JPH01230229A - 熱処理装置 - Google Patents

熱処理装置

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JPH01230229A
JPH01230229A JP63291717A JP29171788A JPH01230229A JP H01230229 A JPH01230229 A JP H01230229A JP 63291717 A JP63291717 A JP 63291717A JP 29171788 A JP29171788 A JP 29171788A JP H01230229 A JPH01230229 A JP H01230229A
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Shin Nakamaki
中巻 伸
Yuzuru Sasahara
佐々原 譲
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の目的〕 (産業上の利用分野) この発明は被熱処理体を炉に出入れする方法及びその装
置に関する。
(従来の技術) IC又はLSI等の半導体デバイスは、インゴットから
切出されたウェハを、順次1表面加工処理し、熱酸化処
理し、不純物拡散処理し、膜堆積処理し、エツチング処
理する等の多数の工程を経て製造される。これらの製造
工程において、半導体ウェハは複数回にわたり繰返し熱
処理を受ける。
一般に、半導体ウェハの熱処理用の加熱炉として、上下
に積重ねられた多段炉1例えば4段炉が採用される。多
段炉の各炉内にはそれぞれプロセスチューブが水平に設
けられる一方、各炉口の前方にはそれぞれソフトランデ
ィング装置が設けられており、ウェハを積載したボート
(以下、ウェハボートという)が各ソフトランディング
装置により各プロセスチューブ内に挿入されるようにな
っている。
ボートを炉のプロセスチューブに出入れするためのソフ
トランディング装置としては、特公昭62−3571号
公報、米国特許第4,008,815号公報、並びに米
国特許第4,468,195号公報に記載のものが知ら
れている。これらのソフトランディング装置は、炉口に
向かって炉の軸方向(X軸方向という)に延出するフォ
ークを有している。フォークは。
その本体が筒状をなし、その先端部がウェハボートをa
置できるような形状に加工されている。
また、ソフトランディング装置は、前述のフォークをX
軸に沿って前進又は後退させるxI111駆動機構と、
フォーク先端部を上下に首振り動作させるθ軸駆動機構
と、フォークの動作をコントロールするためのコントロ
ーラと、所定のプログラミングに基づきコントローラを
バックアップするコンピュータシステムと、を有してい
る。
従来のソフトランディング装置によりウェハボートを炉
内にローディングする場合は、X軸駆動機構によりフォ
ークをX軸方向に所定の設定距離したけ前進させ、θ軸
駆動機構によりフォーク先端を静かに下げ、ウェハボー
トをフォークからプロセスチューブに移載する。また、
炉内のウェハボートをアンローデインする場合は、フォ
ークをプロセスチューブ内に挿入し、フォーク先端によ
りウェハボートを静かに持上げ、フォークをX軸方向に
設定距離りだけ後退させる。これらの一連の出入れ動作
においては、フォーク及びウェハボートがプロセスチュ
ーブ内壁に擦れないようにコントロールされ、擦れ合い
による石英粉の発生を防止している。
(発明が解決しようとする課題) しかしながら、従来のウェハボートの出入れ方法におい
ては、θ軸駆動機構によりボートをローディングすると
きにウェハボートがプロセスチューブに対して傾斜する
こと、あるいは、X軸駆動機構に動作に誤差が存在する
ことに起因して、フォークとウェハボートとの間の相対
位置がローディング時とアンローディング時とで異なる
。このため、ローディング時とアンローディング時とで
はフォーク上のウェハボートの持ち運び位置が変化し、
次工程(熱処理工程に続く工程)の自動搬送機構により
ウェハボートを搬送する場合に機械的な対応がとれない
という問題があった。
この発明は上記点を改善するためになされものでボート
のローディング時及びアンローディング時におJするボ
ート及びフォークの相対位置を一定に保つことができる
ボート出入れ方法及び、ローディング時とアンローディ
ング時とで、フォーク上におけるボートの持ち運び位置
が実質的に変化することなく、ボートを炉にローディン
