JPH01233287A - ３―ベンジリデン樟脳官能基を含有するジオルガノポリシロキサン - Google Patents
３―ベンジリデン樟脳官能基を含有するジオルガノポリシロキサンInfo
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
この発明は、３−ベンジリデン樟脳官能基を含有するジ
オルガノポリシロキサンに関する。
オルガノポリシロキサンに関する。
［従来の技術Ｊ
ジオルガノポリシロキサンに特定の性質を付与するため
に鎖部の内部及び（又は）末端における種々の有機官能
基によってジオルガノポリシロキサンを改質することは
すでに知られている。
に鎖部の内部及び（又は）末端における種々の有機官能
基によってジオルガノポリシロキサンを改質することは
すでに知られている。
これら有機官能基の便利な導入方法は、触媒的に有効量
の白金触媒の存在下において少なくとも１個のＳｉＨ基
を有するジオルガノポリシロキサンとアルケン不飽和含
有有機化合物とのヒドロシリル化反応を実施することで
ある。
の白金触媒の存在下において少なくとも１個のＳｉＨ基
を有するジオルガノポリシロキサンとアルケン不飽和含
有有機化合物とのヒドロシリル化反応を実施することで
ある。
例えば、この先行技術を例示した文献としては、以下の
ものを挙げることができる：・米国特許第２．９７０．
１５０号及び同第４．１６０゜７７５号（これらには、
シラン又は少なくとも１個のＳｉＨ基を有するジオルガ
ノポリシロキサンへのアリル又はメタリルアルコールの
添加が記載されている）、 ・米国特許第３．７６７．６９０号及び同第４．５０３
゜２０８号（これらには、アクリレート又はメタクリレ
ート官能基を含む基を宵するジオルガノポリシロキサン
が記載されている）、 ・米国特許第４．６４０．９６７号（これには、光ファ
イバーを被覆するための組成物としてのエポキシ及び（
又は）アクリレート若しくはメタクリレート基を有する
ジオルガノポリシロキサン並びにそれらの製造方法が記
載されている）、・ヨーロッパ特許筒０．０８８．８４
２号（これには、ベンゾフェノン基を有するジオルガノ
ポリシロキサンが記載されている）。
ものを挙げることができる：・米国特許第２．９７０．
１５０号及び同第４．１６０゜７７５号（これらには、
シラン又は少なくとも１個のＳｉＨ基を有するジオルガ
ノポリシロキサンへのアリル又はメタリルアルコールの
添加が記載されている）、 ・米国特許第３．７６７．６９０号及び同第４．５０３
゜２０８号（これらには、アクリレート又はメタクリレ
ート官能基を含む基を宵するジオルガノポリシロキサン
が記載されている）、 ・米国特許第４．６４０．９６７号（これには、光ファ
イバーを被覆するための組成物としてのエポキシ及び（
又は）アクリレート若しくはメタクリレート基を有する
ジオルガノポリシロキサン並びにそれらの製造方法が記
載されている）、・ヨーロッパ特許筒０．０８８．８４
２号（これには、ベンゾフェノン基を有するジオルガノ
ポリシロキサンが記載されている）。
［発明の目的］
本発明の目的は、正確には、一方で光フアイバー被覆用
組成物に導入するために高い屈折率を有し、他方でプラ
スチック、特にＰｖＣのための滑剤として適した、有機
官能基で改質された新規のジオルガノポリシロキサンを
提供することである。
組成物に導入するために高い屈折率を有し、他方でプラ
スチック、特にＰｖＣのための滑剤として適した、有機
官能基で改質された新規のジオルガノポリシロキサンを
提供することである。
［発明の詳細な説明］
本発明は実際、次式：
［式中、記号Ｒは同一であっても異なっていてもよ（、
Ｃ，−Ｃ，Ｏのアルキル、フェニル及び３、３．３−
）リフルオルブロビル基から選択され、但し基Ｒの少な
くとも８０％（数を基として）はメチル基であり、 記号Ａは次式： （式中、Ｒ１及びＲ２は水素原子、Ｃ，〜Ｃ６のアルキ
ル、Ｃ３〜Ｃ６のアルコキシ、ヒドロキシル若しくはト
リメチルシロキシ基又は２価の基Ｙ ： （０）、−
（ＣＨ２）ｐ−ＣＨ−ＣＨ，−（ここで、Ｒ４は水素原
子又はＣ３〜Ｃ４のアルキル基を表わし、 ｎは０又はｌであり、 ｐは１〜１０の範囲の整数である） を表わし、但し２つの基Ｒ１及びＲ２の一方は必ず２価
の基Ｙであるものとし、 Ｒ８は水素原子又はＣ３〜Ｃ６のアルキル若しくは０１
〜Ｃ６のアルコキシ基を表わす） の基を表わし、 記号Ｂは同一であっても異なっていてもよく、基Ｒ及び
基Ａから選択され、 記号ｒは０〜２００の範囲から選択される整数であり、 記号ＳはＯ〜５０の範囲から選択される整数であり、但
しＳがＯである場合、２つの記号Ｂのうちの少なくとも
一方はＡである］ 及び次式： （式中、Ｒ及びＡは式（１）におけるのと同じ意味を持
ち、 Ｕは１〜２０の範囲の整数であり、 ｔはＯ〜２０の範囲の整数であり、 但し、ｔとＵとの和ｔ＋ｕは３以上であるものとする） のものから選択される改質ジオルガノポリシロキサンポ
リマーに関する。
Ｃ，−Ｃ，Ｏのアルキル、フェニル及び３、３．３−
）リフルオルブロビル基から選択され、但し基Ｒの少な
くとも８０％（数を基として）はメチル基であり、 記号Ａは次式： （式中、Ｒ１及びＲ２は水素原子、Ｃ，〜Ｃ６のアルキ
ル、Ｃ３〜Ｃ６のアルコキシ、ヒドロキシル若しくはト
リメチルシロキシ基又は２価の基Ｙ ： （０）、−
（ＣＨ２）ｐ−ＣＨ−ＣＨ，−（ここで、Ｒ４は水素原
子又はＣ３〜Ｃ４のアルキル基を表わし、 ｎは０又はｌであり、 ｐは１〜１０の範囲の整数である） を表わし、但し２つの基Ｒ１及びＲ２の一方は必ず２価
の基Ｙであるものとし、 Ｒ８は水素原子又はＣ３〜Ｃ６のアルキル若しくは０１
〜Ｃ６のアルコキシ基を表わす） の基を表わし、 記号Ｂは同一であっても異なっていてもよく、基Ｒ及び
基Ａから選択され、 記号ｒは０〜２００の範囲から選択される整数であり、 記号ＳはＯ〜５０の範囲から選択される整数であり、但
しＳがＯである場合、２つの記号Ｂのうちの少なくとも
一方はＡである］ 及び次式： （式中、Ｒ及びＡは式（１）におけるのと同じ意味を持
ち、 Ｕは１〜２０の範囲の整数であり、 ｔはＯ〜２０の範囲の整数であり、 但し、ｔとＵとの和ｔ＋ｕは３以上であるものとする） のものから選択される改質ジオルガノポリシロキサンポ
リマーに関する。
より特定的には、以下の特性：
・Ｒがメチル基である；
・Ｂがメチル基である；
・ｒが５〜２０の範囲である；
・Ｓが２〜１５の範囲である；
・ｔ＋ｕが３〜１０の範囲である；
・Ｒ３がＨ又はメトキシである；
・ｐが１〜３の範囲である；
・Ｒ８がＨ又はメトキシである；
・Ｒ１がＨ又はメトキシである；
