JPH01223693A - ダイナミック型半導体記憶装置 - Google Patents

ダイナミック型半導体記憶装置

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JPH01223693A
JPH01223693A JP63049091A JP4909188A JPH01223693A JP H01223693 A JPH01223693 A JP H01223693A JP 63049091 A JP63049091 A JP 63049091A JP 4909188 A JP4909188 A JP 4909188A JP H01223693 A JPH01223693 A JP H01223693A
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JP
Japan
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circuit
refresh
signal
self
control signal
Prior art date
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Application number
JP63049091A
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English (en)
Inventor
Masaki Kumanotani
正樹 熊野谷
Katsumi Dosaka
勝己 堂阪
Yasuhiro Konishi
康弘 小西
Hiroyuki Yamazaki
山崎 宏之
Takahiro Komatsu
隆宏 小松
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Mitsubishi Electric Corp
Original Assignee
Mitsubishi Electric Corp
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] この発明は、ダイナミック型半導体記憶装置に関し、特
に、少ない消費電力で基板バイアス電圧を発生すること
が可能なダイナミック型半導体記憶装置に関する。
[従来の技術] 近年、パーソナルコンピュータ(以下PCと略す)の普
及が著しい。特に、最近では、携帯型PCに対する需要
が増大している。携帯型PCに用いられる記憶装置は、
バッテリバックアップ(電池保持)が可能な、低消費電
力のものが要求される。
このような記憶装置として、通常、ダイナミック型半導
体記憶装置またはスタチック型半導体記憶装置が用いら
れる。このうちダイナミック型半導体記憶装置は、MO
Sキャパシタに情報電荷を蓄積するという原理を利用し
ている。しかし、接合リークなどにより蓄積電荷が徐々
に失われるため、成る一定時間ごとに蓄積情報を再書込
みする必要がある。この再書込動作をリフレッシュとい
う。携帯用PCにおいてダイナミック型半導体記憶装置
を用いた場合、バッテリバックアップ時においても、一
定時間ごとにリフレッシュを行なう必要がある。
一方、ダイナミック型半導体記憶装置では、RASオン
リーリフレッシュ、CASビフォアRASリフレッシュ
などの通常のリフレッシュモードは、外部クロック信号
により1サイクルずつ制御されて実行される。したがっ
て、バッテリバックアップ時にこのような通常のリフレ
ッシュモードを用いるのは、複雑な制御が必要となり好
ましくない。
そこでこの問題を解決するため、たとえば、山田他「A
uto/5elf  Refresh機能内蔵64Kb
it  MOSダイナミックRAMJと題された電子通
信学会論文誌(83/1  v。
1、  J66−C,No、  1.  pp、 62
−69. )に示されているように、アドレスカウンタ
とタイマを内蔵して、自動的にリフレッシュ動作を続行
するという、セルフリフレッシュ(自己リフレッシュ)
モードを有するダイナミック型半導体記憶装置が考案さ
れ、商用に供されている。
このセルフリフレッシュ動作は、前述の文献に詳しく記
載されているが、以下に簡単に説明する。
ダイナミック型半導体記憶装置の待機状態と動作状態と
を制御する信号RASを高レベル(待機状態)に保ち、
リフレッシュ制御信号REFをタイマのセット時間(1
6μs以下の時間)以上低レベルに保持し続けると、セ
ルフリフレッシュモードが開始され、内蔵タイマによっ
てセットされた16μs以下の時間ごとにリフレッシュ
アドレスカウンタが動作し、そのロウアドレスが選択さ
れてリフレッシュされる。REFを低レベルに保持し続
