JPH0122236B2 - - Google Patents
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- JPH0122236B2 JPH0122236B2 JP10996884A JP10996884A JPH0122236B2 JP H0122236 B2 JPH0122236 B2 JP H0122236B2 JP 10996884 A JP10996884 A JP 10996884A JP 10996884 A JP10996884 A JP 10996884A JP H0122236 B2 JPH0122236 B2 JP H0122236B2
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- glaze
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- glazed
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- Expired
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- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 17
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims description 6
- 238000010304 firing Methods 0.000 claims description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 2
- 238000007639 printing Methods 0.000 description 5
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 4
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 description 4
- 239000000463 material Substances 0.000 description 3
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005338 heat storage Methods 0.000 description 2
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 2
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 2
- -1 Al ( OH) 3 Chemical compound 0.000 description 1
- KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N boric acid Chemical compound OB(O)O KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003153 chemical reaction reagent Substances 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 229910052681 coesite Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052906 cristobalite Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 230000017525 heat dissipation Effects 0.000 description 1
- 229910000021 magnesium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 1
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 1
- 238000000059 patterning Methods 0.000 description 1
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 1
- 229910052682 stishovite Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000018 strontium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- LEDMRZGFZIAGGB-UHFFFAOYSA-L strontium carbonate Chemical compound [Sr+2].[O-]C([O-])=O LEDMRZGFZIAGGB-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910052905 tridymite Inorganic materials 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005303 weighing Methods 0.000 description 1
- 230000037303 wrinkles Effects 0.000 description 1
Landscapes
- Electronic Switches (AREA)
Description
［発明の目的］
（産業上の利用分野）
本発明は今までのグレーズ厚み寸法より薄い寸
法で、かつグレーズ表面が平滑性に優れたグレー
ズ基板とその製造法に関するものである。 ［従来の技術］ フアクシミリ用やプリンターヘツド用に使用さ
れるグレーズ基板は、そのグレーズ厚みが通常