・２つの基Ｒ２及びＲ３の一方が、２価の基Ｙにおいて
ｎが０又はｌであり、ｐが１であり且つＲ４がＨ又はメ
チル基である前記基Ｙである：の少なくとも１つを有す
る、式（１）又は（２）のランダム又はブロックポリマ
ーが好ましい。
ｎが０又はｌであり、ｐが１であり且つＲ４がＨ又はメ
チル基である前記基Ｙである：の少なくとも１つを有す
る、式（１）又は（２）のランダム又はブロックポリマ
ーが好ましい。
□式（１）及び（２）のポリマーを製造するためには、
例えば基Ａの全部が水素原子である対応するポリマーか
ら出発することができる。
例えば基Ａの全部が水素原子である対応するポリマーか
ら出発することができる。
このポリマーを以下においてはＳｉＨ含有ポリマーと称
する。ＳｉＨ基は鎖部の中及び（又は）鎖部の末端にお
いて存在していてよい。これらＳｉＨ含有ポリマーはシ
リコーン産業において公知の物質であり、一般に商品と
して入手できる。
する。ＳｉＨ基は鎖部の中及び（又は）鎖部の末端にお
いて存在していてよい。これらＳｉＨ含有ポリマーはシ
リコーン産業において公知の物質であり、一般に商品と
して入手できる。
それらは例えば米国特許筒３．２２０．９７２号、同第
３．６９７．４７３号及び同第４．３４０．７０９号に
記載されている。
３．６９７．４７３号及び同第４．３４０．７０９号に
記載されている。
このＳｉＨ含有ポリマーは、次式：
（式中、Ｒ，ｒ及びＳは式（１）について前記した意味
を持ち、 基Ｂ′は同一であっても異なっていてもよく、基Ｒ及び
水素原子から選択される）及び次式： （式中、Ｒ，を及びＵは式（２）について前記した意味
を持つ） によって表わすことができる。
を持ち、 基Ｂ′は同一であっても異なっていてもよく、基Ｒ及び
水素原子から選択される）及び次式： （式中、Ｒ，を及びＵは式（２）について前記した意味
を持つ） によって表わすことができる。
式（４）又は（５）のＳｉＨ基含有ポリマーについて、
触媒的に有効量の白金触媒の存在下で、次式： （式中、Ｒ＋、Ｒｚ及びＲ８は、基Ｙが次式ニー（０）
ｎ−（ＣＨｔ）ｐ−Ｃ（Ｒ＋）”ＣＨ２（ここで、ｎ、
ｐ及びＲ４は式（３）におけるのと同じ意味を持つ） を有する同族の１価の不飽和の基Ｙ′であることを除い
て、式（３）におけるのと同じ意味を持つ） から選択される３−ベンジリデン樟脳の有機誘導体を用
いてヒドロシリル化反応が実施される。
触媒的に有効量の白金触媒の存在下で、次式： （式中、Ｒ＋、Ｒｚ及びＲ８は、基Ｙが次式ニー（０）
ｎ−（ＣＨｔ）ｐ−Ｃ（Ｒ＋）”ＣＨ２（ここで、ｎ、
ｐ及びＲ４は式（３）におけるのと同じ意味を持つ） を有する同族の１価の不飽和の基Ｙ′であることを除い
て、式（３）におけるのと同じ意味を持つ） から選択される３−ベンジリデン樟脳の有機誘導体を用
いてヒドロシリル化反応が実施される。
式（６）の誘導体の中では、より特定的には、以下のも
のを挙げることができる： ａ）４°−アリルオキシ−３−ベンジリデン樟脳ｂ）４
°−アリルオキシ−３゛−メトキシ−３−ベンジリデン
樟脳 ｃ）４°−メタリルオキシ−３−ベンジリデン樟脳ｄ）
４゛−メタリルオキシ−３゛−メトキシ−３−ベンジリ
デン樟脳 ｅ）３°−アリル−４°−メトキシ−３−ベンジリデン
樟脳 ｆ）３°−アリル−４°、５゛−ジメトキシ−３−ベン
ジリデン樟脳 ｇ）３゛−メタリル−４“−メトキシ−３−ベンジリデ
ン樟脳 ｈ）３゛−メタリル−４゛、５°−ジメトキシ−３−ベ
ンジリデン樟脳 ｉ）３°−アリルオキシ−４°−メトキシ−３−ベンジ
リデン樟脳 ｊ）３°−メタリルオキシ−４°−メトキシ−３−ベン
ジリデン樟脳 ｋ）４°−アリル−３°、５゛−ジメトキシ−３−ベン
ジリデン樟脳 及び １）４°−メタリル−３°、５°−ジメトキシ−３−ベ
ンジリデン樟脳。
のを挙げることができる： ａ）４°−アリルオキシ−３−ベンジリデン樟脳ｂ）４
°−アリルオキシ−３゛−メトキシ−３−ベンジリデン
樟脳 ｃ）４°−メタリルオキシ−３−ベンジリデン樟脳ｄ）
４゛−メタリルオキシ−３゛−メトキシ−３−ベンジリ
デン樟脳 ｅ）３°−アリル−４°−メトキシ−３−ベンジリデン
樟脳 ｆ）３°−アリル−４°、５゛−ジメトキシ−３−ベン
ジリデン樟脳 ｇ）３゛−メタリル−４“−メトキシ−３−ベンジリデ
ン樟脳 ｈ）３゛−メタリル−４゛、５°−ジメトキシ−３−ベ
ンジリデン樟脳 ｉ）３°−アリルオキシ−４°−メトキシ−３−ベンジ
リデン樟脳 ｊ）３°−メタリルオキシ−４°−メトキシ−３−ベン
ジリデン樟脳 ｋ）４°−アリル−３°、５゛−ジメトキシ−３−ベン
ジリデン樟脳 及び １）４°−メタリル−３°、５°−ジメトキシ−３−ベ
ンジリデン樟脳。
誘導体ａ）〜ｄ）は仏国特許第２．４３０．９３８号に
記載されており、特に誘導体ａ）の合成はこの特許の例
８に記載されている。従って、４°−アルケニルオキシ
同族体は、この特許の教示に従って、ジメチルホルムア
ミド中で炭酸ナトリウムの存在下で対応するハロゲン化
アルキルと対応するｐ−ヒドロキシ−３−ベンジリデン
樟脳とを反応させることによって得られる。
記載されており、特に誘導体ａ）の合成はこの特許の例
８に記載されている。従って、４°−アルケニルオキシ
同族体は、この特許の教示に従って、ジメチルホルムア
ミド中で炭酸ナトリウムの存在下で対応するハロゲン化
アルキルと対応するｐ−ヒドロキシ−３−ベンジリデン
樟脳とを反応させることによって得られる。
誘導体ｅ）〜１）及びそれらの３°−アルケニル、４゛
−アルケニル及び３゛−アルケニルオキシ同族体は、下
記の方法のいずれかに従って製造することができる： 瓜ユＪと友迭： 下記の反応式に従って式（ｆｆ）の芳香族アルデヒドと
合成樟脳（ｄ、ト樟脳）又は天然樟脳（ｄ−樟脳）とを
縮合させる： （ＩＩ） （６）この反応は、塩
基の存在下、例えばアルカリ金属のアミド、水素化物又
はアルコラードの存在下で、ベンゼン、トルエン、エー
テル、ジオキサン又は１．２−ジメトキシエタンのよう
な不活性溶媒中で、０℃〜溶媒の沸点の範囲の温度にお
いて実施される。
−アルケニル及び３゛−アルケニルオキシ同族体は、下
記の方法のいずれかに従って製造することができる： 瓜ユＪと友迭： 下記の反応式に従って式（ｆｆ）の芳香族アルデヒドと
合成樟脳（ｄ、ト樟脳）又は天然樟脳（ｄ−樟脳）とを
縮合させる： （ＩＩ） （６）この反応は、塩
基の存在下、例えばアルカリ金属のアミド、水素化物又
はアルコラードの存在下で、ベンゼン、トルエン、エー
テル、ジオキサン又は１．２−ジメトキシエタンのよう
な不活性溶媒中で、０℃〜溶媒の沸点の範囲の温度にお
いて実施される。
ａ）式（ＩＩ）においてＲ３が基−（ｏ）、−（ｃ＋＋
ａＬ−Ｃ（Ｒ４）＝ＣＨ，（ここでｎは１である）であ
るアルデヒドは、下記の反応式に従って式（ｍ）のハロ
ゲン化アルケニルと式（ＩＩＡ）のアルデヒドとを反応
させることによって得ることができる：Ｈ （Ｉ［） （式（ｍＡ）のアルデヒド（これは公知の方法に従って
製造することができる）及び式（ＩＩ）においてＲ１が
基−０−（ＣＨりＰ−Ｃ（Ｒ，）＝ＣＨ，であるアルデ
ヒドにおいて、Ｒ２及びＲ３は水素原子、０１〜Ｃ６の
アルキル基又はＣ，−Ｃ，のアルコキシ基を表わす。
ａＬ−Ｃ（Ｒ４）＝ＣＨ，（ここでｎは１である）であ
るアルデヒドは、下記の反応式に従って式（ｍ）のハロ
ゲン化アルケニルと式（ＩＩＡ）のアルデヒドとを反応
させることによって得ることができる：Ｈ （Ｉ［） （式（ｍＡ）のアルデヒド（これは公知の方法に従って
製造することができる）及び式（ＩＩ）においてＲ１が
基−０−（ＣＨりＰ−Ｃ（Ｒ，）＝ＣＨ，であるアルデ
ヒドにおいて、Ｒ２及びＲ３は水素原子、０１〜Ｃ６の
アルキル基又はＣ，−Ｃ，のアルコキシ基を表わす。
式（ＩＩＩ）の化合物においてＸはハロゲン原子、好ま
しくは塩素又は臭素原子を表わし、Ｒ４及びｐは前記の
意味を持つ。） この反応は、溶媒中の塩基の存在下、例えばアルカリ金
属若しくはアルカリ土類金属の炭酸塩若しくは水酸化物
又はアルカリ金属のアミド、水素化物若しくはアルコラ
ードの存在下で、塩基の性状に適合した溶媒、例えば水
又はジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、ジ
オキサン若しくはアルコールのような有機溶媒中で、周
囲温度〜溶媒の沸点の範囲の温度において実施される。
しくは塩素又は臭素原子を表わし、Ｒ４及びｐは前記の
意味を持つ。） この反応は、溶媒中の塩基の存在下、例えばアルカリ金
属若しくはアルカリ土類金属の炭酸塩若しくは水酸化物
又はアルカリ金属のアミド、水素化物若しくはアルコラ
ードの存在下で、塩基の性状に適合した溶媒、例えば水
又はジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、ジ
オキサン若しくはアルコールのような有機溶媒中で、周
囲温度〜溶媒の沸点の範囲の温度において実施される。
ｂ）式（ＩＩ）においてＲ＋が基−（ｏ） ｎ＋ （ｃ
Ｍ ｐ−Ｃ（Ｒ４）＝ＣＨ，（ここでｎは０である）の
アルデヒド又はＲ，が基−（ＣＨ＊）ｐ−Ｃ（Ｒ４）＝
ＣＨ＊であるアルデヒドは、下記の反応式に従って、オ
ルト蟻酸エチルと式（ＩＶ ）の臭化フェニルマグネシ
ウムとを反応させ、次いで形成したアセタールを加水分
解することによって得ることができる： （■）（■Ｂ） （式（ＩＩＢ）及び（ＩＶ）の化合物において、置換基
Ｒ１又はＲ２の一方は基−（ＣＨ，）ｐ−Ｃ（Ｒ４）＝
ＣＨ。
Ｍ ｐ−Ｃ（Ｒ４）＝ＣＨ，（ここでｎは０である）の
アルデヒド又はＲ，が基−（ＣＨ＊）ｐ−Ｃ（Ｒ４）＝
ＣＨ＊であるアルデヒドは、下記の反応式に従って、オ
ルト蟻酸エチルと式（ＩＶ ）の臭化フェニルマグネシ
ウムとを反応させ、次いで形成したアセタールを加水分
解することによって得ることができる： （■）（■Ｂ） （式（ＩＩＢ）及び（ＩＶ）の化合物において、置換基
Ｒ１又はＲ２の一方は基−（ＣＨ，）ｐ−Ｃ（Ｒ４）＝
ＣＨ。
（ここで、Ｒ４及びｐは前記の意味を持つ）を表わし、
そしてＲ１又はＲ２のもう一方は水素原子、０１〜Ｃ６
のアルキル基又はＣ８〜Ｃ６のアルコキシ基を表わし、 Ｒ３は水素原子、Ｃ１〜Ｃ１のアルキル基又は０１〜Ｃ
６のアルコキシ基を表わす。）この反応は、ケレット（
Ｑｕｅｌｅｔ）によって「Ｃ１Ｒ，Ａｃａｄ、 ５ｃｉ
ｅｎｃｅＪ 、第１８２巻、第１２８５頁及びｒＢｕｌ
ｌ、 Ｓａｃ、 Ｃｈｉｍ、 Ｆｒ、Ｊ 、第４５巻、
第２６７頁に報告された条件下、例えば、エチルエーテ
ル、ジオキサン又は１．２−ジメトキシエタンのような
不活性溶媒中で、周囲温度〜溶媒の沸点の範囲の温度に
おいて実施することができる。
そしてＲ１又はＲ２のもう一方は水素原子、０１〜Ｃ６
のアルキル基又はＣ８〜Ｃ６のアルコキシ基を表わし、 Ｒ３は水素原子、Ｃ１〜Ｃ１のアルキル基又は０１〜Ｃ
６のアルコキシ基を表わす。）この反応は、ケレット（
Ｑｕｅｌｅｔ）によって「Ｃ１Ｒ，Ａｃａｄ、 ５ｃｉ
ｅｎｃｅＪ 、第１８２巻、第１２８５頁及びｒＢｕｌ
ｌ、 Ｓａｃ、 Ｃｈｉｍ、 Ｆｒ、Ｊ 、第４５巻、
第２６７頁に報告された条件下、例えば、エチルエーテ
ル、ジオキサン又は１．２−ジメトキシエタンのような
不活性溶媒中で、周囲温度〜溶媒の沸点の範囲の温度に
おいて実施することができる。
Ａ （Ｉ Ａ の １ 告
これらの化合物は、下記の反応式に従って、式（ＩＩＩ
）のハロゲン化アルケニルと式（Ｖ）の３゛−ヒドロキ
シ−３−ベンジリデン樟脳とを、塩基の存在下、例えば
アルカリ金属若しくはアルカリ土類金属の水酸化物若し
くは炭酸塩又はアルカリ金属のアミド、アルコラード若
しくは水素化物の存在下で、塩基の性状に適合した溶媒
、例えば水又は例えばアルコール、ジオキサン、ジメチ
ルスルホキシド若しくはジメチルホルムアミドのような
有機溶媒中で、周囲温度〜溶媒の沸点の範囲の温度にお
いて反応させることによって得ることができる： Ｈ （式（Ｖ）、（ｍ）及び（ＩＡ）の化合物において、Ｒ
２及びＲ３は水素原子、０１〜Ｃ６のアルキル基又はＣ
３〜Ｃ６のアルコキシ基を表わし、 Ｒ４及びｐは前記の意味を持ち、 Ｘはハロゲン原子、好ましくは塩素又は臭素原子を表わ
す。） 式（Ｖ）の化合物は、下記の反応式に従って。
）のハロゲン化アルケニルと式（Ｖ）の３゛−ヒドロキ
シ−３−ベンジリデン樟脳とを、塩基の存在下、例えば
アルカリ金属若しくはアルカリ土類金属の水酸化物若し
くは炭酸塩又はアルカリ金属のアミド、アルコラード若
しくは水素化物の存在下で、塩基の性状に適合した溶媒
、例えば水又は例えばアルコール、ジオキサン、ジメチ
ルスルホキシド若しくはジメチルホルムアミドのような
有機溶媒中で、周囲温度〜溶媒の沸点の範囲の温度にお
いて反応させることによって得ることができる： Ｈ （式（Ｖ）、（ｍ）及び（ＩＡ）の化合物において、Ｒ
２及びＲ３は水素原子、０１〜Ｃ６のアルキル基又はＣ
３〜Ｃ６のアルコキシ基を表わし、 Ｒ４及びｐは前記の意味を持ち、 Ｘはハロゲン原子、好ましくは塩素又は臭素原子を表わ
す。） 式（Ｖ）の化合物は、下記の反応式に従って。
式（■）（式中、Ｒ５はＣ，−Ｃ，のアルキル残基、好
ましくはメチル残基を表わし、Ｒ２及びＲ，は水素原子
又はＣ，−Ｃ，のアルキル若しくはアルコキシ基を表わ
す）の化合物を酸性加水分解することによって得ること
ができる：この加水分解は、例えばピリジン塩酸塩のよ
う近い温度において実施することができる。
ましくはメチル残基を表わし、Ｒ２及びＲ，は水素原子
又はＣ，−Ｃ，のアルキル若しくはアルコキシ基を表わ
す）の化合物を酸性加水分解することによって得ること
ができる：この加水分解は、例えばピリジン塩酸塩のよ
う近い温度において実施することができる。
また、式（Ｖ）の化合物は、下記の反応式に従って、式
（ＩＩＡ）のアルデヒドと合成樟脳（ｄ、ト樟脳）又は
天然樟脳（ｄ−樟脳）とを縮合させることによって製造
することもできる： （式中、Ｒ３及びＲ８は水素原子又は０１〜Ｃ６のアル
キル若しくはアルコキシ基を表わす） この反応は、溶媒中の塩基の存在下、例えばジオキサン
又は１．２−ジメトキシエタン中の水素化ナトリウム又
はカリウムｔ−ブチラードによって、周囲温度〜溶媒の
沸点の範囲の温度において実施される。
（ＩＩＡ）のアルデヒドと合成樟脳（ｄ、ト樟脳）又は
天然樟脳（ｄ−樟脳）とを縮合させることによって製造
することもできる： （式中、Ｒ３及びＲ８は水素原子又は０１〜Ｃ６のアル
キル若しくはアルコキシ基を表わす） この反応は、溶媒中の塩基の存在下、例えばジオキサン
又は１．２−ジメトキシエタン中の水素化ナトリウム又
はカリウムｔ−ブチラードによって、周囲温度〜溶媒の
沸点の範囲の温度において実施される。
１１立方」：
ＣＨ２ここで、ｎはＯであ つ は１であるこれらの
化合物は、下記のようにして得ることができる。まず、
下記の反応式に従って、式（Ｉ Ｂ）の化合物のクライ
ゼン転位によって、式（ＩＣ）の化合物を得る： （化合物（ＩＢ）及び（ＩＣ）において、Ｒ３及びＲ４
は前記の意味を持つ。） 化合物（ＩＢ）は、公知の方法で、下記の反応式に従っ
て、式（■）の４°−ヒドロキシ−３−ベンジリデン樟
脳と式（ＩＩＩ）においてｐが１であるハロゲン化アル
ケニルとを反応させることによって製造することができ
る： （ＩＢ） （式中、Ｒ３及びＲ４は前記の意味を持ち、Ｘはハロゲ
ン原子、好ましくは塩素又は臭素原子である。） この反応は、塩基の存在下、例えばアルカリ金属若しく
はアルカリ土類金属の炭酸塩若しくは水酸化物又はアル
カリ金属のアミド、アルコラード若しくは水素化物の存
在下で、塩基の性状に適合した溶媒、例えば水又はアル
コール、ジオキサン、ジメチルスルホキシド若しくはジ
メチルホルムアミドのような有機溶媒中で、周囲温度〜
溶媒の沸点の範囲の温度において実施される。
化合物は、下記のようにして得ることができる。まず、
下記の反応式に従って、式（Ｉ Ｂ）の化合物のクライ
ゼン転位によって、式（ＩＣ）の化合物を得る： （化合物（ＩＢ）及び（ＩＣ）において、Ｒ３及びＲ４
は前記の意味を持つ。） 化合物（ＩＢ）は、公知の方法で、下記の反応式に従っ
て、式（■）の４°−ヒドロキシ−３−ベンジリデン樟
脳と式（ＩＩＩ）においてｐが１であるハロゲン化アル
ケニルとを反応させることによって製造することができ
る： （ＩＢ） （式中、Ｒ３及びＲ４は前記の意味を持ち、Ｘはハロゲ
ン原子、好ましくは塩素又は臭素原子である。） この反応は、塩基の存在下、例えばアルカリ金属若しく
はアルカリ土類金属の炭酸塩若しくは水酸化物又はアル
カリ金属のアミド、アルコラード若しくは水素化物の存
在下で、塩基の性状に適合した溶媒、例えば水又はアル
コール、ジオキサン、ジメチルスルホキシド若しくはジ
メチルホルムアミドのような有機溶媒中で、周囲温度〜
溶媒の沸点の範囲の温度において実施される。
クライゼン転位は、ターベル（Ｔａｒｂｅｌｌ）によっ
て「オルガニック・リアクションズ（ＯｒｇａｎｉｃＲ
ｅａｃｔｉｏｎｓ）Ｊ 、第２巻、ジョン・ウィリー（
ＪｏｈｎＷｉｌｅｙ）出版、１９４４年、第１頁に報告
された条件下で、所望ならば溶媒の存在下で式（Ｉ Ｂ
）の化百物を少な（ともほぼ１７０℃に加熱することに
よって実施することができる。
て「オルガニック・リアクションズ（ＯｒｇａｎｉｃＲ
ｅａｃｔｉｏｎｓ）Ｊ 、第２巻、ジョン・ウィリー（
ＪｏｈｎＷｉｌｅｙ）出版、１９４４年、第１頁に報告
された条件下で、所望ならば溶媒の存在下で式（Ｉ Ｂ
）の化百物を少な（ともほぼ１７０℃に加熱することに
よって実施することができる。
こうして得られた式（ＩＣ）の化合物は、下記の反応式
に従って、塩基、例えばアルカリ金属の炭酸塩の存在下
でジメチルホルムアミドのような溶媒中で、又は１．２
−ジメトキシエタン中のアルカリ金属の水素化物の存在
下で、ハロゲン化Ｃ１〜Ｃ６アルキルと反応させること
によって、式（ＩＤ）においてＲ２がＣ５〜Ｃ６のアル
コキシ基である化合物に転化される： （化合物（Ｉ’ Ｄ ）において、Ｒ２は０１〜Ｃ６′
のアルコキシ基であり、 Ｒ１及びＲ４は前記の意味を持つ。） 式（４）又は（５）のポリマーと式（６）の有機誘導体
とのヒドロシリル化反応を実施するために用いられる白
金触媒は、文献中に充分に記載されている。特に、米国
特許第３．１５９．６０１号、同第３．１５９．６０２
号、同第３．２２０．９７２号、ヨーロッパ特許第５７
，４５９号、同第１８８．９７８号及び同第１９０．５
３０号に記載された口金と有機化合物との錯体並びに米
国特許第３．４１９．５９３号、同第３．７１５．３３
４号、同第３．３７７．４３２号及び同第３．８１４．
７３０号に記載された白金とビニル化オルガノポリシロ
キサンとの錯体を挙げることができる。
に従って、塩基、例えばアルカリ金属の炭酸塩の存在下
でジメチルホルムアミドのような溶媒中で、又は１．２
−ジメトキシエタン中のアルカリ金属の水素化物の存在
下で、ハロゲン化Ｃ１〜Ｃ６アルキルと反応させること
によって、式（ＩＤ）においてＲ２がＣ５〜Ｃ６のアル
コキシ基である化合物に転化される： （化合物（Ｉ’ Ｄ ）において、Ｒ２は０１〜Ｃ６′
のアルコキシ基であり、 Ｒ１及びＲ４は前記の意味を持つ。） 式（４）又は（５）のポリマーと式（６）の有機誘導体
とのヒドロシリル化反応を実施するために用いられる白
金触媒は、文献中に充分に記載されている。特に、米国
特許第３．１５９．６０１号、同第３．１５９．６０２
号、同第３．２２０．９７２号、ヨーロッパ特許第５７
，４５９号、同第１８８．９７８号及び同第１９０．５
３０号に記載された口金と有機化合物との錯体並びに米
国特許第３．４１９．５９３号、同第３．７１５．３３
４号、同第３．３７７．４３２号及び同第３．８１４．
７３０号に記載された白金とビニル化オルガノポリシロ
キサンとの錯体を挙げることができる。
式（４）又は（５）のＳｉＨ含有ポリマーと式（６）の
誘導体とを反応させるためには、−船釣に、式（４）又
は（５）のＳｉＨ含有ポリマーの重量を基とした白金金
