JPH01224245A - 金属被覆光ファイバの製造方法 - Google Patents
金属被覆光ファイバの製造方法Info
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- JPH01224245A JPH01224245A JP63049667A JP4966788A JPH01224245A JP H01224245 A JPH01224245 A JP H01224245A JP 63049667 A JP63049667 A JP 63049667A JP 4966788 A JP4966788 A JP 4966788A JP H01224245 A JPH01224245 A JP H01224245A
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- optical fiber
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C25/00—Surface treatment of fibres or filaments made from glass, minerals or slags
- C03C25/10—Coating
- C03C25/104—Coating to obtain optical fibres
- C03C25/106—Single coatings
- C03C25/1061—Inorganic coatings
- C03C25/1063—Metals
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
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- Optical Fibers, Optical Fiber Cores, And Optical Fiber Bundles (AREA)
- Surface Treatment Of Glass Fibres Or Filaments (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
［産業上の利用分野］
本発明は表面が金属で被覆された金属被覆光ファイバの
製造方法に関するものである。
製造方法に関するものである。
［従来の技術］
光ファイバは、従来のメタル線路に比べ伝送容量を飛躍
的に増大できるが、メタル線路になかった新たな問題点
を多く含んでいる。そのひとつに静疲労破断がある。静
疲労破断とはガラスの破断応力以下の低応力でも長時間
にわたって負荷が加えられると破断に至る現象である。
的に増大できるが、メタル線路になかった新たな問題点
を多く含んでいる。そのひとつに静疲労破断がある。静
疲労破断とはガラスの破断応力以下の低応力でも長時間
にわたって負荷が加えられると破断に至る現象である。
この原因は、光ファイバ表面が大気中の水分に腐食され
、光ファイバ表面の微小クラックが低応力下で成長する
ためである。これを抑える方法として光ファイバ表面を
金属で被覆し、ガラス表面が大気中の水分に曝されぬよ
うにする方法がある。
、光ファイバ表面の微小クラックが低応力下で成長する
ためである。これを抑える方法として光ファイバ表面を
金属で被覆し、ガラス表面が大気中の水分に曝されぬよ
うにする方法がある。
従来、光ファイバ表面への金属被覆は、第３図に示すよ
うに、加熱炉１で光ファイバ母材２を加熱溶融して線引
し、線引直後の光ファイバ３を溶融金属４を収容したコ
ーテイング槽５を通過させて溶融金属４を塗布する方法
が行われていた。
うに、加熱炉１で光ファイバ母材２を加熱溶融して線引
し、線引直後の光ファイバ３を溶融金属４を収容したコ
ーテイング槽５を通過させて溶融金属４を塗布する方法
が行われていた。
［発明が解決しようとする課題］