グ/アンローディングすることができるソフトランディ
ング装置を提供するものである。
〔発明の構成〕
(課題を解決するための手段) この発明は被熱処理体を炉にローディングする前に、被
熱処理体をローディング/アンローディング手段で片持
ち支持したときにローディング/アンローディング手段
に作用する力学的状態量を予め測定しておき、これを第
1の測定値とし、更に、熱処理後の被熱処理体をローデ
ィング/アンローディング手段で片持ち支持したときに
ローディング/アンローディング手段に作用する力学的
状態量を測定し、これを第2の測定値とし、前記第1及
び第2の測定値を互いに比較し、第2の測定値が第1の
測定値に合致するまで、ローディング/アンローディン
グ手段による被熱処理体の保持位置を補正し、両者が合
致したところで炉から被熱処理体をアンローディングす
ることを特徴とする被熱処理体を炉に出入れする方法、
および被熱処理体を片持ち支持しつつ搬送し、炉にロー
ディング又はアンローディングする手段と、被熱処理体
を片持ち支持したときに前記ローディング/アンローデ
ィング手段に作用する力学的状態量を測定する手段と、
前記力学的状態量の熱処理前後における測定値を互いに
比較する手段と1両者が一致するまで被熱処理体のロー
ディング/アンローディング手段による保持位置を補正
する手段と。
を有することを特徴とする被熱処理体を炉に出入れする
装置を得るものである。
(作 用) 本発明によれば、被熱処理体を炉にローディングする前
に、被熱処理体をローディング/アンローディング手段
で片持ち支持したときにローディング/アンローディン
グ手段に作用する力学的状態量を予め測定しておき、一
方、熱処理後においても前記力学的状態量を測定し、面
測定値を互いに比較し、両者が合致するまで被熱処理体
のローディング/アンローディング手段による保持位置
を補正し5両者が合致したところで炉から被熱処理体を
アンローディングする方法及び、被熱処理体を片持ち支
持しつつ搬送し、炉にローディング又はアンローディン
グする手段と、被熱処理体を片持ち支持したときに前記
ローディング/アンローディング手段に作用する力学的
状態量を測定する手段と、前記力学的状態量の熱処理前
後における測定値を互いに比較する手段と1両者が一致
するまで被熱処理体のローディング/アンローディング
手段による保持位置を補正する手段と、を有するため、
ボートのローディング時及びアンローディング時におけ
るボート及びフォークの相対位置を一定に保つことがで
き、フォーク上におけるボートの持ち運び位置が実質的
に変化することなく、ホードを炉にローディング/アン
ローディングすることができる。
(実施例) 以下1本発明を加熱炉システムに適用した一実施例につ
いて図面を参照しながら説明する。
第1図に示すように、加熱炉装置1は、単体の炉を上下
に4段に積重ねた多段炉であり、各炉内には複数のプロ
セスチューブが横置きの状態で挿入されている。この加
熱炉装置1は、シリコンウェハを酸化・拡散処理するた
めのものである。
ボート出入れ用のユニット4が、加熱j装置1の炉口1
aの前方に設置されている。ユニット4は。
エアフィルタを有するフィルタユニット4aと、多数の
ウェハ2が積載された例えば石英ガラス製ボート3を炉
口1aを介して炉1に出入れするためのユニット4bと
、により構成されている。ユニット4bは、4段の欄4
cを有しており、各段の棚4cの一端がそれぞれの炉口
1aに連通している。各段の棚4cには、それぞれ石英
ガラス製のフォーク6を有するソフトランディング装置
5が設けられている。
フォーク6は、それぞれの炉軸の延長線上に延びており
、その基端側に筒状部7を、その先端側にボート支持部
8をそれぞれ有している。
エレベータ装置9が、加熱炉装置1と架台4との間の前
面側に設けられている。エレベータ装置9のアーム9a
の先端には、フロントステージ上のボート3をフォーク
6の支持部8に移すための部材9bが設けられている。
エレベータ装置9は1部材9bをX軸及びZ軸に沿って
それぞれ移動させる機構を有している。
ウェハカセット11及びウェハボート3を載置するため
のステージが、ユニット4bの最下段の棚4Cの前面に
設けられている。このステージの更に前面にはハンドリ
ング装[10が設けられている。ハンドリング装@10
は、カセット11からウェハ2を取出す機構と、取出さ
れたウェハ2をボート3に移載する機構と、を有してい
る。
第2図を参照しながら、ソフトランディング装置5につ