属の重量として計算して５〜６００ｐｐｍの範囲、好ま
しくは１０〜２００ｐｐｍの範囲の量の白金触媒が用い
られる。
誘導体とを反応させるためには、−船釣に、式（４）又
は（５）のＳｉＨ含有ポリマーの重量を基とした白金金
属の重量として計算して５〜６００ｐｐｍの範囲、好ま
しくは１０〜２００ｐｐｍの範囲の量の白金触媒が用い
られる。
ヒドロシリル化反応は、溶媒なしで又はトルエン、ヘプ
タン、キシレン、テトラヒドロフラン及びテトラクロル
エチレンのような揮発性有機溶媒中で実施することがで
きる。
タン、キシレン、テトラヒドロフラン及びテトラクロル
エチレンのような揮発性有機溶媒中で実施することがで
きる。
一般的には、反応が完了するのに必要な時間、反応混合
物を６０〜１２０℃の温度に加熱するのが望ましい。さ
らに、有機溶媒中の溶液状の式（６）の誘導体にＳｉＨ
含有ポリマーを滴下するのが望ましい。
物を６０〜１２０℃の温度に加熱するのが望ましい。さ
らに、有機溶媒中の溶液状の式（６）の誘導体にＳｉＨ
含有ポリマーを滴下するのが望ましい。
反応が完了したかどうかという検査は、アルコール性水
酸化カリウムを用いて残留ＳｉＨを測定することによっ
て実施され、次いで例えば減圧下における蒸留によって
溶媒が除去される。
酸化カリウムを用いて残留ＳｉＨを測定することによっ
て実施され、次いで例えば減圧下における蒸留によって
溶媒が除去される。
得られる未精製オイルは、例えばシリカ吸着カラムに通
すことによって精製することができる。
すことによって精製することができる。
［発明の作用効果］
式（１）又は（２）のポリマーは極めて高い屈折率を有
する。従って、これらは特に、高い屈折率を有する被覆
を得ることが意図される場合に、光ファイバーを被覆す
るために用いられる有機又は有機珪素組成物との混合物
として用いることができる。
する。従って、これらは特に、高い屈折率を有する被覆
を得ることが意図される場合に、光ファイバーを被覆す
るために用いられる有機又は有機珪素組成物との混合物
として用いることができる。
さらに、式（１）又は（２）のポリマーは、ポリオレフ
ィン、ポリエステル及び特にＰＶＣ（ポリ塩化ビニル）
のような各種プラスチックのための優れた滑剤であり、
これらプラスチックがそれらを加工するための工具及び
機械に付着するのを防止することを可能にする。
ィン、ポリエステル及び特にＰＶＣ（ポリ塩化ビニル）
のような各種プラスチックのための優れた滑剤であり、
これらプラスチックがそれらを加工するための工具及び
機械に付着するのを防止することを可能にする。
この付着防止の用途の場合、加工する前にプラスチック
１００部につき０．００１〜２部のポリマーを添加する
。
１００部につき０．００１〜２部のポリマーを添加する
。
［実施例］
以下の実施例は、本発明を例示するためのものであり、
その範囲を何ら限定しない。
その範囲を何ら限定しない。
例」２：
中央撹拌機及び縦形冷却管を備え且つ油浴によって９６
℃に保持された三つ日丸底フラスコに、仏国特許第２．
４３０．９３８号の例８に従って製造された４゛−アリ
ルオキシ−３−ベンジリデン樟脳１１０．８ｇ （０，
３７４モル）、トルエン１６０ｇ及び、米国特許筒３，
８１４，７３０号に記載されたように１．３−ジビニル
−１，１，３，３−テトラメチルジシロキサンと塩化白
金酸とから製造された白金錯体のヘキサン溶液（８゜４
５重量％の金属白金を含有するもの）１２μ忍を装入し
た。
℃に保持された三つ日丸底フラスコに、仏国特許第２．
４３０．９３８号の例８に従って製造された４゛−アリ
ルオキシ−３−ベンジリデン樟脳１１０．８ｇ （０，
３７４モル）、トルエン１６０ｇ及び、米国特許筒３，
８１４，７３０号に記載されたように１．３−ジビニル
−１，１，３，３−テトラメチルジシロキサンと塩化白
金酸とから製造された白金錯体のヘキサン溶液（８゜４
５重量％の金属白金を含有するもの）１２μ忍を装入し
た。
次式：
のＳｉＨ含有ランダムポリマー（滴定によってＳｉＨ官
能基７３１．３ミリ当量／ １００ ｇと分析されたも
の）５０ｇを３０分かけて添加した。
能基７３１．３ミリ当量／ １００ ｇと分析されたも
の）５０ｇを３０分かけて添加した。
１０時間の反応の後に、ブタノール性水酸化カリウムに
よって残留ＳｉＨを測定することによって、ＳｉＨ官能
基転化率が９９％であることが検査された。
よって残留ＳｉＨを測定することによって、ＳｉＨ官能
基転化率が９９％であることが検査された。
次いで０．６６ ｋＰａの減圧下で１００℃において蒸
留することによってトルエンを除去した後に、僅かに黄
色で透明な、非常に粘性の高いオイルが得られた。
留することによってトルエンを除去した後に、僅かに黄
色で透明な、非常に粘性の高いオイルが得られた。
得られたオイルの試料についてＣＤＣβ３中で３６０Ｍ
Ｈｚにおいてプロトン核磁気共鳴（Ｈ−ＮＭＲ）分析を
実施して、下記の式中に示した化学シフト（ｐｐｍ）が
測定された： 溶媒を除去した後に得られたオイル中の出発の樟脳誘導
体の割合は６．４重量％だった。
Ｈｚにおいてプロトン核磁気共鳴（Ｈ−ＮＭＲ）分析を
実施して、下記の式中に示した化学シフト（ｐｐｍ）が
測定された： 溶媒を除去した後に得られたオイル中の出発の樟脳誘導
体の割合は６．４重量％だった。
この誘導体の除去は、オイルをシリカゲル（メルク（Ｍ
ｅｒｃｈ）社によって市販されている「キーゼルゲル・
アート（ＫｉｅｓｅｌｇｅＬ ＡＲＴ） ７７５４ Ｊ
担体）のカラムに通す（この有機誘導体を溶出させるた
めに用いた溶媒は容量比９５：５のヘキサンと酢酸ブチ
ルの混合物であり、オイルを溶出させるために用いた溶
媒は酢酸ブチルである）ことによって容易に実施された
。
ｅｒｃｈ）社によって市販されている「キーゼルゲル・
アート（ＫｉｅｓｅｌｇｅＬ ＡＲＴ） ７７５４ Ｊ
担体）のカラムに通す（この有機誘導体を溶出させるた
めに用いた溶媒は容量比９５：５のヘキサンと酢酸ブチ
ルの混合物であり、オイルを溶出させるために用いた溶
媒は酢酸ブチルである）ことによって容易に実施された
。
精製したオイルは、３Ｘ１０−”重量％より少ない出発
の樟脳誘導体を含有していた。このオイルは、約１．５
４２の屈折率を有していた。
の樟脳誘導体を含有していた。このオイルは、約１．５
４２の屈折率を有していた。
皿ｌ：
４゛−アリルオキシ−３°−メトキシ−３−ベンジリデ
ン樟脳の製造 出発原料として４゛−ヒドロキシ−３°−メトキシ−３
−ベンジリデン樟脳を用いたこと以外は、仏国特許第２
．４３０．９３８号の例８の操作方法を正確に繰り返し
た。融点７５℃を有する所望の生成物が得られた。
