JPH01233246A - フェニルエタノールの製法 - Google Patents

フェニルエタノールの製法

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JPH01233246A
JPH01233246A JP63329565A JP32956588A JPH01233246A JP H01233246 A JPH01233246 A JP H01233246A JP 63329565 A JP63329565 A JP 63329565A JP 32956588 A JP32956588 A JP 32956588A JP H01233246 A JPH01233246 A JP H01233246A
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zeolites
phosphate
hydrogen
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ヴォルフガング、ヘルデリッヒ
Norbert Goetz
ノルベルト、ゲツ
Leopold Hupfer
レオポルト、フプァー
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    • C07C29/132Preparation of compounds having hydroxy or O-metal groups bound to a carbon atom not belonging to a six-membered aromatic ring by reduction of an oxygen containing functional group
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    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (技術分計) 不発明G工水素添加金属でドーピングしたゼ第2イト及
び/或は燐酸塩の存在下に酸化スチレンを水素と反応さ
せてフェニルエタノールl製造する方法に関するもので
ある。
フェニルエタノールは香料及び化粧品産業において広く
使用されている重要な香料成分である。
工業的には、フェニルエタノ−/I’tXA1013の
ようなルイス触媒の存在下にベンゼン及び酸化エチレン
から製造される。しかしながらこの方法は腐蝕、触媒除
失及び廃水公害で問題があり、好ましくない。またその
収率も改善される必要がある。
また埴基性媒体中で活性炭上ラネイN1或はpaで(西
独特許2641821号)、ラネイOo / P(I触
媒で(日本特許出願777108,940号公報)、ラ
ジウム錯化合物で(J、 Org、 Ohem、 46
 (I981) 2287−2290 )或)XH,0
1と共にジポランで(Auat、 、r。
Ohem、 30 (I977) 141−150 )
酸化スチレンを水素添加することによりフェニルエタノ
ールン得ることも公知である。これらの欠点は懸濁触媒
乃至均質触媒を除去し、或は易燃性試薬を使用する必要
があることである。
また西独特許2,206,805号明細書には、Sin
或&XA1.Os担体上のPd@媒を使用して、2o乃
至120℃において酸化スチレンtフェニルエタノール
に転化することが記載されている。この方法の欠点&”
L、n−ヘキサンのような有機溶媒中、1o。
D至300気圧の憂圧下に反応を行なわねばならないこ
とである。
酸化スチレンからフェニルエタノール?製造する現存の
方法の欠点を工、ベンゼン及び酸化エチレンから製造す
る方法に対して工業的にたちうちできない程度に重大な
ものである。
(発明の要約ン しかるに以下の一般式CI) (式中、RG!水素、炭素原子数1乃至4個のアルキル
、炭素原子数1乃至4個のアルコキシ、弗素トリフルオ
ロメチル或はトリフルオロメトキシを意味する)で表わ
されるフェニルエタノールの製法であって、 触媒として水素添加金属でドーピングしたゼオライト或
