JPH01230721A - 磁束密度の高い一方向性珪素鋼板の製造方法 - Google Patents

磁束密度の高い一方向性珪素鋼板の製造方法

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JPH01230721A
JPH01230721A JP63109880A JP10988088A JPH01230721A JP H01230721 A JPH01230721 A JP H01230721A JP 63109880 A JP63109880 A JP 63109880A JP 10988088 A JP10988088 A JP 10988088A JP H01230721 A JPH01230721 A JP H01230721A
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、電機器の鉄心に用いられる一方向性珪素綱板
の製造における基本冶金現象として利用するところの、
二次再結晶の発現に対して有効な析出′+yJ(一般に
インヒビターと呼ばれている)として、新規な成分組合
せを提示し、これにより磁束密度の高い一方向性珪素綱
板の製造を可能にするものである。
〔従来の技術〕
一方向性珪素綱板は綱板面が(110)面で、圧延方向
が< 100>軸を有するいわゆるゴス方位(ミラー指
数で(110)  < 001>方位を表わす)を持つ
結晶粒から構成されており、軟磁性材料として変圧器お
よび発電機用の鉄心に使用される。
この綱板は磁気特性として磁化特性と鉄損特性が良好で
なければならない。磁化特性の良否はかけられた一定の
磁場中で鉄心内に誘起される磁束密度の高低で決まり、
磁束密度の高い製品では鉄心を小型化出来る。磁束密度
の高さは綱板結晶粒の方位を< 110)  < OO
Hに高度に揃えることによって達成出来る。
鉄損は鉄心に所定の交流磁場を与えた場合に熱エネルギ
ーとして消費される電力[4失であり、その良否に対し
て磁束密度、板厚、不純物量、比抵抗、結晶粒大きさ等
が影響する。
磁束密度の高い綱板は電気機器の鉄心を小さく 。
出来、また鉄(員も少なくなるので望ましく、当該技術
分野では出来る限り磁束密度の高い製品を安いコストで
製造する方法の開発が課題である。
特に最近は磁区細分化技術が開発され、高い磁束密度を
有する材料はど低い鉄I員値のものが得られるようにな
ってきている。
ところで、一方向性珪素綱板は、熱延板を適切な冷延と
焼鈍との組合せにより最終板厚になった綱板を仕上焼鈍
することにより (1101< 001>方向を有する
一次再結晶粒を選択成長させる、いわゆる二次再結晶に
よって得られる。二次再結晶は二次再結晶前の綱板中に
微細な析出物、例えばMnS 、  Δj! N  9
MnSe * CuzS+ (八j!、5i)N等が存
在すること、あるいはSn、Sb等の粒界存在型の元素
が存在することによって達成される。これら析出物、粒
界存在型の元素はJ、E、May and D。
Turnbull(Trans、tlet、soc、A
IME 212(1958) p769/781)によ
って説明されているように仕上焼鈍工程で(1101<
 001>方位以外の一次再結晶粒の成長を抑え、(1
10)  < 001>方位粒を選択的に成長させる機
能を持つ。このような粒成長の抑制効果は一般にはイン
ヒビター効果と呼ばれている。
したがって当該分野の研究開発の重点課題はいかなる種
類の析出物、あるいは粒界存在型の元素を用いて二次再
結晶を安定させるか、そし°ζ正も育な(1101< 
001>方位粒の存在割合を高めるためにそれらの適切
な存在状態をいかに達成するかにある。特に、最近では
一種類の析出物による方法では(110)  < 00
1>方位の高度の制御に限界があるため、各析出物につ
いて短所・長所を深く解明することにより、いくつかの
析出物を有機的に組合せて、より磁束密度の高い製品を