40μｍ〜80μｍあるのが一般的である。しかし、
フアクシミリやプリンターヘツドの印字スピード
が速くなることが要求されるにつれ、グレーズ基
板のグレーズ材質として、下記のことが必要とな
つてきた。 ［発明が解決しようとする問題点］ その第１点は、熱伝導率の良いグレーズ材質の
開発である。印字スピードがＡ−４版で１分以内
のＧ−規格以上であること即ちＡ−４版で10秒
以内のＧ−規格の要求になると、現在のグレー
ズ厚みでは印加電力に対し、熱がたまりすぎて尾
ひれの現象が生じ、鮮明な印字が難しい。そのた
め熱伝導の良いグレーズが必要となるが、グレー
ズの熱伝導率はＫ＝0.0018〜0.0028cal／cm・
sec・℃の範囲に入り、アルミナ基板のＫ＝
0.04cal／cm・sec・℃に比べて、１桁以上悪く材
質だけでは改善する余地が少ない。 第２点は、グレーズ厚みも従来のmin40μｍの
約半分以下で出来れば、即ち20μｍ以下であれ
ば、その分だけ熱伝導が良くなる。そのことは蓄
熱層が薄くなれば、尾ひれの現象がなくなること
になる。しかし従来のグレーズを薄くすること
は、グレーズ表面を非常に悪くし使用出来ないも
のとなり困難であつた。だが本発明者は鋭意研究
を重ねて、厚さ20μｍ前後でも、グレーズ基板と
して使用出来る外観の良い表面の平滑性に優れた
グレーズ基板を完成することが出来た。 第３点はグレーズの耐熱性が高いこと。 ［発明の構成］ （問題点を解決するための手段） 即ち、本発明の目的はグレーズ基板を構成する
グレーズ厚みが30μｍ〜10μｍであり、かつグレ
ーズ表面が粗さRmax0.3μｍ以下、かつうねり2μ
ｍ／４mm以下であることを特徴とするグレーズ基
板を提供するものである。 またその手段は比表面積を３m2／ｇ以上に粉砕
したガラスフリツトを用いて調製した釉液を基板
表面に塗布して焼成するところにある。 以下、本発明につき詳細に記述する。 まず本発明の技術を提案した理由として、前述
の如く印字スピードが高速になるほど、グレーズ
の蓄熱層が厚いと尾ひれの現象が生じ、グレーズ
を薄くして放熱を良くする必要がある。それでは
アングレーズの熱伝導の良い基板ではどうかとい
う疑問が起こる。この場合は基板の表面粗さが粗
く、８〜12本／mmとフアインパターン化に対して
は良くなく、かつ印字電力も高くする必要があ
り、品質、経済性に問題があり、どうしてもグレ
ーズ層が必要となる。 グレーズ基板のグレーズ厚みを薄くするために
は、グレーズの塗布を薄くして焼成すればよいの
であるが、従来のフリツトである比表面積が0.5
〜２m2／ｇ程度では、どうしても良い表面を得る
ことが出来なかつた。 そのためフリツトの粒度を変えて、グレーズ塗
布厚さの異なるサンプルを製作し、焼成温度を変
えてグレーズ面とグレーズ厚みにつき試験したと
ころ、比表面積が３m2／ｇ以上に粉砕した粒度の
ガラスフリツトを用いると、グレーズ厚みが30μ
ｍ以下でも表面の平滑性に優れたものを得ること
が出来た。 本発明のグレーズ厚みを30〜10μｍに規定した
理由は、グレーズの熱伝導率がＫ＝0.0018〜
0.028cal／cm・sec・℃と悪いために30μｍ以上で
は印加電力に対し蓄熱量が多くなり印字の尾ひれ
現象が生じ鮮明なものが得られないためであり、
10μｍ以下ではグレーズ表面のうねりが大きくな
り、かつ表面粗さが粗くなり印字のフアインパタ
ーン化に対して品質の低下を招くためである。 実施例 第１表に示す組成になるように、試薬一級の
SiO2、Al（OH）3、H3BO3、MgCo3、SrCO3、
ZnOを秤量し、ライカイ機にて混合し、白金ルツ
ボにて1300〜1500℃の適当な温度で溶融した後、
水中に投入することによつて急冷して第２表の特
性を有するガラスとし、アルミナ組のボールミル
で細かく粉砕してフリツト（ガラス粉末）を得
る。フリツトの比表面積を約２、３、４、５m2／
ｇである粉末を４種類調整した。これらのフリツ
トをアルミナ含有量97％の寸法50×50×１（単位
mm）のアルミナ基板に塗布し、1100〜1300℃で焼
成してグレーズアルミナ基板を得た。グレーズ厚
みを、10、20、30、40μｍの４種類にてテストし
た。良好な面が得られる領域について、グレーズ
厚みとグレーズの比表面積との関係にてまとめた
のが第１図になる。なお、グレーズ組成はこの例
に示した組成には限らず、従来公知のグレーズ組
成にも適用できるものである。
法で、かつグレーズ表面が平滑性に優れたグレー
ズ基板とその製造法に関するものである。 ［従来の技術］ フアクシミリ用やプリンターヘツド用に使用さ
れるグレーズ基板は、そのグレーズ厚みが通常
40μｍ〜80μｍあるのが一般的である。しかし、
フアクシミリやプリンターヘツドの印字スピード
が速くなることが要求されるにつれ、グレーズ基
板のグレーズ材質として、下記のことが必要とな
つてきた。 ［発明が解決しようとする問題点］ その第１点は、熱伝導率の良いグレーズ材質の
開発である。印字スピードがＡ−４版で１分以内
のＧ−規格以上であること即ちＡ−４版で10秒
以内のＧ−規格の要求になると、現在のグレー
ズ厚みでは印加電力に対し、熱がたまりすぎて尾
ひれの現象が生じ、鮮明な印字が難しい。そのた
め熱伝導の良いグレーズが必要となるが、グレー
ズの熱伝導率はＫ＝0.0018〜0.0028cal／cm・
sec・℃の範囲に入り、アルミナ基板のＫ＝
0.04cal／cm・sec・℃に比べて、１桁以上悪く材
質だけでは改善する余地が少ない。 第２点は、グレーズ厚みも従来のmin40μｍの
約半分以下で出来れば、即ち20μｍ以下であれ
ば、その分だけ熱伝導が良くなる。そのことは蓄
熱層が薄くなれば、尾ひれの現象がなくなること
になる。しかし従来のグレーズを薄くすること
は、グレーズ表面を非常に悪くし使用出来ないも
のとなり困難であつた。だが本発明者は鋭意研究
を重ねて、厚さ20μｍ前後でも、グレーズ基板と
して使用出来る外観の良い表面の平滑性に優れた
グレーズ基板を完成することが出来た。 第３点はグレーズの耐熱性が高いこと。 ［発明の構成］ （問題点を解決するための手段） 即ち、本発明の目的はグレーズ基板を構成する
