JPH01228652A - 非晶質合金薄帯の製造方法 - Google Patents

非晶質合金薄帯の製造方法

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JPH01228652A
JPH01228652A JP5471088A JP5471088A JPH01228652A JP H01228652 A JPH01228652 A JP H01228652A JP 5471088 A JP5471088 A JP 5471088A JP 5471088 A JP5471088 A JP 5471088A JP H01228652 A JPH01228652 A JP H01228652A
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JP
Japan
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phase
amorphous alloy
ribbon
alloy
thin strip
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JP5471088A
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Takeshi Masumoto
健 増本
Akihisa Inoue
明久 井上
Hiroichi Yamamoto
博一 山本
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Unitika Ltd
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Unitika Ltd
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は、電子機器用磁心材料、磁気記録ヘット等の高
周波用高透磁率材料に適した。非常に薄い非晶質合金薄
帯の製造方法に関するものである。
(従来の技術) 非晶質合金は、高透磁率、低保磁力、高電気抵抗1機械
的強度が大きく、耐摩耗性に優れる等の特性をもち、ユ
ニークな軟磁性材料として注目されている。これらの特
性を利用して磁気記録用ヘッド材料、トランス、各種イ
ンダクタ用磁心材料等の高周波用高透磁率材料として利
用されている。
近年の電子技術の発展により、各種高周波用磁性材料に
要求される性能の水準が高くなってきており、現状以上
の低を員失、高透磁率、高周波領域での透磁率の低下の
少ないこと等が要求されている。これらの条件を満足す
る材料を得るために種々の方法が検討されており、その
1つとして、非品質合金)W帯のIIさを従来よりも薄
くする方法が挙げられる。
非晶質合金薄帯を作製するには、液体急冷法のうち、単
ロール法、双ロール法、遠心法が通している(アモルフ
ァス合金 その物性と応用 第6〜11頁 アグネ発行
)。いずれの方法も、電気炉あるいは高周波炉により合
金を溶融させ1合金の溶湯をガス圧によりノズルから噴
出させ、回転する冷却用回転体の表面上で接触凝固させ
る方法であり、均一形状の連続薄帯を短時間で作製する
ことが可能である。
しかしながら、非晶質合金薄帯の厚さは、ノズル孔径及
び噴出圧力に依存する溶湯の噴出量と冷却用回転体の周
速との相互関係に大きく依存しており、これらの条件を
AJfl 整することで、15〜100μrnの厚さの
薄帯を作製できるが、15μm以下の厚さの薄帯を均一
かつ連続的に得ることは非常に難しい。
すなわち1通常の方法で15μmより薄い薄帯を得よう
としても、?8場と冷却用回転体表面間の気泡の巻き込
みによって、薄帯表面に凹″凸や不規則が生じたり、ま
た、ノズル孔径を小さくすると。
吹き出しの際にノズルが非常に詰まりやすくなる等の困
難が生ずる。
一方、非晶質合金薄帯は1通常;非晶質合金単相である
が、特開昭61−89838号公報には。
非晶質合金薄帯の自由凝固表面に、厚さが1〜2μmの
Ag被膜が非晶質合金からの2相分離により形成された
非晶質合金系複合材料が開示されている。これは、Ag
と非晶質合金を複合化することを目的としたものであり
1本発明のように、非晶質合金薄帯自体の厚さを薄くす
ることを目的としたものではない。さらにこの公幸Uに
は、30〜50μmの薄板を容易に形成できることが記
載されており、その実施例には、30μm厚の薄帯が示
されているだけで、2相分離を利用して非晶質合金自体
の厚さを薄(するということは全(示唆されていない。
また、特開昭61−41733号公報には、特定の2相
分離する合金の溶湯を液体急冷法で急冷凝固させて、非
晶質母相中に微細な第2相金属粒子を分散させる第2相
金属粒子分散型非晶質合金の製造法が開示されているが
、第2相となる金属元素の比率が1〜10原子%と少な
いため、第2相は非晶質母相中に粒子として分散し、非
晶質合金薄帯の厚さを薄くするということは開示されて
いない。
(発明が解決しようとする課題) 本発明は1通常の液体急冷の薄帯作製装置及び作製条件