安定に、かつコスト安く製造出来る技術開発が進められ
ている。
析出物の種類として、M、F、Littmannは特公
昭30−3651に、J、E、May and D、T
urnbullはTransMet、Soc、AIME
 212(1958)p769/781にMnSを、田
口、板金は特公昭33−4710にΔINとMnSを、
FiedlerはTrans はTrans 、 Me
t、 Soc AIMB 221(1961) p12
01〜1205にVNを、今中らは特公昭51−134
69にMnSe、Sbを、J、A、Salsgiver
は寸特開昭57−45818号公報にAnと硫化銅を、
小松らは特願昭60−179855に(Al 、5i)
Nを開示しており、その他TiS 、 CrS  、 
CrC、NbC、5iOz等が知られている。又粒界存
在型の元素として「日本金属学会誌J 27(1963
)p186斎藤達雄にAs  。
Sn、Sb等が述べられているが工業生産においてはこ
れら元素単独で使用される例は無く、いずれも析出物と
共存させてその補助的効果を狙って使用されている。さ
らに特徴のあるインヒビターとして、II 、 gre
nob l eによる米国特許第3,905,842号
(1975) 、 tl、Fiedlerによる米国特
許第3,905,843号(1975)がある。すなわ
ち固溶のS、B、Nを適当量だけ存在させることによっ
て、磁束密度の高い一方向性珪素綱板の製造を可能にし
ている。二次再結晶に効果のある析出物の選択基準は必
ずしも明らかにされていないが、その代表的見解が検量
により「鉄と鋼J 53(1967) p1007〜1
023に述べられている。要約すると (1)大きさは0.1p程度 (2)必要容積は0.1 vo1%以上(3)二次再結
晶温度範囲で完全に溶けてしまっても全く溶けなくても
不可であり適当な程度固溶する である。上記各種析出物はこれら条件に当てはまる部分
もあるが、全ての現象がこの条件に当てはまるわけでは
無い。最近の冷間圧延以降において綱板を窒化する方法
においては、上記(1)は重要な意味をもたないことが
分った。この様に現状では析出物の選択をする際の指導
原理は確立しておらず、試行錯誤の操り返しで、新しい
インヒビター制御技術が探索されている。いずれにして
も高い磁束密度(+ 1101  < 001>方位の
高集積度)を得るためには析出物を漱わHで均一かつ多
量に仕上高温焼鈍前の綱板中に存在させる事が必要であ
り、析出物の制御と同時にその析出物の特性に合致すべ
く圧延、熱処理の適切な組合せにより二次再結晶前の性
状を調整する事が重要である。
〔発明が解決しようとする課題〕
現在、工業生産されている代表的な一方向性珪素綱板製
造方法として3種類あるが、各々については長所・短所
がある。第一の技術はM、F Littmannによる
特公昭30−3651号公報に示されたMnSを用いた
二回冷延工程であり、得られる二次再結晶粒は安定して
発達するが、高い磁束密度が得られない。第二の技術は
川口等による特公昭40−15644号公報に示された
AAN +MnSを用いた最終冷延を80%以上の強圧
下率とするプロセスであり、高い磁束密度は得られるが
、工業生産に際してその製造条件の適切範囲が狭く最高
磁性の製品の安定生産に欠ける。第三の技術は今生等に
よる特公昭51−13469号公?[こ示されたMnS
 (および/またはMnSe> +Sbを含有する珪素
鋼を二回冷延工程によって製造するプロセスであり、比
較的に高い磁束密度は得られるが、Sb、Seのような
有害でかつ高価な元素を使用し、しかも二回冷延法であ
ることから製造コストが高(なる。上記3種類の技術に
おいては共通して次のような問題がある。
すなわち、上記技術はいずれもが析出物を微細、均一に
制御する技術として熱延に先立つスラブ加熱温度を第一
の技術では1260℃以上、第二の技術では特開昭48
−51852号公報に示すように素材Si量によるが3
%Siの場合で1350℃、第三の技術では特開昭51