は燐酸塩を使用し、水素の存在下に、以下の一般式(I
I) (Rは上述の意味ン有する)を反応させることt特徴と
する製法が新たに見出された。
との本発明方法によれば、現存方法の上述した欠点が回
避克服され、高い選択性と共に高い転化率、長い耐用寿
命及び良好な再生性に関する触媒要件が充足される。本
発明方法の特別な利点は、完全な転化率を示し、分別の
問題がなく、長い耐用寿命、高い選択性をボし、弗素含
有化合物についてさえも最終生成物の単離が簡単であり
、ツーキング処理により容易に触媒再生ン行ない得るこ
とである。
(発明の構成) 使用される出発材料は、例えばスチレンオキシド、p−
フルオロスチレンオキシド、2,4−ジフルオロスチレ
ンオキシド、3,4−ジフルオロスチレンオキシド、2
,4.5− トリフルオロスチレンオキシド、o−lm
−或tXp−トリフルオロメチルスチレンオキシド、o
−、m−或はp−メチルスチレンオキシド、o−lm−
或を工p−メトキシスチレンオキシド、  2,3,4
.5−テトラフルオロスチレンオキシド、p−トリフル
オロメトキシスチレンオキシド、2−フルオロ−4−ト
リフルオロメトキシスチレンオキシド及び2−メチル−
4−フルオロスチレンオキシドである。
本発明の製法に使用される触媒は、酸性ゼオライト触媒
である。ゼオライト&X共通炭素原子で四面体結合され
た、810.及びAlO4の強固な3次元網状構造を有
する、結晶性アルミノ珪酸塩である。
Sl及びA1ffg子と酸素の比はl:2である(ウル
マンス、エンツイクロペディー、デル、テヒニツシエン
、ヘミ−第4版(I983) 25巻575頁参照)。
アルミニウム含有四面体の電子価は、陽イオン、例えば
アルカリ金属イオン或は水素イオンの結晶内包摂により
均衡せしめられる。陽イオン交換が可能である。各四面
体間の空隙を工、乾燥乃至■焼による脱水前は水の分子
で占められる。
ゼオライトにおいて、格子内のアルミニウムに、また他
の元素、例えばB、Ga、]Fe、Or、V。
As、 Sb、 Bi或はBeもしくはこれらの混合物
で代替され、或は珪素は4価元素、例えはGo、Ti、
Zrもしく &X Hfで代替され得る。
本発明に最も適する触媒は1モルデン沸石群ゼオライト
或はエリオナイトもしくはテヤバザイト系の小孔隙ゼオ
ライ゛ト或はY%又もしくはLゼオライトのようなホー
ジャサイト系のゼオライトである。この群のゼオライト
は、またホージャサイト系の超安定ゼオライト、すなわ
ち脱アルミ化ゼオライトも含む。このようなゼオライト
の製法は、1980 年エルスヴイア、サイエンティフ
ィック、パフ”リジング、フンパニイ(Illsevi
er 5cien−tifio Publishing
 Qornp、 )刊、B、イメリク(工melik 
)ら編、スタブイス、イン、サーフェス、サイエンス、
アンド、キャタリシス(5tudies、in 5ur
faoe 5cienoe and 0atalyai
a ) 5巻キャタリシス、パイ、ゼオライツ(0at
alysi、a byZeo1itesン203頁、ア
メリカン、ケミカル、ソサエティ、ウオシ/トンV、a
、のアドヴアンセス、イン、ケミスリー、シリーズ(A
dvanoes inOhemiatry Ser:L
es ) A 101 (Z971 ) 226頁以降
、[クリスタル、ストラクチャース、オブ、ウルトラス
テーブル、ホージャサイツJ (0rystalStr
uctures at Ultra −5table 
Faujasites )及び米国特許4,512,9
61号明細誓に記載されている。
特にペンタシル糸のゼオライトン使用するのが有利であ
る。これらに共通の基本構造ブロックは、Sin、四面
体から構成されろ五角形である。これらは高いSing
 / A1103比及びAタイプゼオライトとX或&X
 Yタイプゼオライトの間の孔隙寸?!i!2(止揚つ
ルマン大事典参照)を特徴とする。
これらのゼオライトは異なる化学的構造を有する。例え
ばアルミノ珪酸塩ゼオライト、硼珪酸ゼオライト、鉄、
ベリリウム、ガリウム、クロム、砒素、アンチモニーも
しくはビスムスの珪酸塩ゼオライト、或はこれらの混合
物及びアルミノゲルマニウム酸塩ゼオライト、硼ゲルマ
ン酸塩ゼオライト及びカリウムもしくは鉄ゲルマニウム
酸塩ゼオライト、或はこれらの混合物である。本発明方
法にことに適するのt工、ペンタシル系のアルミ/珪酸
塩ゼオライト、硼珪酸塩ゼオライト及び鉄珪12塩ゼオ
ライトである。アルミノ珪酸塩ゼオライトは、例えばア
ルミニウム化合物、ことにAl(OH)。
或はAl、(So、)Jと珪酸組成分、ことに二酸化珪
酸粉末とから、アミン、ことに1.6−ヘキサンジアミ
ン或【工1,3−グロバンジアミンのようなポリアミン
の水溶液中において、アルカリ金属もしくはアルカリ土
類金属の存在下或を工ことに不存在下において、100
乃至220℃の温度、自生圧力下に製造されろ。またヨ
ーロッパ特許34,727号及び同46.504号特許
明細書中に記載されているようなアイタクチック構造の
ゼオライトも含まれる。このような硼珪酸塩ゼオライト
も、上述の方法により、ただしアミン水溶液ではなく、
ジエチレングリコールジメチルエーテルのようなエーテ
ルの溶液中において、或ts1.6−ヘキサンジオール
のようなアルコールの溶液中において製造され得る。
鉄珪酸塩ゼオライトis、例えば鉄化合物、ことに?6
*(So+)3と、珪素化合物、ことに二酸化珪素微細
粉とから、アミンことに1,6−ヘキサンジアミンの水
溶液中においてアルカリ金属もしくはアルカリ土類金属
の存在下或は不存在下に、ioo乃至200℃、自生圧
力下に得られる。
使用可能の高珪素ゼオライt’ (5iO1/ A11
C11≧)も種々のZSMタイプ、フェリエライト、 
NU−1及び5iliaalit■、珪酸塩多形転移分
子篩を含む。
このようにして製造されたアミノ珪@塩、硼珪酸塩及び
鉄珪酸塩は、100乃至160℃、ことに110℃で乾
燥され、450乃至550℃、ことに500℃で仰焼さ
れた後、90 : 10乃至40 : 60重章%の割
合で結合剤と合併され、押出成形品乃至タブレットに成
形されろ。適当な結合剤として、種々の酸化アルミニウ
ム、ことにベーマイト、S10゜/ All0I比25
 : 75乃至90:5、ことに75:25の無定形ア
ルミノ珪酸塩、二酸化珪素、ことに微粉砕810!、及
び微粉砕S10!と微粉砕Al!Os、Ti01、Zr
01及び粘土との混合物が使用される。成形後、この成
形品乃至タプレツ?&5110℃/16hで乾%!され
、500℃/16hで烟焼される。
また単離されたアルミノ珪酸塩或は硼珪酸塩を乾燥後直
ちに成形し、この成形後に炉焼に附することも可能であ
る。製造されたアルミノ珪酸塩ゼオライト及び硼珪酸塩
ゼオライトhs、結合剤を使用することなく、その純粋
な形態で押出成形品乃至タブレットとして使用するとと
がでさ、押出し乃至コロイド状分散のため、例えばエチ
レンセル 。
ロース、ステアリン酸、ばれいしょ澱粉、蟻酸、蓚酸、
醋酸、硝酸、アンモニア、アミン、シリコエステル、グ
ラファイト或はこれらの混合物が使用される。
ゼオライトがその製造態様のために、触媒的に活性のH
形態ですく、例えばNa形態である場合には、イオン交
換、例えばアンモニウムイオンによるイオン交換で完全
に、或は部分的に所望のH形態とし、次いで煙焼成は酸
処理されることができる。
成形成は非成形ゼオライト中に包摂される適当な水素添
加用組成分を工、Fe、 Oo、 Ni、Ru%Rh。
P(L、Oll、工r或はPtのような■族金属の如き
遷移金属或はOu%Ag、Znもしくはその混合物のよ
うな1及び2亜族金属である。このドーピングはまたイ
オン交換或は金属塩による含浸によっても行なわれ得る
ドーピングは、まず広口容器に成形ゼオライト材料れ、
20乃至100℃で上述金属のハロゲン化物或を工硝酸
塩の水溶液或はアンモニア溶液1貫流さ 1せることに
より行なわれ得る。このイオン交換は、ゼオライトの水
素形態、アンモニウム形態或はアルカリ金属形態で行な
われ得る。ゼオライトに金NY施こす他の方法は、ゼオ
ライト材料を例えば金属のハロゲン化物、硝酸塩或は酸
化物の水溶液、アルコール溶液或はアンモニア溶液で含
浸されることである。イオン交換においても含浸におい
てもその後に少くとも1回の乾燥工程と選択的にさらに
1回の燗焼工程が絖く。
可能な実施例において、”(No、h X 3 HtO
或)X N1(Nos)、 X 6 H,O或&Z P
a(NO3)宜Y:水に溶解させ、成形成は非成形ゼオ
ライ?Yこの溶液で、一定時間、例えば30分間含浸さ
せる。過剰溶液は回転エバポレータで脱水する。次いで
含浸ゼオライトY約150℃で乾燥し、約F50℃で燻
焼する。
この含浸処理を工、所望の金属含有分がもたらされるま
で連続的に反覆される。
またN1(No、)、水溶液酸にP(I(No、)、ア
ンモニア溶液ン調製し、粉末状純ゼオライトケこれに投
じて、40乃至100℃で24時間攪拌して懸濁液とす
る。
濾別後、約150℃で乾燥し、約500℃で燗焼して得
られたゼオライト材料を、結合剤?添加し或は添加せず
に成形体乃至ペレットとし、或は流動状材料とすること
かできる。
H形態或はアンモニウム形態或IIエアルカリ金属形態
にあろゼオライトのイオン交換は、成形体乃至ペレット
状ゼオライトtカラムに充填し、30乃至80℃の僅か
な加温状態で15乃至20時間、N1(NOmh水溶液
或はPa(No、)鵞アンモニア溶液!循環還流させる
。次いで水で洗浄し、約150℃で乾燥、約550℃で
燻焼する。若干の金属ドーピングゼオライト、例えばP
d、Ou或tXNiドーピングゼオライトは、水素で後
処理するのが好ましい。
場合により、反応開始前に触媒を還元するのが有利であ
る。例えばPt、Pct或klouドーピングゼオライ
ト触媒は、反応器中でN!雰囲気下に170乃至220
℃に加熱され、次いでH!が徐々に添加される。この温
度はH,Oの逸出がなくなるまで一定に維持される。
含浸及びイオン交換により、水素添加剤として多種類の
金属を同時に施こ丁ことが可能である。
反応の途中でゼオライト触媒がツーキングにより不活性
化したとぎ&工、400乃至550℃、ことに500℃
で空気或は空気、窒素混合ガスでフーク堆積?燃焼除失
してゼオライトラ再生させろことができる。これにより
ゼオライト&’!、その当初の活性レベルを回復する。
部分的予備ツーキングにより、触媒活性を、所望の反応
生成物について最良の選択性ンもたらすように設定する
ことかできるっ活性及び遺択性ン特定の態様で設定する
ため、例えばH,S或は硫黄含有有機化合物、例えばメ
ルカプタン或はチオ尿素、硫黄含有無機化合物、例えば
亜ニチオン酸塩、硫化アンモニウム或はポリ硫化物で1
50乃至300℃において前処理することも可能である
。この硫黄処理を工例えば含浸により或は硫黄含有ガス
の触媒流過により行なわれ得ろ。
極めて高い選択性、高転化率、長耐用寿命をもたら丁た
め、ゼオライト変性7行なうことが有利な場合もある。
この触媒変性法としては、例えば上述の水素添加用成分
のほかに、金属塩を使用して成形E1m非成形ゼオライ
トYイオン交換乃至含浸法でドーピングすることが挙げ
られる。ここで使用される金属はTJi、OB或はKの
ようなアルカリ金属、Mg% C&、Sr或はB&のよ
うなアルカリ土類金属、B、Am、、、Ga、Ge、 
Sn、Pb或tXBiのような■、■及びV族金属、I
+a、 Os、 Pr。
N(I,Er、 Yb或はUのような希土伯金属である
これらの金属による変性は、水素添加用成分のイオン交
換乃至含浸による附与と同時に、或Q工この水素添加用
成分の附与後に行なわれることができ、一般にその後に
燻焼処理を行なう。
ドーピングは例えば成形上第2イト’2筒状反応器に入
れ、上述した何れかの金属のハロゲン化物或は硝酸塩の
水溶液酸&エアンモニア溶液g20乃至100℃におい
て流過させて行なうのが有利である。
またイオン交換は例えば水素、アンモニウム或はアルカ
リ金属形態ゼオライトについて行なわれ得る。ゼオライ
トへの金属附与の他の方法としては、ゼオライト材料ン
上記金廊の何れかのハロゲン化物、硝酸塩或は酸化物の
水溶液酸&エアンモニウム溶液で含浸させろ方法がある
。イオン交換、含浸の何れの場合にも、その後で少くと
も1回の乾燥処理t、場合によりさらに炉焼処理ン行な
う。
可能な実施態様において、例えば0s(NO3)I X
