JPH01225377A - Ledアレイ - Google Patents
LedアレイInfo
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- JPH01225377A JPH01225377A JP63052325A JP5232588A JPH01225377A JP H01225377 A JPH01225377 A JP H01225377A JP 63052325 A JP63052325 A JP 63052325A JP 5232588 A JP5232588 A JP 5232588A JP H01225377 A JPH01225377 A JP H01225377A
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- JP
- Japan
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- led
- dots
- substrate
- array
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- Prior art date
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- Pending
Links
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Landscapes
- Dot-Matrix Printers And Others (AREA)
- Printers Or Recording Devices Using Electromagnetic And Radiation Means (AREA)
- Led Devices (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、単位長当たりのLEDドツトを高密度かつ高
輝度にしたLEDアレイ、特にLEDプリンタの光源に
最適なLEDアレイに関する。
輝度にしたLEDアレイ、特にLEDプリンタの光源に
最適なLEDアレイに関する。
プリンタはコンピュータの処理結果やデイスプレィ上の
文字、図形情報を紙に出力してハードコピーを作製する
装置で、大別すると、用紙−行分の印字を一回でできる
ラインプリンタと、タイプライタのように一字ずつ印字
するシリアルプリンタがあり、また、印字方式にはドラ
ムやベルトを機械的にたたいて印字するインパクト型と
、静電気、放電現象、インクなどを利用して印字するノ
ンインパクト型がある。
文字、図形情報を紙に出力してハードコピーを作製する
装置で、大別すると、用紙−行分の印字を一回でできる
ラインプリンタと、タイプライタのように一字ずつ印字
するシリアルプリンタがあり、また、印字方式にはドラ
ムやベルトを機械的にたたいて印字するインパクト型と
、静電気、放電現象、インクなどを利用して印字するノ
ンインパクト型がある。
最近はインパクト型プリンタに代わって騒音の少ないノ
ンインパクト型プリンタが急速に普及しつつある。ノン
インパクト型の中でレーザビームプリンタ、液晶シャッ
タプリンタ、LEDプリンタが特に脚光を浴びてその採
用数も増加しつつある。これら電子写真方式の中でLE
D方式は中速機としての用途が当初意図されていたが、
レーザビームプリンタに比べて可動部のないこと、調整
誤差が少ないことなどから超高速プリンタの能力の可能
性が出てきた。LEDプリンタは光源となるヘッドが集
束性ロッドレンズアレイとLEDアレイチップの採用に
より完全に固体化、電子走査化されており、小型で借問
性の高い電子写真方式プリンタとして知られている。
ンインパクト型プリンタが急速に普及しつつある。ノン
インパクト型の中でレーザビームプリンタ、液晶シャッ
タプリンタ、LEDプリンタが特に脚光を浴びてその採
用数も増加しつつある。これら電子写真方式の中でLE
D方式は中速機としての用途が当初意図されていたが、
レーザビームプリンタに比べて可動部のないこと、調整
誤差が少ないことなどから超高速プリンタの能力の可能
性が出てきた。LEDプリンタは光源となるヘッドが集
束性ロッドレンズアレイとLEDアレイチップの採用に
より完全に固体化、電子走査化されており、小型で借問
性の高い電子写真方式プリンタとして知られている。
LEDを光源として用いたLEDプリンタは概して帯電
した感光体表面の所望の部分をLEDを用いて放電させ
、電荷をもたせたトナーで現像、転写する方式を採って