グレーズ厚みが30μｍ〜10μｍであり、かつグレ
ーズ表面が粗さRmax0.3μｍ以下、かつうねり2μ
ｍ／４mm以下であることを特徴とするグレーズ基
板を提供するものである。 またその手段は比表面積を３m2／ｇ以上に粉砕
したガラスフリツトを用いて調製した釉液を基板
表面に塗布して焼成するところにある。 以下、本発明につき詳細に記述する。 まず本発明の技術を提案した理由として、前述
の如く印字スピードが高速になるほど、グレーズ
の蓄熱層が厚いと尾ひれの現象が生じ、グレーズ
を薄くして放熱を良くする必要がある。それでは
アングレーズの熱伝導の良い基板ではどうかとい
う疑問が起こる。この場合は基板の表面粗さが粗
く、８〜12本／mmとフアインパターン化に対して
は良くなく、かつ印字電力も高くする必要があ
り、品質、経済性に問題があり、どうしてもグレ
ーズ層が必要となる。 グレーズ基板のグレーズ厚みを薄くするために
は、グレーズの塗布を薄くして焼成すればよいの
であるが、従来のフリツトである比表面積が0.5
〜２m2／ｇ程度では、どうしても良い表面を得る
ことが出来なかつた。 そのためフリツトの粒度を変えて、グレーズ塗
布厚さの異なるサンプルを製作し、焼成温度を変
えてグレーズ面とグレーズ厚みにつき試験したと
ころ、比表面積が３m2／ｇ以上に粉砕した粒度の
ガラスフリツトを用いると、グレーズ厚みが30μ
ｍ以下でも表面の平滑性に優れたものを得ること
が出来た。 本発明のグレーズ厚みを30〜10μｍに規定した
理由は、グレーズの熱伝導率がＫ＝0.0018〜
0.028cal／cm・sec・℃と悪いために30μｍ以上で
は印加電力に対し蓄熱量が多くなり印字の尾ひれ
現象が生じ鮮明なものが得られないためであり、
10μｍ以下ではグレーズ表面のうねりが大きくな
り、かつ表面粗さが粗くなり印字のフアインパタ
ーン化に対して品質の低下を招くためである。 実施例 第１表に示す組成になるように、試薬一級の
SiO2、Al（OH）3、H3BO3、MgCo3、SrCO3、
ZnOを秤量し、ライカイ機にて混合し、白金ルツ
ボにて1300〜1500℃の適当な温度で溶融した後、
水中に投入することによつて急冷して第２表の特
性を有するガラスとし、アルミナ組のボールミル
で細かく粉砕してフリツト（ガラス粉末）を得
る。フリツトの比表面積を約２、３、４、５m2／
ｇである粉末を４種類調整した。これらのフリツ
トをアルミナ含有量97％の寸法50×50×１（単位
mm）のアルミナ基板に塗布し、1100〜1300℃で焼
成してグレーズアルミナ基板を得た。グレーズ厚
みを、10、20、30、40μｍの４種類にてテストし
た。良好な面が得られる領域について、グレーズ
厚みとグレーズの比表面積との関係にてまとめた
のが第１図になる。なお、グレーズ組成はこの例
に示した組成には限らず、従来公知のグレーズ組
成にも適用できるものである。
【表】
【表】
第１図に示す如く、グレーズフリツトの比表面
積を２m2／ｇ以上、好ましくは３m2／ｇ以上とし
たとき、グレーズ厚みが30μｍ以下で、かつうね
り、しわがなく良好な表面を持つたグレーズ面が
得られた。 以上主として超高速フアクシミリのプリンター
ヘツド用グレーズ基板について述べたが、本発明
はこの他オーバーコート用基板にも利用できるも
のである。
積を２m2／ｇ以上、好ましくは３m2／ｇ以上とし
たとき、グレーズ厚みが30μｍ以下で、かつうね
り、しわがなく良好な表面を持つたグレーズ面が
得られた。 以上主として超高速フアクシミリのプリンター
ヘツド用グレーズ基板について述べたが、本発明
はこの他オーバーコート用基板にも利用できるも
のである。
第１図はフリツトの比表面積とグレーズ厚みと
グレーズの表面状態を示す図である。 △印……表面粗さRmax0.3μｍで、うねり2μ
ｍ／４mm、〇印……△印より良好なもの、×印…
…△印より悪いもの。
グレーズの表面状態を示す図である。 △印……表面粗さRmax0.3μｍで、うねり2μ
ｍ／４mm、〇印……△印より良好なもの、×印…
…△印より悪いもの。
Claims (1)
- １ 比表面積を２m2／ｇ以上に粉砕したガラスフ
リツトを用いて調製した釉液を基板表面に塗布し
て焼成することを特徴とするグレーズ基板の製造
法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10996884A JPS60255683A (ja) | 1984-05-30 | 1984-05-30 | グレーズ基板の製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10996884A JPS60255683A (ja) | 1984-05-30 | 1984-05-30 | グレーズ基板の製造法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60255683A JPS60255683A (ja) | 1985-12-17 |
| JPH0122236B2 true JPH0122236B2 (ja) | 1989-04-25 |
Family
ID=14523719
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10996884A Granted JPS60255683A (ja) | 1984-05-30 | 1984-05-30 | グレーズ基板の製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60255683A (ja) |
-
1984
- 1984-05-30 JP JP10996884A patent/JPS60255683A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS60255683A (ja) | 1985-12-17 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |