JPH0122746B2 - - Google Patents
Info
- Publication number
- JPH0122746B2 JPH0122746B2 JP54101664A JP10166479A JPH0122746B2 JP H0122746 B2 JPH0122746 B2 JP H0122746B2 JP 54101664 A JP54101664 A JP 54101664A JP 10166479 A JP10166479 A JP 10166479A JP H0122746 B2 JPH0122746 B2 JP H0122746B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- light
- light receiving
- receiving element
- integrated circuit
- semiconductor integrated
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10F—INORGANIC SEMICONDUCTOR DEVICES SENSITIVE TO INFRARED RADIATION, LIGHT, ELECTROMAGNETIC RADIATION OF SHORTER WAVELENGTH OR CORPUSCULAR RADIATION
- H10F77/00—Constructional details of devices covered by this subclass
- H10F77/30—Coatings
- H10F77/306—Coatings for devices having potential barriers
- H10F77/331—Coatings for devices having potential barriers for filtering or shielding light, e.g. multicolour filters for photodetectors
- H10F77/334—Coatings for devices having potential barriers for filtering or shielding light, e.g. multicolour filters for photodetectors for shielding light, e.g. light blocking layers or cold shields for infrared detectors
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10F—INORGANIC SEMICONDUCTOR DEVICES SENSITIVE TO INFRARED RADIATION, LIGHT, ELECTROMAGNETIC RADIATION OF SHORTER WAVELENGTH OR CORPUSCULAR RADIATION
- H10F77/00—Constructional details of devices covered by this subclass
- H10F77/30—Coatings
- H10F77/306—Coatings for devices having potential barriers
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10F—INORGANIC SEMICONDUCTOR DEVICES SENSITIVE TO INFRARED RADIATION, LIGHT, ELECTROMAGNETIC RADIATION OF SHORTER WAVELENGTH OR CORPUSCULAR RADIATION
- H10F77/00—Constructional details of devices covered by this subclass
- H10F77/50—Encapsulations or containers
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10W—GENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
- H10W72/00—Interconnections or connectors in packages
- H10W72/851—Dispositions of multiple connectors or interconnections
- H10W72/874—On different surfaces
- H10W72/884—Die-attach connectors and bond wires
Landscapes
- Solid State Image Pick-Up Elements (AREA)
- Light Receiving Elements (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は受光素子を同一基板上に含む単一半導
体集積回路素子(以下モノリシツクセンサーIC
と記す。)を含むパツケージの改良に関する。
体集積回路素子(以下モノリシツクセンサーIC
と記す。)を含むパツケージの改良に関する。
従来、前述の様なモノリシツクセンサーICに
おいて、受光素子を形成するセンサー部以外へも
入射した光束が侵入する事が往々にしてあり、雑
音指数がかなり大きくなるものであつた。そして
この様なモノリシツクセンサーICの出力を利用
して何らかの制御を行う場合などには誤動作が生
じ勝ちになるという欠点を有していた。
おいて、受光素子を形成するセンサー部以外へも
入射した光束が侵入する事が往々にしてあり、雑
音指数がかなり大きくなるものであつた。そして
この様なモノリシツクセンサーICの出力を利用
して何らかの制御を行う場合などには誤動作が生
じ勝ちになるという欠点を有していた。
第1図は従来のモノリシツクセンサーICの断
面構造を示す概念図である。
面構造を示す概念図である。
同図において、1はICを収納するパツケージ、
2はモノリシツクセンサICの基板半導体、3は
該IC上にて受光素子を形成するセンサー部、4,
5,6は夫々入射光束である。
2はモノリシツクセンサICの基板半導体、3は
該IC上にて受光素子を形成するセンサー部、4,
5,6は夫々入射光束である。
