predetermined frame.
A pellicle having an antireflection layer on one side was obtained.
上記ペリクルは、分光光度計(島津製作所製UV−24
0)による分光特性測定から、350〜450nmでの
最低光線透過率が90.5%で、平均透過率は94.8
〜95%であった。一方ニトロセルロース単独からなる
ペリクル膜(比較例1)の分光特性は最低光線透過率が
84%で、平均透過率は92%であった。The above pellicle is a spectrophotometer (UV-24 manufactured by Shimadzu Corporation).
According to the spectral characteristics measurement by 0), the minimum light transmittance in the range from 350 to 450 nm is 90.5%, and the average transmittance is 94.8.
It was ~95%. On the other hand, the spectral characteristics of a pellicle membrane made solely of nitrocellulose (Comparative Example 1) had a minimum light transmittance of 84% and an average transmittance of 92%.
実施例2〜8
実施例1において、含フツ素重合体の種類を変えて同様
の試験を行った結果を表1に示す。Examples 2 to 8 Table 1 shows the results of the same tests as in Example 1, with different types of fluorine-containing polymers.
実施例9
実施例1と同じニトロセルロース溶液および含フツ素重
合体溶液を調製した。Example 9 The same nitrocellulose solution and fluorine-containing polymer solution as in Example 1 were prepared.
石英基板を用いて回転塗布法により、まず基板上に含フ
ツ素ポリマーを滴下して、500rpmで60秒間回転
させた後乾燥した。この上にニトロセルロース溶液を滴
下して薄膜を形成した後乾燥し、さらにこの上から含フ
ツ素ポリマーを滴下して500rpmで60秒間回転さ
せ、後乾燥した。この両面単層反射防止層を有するペリ
クル膜は、基板からスムーズに剥離できた。このペリク
ル膜の分光特性は、350〜450nmでの最低光線透
過率が95%であり、平均透過率は97〜98%であっ
た。Using a quartz substrate, a fluorine-containing polymer was first dropped onto the substrate by a spin coating method, rotated at 500 rpm for 60 seconds, and then dried. A nitrocellulose solution was dropped onto this to form a thin film, which was then dried.Furthermore, a fluorine-containing polymer was dropped onto this, and the film was rotated at 500 rpm for 60 seconds, followed by drying. This pellicle film having single-layer antireflection layers on both sides could be peeled off smoothly from the substrate. As for the spectral characteristics of this pellicle film, the minimum light transmittance at 350 to 450 nm was 95%, and the average transmittance was 97 to 98%.
代理人 弁理士 柳 原 成Agent: Patent attorney Sei Yanagi Hara
Claims (2)
膜法によってセルロース誘導体薄膜を形成し乾燥したの
ち、一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼・・・〔 I 〕 〔但し、R^1はHまたはメチル基、R^2は間にエー
テル酸素原子を含んでいてもよいフルオロアルキル基で
ある。〕 から選ばれる少なくとも1種のモノマーを含みかつ重合
体中のフッ素含有率が50重量%以上である含フッ素ポ
リ(メタ)アクリレートを、この含フッ素ポリ(メタ)
アクリレートを溶解できかつ前記セルロース誘導体を溶
解または膨潤させない溶媒に溶解した重合体溶液を前記
セルロース誘導体薄膜上に供給し、回転製膜法によって
反射防止層を形成することを特徴とする反射防止型ペリ
クル膜の製造方法。(1) After supplying a cellulose derivative solution onto the substrate and forming a cellulose derivative thin film by the rotational film forming method and drying it, a general formula ▲ Numerical formula, chemical formula, table, etc. ▼... [I] [However, R ^1 is H or a methyl group, and R^2 is a fluoroalkyl group which may contain an ether oxygen atom between them. ] This fluorine-containing poly(meth)acrylate containing at least one monomer selected from the following and having a fluorine content of 50% by weight or more in the polymer
An antireflection type pellicle characterized in that a polymer solution dissolved in a solvent that can dissolve acrylate and does not dissolve or swell the cellulose derivative is supplied onto the cellulose derivative thin film, and an antireflection layer is formed by a rotational film forming method. Membrane manufacturing method.
テル酸素原子を含んでいてもよいフルオロアルキル基で
ある。〕 から選ばれる少なくとも1種のモノマーを含みかつ重合
体中のフッ素含有率が50重量%以上である含フッ素ポ
リ(メタ)アクリレートの溶液を供給し、回転製膜法に
よって薄膜を形成し乾燥したのち、この薄膜上にセルロ
ース誘導体溶液を供給し回転製膜法によってセルロース
誘導体薄膜を形成乾燥後、さらにこのセルロース誘導体
薄膜上に、前記含フッ素ポリ(メタ)アクリレートを溶
解できかつ前記セルロース誘導体を溶解または膨潤させ
ない溶媒に前記含フッ素ポリ(メタ)アクリレートを溶
解した重合体溶液を供給し、回転製膜法によって製膜す
ることを特徴とする両面に反射防止層が形成された反射
防止型ペリクル膜の製造方法。(2) There is a general formula▲mathematical formula, chemical formula, table, etc. on the substrate▼... [I] [However, R^1 is H or a methyl group, and R^2 even if it contains an ether oxygen atom in between. It is a good fluoroalkyl group. ] A solution of fluorine-containing poly(meth)acrylate containing at least one monomer selected from the following and having a fluorine content of 50% by weight or more in the polymer was supplied, a thin film was formed by a rotary film forming method, and then dried. Thereafter, a cellulose derivative solution is supplied onto this thin film to form a cellulose derivative thin film by a rotary film forming method. After drying, the fluorine-containing poly(meth)acrylate can be dissolved and the cellulose derivative can be dissolved on this cellulose derivative thin film. Alternatively, an antireflection type pellicle film having an antireflection layer formed on both sides is formed by supplying a polymer solution in which the fluorine-containing poly(meth)acrylate is dissolved in a non-swelling solvent and using a rotational film forming method. manufacturing method.
Priority Applications (8)
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Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2009066169A1 (en) * | 2007-11-21 | 2009-05-28 | Az Electronic Materials Usa Corp. | An antireflective coating composition and process thereof |
| US8445181B2 (en) | 2010-06-03 | 2013-05-21 | Az Electronic Materials Usa Corp. | Antireflective coating composition and process thereof |
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1988
- 1988-02-29 JP JP4709188A patent/JP2551087B2/en not_active Expired - Fee Related
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