ける限り、たとえば64にの場合、このセルフリフレッ
シュモードが継続され、通常のリフレッシュモードと同
様に2ms以下の時間ごとに128サイクルのリフレッ
シュが行なわれ、全メモリセルがリフレッシュされる。
第10図は、従来のセルフリフレッシュ(自己リフレッ
シュ)モードを有するダイナミック型半導体記憶装置の
基板バイアス電圧発生回路を示す回路図である。
第10図を参照して、この基板バイアス電圧発生回路4
1は、リングオシレータ411とリングオシレータ41
1の出力信号を受けるチャージポンプ用のキャパシタC
と、NチャネルMOSトランジスタQ、とQ2とを含む
。なお、N11は内部ノード、Vll[1はこの基板バ
イアス電圧発生回路41の出力を示す。
第11図は、第10図に示された基板バイアス電圧発生
回路の動作を説明するための波形図である。第10図と
第11図を参照して、以下に動作について簡単に説明す
る。
まず、リングオシレータ411の出力信号φC−の立上
がりの電圧信号がチャージポンプ用のキャパシタCに印
加されると、容量結合によりノードNaの電位が上昇す
る。するとトランジスタQ、がオンするので、ノードN
Bの電位はトランジスタQ、のしきい値電圧にクランプ
される。次に、φcPの立下がりの電圧信号が印加され
ると、容量結合によりノードNBの電位は低下するが、
今度はトランジスタQ2がオンするので、出力Vaらの
電圧レベルは低下し、ノードNBの電位はトランジスタ
Q2のしきい値電圧に等しい負の電位にクランプされる
。このようなサイクルは何度か続くことにより、出力V
B[1のレベルは徐々に低下し所定の負電位になる。
ところが、ダイナミック型半導体記憶装置の待機状態に
おいては、この基板バイアス電圧発生回路における消費
電流は電力消費の大部分を占めるので、これを低減する
ために、たとえば、W、 L。
Martino他rAn  0n−Ch i p  B
ack−Bias  Generator  forM
OS  Dynamic  MemoryJと題された
I EEE  JOURNAL (So 1 i d−
3tate  C1rcuits、vol、5C−15
、No、5.  pl)、820−826.oct。
1980)に記載されているように、基板バイアス電圧
発生回路を間欠動作させる方法が考案されている。
第12図は、間欠動作することが可能な基板バイアス電
圧発生回路を示す回路図である。
第12図を参照して、この基板バイアス電圧発生回路は
第10図と比較して、さらに、基板電位検出回路442
と、その検出信号に応答してリングオシレータ441を
制御するための制御回路443とを含む。
動作において、基板電位検出回路442により、基板電
圧(出力V[IBの電圧)を常時監視して、これが所定
のレベルに到達した後は、制御回路443によりリング
オシレータ441の発振を停止させ、この部分の消費電
力を低減させるものである。なお、基板電位が何らかの
理由により所定のレベルより浅くなれば、再びリングオ
シレータ441を動作させるように構成されている。
[発明が解決しようとする課題] 従来のダイナミック型半導体記憶装置は、以上のように
構成されているので、通常モード動作時およびセルフリ
フレッシュモード動作時のいずれにおいても、基板バイ
アス電圧発生回路が同じ電力量を消費するので、たとえ
ばバッテリバックアップ時等おいて不必要な電力消費を
もたらすという課題があった。
この発明は、上記のような課題を解消するためになされ
たもので、セルフリフレッシュモードにおける基板バイ
アス電圧発生回路の消費電力を通常の動作モード時より
も小さくすることにより、不必要な電力消費が減じられ
たダイナミック型半導体記憶装置を得ることを目的とす
る。
[課題を解決するための手段] この発明に係るダイナミック型半導体記憶装置は、リン
グオシレータ回路手段を有する基板電圧発生手段と、外
部からの状態制御信号に応答して制御信号を発生する制
御信号発生手段と、基板電圧発生手段の出力電圧と制御
信号とに応答してリングオシレータ回路手段を制御する
ためのリングオシレータ制御手段とを含む。
[作用] この発明におけるダイナミック型半導体記憶装置は、リ
ングオシレータ制御手段が基板電圧発生手段の出力電圧
および制御信号に応答してリングオシレータ回路手段の
動作を制御するので、セルフリフレッシュモードでの動
作における基板電圧発生手段の出力電圧を、通常モード
の動作時または待機モード時における値よりも絶対値で
小さな値にすることができ、したがって、セルフリフレ
ッシュモードにおける消費電流を減少させることができ
る。
[発明の実施例] 第2図は、この発明に係るダイナミック型半導体記憶装
置を示す概略ブロック図である。