従来の溶融金属塗布方法では、光ファイバ３の表面に金
属が均一に塗布されないという欠点があった。これは、
溶融金属４の粘度が極端に小さいため、塗布後、光ファ
イバ３の表面で溶融金属４が流動してしまうためである
。
属が均一に塗布されないという欠点があった。これは、
溶融金属４の粘度が極端に小さいため、塗布後、光ファ
イバ３の表面で溶融金属４が流動してしまうためである
。
不均一が極端な場合、光ファイバ表面に金属被覆された
部分と被覆されない部分が生じ、このような状態になる
と、静疲労特性が劣化するのみでなく、引張強度までも
低下するという問題点があった。
部分と被覆されない部分が生じ、このような状態になる
と、静疲労特性が劣化するのみでなく、引張強度までも
低下するという問題点があった。
本発明の目的は、前記した従来技術の欠点を解消し、長
手方向に均一に金属が被覆された金属被覆光ファイバを
得ることができる金属被覆光ファイバの製造方法を提供
することにある。
手方向に均一に金属が被覆された金属被覆光ファイバを
得ることができる金属被覆光ファイバの製造方法を提供
することにある。
［課題を解決するための手段］
本発明の金属被覆光ファイバの製造方法は、石英を主成
分とする多孔質ガラス体の表面部に金属酸化物を含有さ
せ、この多孔質ガラス体を加熱溶融し線引きして光ファ
イバ化した後、該光ファイバを還元雰囲気に曝し、上記
金属酸化物を還元して光ファイバ表面に金属被膜を形成
する。
分とする多孔質ガラス体の表面部に金属酸化物を含有さ
せ、この多孔質ガラス体を加熱溶融し線引きして光ファ
イバ化した後、該光ファイバを還元雰囲気に曝し、上記
金属酸化物を還元して光ファイバ表面に金属被膜を形成
する。
［作 用コ
石英を主成分とする多孔質ガラス体は、気相軸付法等に
より作製する。多孔質ガラス体の表面部にＴｉＯ２等の
金属酸化物を含有させるのは多孔質ガラス体の形成時あ
るいはその後の焼結時に行なう。
より作製する。多孔質ガラス体の表面部にＴｉＯ２等の
金属酸化物を含有させるのは多孔質ガラス体の形成時あ
るいはその後の焼結時に行なう。
線引後の光ファイバ表面の金属酸化物はＣＯ等の還元雰
囲気によって還元され、光ファイバ表面には均一な金属
被膜が形成される。
囲気によって還元され、光ファイバ表面には均一な金属
被膜が形成される。
［実施例］
本発明の実施例を第１図により説明する。第１図（ａ）
は、本発明における多孔質ガラス体の製造工程を示し、
第１図（ｂ）は製造された光ファイバ母材の線引工程を
示すものである。
は、本発明における多孔質ガラス体の製造工程を示し、
第１図（ｂ）は製造された光ファイバ母材の線引工程を
示すものである。
まず、第１図（ａ）に示すごとく、３本の合成トーチ６
．７．８を用いて気相軸付法により多孔質ガラス体を形
成した。トーチ６にはガラス原料ガスである５ｉ（Ｊｏ
４及び屈折率を高めるドーパントであるＧｅｃ２４を投
入し、コアとなる多孔質ガラス体１０を形成した。トー
チ７には５ｉｌＪ４のみを投入し、コア多孔質ガラス体
１０の外周にクラッドとなる多孔質ガスラ層を有する多
孔質ガラス体１１を形成し、更にトーチ８にはＴｉＣＬ
を投入し、クラッド多孔質ガラス体１１の外周に１１０
２層を有する多孔質ガラス体１２を形成した。形成した
多孔質ガラス体１２の各部の寸法は、コア多孔質ガラス
体１０の直径３０１ｍ、クラッド多孔質ガラス体１１の
外径７０ｎｎ、多孔質ガラス体１２の■１０２膜厚１ｎ
ｎであった。このようにして製造した多孔質ガラス体１
２を電気炉にてＨｅ雰囲気中で加熱焼結し、透明ガラス
化し、光ファイバ母材１３とした。
．７．８を用いて気相軸付法により多孔質ガラス体を形
成した。トーチ６にはガラス原料ガスである５ｉ（Ｊｏ
４及び屈折率を高めるドーパントであるＧｅｃ２４を投
入し、コアとなる多孔質ガラス体１０を形成した。トー
チ７には５ｉｌＪ４のみを投入し、コア多孔質ガラス体