図示の如く、入射光束4がセンサー部3に入射
しているのに対し光束5,6は基板半導体2に入
光して、電荷を発生させる。この電荷はセンサー
部3に入光する光束4によつて発生する信号電荷
と影響し合い不正な出力を形成し勝ちな欠点を有
しており、全体として誤動作を生じる事故が往々
にして起きた。
しているのに対し光束5,6は基板半導体2に入
光して、電荷を発生させる。この電荷はセンサー
部3に入光する光束4によつて発生する信号電荷
と影響し合い不正な出力を形成し勝ちな欠点を有
しており、全体として誤動作を生じる事故が往々
にして起きた。
特に、イメージセンサ等の半導体集積回路素子
をパツケージ内に収納し、この半導体集積回路素
子の前面に対向するように保護透過部材(例えば
ガラス板)を設けて封止したものにおいては、通
常この半導体集積回路素子表面のほとんどの部分
は遮光用のアルミ膜で覆われている為、保護透過
部材を介して入射した光の一部はこのアルミ膜表
面で反射し、これが保護透過部材の内面で再び反
射して半導体集積回路素子に入射し、所謂フレア
やゴーストと呼ばれる現象を発生させる欠点があ
つた。
をパツケージ内に収納し、この半導体集積回路素
子の前面に対向するように保護透過部材(例えば
ガラス板)を設けて封止したものにおいては、通
常この半導体集積回路素子表面のほとんどの部分
は遮光用のアルミ膜で覆われている為、保護透過
部材を介して入射した光の一部はこのアルミ膜表
面で反射し、これが保護透過部材の内面で再び反
射して半導体集積回路素子に入射し、所謂フレア
やゴーストと呼ばれる現象を発生させる欠点があ
つた。
これに対し、実開昭52−33218号に示されるよ
うにチツプ前面の保護ガラスの内面側の一部に粗
面を形成したものが知られているが、この構成で
はパツケージからの不要な入射光を散乱させるこ
とはできるものの、強い光が保護ガラスの鏡面部
から入射した場合にパツケージ内で発出するフレ
アやゴーストはこの粗面で単に散乱されるだけ
で、基本的には防止できないものであつた。
うにチツプ前面の保護ガラスの内面側の一部に粗
面を形成したものが知られているが、この構成で
はパツケージからの不要な入射光を散乱させるこ
とはできるものの、強い光が保護ガラスの鏡面部
から入射した場合にパツケージ内で発出するフレ
アやゴーストはこの粗面で単に散乱されるだけ
で、基本的には防止できないものであつた。
本発明はこの様な従来のモノリシツクセンサー
ICの欠点を解消し得る構造の半導体集積回路素
子を含むパツケージを提供することを主たる目的
とし、特に受光素子の正面に対向するように設け
た保護透過部材(例えばガラス板)を介して入射
した光が受光素子等で反射し、これが再び保護透
過部材の内面で反射するのを極力防止し得るパツ
ケージを提供することを目的とするものである。
ICの欠点を解消し得る構造の半導体集積回路素
子を含むパツケージを提供することを主たる目的
とし、特に受光素子の正面に対向するように設け
た保護透過部材(例えばガラス板)を介して入射
した光が受光素子等で反射し、これが再び保護透
過部材の内面で反射するのを極力防止し得るパツ
ケージを提供することを目的とするものである。
以下、第2図、第3図の実施例に基づき本発明
の詳細な説明を行う。
の詳細な説明を行う。
第2図はパツケージ内に設けられる単一半導体
集積回路素子を説明する為の図であり、第3図示
の本発明に係るパツケージによる効果をより高め
る為に構成を有する。
集積回路素子を説明する為の図であり、第3図示
の本発明に係るパツケージによる効果をより高め
る為に構成を有する。
同図において第1図と同番号のものは同一部材
を示す。7a,7bは夫々面9及び端面10上に
設けられた光束を遮蔽する部材である。
を示す。7a,7bは夫々面9及び端面10上に
設けられた光束を遮蔽する部材である。
8は反射防止膜であつて光透過性を有する部材
から成るものである。
から成るものである。
この様に構成されているので不要な部分への光
照射が遮蔽されセンサー部3において正しい出力
が得られる様になるものである。
照射が遮蔽されセンサー部3において正しい出力
が得られる様になるものである。
第3図は本発明に係るパツケージ構成の実施例
における断面概念図である。
における断面概念図である。
同図において第1,2図と同番号のものは同一
部材を示す。
部材を示す。
11は保護透過部材であり、前記受光素子へ光
を入射する為に前記受光素子に対向するように設
けられている。12及び14は光吸収性に優れた
物質で、前記受光素子周辺の半導体集積回路素子
表面と前記保護透過部材表面との間に生じる反射
を防止する為に、前記受光素子と対向する保護透
過部材表面の内、前記受光素子以外の半導体集積
回路素子表面と相対する部分に設けられている。
を入射する為に前記受光素子に対向するように設
けられている。12及び14は光吸収性に優れた
物質で、前記受光素子周辺の半導体集積回路素子
表面と前記保護透過部材表面との間に生じる反射
を防止する為に、前記受光素子と対向する保護透
過部材表面の内、前記受光素子以外の半導体集積
回路素子表面と相対する部分に設けられている。
13は外表面に光吸収率の高い物質を塗布した
リード線である。
リード線である。
この様に構成されているので保護透過部材の光
入射光路外の内面での反射は大幅に減少し、パツ
ケージ内の迷光を防止し得るものである。
入射光路外の内面での反射は大幅に減少し、パツ
ケージ内の迷光を防止し得るものである。
尚、前記遮蔽部材7a,7b及び又は光吸収部
材12,14等は夫々光吸収性と遮光性を兼備し
たものであつても良い事は言う迄もない。
材12,14等は夫々光吸収性と遮光性を兼備し
たものであつても良い事は言う迄もない。
又これら部材は半導体基板上に貼付又は塗布す
る他にフオトエツチングや拡散等により形成して
も良いものである。
る他にフオトエツチングや拡散等により形成して
も良いものである。
以上詳述した如く、本発明に係る単一半導体集
積回路素子を含むパツケージに依れば (1) 受光部への不要光束の入射を防止する事がで
きる。
積回路素子を含むパツケージに依れば (1) 受光部への不要光束の入射を防止する事がで
きる。
(2) 特に受光素子正面に対向するように設けた保
護透過部材の光入射光路外の内面反射を防止し
得る。
護透過部材の光入射光路外の内面反射を防止し
得る。
(3) 従つて、フレアやゴーストを激減することが
でき、特にイメージセンサの如くフレアやゴー
ストにデリケートな半導体集積回路において大
きなメリツトがあり、低雑音な単一半導体集積
回路素子が得られる。
でき、特にイメージセンサの如くフレアやゴー
ストにデリケートな半導体集積回路において大
きなメリツトがあり、低雑音な単一半導体集積
回路素子が得られる。
等多くの効果を奏するものである。
第1図は従来例の断面概念図。第2図は本発明
に係る半導体集積回路素子の例における断面の概
念図。第3図は本発明のパツケージの実施例にお
ける断面の概念図。 1…パツケージ、2…半導体基板、3…受光素
子部、4,5,6…光束、7a,7b,12,1
4…光遮蔽吸収部材、8…反射防止膜。
に係る半導体集積回路素子の例における断面の概
念図。第3図は本発明のパツケージの実施例にお
ける断面の概念図。 1…パツケージ、2…半導体基板、3…受光素
子部、4,5,6…光束、7a,7b,12,1
4…光遮蔽吸収部材、8…反射防止膜。
Claims (1)
- 1 受光素子を同一基板上に形成した半導体集積
回路素子を含み、前記受光素子へ光を入射する為
に前記受光素子に対向するよう設けた保護透過部
材を有するパツケージにおいて、前記受光素子周
辺の半導体集積回路素子表面と前記保護透過部材
表面との間に生じる反射を防止する為に、前記受
光素子と対向する保護透過部材表面の内、前記受
光素子以外の半導体集積回路素子表面と相対する
部分に光吸収性の高い物質を設けたことを特徴と
するパツケージ。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10166479A JPS5624969A (en) | 1979-08-09 | 1979-08-09 | Semiconductor integrated circuit element |
| US06/930,945 US4785338A (en) | 1979-08-09 | 1986-11-10 | Semi-conductor I.C. element |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10166479A JPS5624969A (en) | 1979-08-09 | 1979-08-09 | Semiconductor integrated circuit element |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5624969A JPS5624969A (en) | 1981-03-10 |
| JPH0122746B2 true JPH0122746B2 (ja) | 1989-04-27 |
Family
ID=14306632
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10166479A Granted JPS5624969A (en) | 1979-08-09 | 1979-08-09 | Semiconductor integrated circuit element |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4785338A (ja) |
| JP (1) | JPS5624969A (ja) |
Families Citing this family (38)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6063957A (ja) * | 1983-09-17 | 1985-04-12 | Toshiba Corp | イメ−ジセンサ |
| JPS6124274A (ja) * | 1984-07-13 | 1986-02-01 | Fuji Xerox Co Ltd | 光電変換素子 |
| JPS61135272A (ja) * | 1984-12-06 | 1986-06-23 | Nippon Kogaku Kk <Nikon> | リニアイメ−ジセンサ |
| JPS6278765U (ja) * | 1985-11-05 | 1987-05-20 | ||
| JPS6278766U (ja) * | 1985-11-06 | 1987-05-20 | ||
| JPS62160561U (ja) * | 1986-04-01 | 1987-10-13 | ||
| JPS6362358A (ja) * | 1986-09-03 | 1988-03-18 | Nec Corp | 固体撮像装置 |
| JPH01164073A (ja) * | 1987-09-11 | 1989-06-28 | Canon Inc | 光電変換装置 |
| JPH0259522U (ja) * | 1988-10-24 | 1990-05-01 | ||
| JPH0732208B2 (ja) * | 1989-10-31 | 1995-04-10 | 三菱電機株式会社 | 半導体装置 |
| JPH0521655A (ja) * | 1990-11-28 | 1993-01-29 | Mitsubishi Electric Corp | 半導体装置および半導体装置用パツケージ |
| EP0606654B1 (en) | 1993-01-01 | 2000-08-09 | Canon Kabushiki Kaisha | Image reading device |
| US5293511A (en) * | 1993-03-16 | 1994-03-08 | Texas Instruments Incorporated | Package for a semiconductor device |
| US5448095A (en) * | 1993-12-20 | 1995-09-05 | Eastman Kodak Company | Semiconductors with protective layers |
| JPH08330608A (ja) * | 1995-05-29 | 1996-12-13 | Oki Electric Ind Co Ltd | 受光センサおよび受発光センサ |
| US6795120B2 (en) | 1996-05-17 | 2004-09-21 | Sony Corporation | Solid-state imaging apparatus and camera using the same |
| JPH1084509A (ja) * | 1996-09-06 | 1998-03-31 | Matsushita Electron Corp | 撮像装置およびその製造方法 |