によりながら、従来の方法では得られなかった非常に薄
い非晶質合金薄帯の製造方法を提供することを目的とす
るものである。
(課題を解決するための手段) 本発明者らは、このような課題を解決するために鋭意検
討を重ねた結果、特定の2相分離する合金の溶湯を液体
急冷法で急冷凝固させると、従来の方法では得られなか
った非常に薄い非晶質合金薄帯を得ることができること
を見出し1本発明に到達した。
すなわら1本発明は、第1相を形成するx、y。
(ここで、XはFe、Co、Niからなる群より選ばれ
た1種又は2種以上の元素、YはB、 C。
Si、P、Geからなる群より選ばれた1種又は2種以
上の元素であり、aはtoo−bで与えられる原子%、
bは10〜40原子%である)成分と、第2相を形成す
るZ(ここで、ZはAg。
Cu、Pb、Au、Bi、Baからなる群より選ばれた
1種又は2種以上の元素である)成分とから構成され、
Zの比率が40〜90原子%である2相分離する合金の
溶湯を、液体急冷法で急冷凝固させて、非晶質合金から
なる第1相と、該非晶質合金と相分離する金属又は合金
からなる第2相とが層状に積層した薄帯を得1次いで、
得られた薄帯中の第2相を除去することを特徴とする非
晶質合金薄帯の製造方法を要旨とするものである。
本発明でいう2相分離合金とは、急冷凝固後に第2相形
成用金属と非晶質合金とが2相分離するような合金をい
い、その組成については、非晶質合金からなる第1相を
形成する合金をX、Y、、第2相を形成する金属又は合
金をZと表し説明すると、XaYbにおいてXは、Fe
、Co、Niからなる群より選ばれた1種又は2種以上
の元素であり、非晶質合金を構成する主要金属元素であ
る。
主要金属元素は、非晶質合金の磁気的性質、電気的性質
を決定する。例えば、Fe基の非晶質合金は、飽和磁束
密度が大きく、低保磁力、高角型性。
低鉄損の特性を有しており、トランス磁心材料に適して
いる。Co基の零磁歪組成の非晶質合金は。
磁気ヘッド材料に適している。
Yは、B、C,Si、P、Geからなる群より選ばれた
1種又は2種以上の元素であり、非晶質化元素である。
aは100−bで与えられる原子%、bは10〜40原
子%であり、10原子%未満、40原子%を超える場合
には、非晶質形成能が低下するため、非晶質合金相は結
晶し、脆(なる。好ましい範囲は、15〜30原子%で
ある。
Yは1種の元素よりも2種間時に添加した方が非晶質化
の効果は大きく、特に、BとSiの組み合わせが効果的
である。
また、必要ならば、非晶質合金薄帯の耐食性。
耐庁耗性、磁気特性等を改善するために、非晶質形成能
を低下させない範囲中でCr、Mo、Mn。
V、Nb等の元素を添加してもよく、その添加量として
は、15原子%以下が好ましい。
Zは、非晶質合金と相分離する金属又は合金であり、非
晶質合金の主要金属元素がFc、Co。
Niの場合には、Ag、Cu、Pb、Au、Bi。
Baからなる群より選ばれた1種又は2種以上の元素で
ある。非晶質合金との分離傾向、融点の差等を考慮する
と、Ag、Ag−Cu合金が好ましい。Zの比率は40
〜90原子%であり、40原子%未溝の場合には、非晶
質合金が薄くなる効果が十分に現れない。また、90原
子%を超える場合には、非晶質合金相が連続に、しかも
均一になりにくい。
本発明に用いられる液体急冷法としては2例えば、非晶
質合金薄帯を作るための通常の単ロール法、双ロール法
、遠心法等が挙げられる。
例えば、単ロール法を用いて本発明を実施する場合、先
端に孔をあけた熔湯噴出用ノズルに所定の組成に調整し
た2相分離合金を入れ、高周波炉等を用いて溶融させる
。この場合、?′g湯の混合具合を調整するための堰、
セラミックフィルター等を溶湯噴出用ノズル内に設置し
てもかまわない。
次に、溶湯を2000〜8000rpmで回転している
直径10〜30cmの銅ロールあるいは鋼ロール等に吹
き出して急冷凝固させると、厚さ20〜30μm程度の
薄帯が得られる。この薄帯の断面を光学顕微鏡で観察す
ると、第1相と第2相の2相に分離しており、各相が層
状に積層した構造となっている。薄帯全体の厚さは従来
の薄帯と変わらないが、第2相が存在する分だけ非晶質
合金相である第1相の厚さは5〜10μmと薄くなる。
本発明では、非晶質形成用合金と第2相形成用金属又は
合金の両方の溶湯を1つのノズル孔から一緒に吹き出す
ことが重要であり、非晶質形成用合金の溶湯と第2相形
成用金属の溶湯をそれぞれ別々のノズルから吹き出す方
法では1層状の薄帯は得られるが、非晶質合金部分を薄
(する本発明の効果が現れない。
次に、このようにして作製された2相分離した薄帯から
第2相を除去すると、非常に薄い非晶質合金薄帯が得ら
れる。第2相を除去するには3例えば、炭化ケイ素、酸
化アルミニウム等の研磨剤やそれらの研磨剤を用いた6
00〜1200番程度の研磨紙等で第2相を研磨して除
去する物理的な方法で行えばよい。また、第2相を酸等
で溶かして除去する化学的な方法も適用することができ
る。
こうして得られた非晶質合金薄帯に、必要ならば結晶化
が起こらない条件で熱処理を施してもよい。特に、磁気
特性を向上させる熱処理が有用であり、このような熱処