１０の外周にクラッドとなる多孔質ガスラ層を有する多
孔質ガラス体１１を形成し、更にトーチ８にはＴｉＣＬ
を投入し、クラッド多孔質ガラス体１１の外周に１１０
２層を有する多孔質ガラス体１２を形成した。形成した
多孔質ガラス体１２の各部の寸法は、コア多孔質ガラス
体１０の直径３０１ｍ、クラッド多孔質ガラス体１１の
外径７０ｎｎ、多孔質ガラス体１２の■１０２膜厚１ｎ
ｎであった。このようにして製造した多孔質ガラス体１
２を電気炉にてＨｅ雰囲気中で加熱焼結し、透明ガラス
化し、光ファイバ母材１３とした。
次に、このようにして得られた光ファイバ母材１３を第
１図（ｂ）に示す線引装置で線引し光ファイバ化した。
１図（ｂ）に示す線引装置で線引し光ファイバ化した。
第１図（ｂ）に示す線引装置は、加熱炉としてのカーボ
ン抵抗炉１４の直下に還元雰囲気炉１５を備えたもので
、還元雰囲気炉１５には、還元ガスとしてＣＯを流入さ
せ、温度を１０００℃とした。カーボン抵抗炉１４で線
引した光ファイバ１６を還元雰囲気炉１５を通過させる
ことにより、光ファイバ１６表面のＴｉＯ＋層が還元さ
れ、金属Ｔｉの被膜が形成された。線引した光ファイバ
１６のＴｉ被膜の厚みを長手方向に測定したところ、０
．５μ！１＋０．０５μｍと非常に均一なものであった
。
ン抵抗炉１４の直下に還元雰囲気炉１５を備えたもので
、還元雰囲気炉１５には、還元ガスとしてＣＯを流入さ
せ、温度を１０００℃とした。カーボン抵抗炉１４で線
引した光ファイバ１６を還元雰囲気炉１５を通過させる
ことにより、光ファイバ１６表面のＴｉＯ＋層が還元さ
れ、金属Ｔｉの被膜が形成された。線引した光ファイバ
１６のＴｉ被膜の厚みを長手方向に測定したところ、０
．５μ！１＋０．０５μｍと非常に均一なものであった
。
なお、上記実施例では多孔質ガラス体の表面部に金属酸
化物を含有させる工程を多孔質ガラス体の形成工程で行
ったが、第２図に示すように、気相軸付法で作成した石
英を主成分とする多孔質ガラス体１７を焼結炉１８で焼
結する工程で行うようにしてもよい、即ち、焼結炉１８
の石英マツフル１９内に多孔質ガラス体１７を挿入し、
石英マツフル１９にＨｅ１０Ｊ！／ｍｉｎ、 ＴｉＣＬ
１００１ｇ／ｉｉｎおよび０２２Ｊ／ｎｉｎを流すと
共に石英マツフル１９内を約１６００℃とし、多孔質ガ
ラス体１７を上方から下方へ約３１′Ｉｎ／ｍ ｉ ｎ
の速度で引き下げて焼結透明ガラス化する。焼結時に雰
囲気ガスのＴｉＣＬと０２が熱酸化反応してＴｉ０２ａ
ｌｔ粒子が生成され、これが多孔質ガラス体表面に付着
し、更に加熱され透明ガラス化する段階で表面のＴｉＯ
２が光ファイバ母材内部に拡散する。このようにして製
造された光ファイバ母材に対しても第１図（ｂ）に示す
処理を行えば金属被覆光ファイバが得られる。
化物を含有させる工程を多孔質ガラス体の形成工程で行
ったが、第２図に示すように、気相軸付法で作成した石
英を主成分とする多孔質ガラス体１７を焼結炉１８で焼
結する工程で行うようにしてもよい、即ち、焼結炉１８
の石英マツフル１９内に多孔質ガラス体１７を挿入し、
石英マツフル１９にＨｅ１０Ｊ！／ｍｉｎ、 ＴｉＣＬ
１００１ｇ／ｉｉｎおよび０２２Ｊ／ｎｉｎを流すと
共に石英マツフル１９内を約１６００℃とし、多孔質ガ
ラス体１７を上方から下方へ約３１′Ｉｎ／ｍ ｉ ｎ
の速度で引き下げて焼結透明ガラス化する。焼結時に雰
囲気ガスのＴｉＣＬと０２が熱酸化反応してＴｉ０２ａ
ｌｔ粒子が生成され、これが多孔質ガラス体表面に付着
し、更に加熱され透明ガラス化する段階で表面のＴｉＯ
２が光ファイバ母材内部に拡散する。このようにして製
造された光ファイバ母材に対しても第１図（ｂ）に示す
処理を行えば金属被覆光ファイバが得られる。
［発明の効果］
本発明によれば、多孔質ガラス体の段階で表面部に金属
酸化物を含有させた後、線引後の光ファイバを還元雰囲
気に曝すことによって表面に金属被膜を形成するように