いる。たとえばA4サイズ用のプリンタでは、このA4
サイズの長さに対応するLEDドツトアレイを必要とし
、LEDの光は集束性ロッドレンズによって感光面に結
像させる。このLED表示素子は第6図に示すように、
各1個ずつのLEDを有する発光部30を一定間隔を置
いて配置したものである0発光部30は配線部31に電
気的に接続されている。
した感光体表面の所望の部分をLEDを用いて放電させ
、電荷をもたせたトナーで現像、転写する方式を採って
いる。たとえばA4サイズ用のプリンタでは、このA4
サイズの長さに対応するLEDドツトアレイを必要とし
、LEDの光は集束性ロッドレンズによって感光面に結
像させる。このLED表示素子は第6図に示すように、
各1個ずつのLEDを有する発光部30を一定間隔を置
いて配置したものである0発光部30は配線部31に電
気的に接続されている。
このように特に高速印字に適しているLEDプリンタの
キーデバイスであるLEDヘッドを中心にしてLEDプ
リンタの小型化、高速化及び高印字品質化に対して、ま
ず小型化が達成できたのはLEDアレイチップを高精度
に1列に配列するための技術が確立されたことによる。
キーデバイスであるLEDヘッドを中心にしてLEDプ
リンタの小型化、高速化及び高印字品質化に対して、ま
ず小型化が達成できたのはLEDアレイチップを高精度
に1列に配列するための技術が確立されたことによる。
現段蝙では400 ドツト/インチの解像度のヘッドま
では1列配列が実用化されており、より高解像度化も技
術的には可能であるが、480ドツト/インチ程度が1
列配列方式の現状技術での実用化の限界と考えられてい
る。さらに、高速化のためにLED自体の高効率化によ
り高出力を得る検討も行われている。すなわち、従来の
このLED材料であるGaPAsホモ接合LEDに代え
てAlGaAsシングルへテロ接合LEDを用いるもの
であり、0.6W/dの高出力のものが得られている。
では1列配列が実用化されており、より高解像度化も技
術的には可能であるが、480ドツト/インチ程度が1
列配列方式の現状技術での実用化の限界と考えられてい
る。さらに、高速化のためにLED自体の高効率化によ
り高出力を得る検討も行われている。すなわち、従来の
このLED材料であるGaPAsホモ接合LEDに代え
てAlGaAsシングルへテロ接合LEDを用いるもの
であり、0.6W/dの高出力のものが得られている。
また高印字品質化では400 ドツト/インチの高密度
化が実用されている。
化が実用されている。
このように、これからのプリンタの主流になると目され
ているノンインパクト型LEDプリンタの一層の小型化
、高速化、高印字品質化に向けての開発が試行されてい
る。このうち特に高印字品質化にはLEDアレイの高密
度化並びに高輝度化の実現が欠かせない要件であるが、
現状ではせいぜい400ドツト/インチが限度である。
ているノンインパクト型LEDプリンタの一層の小型化
、高速化、高印字品質化に向けての開発が試行されてい
る。このうち特に高印字品質化にはLEDアレイの高密
度化並びに高輝度化の実現が欠かせない要件であるが、
現状ではせいぜい400ドツト/インチが限度である。
また高輝度化は前述したようにGaPAsに代えてAl
GaAsを用い、シングルへテロさらにはダブルヘテロ
構造にすることにより対処することが望ましいが、現段
階ではまだダブルヘテロ構造のLEDアレイは提供され
ておらず、高輝度化を狙ったAlGaAsとシングルへ
テロ構造との組み合わせによる約2077W/ドツトの
ものが最高である。
GaAsを用い、シングルへテロさらにはダブルヘテロ
構造にすることにより対処することが望ましいが、現段
階ではまだダブルヘテロ構造のLEDアレイは提供され
ておらず、高輝度化を狙ったAlGaAsとシングルへ
テロ構造との組み合わせによる約2077W/ドツトの
ものが最高である。
従って本発明の目的は、以上の問題点を鑑みて、より一
層の高密度で高輝度のLEDアレイ、特にLEDプリン
タの光源としてその高印字品質化を可能にするLEDア
レイを提供することにある。
層の高密度で高輝度のLEDアレイ、特にLEDプリン
タの光源としてその高印字品質化を可能にするLEDア
レイを提供することにある。
前記目的を達成するLEDアレイは、基板上に活性層を
含む結晶層を設け、少な(とも活性層まで結晶層を多数
に寸断する溝を形成してLEDドツトアレイを作製し、
LEDドツト間の溝の幅が20.1−以下であり、基板
及び各LEDドツトに電極を設けたことを特徴とするも
のである。