ン樟脳の製造 出発原料として４゛−ヒドロキシ−３°−メトキシ−３
−ベンジリデン樟脳を用いたこと以外は、仏国特許第２
．４３０．９３８号の例８の操作方法を正確に繰り返し
た。融点７５℃を有する所望の生成物が得られた。
次いで、以下の物質
・３０．６ ｇの４°−アリルオキシ−３゛−メトキシ
−３−ベンジリデン樟脳 ・３１ｇのトルエン ・３．４μ℃の白金触媒溶液 及び ・１２．５ｇの次式： のＳｉＨ含有ポリマー（滴定によってＳｉＨ官能基７３
３．９ミリ当量／ １００ ｇと分析されたもの） を用いたこと以外は例１と同じ操作を正確に繰り返した
。
−３−ベンジリデン樟脳 ・３１ｇのトルエン ・３．４μ℃の白金触媒溶液 及び ・１２．５ｇの次式： のＳｉＨ含有ポリマー（滴定によってＳｉＨ官能基７３
３．９ミリ当量／ １００ ｇと分析されたもの） を用いたこと以外は例１と同じ操作を正確に繰り返した
。
９時間の反応の後に、ＳｉＨ転化率９９％が得ら゛れた
。
。
トルエンを除去した後に、僅かに黄色で非常に粘性のあ
るオイル４０．０ ｇが単離された。これは、滴定によ
って出発の樟脳誘導体含有率５．３重量％と分析された
。
るオイル４０．０ ｇが単離された。これは、滴定によ
って出発の樟脳誘導体含有率５．３重量％と分析された
。
Ｈ−ＮＭＲは、所期の構造を与えた：
樟脳誘導体の除去は、樟脳誘導体を溶出させるための溶
媒としてジクロルメタンを用いたこと以外は例１と同様
にして実施された。
媒としてジクロルメタンを用いたこと以外は例１と同様
にして実施された。
精製したオイルは、３Ｘ１０””重量％より少ない出発
の樟脳誘導体を含有し、約１．５４０の屈折率を有して
いた。
の樟脳誘導体を含有し、約１．５４０の屈折率を有して
いた。
例」、：
３ａ、３°−アリル−４°−メトキシ−３−ベンジリデ
ン樟脳の製造 １土工ｌ： ３゛−アリル−４°−ヒドロキシ−３−ベンジリデン樟
脳の製造 仏国特許第２．４３０．９３８号の例８に従って得られ
た４゛−アリルオキシ−３−ベンジリデン樟脳２９６ｇ
（１モル）を撹拌しながら１８５℃に２４時間加熱し
た。
ン樟脳の製造 １土工ｌ： ３゛−アリル−４°−ヒドロキシ−３−ベンジリデン樟
脳の製造 仏国特許第２．４３０．９３８号の例８に従って得られ
た４゛−アリルオキシ−３−ベンジリデン樟脳２９６ｇ
（１モル）を撹拌しながら１８５℃に２４時間加熱し
た。
冷却した反応混合物をエチルエーテルから再結晶した。
こうして、下記の特性を有する３゛−アリル−４°−ヒ
ドロキシ−３−ベンジリデン樟脳２７０ｇが得られた： ・融点：１５０℃ ・ ’Ｈ−ＮＭＲスベクト−ル（ＣＤ Ｃ１２ｓ中）二
所期の構造に一致するスペクトル ・紫外線吸収スペクトル（エタノール中）：λｗａｘ：
３２７ｎｍ ε ： ２２６００ ・元素分析 計算値（％） ： Ｃ，８１，０４、Ｈ，８，１６実
測値（％）：Ｃ１８１，１１，Ｈ２Ｓ、１８１主工１ ３゛−アリル−４゛−メトキシ−３−ベンジリデン樟脳
の製造 前もってモレキュラーシーブを用いて乾燥させた１、２
−ジメトキシエタン１５０ｃｎ１′中に、上記の第１工
程において得られた３゛−アリル−４゛−ヒドロキシ−
３−ベンジリデン樟脳９ｇ（０，０３モル）を溶解させ
た。水素化ナトリウム２．５６ｇをゆっくり添加し、こ
の混合物を６０℃に加熱した。沃化メチル８．５２ｇ（
０，０６モル）を滴下し、次いでこの混合物を２時間還
流した。溶媒を留去させ、残渣をエチルエーテル５０ｃ
ｒｒｒで取り出した。エーテル相を水で２回洗浄し、次
いで硫酸ナトリウムを用いて乾燥させた。溶媒を蒸発さ
せた後に、３゛−アリル−４°−メトキシ−３−ベンジ
リデン樟脳８．８ｇが、下記の特性を有する白色結晶の
形で回収された： ・融点＝３７℃ ・ ’Ｈ−ＮＭＲスペクトル（ＣＤＣρ３中）：所期の
構造に一致するスペクトル ・紫外線吸収スペクトル（９５°エタノール中）：Ｌ＋
ｉａｘ：３２２ｎｍ ε ： ２３６００ 元素分析 計算値（％）： Ｃ，８１，２５，Ｈ，８，４４，０１１０，３１実測値
（％）： Ｃ，８１，３５、Ｈ，８，６０；ｏ、１０．５０３ｂ、
下記の式のポリジメチルシロキサンの製造： （式中、Ａは次式： の有機基である） 中央撹拌機及び縦形冷却管を備え且っ油浴によって１０
０℃に保持された三つ日丸底フラスコに、３°−アリル
−４゛−メトキシ−３−ベンジリデン樟脳２５ｇ（８０
，５３ミリモル）及びトルエンｇを装入した。
ドロキシ−３−ベンジリデン樟脳２７０ｇが得られた： ・融点：１５０℃ ・ ’Ｈ−ＮＭＲスベクト−ル（ＣＤ Ｃ１２ｓ中）二
所期の構造に一致するスペクトル ・紫外線吸収スペクトル（エタノール中）：λｗａｘ：
３２７ｎｍ ε ： ２２６００ ・元素分析 計算値（％） ： Ｃ，８１，０４、Ｈ，８，１６実
測値（％）：Ｃ１８１，１１，Ｈ２Ｓ、１８１主工１ ３゛−アリル−４゛−メトキシ−３−ベンジリデン樟脳
の製造 前もってモレキュラーシーブを用いて乾燥させた１、２
−ジメトキシエタン１５０ｃｎ１′中に、上記の第１工
程において得られた３゛−アリル−４゛−ヒドロキシ−
３−ベンジリデン樟脳９ｇ（０，０３モル）を溶解させ
た。水素化ナトリウム２．５６ｇをゆっくり添加し、こ
の混合物を６０℃に加熱した。沃化メチル８．５２ｇ（
０，０６モル）を滴下し、次いでこの混合物を２時間還
流した。溶媒を留去させ、残渣をエチルエーテル５０ｃ
ｒｒｒで取り出した。エーテル相を水で２回洗浄し、次
いで硫酸ナトリウムを用いて乾燥させた。溶媒を蒸発さ
せた後に、３゛−アリル−４°−メトキシ−３−ベンジ
リデン樟脳８．８ｇが、下記の特性を有する白色結晶の
形で回収された： ・融点＝３７℃ ・ ’Ｈ−ＮＭＲスペクトル（ＣＤＣρ３中）：所期の
構造に一致するスペクトル ・紫外線吸収スペクトル（９５°エタノール中）：Ｌ＋
ｉａｘ：３２２ｎｍ ε ： ２３６００ 元素分析 計算値（％）： Ｃ，８１，２５，Ｈ，８，４４，０１１０，３１実測値
（％）： Ｃ，８１，３５、Ｈ，８，６０；ｏ、１０．５０３ｂ、
下記の式のポリジメチルシロキサンの製造： （式中、Ａは次式： の有機基である） 中央撹拌機及び縦形冷却管を備え且っ油浴によって１０
０℃に保持された三つ日丸底フラスコに、３°−アリル
−４゛−メトキシ−３−ベンジリデン樟脳２５ｇ（８０
，５３ミリモル）及びトルエンｇを装入した。
反応混合物の温度が１００℃になった時に、前記例１に
おいて用いた白金触媒のヘキサン溶液（金属白金９．９
２重量％を含有するもの）１．６０μ忍を導入した。
おいて用いた白金触媒のヘキサン溶液（金属白金９．９
２重量％を含有するもの）１．６０μ忍を導入した。
次いで、次式：
のＳｉＨ，含有ランダムポリマー（滴定によってＳｉＨ