第2図を参照して、このダイナミック型半導体記憶装置
は、基板バイアス電圧発生回路3と、端子1に外部から
与えられる信号に応答してセルフリフレッシュ制御信号
φ、を発生するセルフリフレッシュ制御信号発生回路2
とを含む。セルフリフレッシュ制御信号φ、は基板バイ
アス電圧発生回路3およびリフレッシュ制御回路91に
与えられる。セルフリフレッシュ動作において、リフレ
ッシュ制御回路91は、セルフリフレッシュ制御信号φ
、に応答してアドレス切換回路94を制御し、アドレス
バッファ95にリフレッシュアドレスカウンタ93によ
り発生された内部アドレス信号を供給する。この内部ア
ドレス信号により、メモリセルアレイ96のワード線が
活性化されて、メモリセルがリフレッシュされる。アド
レスカウンタ93の歩進は、内蔵のタイマ92によりリ
フレッシュ制御回路91を通じて行なわれ、これにより
順次ワード線が活性化されて全メモリセルがリフレッシ
ュされる。
第1図は、この発明によるダイナミック型半導体記憶装
置の基板バイアス電圧発生回路の一実施例を示すブロッ
ク図である。
第1図を参照して、第10図と比較すると、この基板バ
イアス電圧発生回路は、セルフリフレッシュ制御信号φ
、および出力Vaaの電圧に応答して基板電位検出回路
321が動作する点が異なる。すなわち、この基板バイ
アス電圧発生回路は、リングオシレータ311を含み基
板バイアス電圧を発生する基板バイアス電圧発生部31
と、外部からの状態制御信号に応答して動作するセルフ
リフレッシュ制御信号発生回路2と、基板電位検出回路
321および制御回路322を含む制御部32とを含む
動作において、基板電位検出回路321により基板電圧
(Vil 13の電圧)を常時監視して、これの所定の
レベルの範囲内において、制御回路322を介してリン
グオシレータ311の発振の作動と停止が行なわれる。
ここで、基板電位検出回路321はセルフリフレッシュ
制御信号φSに応答して動作しており、セルフリフレッ
シュモード時においてリングオシレータ311を特別に
間欠動作させる。
第3図および第4A図は、いずれもセルフリフレッシュ
制御信号発生回路2の一例を示す回路図である。
第3図は、外部から専用の制御信号T、が与えられる場
合で、低レベルの外部信号Tsが与えられたときインバ
ータ21は高レベルの出力信号φ、を出力する。信号T
、が高レベルまたはオーブン状態となったとき、インバ
ータ21の入力は高抵抗R5によりプルアップされるの
で、インバータ21は低レベルの信号φ、を出力する。
第4八凶は、外部からのRAS信号およびCAg信号を
利用する場合で、RAS信号はRSフリップフロップ2
2のセット人力Sに、また、CAg信号はRSフリップ
フロップ22のリセット人力Rに入力される。RSフリ
ップフロップの一方出力Qが比較器23の入力に接続さ
れる。タイマ24は比較回路23に接続される。
第4B図は、第4A図の動作を説明するためのタイミン
グチャートである。
動作において、CASビフォアRASリフレッシュ状態
では、フリップフロップ22がセットされ、出力CbR
が高レベルになる。タイマ24はこの後動作し、成る一
定時間Tの聞出力CbRが高レベルのとき比較回路23
が高レベルの信号φ、を出力する。CAg信号が高レベ
ルになったときフリップフロップ22がリセットされ、
出力CbRが低レベルとなり信号φ、が低レベルとなる
第5図は、第1図の基板バイアス電圧発生回路の動作を
説明するためのタイミングチャートである。以下に、第
1図および第5図を参照して、この基板バイアス電圧発
生回路の動作を説明する。
まず、セルフリフレッシュ制御信号φ、が高レベルのと
き、すなわちセルフリフレッシュモード時の動作につい
て説明する。
この基板バイアス電圧発生回路は、時刻toから動作を
開始するものとする。リングオシレータ311の出力信
号φ(Pによるチャージポンプ作用により、出力Vaa
のレベルが低下し始める。
時刻t、において、出力Vallが所定のレベルVIs
ILLに到達すると、基板電位検出回路321は低レベ
ルの検出信号φ0を出力し、制御回路322がこれを受
けて時刻tlQにおいて低レベルの制御信号φ。を出力
しリングオシレータ311の発振を停止させる。
その後、出力Vaaのレベルは、何らかの原因によりv
、a Lよりも高いv、a Nになると、基板電位検出
回路321はこれを検出し、高レベルの検出信号φ0を
出力する。リングオシレータ311はこの検出信号φ0
に応答して発生された制御信号φ。を受けて時刻t2G
において発振を再開する。
一方、セルフリフレッシュ制御信号φ、が低レベルのと
き、すなわち通常モードの動作において、時刻t、ない
しtoの時間が長くなり、出力VaSの電位が深くなる