含む結晶層を設け、少な(とも活性層まで結晶層を多数
に寸断する溝を形成してLEDドツトアレイを作製し、
LEDドツト間の溝の幅が20.1−以下であり、基板
及び各LEDドツトに電極を設けたことを特徴とするも
のである。
本発明のLEDアレイは、互いに分離された発光点数で
あるLEDドツトを形成している溝の幅が20−以下で
あることにより、少なくとも400ドツト/インチの精
細度は優に達成可能で、溝の幅を最小限(たとえば2−
程度)にすれば600ドツト/インチも実現することが
できる。
あるLEDドツトを形成している溝の幅が20−以下で
あることにより、少なくとも400ドツト/インチの精
細度は優に達成可能で、溝の幅を最小限(たとえば2−
程度)にすれば600ドツト/インチも実現することが
できる。
また活性層の半導体材料として^lGa1laを選択す
れば、GaPAaに比較して高出力が得られ、シングル
へテロさらにはダブルヘテロ構造を採ればより高輝度、
たとえばAlGaAsとダブルヘテロ構造との併用によ
り少なくとも約60μW/ドツトが期待できる。
れば、GaPAaに比較して高出力が得られ、シングル
へテロさらにはダブルヘテロ構造を採ればより高輝度、
たとえばAlGaAsとダブルヘテロ構造との併用によ
り少なくとも約60μW/ドツトが期待できる。
なお、本発明のLEDアレイに使用する半導体材料には
特に制限はなく、GaAs、 GaPAs 、AlGa
As、GaP 、 Ga1nPなど各々の材料の特性を
活かして用いればよい。
特に制限はなく、GaAs、 GaPAs 、AlGa
As、GaP 、 Ga1nPなど各々の材料の特性を
活かして用いればよい。
以下、本発明のLEDアレ4を図面に基づいて詳細に説
明する。
明する。
第1図はその実施例を示す、このLEDアレイは、P型
GaAs基板Bと、基板B上に順にエピタキシャル成長
させたp型^lGaAsクラッド層1.P型^lGaA
s活性層2及びn型A]GaAsクラッド層3からなる
ダブルヘテロ構造の多数のLEDドツトP(図面では一
部だけを示す)と、クラッド層3に設けたn側電極E1
と、基板Bに設けたp側電極E2とを有する0図からも
明らかな如く、各LEDドツトPは溝5によって互いに
分離されており、溝5はLEDドツトPの活性層2を寸
断し、これにより多数の独立した発光点数であるLED
ドツトアレイが形成されている。なお、より高密度化が
必要な場合はp型GaAs基板Bを取り除いた構造とし
てもよい。
GaAs基板Bと、基板B上に順にエピタキシャル成長
させたp型^lGaAsクラッド層1.P型^lGaA
s活性層2及びn型A]GaAsクラッド層3からなる
ダブルヘテロ構造の多数のLEDドツトP(図面では一
部だけを示す)と、クラッド層3に設けたn側電極E1
と、基板Bに設けたp側電極E2とを有する0図からも
明らかな如く、各LEDドツトPは溝5によって互いに
分離されており、溝5はLEDドツトPの活性層2を寸
断し、これにより多数の独立した発光点数であるLED
ドツトアレイが形成されている。なお、より高密度化が
必要な場合はp型GaAs基板Bを取り除いた構造とし
てもよい。
かかる構造のLEDアレイの高密度発光パターンを第2
図に示す、各LEDドツトPは四角柱状を呈し、電極E
1はLEDドツトPの頂部すなわちクラッド層3の上部
を略縦断する細長いものであり、各LEDドツトPに交
互に達するように配置されている。
図に示す、各LEDドツトPは四角柱状を呈し、電極E
1はLEDドツトPの頂部すなわちクラッド層3の上部
を略縦断する細長いものであり、各LEDドツトPに交
互に達するように配置されている。
ここにおいて、たとえば溝5の輻Wは5ps、LEDド
ツトPの大きさはa −4QPa、 l) x5Q−程
度であり、この場合にはLEDアレイを約564ドツト
/インチまで高密度化することができる。さらに発光パ
ターンの精度にも依るが幅Wを2P程度にまですること
は可能であり、604ドツト/インチを達成できる。
ツトPの大きさはa −4QPa、 l) x5Q−程
度であり、この場合にはLEDアレイを約564ドツト
/インチまで高密度化することができる。さらに発光パ
ターンの精度にも依るが幅Wを2P程度にまですること
は可能であり、604ドツト/インチを達成できる。
上記実施例では、AlGaAsとダブルヘテロ構造と相
まワでかなりの高出力(少なくとも60tIW/ドツト
)が簡単に得られ、しかもプリンタの印字速度は光出力
に比例するので高速印字が達成可能となる。
まワでかなりの高出力(少なくとも60tIW/ドツト