官能基７０５．８ミリ当量／１００ｇと分析されたもの
）１０．３７ｇを１時間３０分かけて添加した。
官能基７０５．８ミリ当量／１００ｇと分析されたもの
）１０．３７ｇを１時間３０分かけて添加した。
１１時間の反応の後のＳｉＨ転化率は定量的だった。
トルエンを除去した後に、黄色の粘性オイルが単離され
た。これは、滴定によって出発の樟脳誘導体含有率１１
．７重量％と分析された。
た。これは、滴定によって出発の樟脳誘導体含有率１１
．７重量％と分析された。
’Ｈ−ＮＭＲは、下記の構造を与えた：６．６１
３．７７ ２．１４ ＣＤ ＣＩｌ ｇ＋酢酸第二鉄中での４９．７ＭＨｚに
おける”Ｓｉ−ＮＭＲ分析は、所期の構造に一致した。
３．７７ ２．１４ ＣＤ ＣＩｌ ｇ＋酢酸第二鉄中での４９．７ＭＨｚに
おける”Ｓｉ−ＮＭＲ分析は、所期の構造に一致した。
出発の樟脳誘導体の除去は、例１と同様にして実施され
た。
た。
精製したオイルは、３Ｘ１０−”重量％より少ない出発
の樟脳誘導体を含有していた。
の樟脳誘導体を含有していた。
Claims (4)
- （１）次式： ▲数式、化学式、表等があります▼（１） ［式中、記号Ｒは同一であっても異なっていてもよく、
Ｃ＿１〜Ｃ＿１＿０のアルキル、フェニル及び３，３，
３−トリフルオルプロピル基から選択され、 但し基Ｒの少なくとも８０％（数を基として）はメチル
基であり、 記号Ａは次式： ▲数式、化学式、表等があります▼（３） ｛式中、Ｒ＿１及びＲ＿２は水素原子、Ｃ＿１〜Ｃ＿６
のアルキル、Ｃ＿１〜Ｃ＿６のアルコキシ、ヒドロキシ
ル若しくはトリメチルシリルオキシ基又は２価の基Ｙ：
▲数式、化学式、表等があります▼ （ここで、Ｒ＿４は水素原子又はＣ＿１〜Ｃ＿４のアル
キル基を表わし、 ｎは０又は１であり、 ｐは１〜１０の範囲の整数である） を表わし、但し２つの基Ｒ＿１及びＲ＿２の一方は必ず
２価の基Ｙであるものとし、 Ｒ＿３は水素原子又はＣ＿１〜Ｃ＿６のアルキル若しく
はＣ＿１〜Ｃ＿６のアルコキシ基を表わす｝ の基を表わし、 記号Ｂは同一であっても異なっていてもよく、基Ｒ及び
基Ａから選択され、 記号ｒは０〜２００の範囲から選択される整数であり、 記号ｓは０〜５０の範囲から選択される整数であり、但
しｓが０である場合、２つの記号Ｂのうちの少なくとも
一方はＡである］ 及び次式： ▲数式、化学式、表等があります▼（２） （式中、Ｒ及びＡは式（１）におけるのと同じ意味を持
ち、 ｕは１〜２０の範囲の整数であり、 ｔは０〜２０の範囲の整数であり、 但し、ｔとｕとの和ｔ＋ｕは３以上であるものとする） のものから選択される改質ジオルガノポリシロキサンポ
リマー。 - （２）追加的に以下の特性： ・Ｒがメチル基である； ・Ｂがメチル基である； ・ｒが５〜２０の範囲である； ・ｓが２〜１５の範囲である； ・ｔ＋ｕが３〜１０の範囲である； ・Ｒ＿１がＨ又はメトキシである； ・ｐが１〜３の範囲である； ・Ｒ＿２がＨ又はメトキシである； ・Ｒ＿３がＨ又はメトキシである； ・２つの基Ｒ＿１及びＲ＿２の一方が、２価の基Ｙにお
いてｎが０又は１であり、ｐが１であり且つＲ＿４がＨ
又はメチル基である前記基Ｙである：の少なくとも１つ
を示すことを特徴とする特許請求の範囲第１項記載のポ
リマー。 - （３）特許請求の範囲第１又は２項記載のポリマーの製
造方法であって、触媒的に有効量の白金触媒の存在下で
、次式： ▲数式、化学式、表等があります▼（４） （式中、Ｒ、ｒ及びｓは式（１）について前記した意味
を持ち、 基Ｂ′は同一であっても異なっていてもよく、基Ｒ及び
水素原子から選択される）及び次式： ▲数式、化学式、表等があります▼（５） （式中、Ｒ、ｔ及びｕは式（２）について前記した意味
を持つ） のものから選択されるのＳｉＨ含有ポリマーと次式： ▲数式、化学式、表等があります▼（６） ｛式中、Ｒ＿１、Ｒ＿２及びＲ＿３は、基Ｙが次式：−
（Ｏ）＿ｎ−（ＣＨ＿２）＿ｐ−Ｃ（Ｒ＿４）＝ＣＨ＿
２（ここで、ｎ、ｐ及びＲ＿４は式（３）におけるのと
同じ意味を持つ） を有する同族の１価の不飽和の基Ｙ′であることを除い
て、式（３）におけるのと同じ意味を持つ｝ から選択される３−ベンジリデン樟脳の有機誘導体との
ヒドロシリル化反応を実施することを特徴とする前記製
造方法。 - （４）特許請求の範囲第１又は２項記載の式（１）又は
（２）のポリマーから成る、ＰＶＣ用の滑剤。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| FR8718509A FR2625210B1 (fr) | 1987-12-29 | 1987-12-29 | Diorganopolysiloxane a fonction benzylidene-3 camphre |
| FR87/18509 | 1987-12-29 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01233287A true JPH01233287A (ja) | 1989-09-19 |
| JPH0518834B2 JPH0518834B2 (ja) | 1993-03-15 |
Family
ID=9358550
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63329540A Granted JPH01233287A (ja) | 1987-12-29 | 1988-12-28 | ３―ベンジリデン樟脳官能基を含有するジオルガノポリシロキサン |
Country Status (10)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4940765A (ja) |
| EP (1) | EP0325881B1 (ja) |
| JP (1) | JPH01233287A (ja) |
| AT (1) | ATE80403T1 (ja) |
| AU (1) | AU618306B2 (ja) |
| BR (1) | BR8806931A (ja) |
| CA (1) | CA1333610C (ja) |
| DE (1) | DE3874519T2 (ja) |
| ES (1) | ES2051884T3 (ja) |
| FR (1) | FR2625210B1 (ja) |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR2635106B1 (fr) * | 1988-08-04 | 1990-04-20 | Rhone Poulenc Chimie | Diorganopolysiloxane a fonction dibenzoylmethane |