理には、内部歪を取るだめの焼鈍、キュリー温度以上で
焼鈍して水焼き入れもしくは磁場中冷却2回転磁場中焼
鈍等の方法で行えばよい。
(作 用) 本発明によれば、相分離の現象を利用することにより、
非常に薄い非晶質合金薄帯が得られる。
薄帯の製造条件によって定まるのは、7;す帯全体の1
7さであり2本発明のように2相に分離し各相が層状に
積層された薄帯が得られれば、相分離した第2相の11
さの分だけ非晶質合金相の厚さは薄(なる。この方法に
より、従来の方法では得られなかった非常に薄い非晶質
合金薄帯を容易に得ることができる。
(実施例) 次に2本発明を実施例によって具体的に説明する。
実施例1〜6.比較例1〜5 第1表に示す各種合金相成約Logを1石英管中でアル
ゴン雰囲気にて溶解した後、孔径0.5mmの石英ノズ
ルを用い、アルゴン噴出圧1.5kg/cI11で40
00rp、mで回転している銅ロール(直径20cm)
に噴出して急冷凝固させて2幅約1龍の薄帯を得1次い
で得られた薄帯の両面を1000番の炭化ケイ素の研磨
紙(日木研紙社製)で研暦して第2相を除去し、非晶質
合金薄帯を取り出した〈実施例1〜6.比較例1,2)
また2比較のため、第2相を形成する金属又は合金を含
まない合金相成約Logを、実施例と同様に石英管中で
アルゴン雰囲気にて溶融した後。
アルゴン噴出圧、ロール回転数、ノズル孔径を変化させ
て非晶質合金薄帯を作製した(比較例3〜5)。
上記で作製した薄帯の長さ及び厚さの結果を第1表に示
す。ここで、非晶質合金薄帯の)Iさは。
レーザー測定機によって nlJ帯を50m走行させ。
連続的な平均厚さを測定することにより求めた。
第1表より明らかなごとく、比較例1は八getが少な
いため、薄い非晶質合金薄帯は得られず。
比較例2はAg量が多いため、厚さが均一で、かつ連続
的な非晶質合金薄帯が得られない。
これに対し、実施例1〜6のように、第2相を形成する
金属又は合金の含有量が本発明における組成範囲内であ
れば、厚さが5〜10μmの非常に薄い非晶質合金薄帯
が得られた。
しかし、第2相を形成する金属又は合金を含まない合金
組成で作製した比較例3〜5は、薄帯のとぎれやノズル
詰まりを生じ、厚さが均一で、かつ連続した非晶質合金
薄帯は得られなかった。
次に、このようにして得られた実施例2の非晶質合金薄
帯及び比較例1の非晶質合金薄帯に。
430℃で3分焼きなまし後、水焼き入れの熱処理を行
って、透磁率をインピーダンスアナライザー4192A
(横河ヒューレットバッカード社製)を用いて測定した
その結果を第1図に示す。第1図は1周波数と透磁率と
の関係を示す図で1本発明によって得られた非晶質合金
薄帯は、厚さが薄いので、高周波域での透6ff率の低
下が少ないことがわかる。
(発明の効果) 本発明によれば、従来の方法では得られなかった非常に
薄い(例えば、厚さ5〜lOμm)非晶質合金の薄帯を
得ることができる。このような薄帯は、高周波域での透
磁率の低下が少なく、磁気ヘッド、インダクタンス磁心
等の高周波用高透磁率材料として工業上非常に有益であ
る。
【図面の簡単な説明】
第1図は2本発明の製造方法で得た薄帯及び従来の方法
で得た薄帯の周波数と透磁率との関係を示す図である。 特許出願人  増   本     健ユニ子力株式会

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)第1相を形成するX_aY_b(ここで、XはF
    e、Co、Niからなる群より選ばれた1種又は2種以
    上の元素、YはB、C、Si、P、Geからなる群より
    選ばれた1種又は2種以上の元素であり、aは100−
    bで与えられる原子%、bは10〜40原子%である)
    成分と、第2相を形成するZ(ここで、ZはAg、Cu
    、Pb、Au、Bi、Baからなる群より選ばれた1種
    又は2種以上の元素である)成分とから構成され、Zの
    比率が40〜90原子%である2相分離する合金の溶湯
    を、液体急冷法で急冷凝固させて、非晶質合金からなる
    第1相と、該非晶質合金と相分離する金属又は合金から
    なる第2相とが層状に積層した薄帯を得、次いで、得ら
    れた薄帯中の第2相を除去することを特徴とする非晶質
    合金薄帯の製造方法。
JP5471088A 1988-03-08 1988-03-08 非晶質合金薄帯の製造方法 Pending JPH01228652A (ja)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2012204757A (ja) * 2011-03-28 2012-10-22 Komatsu Ltd 積層体の製造方法および製造装置

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2012204757A (ja) * 2011-03-28 2012-10-22 Komatsu Ltd 積層体の製造方法および製造装置

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