| US7256589B2 (en) | 2001-04-27 | 2007-08-14 | Atrua Technologies, Inc. | Capacitive sensor system with improved capacitance measuring sensitivity |
| JP2005516377A (ja) * | 2001-05-22 | 2005-06-02 | アトルア テクノロジーズ インコーポレイテッド | 集積回路センサのための改善された接続組立体 |
| US7259573B2 (en) * | 2001-05-22 | 2007-08-21 | Atrua Technologies, Inc. | Surface capacitance sensor system using buried stimulus electrode |
| JP2004311783A (ja) * | 2003-04-08 | 2004-11-04 | Fuji Xerox Co Ltd | 光検出装置、及びその実装方法 |
| JP2006310704A (ja) * | 2005-05-02 | 2006-11-09 | Sumitomo Electric Ind Ltd | 光送受信モジュール |
| EP1808729B1 (de) * | 2006-01-17 | 2009-04-22 | Leica Camera AG | Wechselobjektiv mit optisch lesbarer Kennung |
| DE102007029755A1 (de) | 2007-06-27 | 2009-01-02 | X-Fab Semiconductor Foundries Ag | Verfahren zur Herstellung einer lichtabschirmenden Maske (Light-Shielding-Layer) für Schaltkreise mit integrierten optischen Elementen |
| JP2008235939A (ja) * | 2008-06-27 | 2008-10-02 | Mitsumi Electric Co Ltd | 半導体装置 |
| US20100116970A1 (en) * | 2008-11-12 | 2010-05-13 | Wen-Long Chou | Photo detection device |
| WO2010073226A2 (de) | 2008-12-24 | 2010-07-01 | X-Fab Semiconductor Foundries Ag | Herstellung von hohen justiermarken und solche justiermarken auf einem halbleiterwafer |
| NL2010343A (en) * | 2012-03-20 | 2013-09-23 | Asml Netherlands Bv | Lithographic apparatus, sensor and method. |
| JP2014110264A (ja) * | 2012-11-30 | 2014-06-12 | Toppan Printing Co Ltd | 固体撮像装置 |
| JP6251956B2 (ja) * | 2013-01-22 | 2017-12-27 | セイコーエプソン株式会社 | 光学素子収納用パッケージ、光学フィルターデバイス、光学モジュール、および電子機器 |
| EP2814064B1 (en) * | 2013-06-10 | 2020-11-25 | Nxp B.V. | Integrated sensor chip package with directional light sensor, apparatus including such a package and method of manufacturing such an integrated sensor chip package |
| JP5860071B2 (ja) * | 2014-02-12 | 2016-02-16 | 株式会社半導体エネルギー研究所 | 半導体装置 |
| JP6484982B2 (ja) * | 2014-09-30 | 2019-03-20 | 日亜化学工業株式会社 | 発光装置の製造方法 |
| US10082651B2 (en) | 2016-04-11 | 2018-09-25 | Omnivision Technologies, Inc. | Slim imager, associated system-in-package, and associated method |
| JP7060326B2 (ja) * | 2017-02-14 | 2022-04-26 | 古河電気工業株式会社 | 半導体レーザモジュール |
| JP6870592B2 (ja) * | 2017-11-24 | 2021-05-12 | 豊田合成株式会社 | 発光装置 |
| JP7674083B2 (ja) * | 2020-08-26 | 2025-05-09 | 浜松ホトニクス株式会社 | 光検出装置 |
| US20220352395A1 (en) * | 2021-04-17 | 2022-11-03 | Vanapong Kwangkaew | Optical sensor with light pipe and method of manufacture |
Family Cites Families (19)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US2181494A (en) * | 1936-06-25 | 1939-11-28 | Bell Telephone Labor Inc | Light-sensitive electric device |
| GB728244A (en) * | 1951-10-19 | 1955-04-13 | Gen Electric | Improvements in and relating to germanium photocells |
| US3102242A (en) * | 1957-05-01 | 1963-08-27 | Sylvania Electric Prod | Oscillator with electroluminescent and photoconductive elements |