このように、第1図の基板バイアス電圧発生回路では、
セルフリフレッシュモード時に、出力Vaらの電圧をv
、a Mないしvlla Lの浅い範囲内に制御するこ
とができ、その時の消費電流を減少させることができる
第6図は、この発明に用いられるリングオシレータの回
路の一例を示す回路図である。
第6図を参照して、このリングオシレータ311は、直
列に接続された奇数段のインバータI。
ないし!。と、2つの入力を有し奇数段接続のインバー
タの出力に一方入力が接続されたANDゲートAnとを
含む。ANDゲートAnの他方入力には、制御信号φC
,が与えられる。ANDゲートAnの出力と奇数段接続
のインバータとの入力とが一体接続される。この回路に
より、リングオシレータ311は制御信号φC1に応答
してその発振動作の始動と停止が制御される。
第7A図および第7B図は、この発明において使用され
る基板電位検出回路の一例を示す回路図と、回路内のノ
ード点の電圧ヒステリシスを示すグラフである。
第7A図を参照して、この基板電位検出回路は、基板バ
イアス電圧発生回路の出力V[1[1の電圧を受け、セ
ルフリフレッシュ制御信号φ、に応答して動作する制御
部と、制御部に結合されヒステリシス動作を行なうヒス
テリシス回路部とを含む。
制御部は、PチャネルMO3)ランジスタQ、とNチャ
ネルMOS)ランジスタQ、とQ、との直列接続と、N
チャネルMOSトランジスタQ6とQフとの並列接続と
が直列に接続される。トランジスタQ、とQ、のゲート
が接地VSSに接続される。トランジスタQ、とQ4と
の接続点がノードN、を構成する。トランジスタQ4と
Qsとの接続点がノードN2を構成する。トランジスタ
Q、とQ、との接続点がノードN、を構成する。トラン
ジスタQ6とQyそれぞれの一方端子が結合されノード
N、を構成し、そこに基板バイアス電圧発生回路の出力
Vaaが接続される。トランジスタQ、のゲートにセル
フリフレッシュ制御信号φ、が与えられる。
ヒステリシス回路部は、PチャネルMO8)ランジスタ
Q8とQ+oおよびNチャネルMOSトランジスタQ9
とQ++ とからなるフリップフロップ回路と、Pチャ
ネルMO8)ランジスタQ。
2とNチャネルMOSトランジスタQ+aとからなるイ
ンバータとを含む。トランジスタQ、とQ9との接続点
はノードN、に接続される。トランジスタQ+o とト
ランジスタQ++との接続点がノードN、を構成し、イ
ンバータの入力に接続される。インバータの出力から、
検出信号φ。が出力される。
以下の記載において、説明を簡単にするために、Nチャ
ネルトランジスタロ4ないしQ、のしきい値電圧はすべ
て1vであると仮定する。また、セルフリフレッシュ制
御信号φ、は、通常のモードにおいては低レベルであり
、セルフリフレッシュモードにおいては高レベルとなる
ような信号とする。さらに、検出信号φ口゛が高レベル
のときリングオシレータは発振され、低レベルのときは
リングオシレータの発振が停止されるものとする。
まず、通常のモードにおける動作について説明する。出
力V&11が浅い場合、たとえばOvのときは、トラン
ジスタQ、とQ6のしきい値電圧により、ノードN2が
07以上のレベルにもたらされる。よって、トランジス
タQ、はオフする。ノードN、はトランジスタQsによ
り高レベルにもたらされる。したがって、検出信号φ。
は高レベルであり、出力VIS&のレベルは、第10図
で説明したように、リングオシレータにより深くなって
ゆく。
出力Vaaが一3vより深くなると、ノードN2はトラ
ンジスタQ、とQ、のしきい値電圧により一1■より低
いレベルにもたらされる。よって、トランジスタQ、が
オンする。すなわち、トランジスタQ8とQ4がともに
オンすることになるが、トランジスタQ、とQ、のコン
ダクタンスの比を適切に選ぶことにより、ノードN、を
低レベルにもたらすことができる。このとき低レベルの
検出信号φ0が出力されるので、リングオシレータの発
振が停止され、消費電流が低減される。その後、何らか
の理由により出力Vaaが一3vより浅くなると、再び
検出信号φpが高レベルとなって、リングオシレータの
発振が再開される。
ここでヒステリシス回路部において、ノードN、が出力
VIS[Sの電圧の変化を受けて、高レベルから低レベ
ルに下がろうとする場合、ノードN。
はトランジスタQBにより高レベルにもたらされている
ので、低レベルになるのに時間がかかる。
しかし、ノードN、がトランジスタQ+oにより高レベ
ルにもたらされれば、ノードN、はトランジスタQ9を
介して急速に低レベルにもたらされる。逆に、ノードN
、が低レベルから高レベルに変化する場合も、同様に成
る幅をもって変化するので、第7B図に示したように、
ノードN、の電圧はヒステリシスをもって変化する。し