−20716号公報に示されるように1230℃以上、
高い磁束密度の得られた実施例では1320°Cといっ
た極めて高い温度にすることによって粗大に存在する析
出物を一旦固溶させ、その後の熱延中、あるいは熱処理
中に析出させている。スラブ加熱温度を上げることはス
ラブ加熱時の使用エネルギーの増大、ノロの発生による
歩留り低下および加熱炉補修費の増大ならびに加熱炉補
修頻度の増大に起因する設備稼!’t)+率の低下、さ
らには特公昭57−41526号公報に示されるように
線状二次再結晶不良が発生ずるために連続鋳造スラブが
使用出来ないという問題がある。しかしこのようなコス
ト上の問題以上に重要なことは、鉄損向上のためにSi
を多く、成品板厚を薄く、といった手段を採るとこの線
状二次再結晶不良の発生が増大し、高温スラブ加熱法を
前提にした技術では将来の鉄(4向上に希望を持てない
。これ番こ対し特公昭61−60896号公報に開示さ
れている技術では鋼中のSを少なくすることによって二
次再結晶が極めて安定し、高Si薄手成品を可能にした
。しかしこの技術は量産規模で工場生産する上で磁束密
度の安定性に問題があり、例えば特開昭62−4031
5号公報に開示されているような改良技術が提案されて
いるが今まで完全に解決するに至っていない。
以上の技術とは別にIl、grenobleによる米国
特許第3.905.842号、H,Fiedlerによ
る米国特許第3.905.843号があるが、この技術
は本質的に矛盾があり工業生産されていない。すなわち
、この技術ではインヒビターとして固溶Sが中心である
ため、固溶S確保のためにMnを下げて、MnSを形成
させない事が必須である。具体的にはMn/Sり2.1
が必要である。ところで固溶SおよびSeは材料の靭性
に極めて悪影響を持つことは広く知られている。したが
ってSi量が多く割れ易い一方向性珪素綱板ではこのよ
うな固溶S或いはSeのある状態で冷間圧延することは
、工業生産では極めて困難である。以上に詳述したよう
に、コストを低く、特性的には高い磁束密度でしかも将
来の低鉄損の可能性の大きい高31%薄手成品も満足さ
せるためにはインヒビター設計を再構築する必要がある
〔課題を解決するための手段〕
本発明者等は溶鋼中のS又はSe又はその複合量を一定
量以下に少なくし、しかも固溶S又はS’eを少なくす
る条件下で適当量のA1とN、及びBとTiを複合して
含有させた素材を通常の1回又は2回の冷延工程で最終
板厚とし、脱炭焼鈍、焼鈍分離剤塗布、仕上焼鈍を行な
うプロセスを採るとともに最終冷延から仕上焼鈍での二
次再結晶開始までの昇温段階の間に窒化処理を行うこと
により、極めて磁束密度の高い一方向性珪素綱板を製造
することに成功した。
この結果、磁区制御技術との組合せにより、従来にもま
して鉄損値の低い材料を得ることが可能となった。
本発明を特徴づける構成条件について説明する。
S又はSe量が多(なると成品長手方向に線状二次再結
晶不良が増加し安定生産が出来ない。この傾向は特にS
tが3.2%(以下%は全で重量%である)を超えた高
Si範囲で、又0.23mm (9mil成品)以下の
薄手成品で顕著になる。この様な線状二次再結晶不良が
全く発生しないS十Seの含有量の上限値として0.0
12%を限定した。この限定範囲の中でも本発明では従
来有効であるとされていたS又はSe量が多くなるとむ
しろ磁束密度は劣化し、少ないもの程良好な磁束密度と
なるが、現状の溶製技術ではコストを高くせずに下げ得
る範囲として0.0005%以上が一般的である。次に
本発明ではコストを下げるため熱延および冷延時の圧延
割れを皆無にすることを狙っており、固溶S又はSeに
よる割れを防ぐためMn /S+Se≧4とすることに
より鋼中に存在する微ff1s、seを出来るだけMn
S 、 MnSeとして固着することにしである。
第1図はC: 0.053%、Si:3.35%、P:
0.030%、Ae : 0.030%、N : 0.