6 )!、Oモしく km (Now)、 X 6 H
,o或&’)08,00mもしくはHtWOgン水に溶
解させ、酸形成&工非成形ゼオライトtこの溶液で若干
時間、例えば30分間含浸させる。過剰溶液は回転エバ
ポレータで脱水する。
含浸ゼオライト(工次いで約150℃で乾燥、約550
℃で■焼される。含浸処理は所望金属含有量がもたらさ
れるまで連続的に反覆される。
また、例えば0e(NJ)3或&”1 Mg(NO3)
1の水溶液を調製し、これに粉末状純ゼオライトを投じ
、40乃至100℃で約U時間攪拌して、懸濁液Z調製
することもできる。濾過後、これt約150℃で乾燥、
約500℃で炉焼する。このようにして得られたゼオラ
イト材料を、結合剤を添加し或は添加することなく、成
形体乃至ペレット状とし或は流動状材料にすることがで
きる。
水素、アンモニウム或はアルカリ金属形態にあるゼオラ
イトのイオン交換ハ1.押出し成形ゼオライト乃至ベレ
ット状ゼオライトン、カラムに充填し、0s(NO3)
1或GX Mg (No s )2の水溶液Y 30乃
至80℃のわずかな加温状態で15乃至20時間、循環
還流させることにより行なわれ得る。次いで水で洗浄し
、約150℃で乾燥、約550℃で■焼する。
ゼオライトのさらに他の変性法を工、酸形成Q工非成形
ゼオライト材料乞、塩酸、弗化水素酸或は燐酸及び/或
は水蒸気で処理することである。この種の変性に次いで
、水素添加用成分ン附与する。
これは例えば粉状ゼオライトラ80℃において1時間I
Ntf#酸により処理することにより行なわれ、110
℃/16hで乾燥、500℃/20hで■焼する。
或はまた、結合剤と共に成形する削成を工後に、60乃
至80℃において1乃至3時間、塩酸の3乃至25重t
%、ことに12乃至20重i′%溶液で処理される。こ
のように処理したゼオライト材料水で洗浄され、400
乃至500℃で乾燥、炉焼される。次いで水素添加用成
分ン上述したようにイオン交換或は含浸により附与する
特殊な実施態様における酸処理は、ゼオライト材料成形
前に0.001 N乃至2N、ことに0.05 N乃至
0.5 Nの塩酸で、加温1例えば還流温度において、
一般に0.5乃至5時間、ことに1乃至3時間処理して
行なわれる。ゼオライト材料を認別し、水洗した後、1
00乃至160℃で乾燥、450乃至600℃で炉焼す
る。このHOI処理後、さらにHP処理することもでき
る。H?焙処理上述した水素添加用成分附与後に行なわ
れろ。
さらに他の変性法では、ゼオライトに燐酸化合物、例え
ばトリメトキシ燐酸塩、トリメトキシホスフィン或は1
級、2級もしくは3級燐酸ナトリウムを附与する。この
ため押出成形、タブレット状或は流動状ゼオライトY燐
酸塩水溶液で含浸させ、110℃で乾燥、500℃で炉
焼する。次いで前述したよう−に水素添加用成分を附与
する。
本発明方法用のさらに他の触媒は、燐酸塩、ことに燐酸
アルミニウム、燐酸珪素アルミニウム、燐酸鉄アルミニ
ウム、燐酸コバルトアルミニウム、燐酸コバルトシリコ
ンアルミ°ニウム、燐酸セリウム、燐酸ジルコニウム、
燐酸硼素、燐酸鉄、燐酸ストロンチウム或はこれらの混
合物である。
本発明方法で使用される燐酸アルミニウム触媒は、こと
に水熱反応条件下に製造されたものが好ましい。適当な
燐酸アルミニウムは、例えばAPO−5、APO−9、
APO−11、APO−12、APO−14、APO−
21、APO−25、APO−31及びAPO−33で
ある。例えばAIPO,−5(APO−5)は、オルト
燐酸とシュードベーマイト(0atapal SB” 
)との水中均譬混合物を調製し、この混合物にテトラプ
ロピルアンモニウム水酸化物を添加し、オートクレーブ
中自生圧力下において20乃至60時間約150℃に加
熱して製造される。AII’O,Y濾別し、100乃至
160℃で乾燥、450乃至550℃で烟焼する。
AIPO,−9(APO−9)もオルト燐酸及びシュー
ドベーマイトから同様にして、ただしDABGO(I,
4−ジアザビシクロ(2,2,2)オクタン)の水溶が
中、自生圧力下約200℃で200乃至400時間ケ経
て製造される。DABOOの代りにエチレンジアミン乞