)が簡単に得られ、しかもプリンタの印字速度は光出力
に比例するので高速印字が達成可能となる。
本発明のLEDアレイの発光パターンの別例を第3図に
、並びにその発光パターンを有するLEDアレイの断面
を第4図に示す、各LEDドツトPが溝5によって互い
に分離され、n側電極E1がLEDドツトPの上部の周
囲に設けられている。
、並びにその発光パターンを有するLEDアレイの断面
を第4図に示す、各LEDドツトPが溝5によって互い
に分離され、n側電極E1がLEDドツトPの上部の周
囲に設けられている。
基板B及びLEDドッ)Pを構成する半導体材料は第1
図に示したものと同一である。このLEDアレイの寸法
例を挙げると、LEDドツトPの大きさは横×縦−40
X 60P、溝5の幅10 p−、電極E1のLEDド
ツトP上での幅5ps、α−90P1β−110−で、
約430ドツト/インチの精細度となる。
図に示したものと同一である。このLEDアレイの寸法
例を挙げると、LEDドツトPの大きさは横×縦−40
X 60P、溝5の幅10 p−、電極E1のLEDド
ツトP上での幅5ps、α−90P1β−110−で、
約430ドツト/インチの精細度となる。
なお、上記実施例に示したものに限らず本発明のLED
アレイの製造方法には特に限定はなく、常套手段で行え
ばよいが、LEDアレイの製造工程で特に重要であるL
EDドツトアレイの作製時に基板上の結晶層を多数に独
立分離する溝を形成する際のエツチング方法としては、
特に塩素と水素または塩素と金属水素化物ガスよりなる
混合ガスを用いるエツチング方法を採ることが好ましい
(特願昭62−62216号、特願昭62−74990
号、特願昭62−74991号参照)、これらに開示の
エツチング方法によれば、異方性のエツチング速度を各
種化合物半導体材料により異なることなく等速的に大き
くすることができる。従って、均一な狭い幅の溝を容易
かつ高速に形成でき、より一層の高密度化LEDアレイ
を得るには有用なエツチング技術である。ちなみに、通
常の湿式エツチングではこのような高密度の溝を形成す
るのは困難である。
アレイの製造方法には特に限定はなく、常套手段で行え
ばよいが、LEDアレイの製造工程で特に重要であるL
EDドツトアレイの作製時に基板上の結晶層を多数に独
立分離する溝を形成する際のエツチング方法としては、
特に塩素と水素または塩素と金属水素化物ガスよりなる
混合ガスを用いるエツチング方法を採ることが好ましい
(特願昭62−62216号、特願昭62−74990
号、特願昭62−74991号参照)、これらに開示の
エツチング方法によれば、異方性のエツチング速度を各
種化合物半導体材料により異なることなく等速的に大き
くすることができる。従って、均一な狭い幅の溝を容易
かつ高速に形成でき、より一層の高密度化LEDアレイ
を得るには有用なエツチング技術である。ちなみに、通
常の湿式エツチングではこのような高密度の溝を形成す
るのは困難である。
本発明のLEDアレイは、以上説明したように構成され
ているので、以下に記載されるような効果を奏する。
ているので、以下に記載されるような効果を奏する。
基板上に設けられた活性層を含む結晶層を該結晶層の少
なくとも活性層まで多数に寸断する溝の幅が20P以下
であることにより、高精細度のLEDドツトが簡単に得
られ、発光パターンの精度によっては600ドツト/イ
ンチ程度までの高密度化を実現することができる。また
半導体材料として^lGaAsなどを使用し、シングル
へテロさらにはダブルヘテロ構造を採用すればかなりの
高出力(たとえばAlGaAsとダブルヘテロ構造の組
み合わせでは100μW/ドツト程度)が可能どなる。
なくとも活性層まで多数に寸断する溝の幅が20P以下
であることにより、高精細度のLEDドツトが簡単に得
られ、発光パターンの精度によっては600ドツト/イ
ンチ程度までの高密度化を実現することができる。また
半導体材料として^lGaAsなどを使用し、シングル
へテロさらにはダブルヘテロ構造を採用すればかなりの
高出力(たとえばAlGaAsとダブルヘテロ構造の組
み合わせでは100μW/ドツト程度)が可能どなる。
従って、本発明のLEDアレイをプリンタの光源として
用いれば高密度かつ高輝度特性により特に高品質な印字
が得られ、付随的に印字の高速化を達成することもでき
る。
用いれば高密度かつ高輝度特性により特に高品質な印字
が得られ、付随的に印字の高速化を達成することもでき
る。
第1図は本発明のLEDアレイの一実施例の略断面図、
第2図は第1図のアレイの発光パターンを示す略平面図