0075%、B:0.0039%、Ti  : 0.0
038%を含有し、更にMn0.04%と0.12%を
含んだ溶鋼にs3Bを変えた50kgインゴットを13
60°Cと1150℃に加熱した後、熱間圧延した後の
熱延板端部の割れを示したものである。Mn/S≧4で
急激に割れが減少し、特にMnSを固溶させない115
0°Cの低温スラブ加熱材ではほとんど割れは発生しな
い。
なお、第2図(aHb)は第1図の端部における金属組
織を表わす写真であり、同図(a)は第1図において、
Mn/S=2におけるスラブ加熱温度1350℃の場合
の状態を示し、同図(b)はMn/5=14の場合の状
態(スラブ加熱温度1350℃の場合(1150°Cの
場合も殆んど同様))を示す。
次にBの効果について説明する。
C: 0.053%、Si:3.25%、Mn:0.1
4%、S : 0.007%、Ti  : 0.003
0%、P : 0.023%、Al : 0.028%
、N : 0.0085%にBを0.0002〜0.0
095%を含有する50kgインゴットを1150°C
に加熱後2.0鰭の熱延板とした。1120°(Hx3
minの熱延板焼鈍後0.20龍に冷延し、810℃、
830℃。
850℃、870℃1890℃、  910’cで脱炭
焼鈍し、窒化フェロマンガンを含有するMgOを塗布後
に1200℃の二次再結晶焼鈍を行なった。この結果を
第3図に示す。図から脱炭焼鈍温度を上げると磁束密度
B8は上るが、Bの少ないものは細粒が発生し易く、か
つBaの最高値が小さいことが分る。
一方多すぎても高B8が得られず、適性範囲は0.00
05〜0.0080%である。
第4図はBとTiを複合添加した場合の結果を示したも
のである。
C: 0.048%、Si:3.30%、Mn  : 
0.100%、S : 0.008%、P : 0.0
25%、Aβ: 0.032%、N : 0.0075
〜0.0092%を基本成分としこれにTiを0.00
10〜0.0180%、Bを0.0002〜0.009
0%の範囲で複合添加した50kgインゴットを115
0°Cに加熱後2.0龍の熱延板を遣った。これを11
20°c×3m1nの熱延板焼鈍をした後0.20mm
に冷延し、850°Cで脱炭焼鈍をし、窒化フェロマン
ガンを含有するMgOを塗布後に1200℃の二次再結
晶焼鈍を行なった。
第4図によれば、B (II) :  1.93T以上
の高磁束密度のものがTi O,0020〜0.012
0%、B O,0011)5〜0.0080%の範囲で
複合添加した場合に得られることが明らかになった。
このBとTiの効果は冷間圧延以降に綱板が窒化される
場合に意味があり恐らく微細なりN或はTiNが効果を
持つと考えられる。N : 0.0010%未満では二
次再結晶粒の発達が悪くなる。0.0120%を超える
とブリスターと呼ばれる綱板のふくれが発生する。
次にA1はNと結合してAINとなるが、本発明では後
工程で窒化によりAlを含む化合物を形成させることを
必須としているためそのフリーの/lが一定量以上必要
である。そのためには、Alの適正範囲は0.012〜
0.050%必要である。
なお、以上の成分の他に、Cは0.025〜0.075
%の範囲が好ましい。
C含有量が0.025%未満では、二次再結晶が不安定
になりかつ、二次再結晶した場合でも製品の磁束密度が
低い。一方、C含有量が0.075%を超えると、脱炭
焼鈍時間が長くなり、生産性を阻害する。
また、Mnの含有量は、Sの含有量との関係において、
上述した如く、Mn/S≧4.0で熱延板の耳割れを防
止するという観点からは十分であるが、Mn含有量の上
限は0.45%が好ましい。0.45%を超えると、皮
膜欠陥が出る。
スラブ加熱温度については、従来のようにインヒビター
を固溶する高温スラブ加熱でも、また殆んど従来では無
理と考えられていた普通銅皿の低温スラブ加熱でも二次
再結晶は行なわれる。しかし第1図に示した様に熱延の
割れが少なく出来る事、又当然の事として熱エネルギー
が少ない低温スラブ加熱が有利である事からノロの発生