いて説明する。なお、第2図では便宜的にフォークを図
示していない、ソフトランディング装M5のガイドレー
ル13a、 13bが、1i4cのベース部材12上に
固定されている。ドライブシャフト15が、レール13
a、 13bの相互間に設けられ、一端がストッパ部材
L5aに枢着され、他端がギア18に連結されている。
ガイドレール13a、 13b及びドライブシャフト1
5は、X軸に沿って互いに平行に延びており、それぞれ
が第1のスライダ14及び第2のスライダ27のそれぞ
れを貫通している。
タイミングベルト17が、上述のギア18及びモータ1
6のドライブギア16aの間に掛は渡されている。
ドライブシャフト15及び第1のスライダ14は変換器
15bにより連結されている。変換器15bは、シャフ
ト15に対して摺動する摩擦部材を内蔵しており。
摩擦部材によりシャフト15の回転運動をスライド直線
運動に変換する機能を有している。
また、第2のスライダ27も同様の変換器(図示せず)
を有している。この第2のスライダ27は。
フォークを先端側にて支持するためのものである。
フォーク6を片持ち支持するための支持部19が、第1
のスライダ14の上方に設けられている。このフォーク
支持部19は、Z軸に沿って昇降可能に設けられた第1
の支持部材20と、第1の支持部材20の上に支軸22
aを介して揺動可能に設けられた第2の支持部材22と
、更に第2の支持部材22の上に設けられた第3の支持
部材23a、 23bと、を有している6図において、
第3の支持部材23a、 23bを分解した状態を示し
ている。上部材23aを下部材23bに被せて、 ボル
ト23cを締付けると、フォーク6(図示せず)の後端
部が上下部材23a、 23bにより挟持されるように
なっている。この場合に、フォーク6の最後端と第3の
部材23a、 23bの最後端とは一致している。 な
お、ボルト23dにより第3の下部材23bが第2の支
持部材22に固定されている。
また、第2の支持部材22の後端部は、第3の支持部材
23a、 23bの後端部よりも後方に延びており、部
材22の後端部の上面に偏心カム21が当接している。
偏心カム21は、その両端が1対のブラケット21aに
より回動可能に支持され、更に一端がシャフト21bに
連結されている。このシャフト21bは、ウオームギア
を有する減速機構(図示せず)を介してモータ25の駆
動軸に連結されている。
圧力センサ(図示せず)が、カム21及びブラケット2
1aの連結部に設けられ、力1121からブラケット2
1aに伝達される力のモーメントが検出されるようにな
っている。
次に、第3図を参照しながら、フォーク6の首振り機構
、すなわちθ軸駆動機構について説明する。
フォーク6の首振り機構は、支軸22aを支点とし、カ
ム21及び部材22の当接部分を力点に、ボート支持部
8を作用点とするてこ機構である。すなわち、偏心カム
21を回転させると、作用点にあたるボート支持部8が
上下に揺動するようになっている。
次に、第4図乃至第6図を参照しながら、ボートをロー
ディング/アンローディングする場合のフォークとプロ
セスチューブとの相互位置関係について説明する。
第4図に示すように、ボート支持部8がプロセスチュー
ブ28の挿入口に対面するようにフォーク6が待機して
いる。フォーク6を前進させると、第5図に示すように
、ボート支持部8がプロセスチューブ28内に挿入され
る。第6図に示すように。
ボート支持部8がプロセスチューブ28の均熱部28a
に位置するところでフォーク6を停止させ、ボート(図
示せず)をローディング/アンローディングする。
第7図に示すように、ボート3がプロセスチューブ28
に載置された状態で、ウェハ2とプロセスチューブ28
内壁との間隔が全周に亘ってほぼ一様になる。
次に、第8図のフローチャー1−及び第9図乃至第14
図の断面模式図を参照しながら、上記のソフトランディ
ング装置5を用いてボート3を炉のプロセスチューブ2
8に出入れする場合について詳細に説明する。
多数のシリコンウェハ2を積載したボート3を。
エレベータ装置9の部材9bからフォーク6のボート支
持部8へ移載する。この場合に、ウェハ2及びボート3
の合計重量は約5〜10kgであり、フォーク6の長さ
は約200〜300cmである。ソフトランディング装
置5のスイッチを入れて、ウェハボート3のローディン
グ/アンローディング動作をスタートする。
先ず、フォーク6でウェハボート3を片持ち支持したと
きにフォーク支持部19の力点(カム21と部材22と