しているため、光ファイバの長手方向に均一な金属被覆
が施された金属被覆光ファイバが得られる。これにより
、光ファイバの静疲労強度を大幅に改善できる。
酸化物を含有させた後、線引後の光ファイバを還元雰囲
気に曝すことによって表面に金属被膜を形成するように
しているため、光ファイバの長手方向に均一な金属被覆
が施された金属被覆光ファイバが得られる。これにより
、光ファイバの静疲労強度を大幅に改善できる。
第１図は本発明の一実施例を示すもので、第１図（ａ）
は多孔質カラス体の製造工程を示す図、第１図ｆｂ）は
光ファイバ母材の線引工程を示す図、第２図は本発明の
他の実施例における多孔質ガラス体の焼結工程を示す図
、第３図は従来の方法における金属被覆工程を示す図で
ある。 図中、１は加熱炉、２は光ファイバ母材、３は光ファイ
バ、４は溶融金属、５はコーテイング槽、６，７．８は
合成トーチ、１０はコア多孔質ガラス体、１１はクラッ
ド多孔質ガラス体、１２は１１０２層を有する多孔質ガ
ラス体、１３は光ファイバ母材、１４はカーボン抵抗炉
、１５は還元雰囲気炉、１６は光ファイバ、１７は多孔
質ガラス体、１８は焼結炉、１９は石英マツフルである
。 特許出願人 日立電線株式会社 代理人弁理士 絹 谷 信 雄 第３図
は多孔質カラス体の製造工程を示す図、第１図ｆｂ）は
光ファイバ母材の線引工程を示す図、第２図は本発明の
他の実施例における多孔質ガラス体の焼結工程を示す図
、第３図は従来の方法における金属被覆工程を示す図で
ある。 図中、１は加熱炉、２は光ファイバ母材、３は光ファイ
バ、４は溶融金属、５はコーテイング槽、６，７．８は
合成トーチ、１０はコア多孔質ガラス体、１１はクラッ
ド多孔質ガラス体、１２は１１０２層を有する多孔質ガ
ラス体、１３は光ファイバ母材、１４はカーボン抵抗炉
、１５は還元雰囲気炉、１６は光ファイバ、１７は多孔
質ガラス体、１８は焼結炉、１９は石英マツフルである
。 特許出願人 日立電線株式会社 代理人弁理士 絹 谷 信 雄 第３図
Claims (1)
- １、石英を主成分とする多孔質ガラス体の表面部に金属
酸化物を含有させ、この多孔質ガラス体を加熱溶融し線
引きして光ファイバ化した後、該光ファイバを還元雰囲
気に曝し、上記金属酸化物を還元して光ファイバ表面に
金属被膜を形成するようにしたことを特徴とする金属被
覆光ファイバの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63049667A JPH01224245A (ja) | 1988-03-04 | 1988-03-04 | 金属被覆光ファイバの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63049667A JPH01224245A (ja) | 1988-03-04 | 1988-03-04 | 金属被覆光ファイバの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01224245A true JPH01224245A (ja) | 1989-09-07 |
Family
ID=12837524
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63049667A Pending JPH01224245A (ja) | 1988-03-04 | 1988-03-04 | 金属被覆光ファイバの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH01224245A (ja) |
-
1988
- 1988-03-04 JP JP63049667A patent/JPH01224245A/ja active Pending
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