しない1200°C以下が望ましい。
熱延以降の工程においては、最も高いB8を得るために
短時間の焼鈍後80%以上の高圧延率の冷延によって最
終板厚にする方法が望ましい。しかし特性はやや劣るが
低コストとするために熱延板焼鈍を省略してもよい。又
最終成品の結晶粒を小さくするため中間焼鈍を含む工程
でも可能である。
次に湿水素或いは湿水素、窒素混合雰囲気ガス中で脱炭
焼鈍をする。このときの温度は特にこだわらないが80
0℃〜900°Cが好ましい範囲である。
なお、このときの雰囲気の露点は+30°C以上が好ま
しい。
次いで焼鈍分離剤を塗布し高IA(通常1100℃〜1
200°C)長時間の仕上げ焼鈍を行なう。本願の窒化
における最も好ましい実施態様は、上記仕上げ焼鈍の昇
温過程において窒化する事であり、これにより二次再結
晶に必要なインヒビターを作り込む事ができる。これを
達成するために焼鈍分離剤中に窒化能のある化合物、例
えばMnN 、 CrN等を適当量添加するか或いはN
H3等の窒化能のある気体を雰囲気ガス中に添加する。
なお、本発明における窒化の他の実施態様として、脱炭
焼鈍時均熱以降で窒化能のある気体の雰囲気で窒化する
か、又は、脱炭焼鈍後別途設けたNH,等の雰囲気を有
する熱処理炉に通過せしめて窒化してもよく、以上の手
段の組合せでもよい。
二次再結晶完了後は水素雰囲気中において純化焼鈍を行
なう。
〔実施例〕
(1)  C: 0.055%、Si:3.3%、Mn
  : 0.14%、P : 0.030%、S : 
0.007%、Ti  : 0.0040%、Cr:0
.12%、/l : 0.030%、N : 0.00
80%、残部Fe及び不可避的不純物からなる珪素鋼に
Bを下表に記した添加量のスラブを1150°Cで加熱
し2. Oamの熱延板を造った。これを1100”C
x 2分の焼鈍をし、1回の冷延で0.20uとし85
0℃×90秒の脱炭焼鈍を60℃の湿水素窒素混合ガス
中で行なった。次にMgO中にTiO□3%とフェロ窒
化マンガン5重量%を添加した焼鈍分離剤(a)とMg
OとTi0□3%のみの焼鈍分離剤(b)の二種類に塗
り分け、10℃/hrの昇温速度で1200°Cに加熱
し、20時間の焼鈍をした。
この時の雰囲気ガスは1200℃までの昇温過程ではN
225%とH275%の混合ガスを使用し、1200℃
の均熱時はHzlOO%とした。焼鈍分離剤中に窒化源
となるフェロ窒化マンガンを添加したものはいずれも二
次再結晶をし、Bを添加した材料では、いずれも極めて
高い磁束密度が得られた。
一方フエロ窒化マンガンを添加しないものはいずれも二
次再結晶不良となった。結果を下表に示す。
(2)  C: 0.048  %、Si:3.25%
、Mn  : 0.12%、P  :  0.025 
 %、Cr:0.14%、Ti  :  0.0030
%、Al  :  0.028  %、N  :  0
.0070%、B  :  0.0030%残部Fe及
び不可避的不純物からなる珪素銅のSの含有量を(a)
 0.003%、(b)0.009%、(c) 0.0
18%に変えたスラブを1200℃で加熱し1.8龍の
熱延板を造った。これを1100°CX2分の焼鈍を行
い、1回の冷延で0.18鰭とし、830°C×90秒
の脱炭焼鈍を55°Cの湿水素窒素混合ガス中で行い、
MgO中に7重量%のフェロ窒化マンガンを添加した焼
鈍分離剤を塗布し、15℃/hrの昇温速度で1200
℃に加熱し、20時間の焼鈍を行なった。この時の雰囲
気ガスは実施例1と同じである。
結果を次に示す。
Sの含有量が多いと高磁束密度が得られない。
(3) C: 0.045%、Si:3.50%、Mn
:0.16%、P : 0.035%、/10.028
%、N : 0.0080%、Ti  : 0.004
0%、B : 0.0035%、残部Fe及び不可避的
不純物からなる溶鋼にSeを(a ) 0.0050%
、(b) 0.0100%、(c ) 0.0200%
添加したスラブを1150℃で加熱熱延し2. Oam
の熱延板を造った。
これを1150°CX2分+900°CX2分の熱延板