、第3図は発光パターンの別例を示す略平面図、第4図
は第3図の発光パターンを有するLEDアレイの略断面
図、第5図はプリンタ用のLEDアレイの発光パターン
例を示す略図である。 B :p型Ga^3基板 1 :p型AlGaAsクラッド層2
:p型^lGaAs活性層3
:n型AlGa^3クラッド層5 :溝 p : LEDドツト El、E2 :電極 第2図 筒3図 第5図
第2図は第1図のアレイの発光パターンを示す略平面図
、第3図は発光パターンの別例を示す略平面図、第4図
は第3図の発光パターンを有するLEDアレイの略断面
図、第5図はプリンタ用のLEDアレイの発光パターン
例を示す略図である。 B :p型Ga^3基板 1 :p型AlGaAsクラッド層2
:p型^lGaAs活性層3
:n型AlGa^3クラッド層5 :溝 p : LEDドツト El、E2 :電極 第2図 筒3図 第5図
Claims (2)
- (1)基板上に活性層を含む結晶層を設け、少なくとも
活性層まで結晶層を多数に寸断する溝を形成してLED
ドットアレイを作製し、LEDドット間の溝の幅が20
μm以下であり、基板及び各LEDドットに電極を設け
たことを特徴とするLEDアレイ。 - (2)前記結晶層がダブルヘテロ構造を有し、前記LE
DアレイがLEDプリンタの光源であることを特徴とす
る請求項(1)記載のLEDアレイ。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63052325A JPH01225377A (ja) | 1988-03-04 | 1988-03-04 | Ledアレイ |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63052325A JPH01225377A (ja) | 1988-03-04 | 1988-03-04 | Ledアレイ |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01225377A true JPH01225377A (ja) | 1989-09-08 |
Family
ID=12911639
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63052325A Pending JPH01225377A (ja) | 1988-03-04 | 1988-03-04 | Ledアレイ |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH01225377A (ja) |
Cited By (12)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| US6791119B2 (en) | 2001-02-01 | 2004-09-14 | Cree, Inc. | Light emitting diodes including modifications for light extraction |
| US6794684B2 (en) | 2001-02-01 | 2004-09-21 | Cree, Inc. | Reflective ohmic contacts for silicon carbide including a layer consisting essentially of nickel, methods of fabricating same, and light emitting devices including the same |
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| KR100597166B1 (ko) * | 2005-05-03 | 2006-07-04 | 삼성전기주식회사 | 플립 칩 발광다이오드 및 그 제조방법 |
| US7211833B2 (en) | 2001-07-23 | 2007-05-01 | Cree, Inc. | Light emitting diodes including barrier layers/sublayers |
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-
1988
- 1988-03-04 JP JP63052325A patent/JPH01225377A/ja active Pending
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