使用てればAPO−12が得られる。
AlPO4−21(APO−21)は、オルト燐酸及び
シュードベーマイトからピロリドン水溶液中、自生圧力
下約150乃至200℃で50乃至200時間を経て製
造される。
燐酸珪素アルミニウム、例えば5APO−5,5APO
−11,5APO−31及び5APO−34も本発明方
法において使用され得る。これらの化合物は、自生圧力
下、100乃至250℃において2時間乃至2週間を経
て水性混合液から晶出させて得られる。
上記時間ン経て珪素アルミニウム及び亜燐酸分を含有す
る反応混合物がオルガノアミン水溶液に転化される。
5APO−5tm例えば水酸化テトラプロピルアンモニ
ウム水溶液中Sin、の懸濁液ンシュードベーマイト及
びオルト燐酸の水性懸濁液と混合し、攪拌オートクレー
ブ中、自生圧力下、150乃至200℃において20乃
至200時間反応させることにより得られる。粉末濾別
後、110乃至160℃で乾燥、450乃至550℃で
炉焼する。
適当な燐酸珪素アルミニウムとしては、さらにZYT 
−5、ZYT −6、ZYT −7、ZYT −9、Z
YT−11及びZYT −12がある。
本発明方法に使用される適当な燐酸塩触媒としては、沈
澱燐酸アルミニウムがある。このような燐酸アルミニウ
ムは、例えば燐酸水素アンモニウム92 fり700−
の水に溶解させて調製される。
これにA1(Now)3 X HIO260fン700
−の水に溶解させた’ff’a’2時間にわたり滴下す
る。この間NHj025%溶液ン同時に添加しつつpH
値タン8維持する。生成沈澱液を12時間攪拌し、吸引
濾別し、水洗する。次いで60℃/17hで乾燥する。
適当な燐酸硼素は、濃硼酸及び燐酸を攪拌混練し、次い
で不活性ガス、空気或は水蒸気雰囲気中において、25
0°乃至650℃、ことに300乃至500℃で乾燥、
■焼して製造され得る。
これら燐酸塩に上述したように含浸(飽和及び噴霧)に
より、或は場合によりイオン交換で水素添加用成分が附
与される。ゼオライト触媒と同様に、この燐酸塩触媒も
金属或は酸による変性が可能である。
触媒は選択的に2乃至4謔長さの押出し素状体、3乃至
5M径のタブレット、粒度0.1乃至0.5鱈のチップ
或は流動状体として使用され得ろ。
触媒転化を工気相において100乃至500℃、ことに
200乃至400℃で、毎時触媒1f当り出発材料IF
の、重量毎時空間速[(W)Ii9V ) 0.1乃至
20h−1、ことに0.5乃至5h1で行なわれる。
水素/エポキシ比は1〜100モル、ことに3〜30モ
ルが有利である。
気相反応は固定床或は流動床で行なわれることができる
反応はまた50乃至200℃で液相(懸濁法、滴下末法
、液相法)においても行なわれ得る。
処理は大気圧下、減圧下或は超大気圧下で、バッチ式、
好ましくは連続に行なうことができる。
揮発性酸を工固体状出発材料は、例えばTHIF、トル
エン或は石油エーテルに溶解させて使用される。
一般に出発材料は上記の溶媒或&XN、、Arもしくに
水蒸気のような不活性ガスで希釈される。
反応後、生成物は反応混合物から慣用の方法、例えば蒸
留により分離され、未反応出発材料は循環再使用されろ
気体状反応生成物は直ちに分離段階に導入され、個々の
成分に分解されろ。このような分離G工例えば分留管に
おいて行なわれ得る。
実施例1乃至15 気相反応を子骨状反応器(フィル状、内径0.6cm、
長さ9QCm)中において等濡条件下に少くとも6時間
行なわれる。反応生成物1工分離され、慣用法で測定さ
れた。反応生成物及び出発材料の定性分析はガスクロマ
トグラフィーで行なった。
本発明方法に使用された触媒は下記の通りである。
触媒 A ペンタシルタイプの硼珪酸塩ゼオライトv、5102微
細粉640 f 、H3BOs122 F及び1.6−
ヘキサンジアミン水溶液8,000 f (50: 5
0重量%〕t、攪拌オートクレーブ中自生圧力下に17
0℃で反応させることにより製造した。濾別、洗浄後、
結晶性反応生成物Y 100℃/24hで乾燥、soo
 ’C/24hで炉焼した。この硼珪酸基ゼオライトに
は94.2 ii量%のSin宜及び2.3貫量%のB