の接触部)に伝達される力のモーメント阿、を、センサ
で検出測定するステップ1(Sl)。
この測定値M1をコンピュータシステムのメモリにスト
アするステップ2(52)。
次に、X軸方向にフォーク6を移動させ、ボート支持部
8をプロセスチューブ28に挿入し、第9図に示すよう
に、 ウェハボート3が均熱部28aに位置するところ
で、これを停止する。
次に、θ軸駆動機構のモータ25の駆動により。
偏心カム21を所定回転数だけ回転させ、第10図に示
すように、ボート支持部8を下げる。
ウェハボート3を支持部8からプロセスチューブ28に
移載した後に、第11図に示すように、フォーク6をX
軸方向に後退させ、ウェハボート3のみをプロセスチュ
ーブ28内に残す。
炉口1aを閉め、所定の温度、時間、並びに雰囲気の条
件下でウェハ2を酸化拡散処理する。
熱処理終了後、ローディング時と同じ距離だけフォーク
6をXIPI11方向に前進させ、第12図に示すよう
に、ボート支持部8をウェハボート3のところに位置さ
せる。
第13図に示すように、フォーク6によりウェハボート
3を持上げ、持上げたときに力点(フォーク支持部材1
9のカム21及び部材22の接触点)に作用する力のモ
ーメントM2をセンサで検出測定するステップ3(S:
3)、このとき、熱処理前後のウェハボート3の重量は
、実質的に同じである。例えば、150枚の6インチ径
ウェハにCVDによりIIJMのポリシリコンをデポジ
ットした場合に、処理前後で約12グラムの重量増加が
認められるが、これはウェハボー1−及びフォークの全
体重量から見れば無視できる数値である。
データのストアされたメモリ値H2を呼出し、検出モー
メントM2とメモリ値M1とを互いに比較し、(ステッ
プ4)両者が合致していれば、第14図に示すように、
フォーク6を後退させ、ウェハボート3を炉外に取出す
ステップ5(S5)。
前記ステップ4 (S4)において、検出モーメントM
2とメモリ値M1とが相違している場合は、ウェハボー
ト3をプロセスチューブ28に下ろし、フォーク6の停
止位置を補正した後に、フォーク6でウェハボート3を
再び持上げるステップ6 (S6)、つまり、メモリ値
もと検出モーメントM□とが合致するまで、ステップ3
→ステツプ4→ステツプ6→ステツプ3の動作を繰返す
最終的にメモリ値もと検出モーメント!112とが合致
すると、ステップ5に進み、ウェハボート3を炉外に取
出して、一連の動作が終了する。
なお、上記実施例では、フォーク支持部材の力点におけ
る力のモーメントを検出しているが、これに限られるこ
となく、フォーク支持部材22に歪ゲージを設け、支持
部材22の撓みを検出するようにしてもよい。
また、上記実施例では、フォークの首振り手段に偏心カ
ムを有するθ駆動機構を採用したが、これに限られるこ
となく、他の揺動機構、例えばてこクランク機構を用い
ることもできる。またソフトランディング装置は、X軸
駆動機構(フォーク前進後退機構)及びθ駆動機構(フ
ォーク首振り機構)を具備している。この場合に、X軸
駆動機構及びθ駆動機構がコンピュータシステムにより
コントロールされるようになっていることが好ましい。
力学的状態量の測定データに基づきコンピュータシステ
ムで演算し、演算結果に基づきフォークによるウェハボ
ートの持上げ位置を補正することが好ましい。
更に、ソフトランディング装置のXM駆動機構が、ドラ
イブシャフトの回転運動をスライダの直線運動に変換す
る変換器を有することが好ましい。
この場合に、ドライブシャフトに、ボールスクリュウ等
を採用することができるが、ネジ切り溝のないフリクシ
ョンシャフトを用いることが好ましい。
上記実施例によればボート持上げ時において、ボートと
フォークとの相対位置を一定にすることができる。この
ため、ボート及びフォークをプロセスチューブ内壁に接
触させることなく、ウエハボートを炉に出入れすること
ができると共に、次工程以後のウェハ自動搬送において
ウェハと自動搬送機構との位置ずれに起因する事故が発
生しない。このため、ウェハ損傷事故を有効に回避する
ことができ、ウェハの歩留りを向上させることができる
。更に、ルーム内のクリーン度を高レベルに維持するこ
とができる。
〔発明の効果〕
本発明によれば、ローディング時及びアンローディング
時の両持点で、フォークとボートとの相対位置を実質的
に同じにすることができるので、次工程以後の自動機械
によるウェハの取扱いが確実かつ容易にできる効果があ
る。
【図面の簡単な説明】
第1図は1本発明方法及び装置の一実施例を説明するた