焼鈍した後急冷却し、酸洗し0.2(haまで冷延した
この後830℃×90秒の脱炭焼鈍をし、MgOに5重
量%のフェロ窒化マンガンを添加した焼鈍分離剤を塗布
し、10°C/hrの昇温速度で1200°Cに加熱し
、20時間の焼鈍を行なった。
この時の雰囲気ガスは1200℃までの昇温過程ではN
250%と8250%の混合ガスを使用し、1200℃
の均熱時は)(21oo%とした。
磁気特性は次の如くであった。
Se含有量が多すぎると高磁束密度が得られない。
(4)  C: 0.0/15%、Si:3.30%、
Mn  : 0.150%、S : 0.009%、P
:0.030%1.An! : 0.031%、N :
 0.0070%、Ti  : 0.0060%、残部
Fe及び不可避的不純物からなるスラブ(a)とこれに
更にBを0.0035%添加したスラブ(b)を110
0°Cで加熱熱延し2.3鰭の熱延板を造った。
これを(1)熱延板焼鈍なし、(2)熱延板焼鈍を90
0℃×5分した後急冷却したもの、(3)1150℃×
2分+900℃×2分熱延板焼鈍後急冷却したものの3
水準を準備した。
これを1回冷延で0.30鰭とし、830℃×150秒
の脱炭焼鈍を650℃の湿水素窒素混合ガス中で行い、
hBoにTiO□を添加した焼鈍分離剤を塗布し、15
°C/hrの昇温速度で1200℃に加熱し、20時間
の仕上焼鈍をした。
この昇温過程の雰囲気ガスには窒素25%、水素75%
の混合ガス中にNt13ガスをloppm添ノ川したも
用を用い、1200℃の均熱時は水素ガスのみに切替え
純化した。
磁気特性(B、)は次の如くであった。
Bを添加したものが添加しないものに比べ熱延板焼鈍の
有り無しに関係なく高Bが得られた。
(5)  C: 0.056%、Si:3.40%、M
n  : 0.130%、S : 0.005%、P 
: 0.030%、AZ : 0.027%、N : 
0.0075%、Ti  : 0.0030%、B :
 0.0042%、残部Fe及び不可避的不純物からな
るスラブを1150℃で加熱熱延し2.5flと1.6
鰭の熱延板を造った。2.5鶴厚の熱延板は酸洗後1.
5 xyhまで冷延し、1.6鶴厚の熱延板と同時に1
120℃×2.5分の焼鈍後急冷処理をした。これを0
.150 +nまで冷延し、830℃×70秒の脱炭焼
鈍をし、MgOにTiO□とMnNを添加した焼鈍分離
剤を塗布し、1200”C20時間の仕上焼鈍を行なっ
た。
この昇温過程の雰囲気ガスには窒素25%、水素75%
の混合ガスを用い、1200℃の均熱時は水素ガスのみ
に切換え純化した。磁気特性は次の如くであった。
〔発明の効果〕
本発明は上述した如く、普通銅皿の低温スラブ加熱で圧
延割れの少ない、しかも極めて高い磁束温度を得ること
ができるので、その工業的価値ζ工極めて高い。
【図面の簡単な説明】
第1図はMn/Sと熱延板端部割れ深さとの関係を示す
図、第2図(aHb)は第1図の熱延板端部の金属組織
を示す写真、第3図はBと脱炭焼鈍温度との関係を示す
図、第4図はTi、Bの複合添加した場合の磁束密度の
状態を示す図である。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)重量%で、Si:1.5〜4.8% Al:0.012〜0.050% Ti:0.0020〜0.0120% N:0.0010〜0.0120% B:0.0005〜0.0080% S又はSeの1種又は2種を合 計で0.012%以下、 Mn/(S+Se):(重量比) ≧4.0、 残部Fe及び不可避的不純物 から成る珪素鋼熱延板を1回、又は2回以上の冷延工程
    により最終板厚とし、次いで湿水素中で脱炭焼鈍し、焼
    鈍分離剤を塗布し、二次再結晶と純化とを目的とした仕
    上焼鈍を行うとともに最終冷延後から仕上焼鈍の二次再
    結晶開始までの昇温段階の間に窒化処理を行うことを特
    徴とする磁束密度の高い一方向性珪素綱板の製造方法。
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