鵞0.が含有されていた。
このゼオライト材料を押出成形により2酩長さの素状体
とし、110℃/16hで乾燥、500℃/24hで炉
焼したう 触媒A&Xこの素状体’l 0u(NOx)を水溶腋で
含浸させ、130℃72hで乾燥、540℃72 hで
炉焼して得られた。そのOu含有分は3.4”jJl、
、9%であった〇 触媒 B 触a1w鯨媒Aと同様にして、ただし0u(NO3)1
水fII液の代りにPd(No、 )を水溶液を使用し
た。P(I含有分は0.5重量%であった。
触媒 O 触媒Aについて前述した硼珪酸塩素状体ンカラムに充填
し、50℃において硝酸パラジウム水溶液でイオン交換
処理した。水洗後、110℃で乾燥、500℃15hで
炉焼した。Pd含有分は0.95重童%であった。
触媒 D 触媒Aと同様にして、ただし硝酸鋼の代りに硝酸パラジ
ウム及び硝酸セリウムの水溶液乞使用して触媒りを得た
。P(L含有分は0.5重量%、Oe含有分は2.3重
t%であった。
触媒 E 触媒Oを硫醸アンモニウム水溶液で含浸させて触媒my
<得た。S含有分は0.35重量%であった。
触媒 7 攪拌オートクレーブ中において、65 fの微細粉51
02.20.3 fのAl宜(804)、 X 18 
H,O及び1゜6−ヘキサンジアミン水溶液1に9(混
合割合50:50重竜%〕から、自生圧力下、150℃
において水熱反応条件下にペンタシルタイプのアルミノ
珪酸塩ゼオライト材料た。濾別、水洗後、結晶性反応生
成物52110℃/24hで乾燥、500℃/24hで
炉焼した。このアルミノ珪酸塩ゼオライトには91.6
]!量%ノSiO,及び4.6iit%のAl l O
、が含有されていた。
この触#、を成形して2fRs長さの素状体とし、11
0℃/16hで乾燥、500℃/24hで炉焼した。
この索状体Y ou(noj)を水溶液で含浸させ、1
30℃/2hで乾燥、540 ’C/ 2 hで炉焼し
て触媒Fとした。Gu含有分は3.0貫量%であった。
触媒 G 燐酸珪素アルミニウムー5 (5APO−5) ’Y、
200fの98%燐酸、60 fのシリカゾル(30%
ン、2872のトリプロピルアミン及び587fのH,
Oから製造した。この混合物ケ自生圧力下、150℃で
168時間反応せしめた。濾別後、この結晶性反応生成
物t120℃で乾燥、500℃で炉焼した。このSAX
’O−5に49.sit%のP鵞03.33.0重量%
のAl 、O、。及び6.2重量%のSin、 Y含有
するものであった。この5AFO−5Y押出成形して3
+as+長さの素状体とし、120℃で乾燥、  50
0℃で炉焼した0 この素状体を硝酸パラジウムのアンモニア溶液で含浸さ
せ、水洗後、110℃で乾燥、500℃15hで■焼し
た。P(L含有分tX 1重量%であった。
これらの触媒7使用して得られた実験結果及び実験条件
を下表に示す。
実施例 16 200d/hの酸化スチレンを400!/hの水素流中
で蒸散させ、外部から電気的に加熱された反応容器中に
充填した触媒Aよt流過させた。気体状生成物を濃縮し
、慣用の方法で処理した。フェニルエタノールは慣用の
蒸留法で精製した。フェニルエタノールのこの蒸留収率
は78.4%であった0 手続補正書 平成1年 4月14日

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】  以下の一般式( I ) ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) (式中、Rは水素、炭素原子数1乃至4個のアルキル、
    炭素原子数1乃至4個のアルコキシ、弗素トリフルオロ
    メチル或はトリフルオロメトキシを意味する)で表わさ
    れるフェニルエタノールの製法であつて、 触媒として水素添加金属でドーピングしたゼオライト或
    は燐酸塩を使用し、水素の存在下に、以下の一般式(I
    I) ▲数式、化学式、表等があります▼(II) (Rは上述の意味を有する)を反応させることを特徴と
    する製法。
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