たがって、基板バイアス電圧発生回路の出力VB[Iは
、所定のレベルVa a sに対し第8図に示すように
ヒステリシスをもって変化する。
第8図は、基板バイアス電圧発生回路の出力電圧と検出
信号φ0との変化の対応を示すグラフである。
次に、再び第7A図を参照して、セルフリフレッシュモ
ード時の動作について説明する。この場合、セルフリフ
レッシュ制御信号φ、が高レベルであるので、トランジ
スタQ7がオンし、したがって、ノードN3とN、は同
じ電位にもたらされる。基板バイアス電圧発生回路の出
力Vaaのレベルが一2vより深くなるとリングオシレ
ータの発振が停止する。すなわち、通常モードにおける
動作よりも出力Vaaのレベルが浅く制御されるので、
リングオシレータに供給すべき電荷量が少なくてよ<、
シたがって消費電力が低減される。
第9図は、この発明によって使用される制御回路の一例
を示す回路図である。第9図は、第1図に示された制御
回路322の最も簡単な例であり、遅延用バッファ32
3が示される。
[発明の効果コ 以上のように、この発明によれば、リングオシレータ回
路手段を有する基板電圧発生手段と、その出力電圧およ
び状態制御信号に応答してリングオシレータ回路手段を
制御するリングオシレータ制御手段とを含むので、セル
フリフレッシュモード時における動作時の消費電流を減
少させることができ、電力消費量が減じられたダイナミ
ック型半導体記憶装置を得ることができる。
【図面の簡単な説明】
第1図は、この発明による基板バイアス電圧発生回路の
一実施例を示すブロック図である。第2図は、この発明
が適用されるダイナミック型半導体記憶装置を示す概略
のブロック図である。第3図および第4A図は、それぞ
れこの発明において使用されるセルフリフレッシュ制御
信号発生回路の具体例を示す回路図およびブロック図で
ある。 第4B図は、第4A図の動作を説明するためのタイミン
グチャートである。第5図は、第1図の動作を説明する
ためのタイミングチャートである。 第6図は、この発明において使用されるリングオシレー
タの一例を示す回路図である。第7A図は、この発明に
おいて使用される基板電位検出回路の一例を示す回路図
である。第7B図は、第7A図の回路のヒステリシスを
示すグラフである。第8図は、第7A図の動作を説明す
るための電圧変動を示すグラフである。第9図は、この
発明において使用される制御回路の一例を示す図である
。第10図、は、従来の基板バイアス電圧発生回路の一
例を示すブロック図である。第11図は、第10図の動
作を説明するためのタイミングチャートである。第12
v!Jは、従来の基板バイアス電圧発生回路の他の例を
示すブロック図である。 図において、1は外部端子、2はセルフリフレッシュ制
御信号発生回路、3は基板バイアス電圧発生回路、31
は基板バイアス電圧発生部、32はリングオシレータ制
御部、311はリングオシレータ、321は基板電位検
出回路、322は制御回路、41は従来の基板バイアス
電圧発生回路、411はリングオシレータ、442は基
板電位検出回路、443は制御回路である。 なお、図中同一符号は同一または相当部分を示す。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 セルフリフレッシュ機能を有するダイナミック型半導体
    記憶装置であって、 リングオシレータ回路手段を有し、基板バイアス電圧を
    発生するための基板電圧発生手段と、外部から前記半導
    体記憶装置の状態を制御するための状態制御信号を受け
    、制御信号を発生するための制御信号発生手段と、 前記基板電圧発生手段の出力電圧および前記制御信号に
    応答して、前記リングオシレータ回路手段を制御するた
    めのリングオシレータ制御手段とを含む、ダイナミック
    型半導体記憶装置。
JP63049091A 1988-03-01 1988-03-01 ダイナミック型半導体記憶装置 Pending JPH01223693A (ja)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH05314765A (ja) * 1992-04-02 1993-11-26 Nec Corp 半導体メモリ
US5341340A (en) * 1992-03-30 1994-08-23 Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha Semiconductor memory device and operating method

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