| NL235086A (ja) * | 1958-02-22 | 1900-01-01 | ||
| DE1276232B (de) * | 1959-05-29 | 1968-08-29 | Siemens Ag | Insbesondere auf Strahlung ansprechende Halbleiterkristallanordnung mit pn-UEbergangund den pn-UEbergang gegen Feuchtigkeit schuetzender Huelle |
| US3281606A (en) * | 1963-07-26 | 1966-10-25 | Texas Instruments Inc | Small light sensor package |
| US3448351A (en) * | 1967-06-01 | 1969-06-03 | Gen Electric | Cryogenic avalanche photodiode of insb with negative resistance characteristic at potential greater than reverse breakdown |
| GB1232812A (ja) * | 1968-02-02 | 1971-05-19 | ||
| US3560813A (en) * | 1969-03-13 | 1971-02-02 | Fairchild Camera Instr Co | Hybridized monolithic array package |
| US3654527A (en) * | 1970-07-27 | 1972-04-04 | Gen Electric | Unitary full wave inverter |
| US3842263A (en) * | 1973-02-01 | 1974-10-15 | Gen Electric | Molded opto-electronic transducer |
| JPS5331714B2 (ja) * | 1974-09-11 | 1978-09-04 | ||
| JPS5824951B2 (ja) * | 1974-10-09 | 1983-05-24 | ソニー株式会社 | コウガクソウチ |
| US3969751A (en) * | 1974-12-18 | 1976-07-13 | Rca Corporation | Light shield for a semiconductor device comprising blackened photoresist |
| JPS562466Y2 (ja) * | 1975-08-29 | 1981-01-20 | ||
| GB1597712A (en) * | 1977-01-17 | 1981-09-09 | Plessey Co Ltd | Display devices |
| JPS5422122A (en) * | 1977-07-20 | 1979-02-19 | Fujitsu Ltd | Solid state pickup element |
| JPS54141690A (en) * | 1978-04-26 | 1979-11-05 | Murata Manufacturing Co | Infrared ray detector and making method thereof |
| JPS54146682A (en) * | 1978-05-08 | 1979-11-16 | Murata Manufacturing Co | Infrared ray detector |
-
1979
- 1979-08-09 JP JP10166479A patent/JPS5624969A/ja active Granted
-
1986
- 1986-11-10 US US06/930,945 patent/US4785338A/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5624969A (en) | 1981-03-10 |
| US4785338A (en) | 1988-11-15 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPS5624969A (en) | Semiconductor integrated circuit element | |
| JPH11248629A (ja) | 光散乱式粒子検知センサ | |
| JPH0888339A (ja) | 固体撮像素子 | |
| US5302818A (en) | Image detector with reduced parasitic light | |
| JP3135194B2 (ja) | 測距装置及び測距装置の保護カバー | |
| JP4060483B2 (ja) | 放射線検出器 | |
| JP2545772Y2 (ja) | 煙検出器 | |
| JP2883676B2 (ja) | 散乱光式煙感知器 | |
| JPH03188680A (ja) | 固体撮像装置 | |
| US5155354A (en) | Target detector capable of rejecting close-in objects | |
| JPH11213263A (ja) | 光散乱式粒子検知センサ | |
| JPH0338884A (ja) | 半導体装置の遮光構造 | |
| JP2781653B2 (ja) | 固体撮像装置 | |
| JP2581838B2 (ja) | 光散乱式粒子検知センサ | |
| JP3865852B2 (ja) | 光検出装置 | |
| JPH0222522A (ja) | 赤外線光学装置 | |
| JPH05226691A (ja) | 光半導体装置 | |
| JPH0519911U (ja) | 測距装置の投光素子 | |
| JPS6297370A (ja) | イメ−ジセンサ | |
| JPH0713241Y2 (ja) | 熱線感知器 | |
| JPH01152664A (ja) | 受光素子内蔵集積回路 | |
| JPS6173369A (ja) | 赤外線検出素子 | |
| JPS5836078A (ja) | 固体撮像装置 | |
| JPH0480707A (ja) | カメラの測距・測光光学系 | |
| JPH04160696A (ja) | 光電式煙感知器 |