| FR2635780B1 (fr) * | 1988-08-04 | 1990-12-14 | Rhone Poulenc Chimie | Diorganopolysiloxane a fonction benzotriazole |
| FR2636338B1 (fr) * | 1988-09-09 | 1990-11-23 | Rhone Poulenc Chimie | Diorganopolysiloxane a fonction benzalmalonate |
| US5356585A (en) * | 1993-07-01 | 1994-10-18 | Dow Corning Corporation | Process of extruding snythetic thermoplastic resins using organosilicon resinous compositions as extrusion lubricants |
Family Cites Families (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US2970150A (en) * | 1957-12-17 | 1961-01-31 | Union Carbide Corp | Processes for the reaction of silanic hydrogen-bonded siloxanes with unsaturated organic compounds with a platinum catalyst |
| US4033990A (en) * | 1972-12-29 | 1977-07-05 | Union Carbide Corporation | Hydroxybicyclosiloxane rigid urethane foam stabilizers |
| US3984338A (en) * | 1975-03-03 | 1976-10-05 | Dow Corning Corporation | Dielectric fluid comprising polysiloxane and ketone compound or camphor |
| IT1100671B (it) * | 1977-10-15 | 1985-09-28 | Dow Corning Ltd | Composizioni detergenti |
| DE3268222D1 (en) * | 1982-03-16 | 1986-02-13 | Toray Silicone Co | Organopolysiloxane photosensitizers and methods for their preparation |
| US4843136A (en) * | 1986-09-26 | 1989-06-27 | Bayer Aktiengesellschaft | (Meth)-acrylates of siloxanes containing tricyclodecane groups |
| ES2102977T3 (es) * | 1987-03-20 | 1997-08-16 | Hercules Inc | Polimeros de organosiloxano reticulados. |
-
1987
- 1987-12-29 FR FR8718509A patent/FR2625210B1/fr not_active Expired - Lifetime
-
1988
- 1988-12-28 JP JP63329540A patent/JPH01233287A/ja active Granted
- 1988-12-28 BR BR888806931A patent/BR8806931A/pt not_active IP Right Cessation
- 1988-12-28 CA CA000587073A patent/CA1333610C/fr not_active Expired - Fee Related
- 1988-12-29 AT AT88420438T patent/ATE80403T1/de not_active IP Right Cessation
- 1988-12-29 US US07/291,698 patent/US4940765A/en not_active Expired - Lifetime
- 1988-12-29 ES ES88420438T patent/ES2051884T3/es not_active Expired - Lifetime
- 1988-12-29 DE DE8888420438T patent/DE3874519T2/de not_active Expired - Fee Related
- 1988-12-29 EP EP88420438A patent/EP0325881B1/fr not_active Expired - Lifetime
- 1988-12-29 AU AU27604/88A patent/AU618306B2/en not_active Ceased
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| EP0325881B1 (fr) | 1992-09-09 |
| AU2760488A (en) | 1989-06-29 |
| CA1333610C (fr) | 1994-12-20 |
| EP0325881A3 (en) | 1989-08-16 |
| BR8806931A (pt) | 1989-08-29 |
| US4940765A (en) | 1990-07-10 |
| DE3874519D1 (de) | 1992-10-15 |
| FR2625210B1 (fr) | 1990-05-18 |
| ES2051884T3 (es) | 1994-07-01 |
| ATE80403T1 (de) | 1992-09-15 |
| AU618306B2 (en) | 1991-12-19 |
| EP0325881A2 (fr) | 1989-08-02 |
| JPH0518834B2 (ja) | 1993-03-15 |
| DE3874519T2 (de) | 1993-04-08 |
| FR2625210A1 (fr) | 1989-06-30 |
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