めの加熱炉システムの加熱炉の炉口近傍の付帯設備を示
す構成図、第2図は第1図のソフトランディング装置(
フォークを図示せず)を示す説明図、第3図は第1図フ
ォークの首振り機構(θ駆動機構)について説明するた
めに、フォークを長手直交方向から見た説明図、第4図
乃至第6図は第1図の各時期におけるフォークとプロセ
スチューブとの相互位置関係を説明するために、フォー
ク及びプロセスチューブを長手直交方向から見た説明図
、第7図はプロセスチューブ内に挿入されたフォーク及
びボートを長手方向から見た説明図、第8図は第1図の
ラフ1−ランディング装置の動作を示すフローチャート
、第9図乃至第11図は第1図のボートをプロセスチュ
ーブにローディングする場合の一連の動作を説明するた
めに、それぞれプロセスチューブの長手直交方向から見
た説明図、第12図乃至第14図は第1図のボートをプ
ロセスチューブからアンローディングする場合の一連の
動作を説明するために、そ九ぞれプロセスチューブの長
手直交方向から見た説明図である。 2・・・ウェハ      3・・・ボート5・・・ソ
フトランディング装置 6・・・フォーク     8・・・ボート支持部10
・・・ハンドリング装置 11・・・カセット28・・
・プロセスチューブ 第4図 第5図 ゝ8 第6図 第8図

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)被熱処理体を炉にローディングする前に、被熱処
    理体をローディング/アンローディング手段で片持ち支
    持したときにローディング/アンローディング手段に作
    用する力学的状態量を予め測定しておき、これを第1の
    測定値とし、更に、熱処理後の被熱処理体をローディン
    グ/アンローディング手段で片持ち支持したときにロー
    ディング/アンローディング手段に作用する力学的状態
    量を測定し、これを第2の測定値とし、前記第1及び第
    2の測定値を互いに比較し、第2の測定値が第1の測定
    値に合致するまで、ローディング/アンローディング手
    段による被熱処理体の保持位置を補正し、両者が合致し
    たところで炉から被熱処理体をアンローディングするこ
    とを特徴とする被熱処理体を炉に出入れする方法。
  2. (2)被熱処理体を片持ち支持しつつ搬送し、炉にロー
    ディング又はアンローディングする手段と、被熱処理体
    を片持ち支持したときに前記ローディング/アンローデ
    ィング手段に作用する力学的状態量を測定する手段と、
    前記力学的状態量の熱処理前後における測定値を互いに
    比較する手段と、両者が一致するまで被熱処理体のロー
    ディング/アンローディング手段による保持位置を補正
    する手段と、を有することを特徴とする被熱処理体を炉
    に出入れする装置。
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Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5862489A (ja) * 1981-10-07 1983-04-13 株式会社日立製作所 ソフトランデイング装置
JPS61164221A (ja) * 1985-01-16 1986-07-24 Pioneer Electronic Corp 半導体製造装置における熱処理装置
JPS61121738U (ja) * 1985-01-18 1986-07-31
JPS61179529A (ja) * 1985-02-04 1986-08-12 Toshiba Corp ソフトランデイング装置

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5862489A (ja) * 1981-10-07 1983-04-13 株式会社日立製作所 ソフトランデイング装置
JPS61164221A (ja) * 1985-01-16 1986-07-24 Pioneer Electronic Corp 半導体製造装置における熱処理装置
JPS61121738U (ja) * 1985-01-18 1986-07-31
JPS61179529A (ja) * 1985-02-04 1986-08-12 Toshiba Corp ソフトランデイング装置

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