JPH01235170A - マイクロ入出力ピンおよびその製造方法 - Google Patents
マイクロ入出力ピンおよびその製造方法Info
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- JPH01235170A JPH01235170A JP63045427A JP4542788A JPH01235170A JP H01235170 A JPH01235170 A JP H01235170A JP 63045427 A JP63045427 A JP 63045427A JP 4542788 A JP4542788 A JP 4542788A JP H01235170 A JPH01235170 A JP H01235170A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は、マイクロ入出力ピンおよびその製造方法に関
し、さらに詳しくは、主として、モノシリツクICやハ
イブリッドICなどにおけるチップ素子とパッケージ基
板との間の電極間の接続をはかるマイクロ入出力ピンお
よびその製造方法に関する。
し、さらに詳しくは、主として、モノシリツクICやハ
イブリッドICなどにおけるチップ素子とパッケージ基
板との間の電極間の接続をはかるマイクロ入出力ピンお
よびその製造方法に関する。
(従来技術とその課題)
従来一般に、モノシリ・ンクICやハイブリッドICな
どにおけるパッケージ基板へのチップの実装は、パッケ
ージ基板の所定位置にチップを装着し、該基板のプリン
ト回路とチップ電極とをワイヤボンデインクにより接続
する手段により行われている。
どにおけるパッケージ基板へのチップの実装は、パッケ
ージ基板の所定位置にチップを装着し、該基板のプリン
ト回路とチップ電極とをワイヤボンデインクにより接続
する手段により行われている。
しかるところ、最近、ICのハイブリッド化か進み、高
機能密度化、軽薄短小化、これらの民生機器への適用な
どがはかられ、これらの利用が急速に拡張される傾向に
あり、こうしたことにともない、チップ自体の面付けに
よる軽薄短小化、低コスト化などが強く要求される状況
にある。
機能密度化、軽薄短小化、これらの民生機器への適用な
どがはかられ、これらの利用が急速に拡張される傾向に
あり、こうしたことにともない、チップ自体の面付けに
よる軽薄短小化、低コスト化などが強く要求される状況
にある。
しかしながら、前記ワイヤボンディング手段によると、
パッケージ基板とチップとの各電極間に金線などからな
るリード線を橋架してロウ付けしなければならないため
、チップパッケージンクの処理作業効率が低いうえ、こ
れらチップ、基板における占有面積が大きくなり、前記
要求を満足させることが困難であり、しかも伝送速度か
おそいといった課題がある。
パッケージ基板とチップとの各電極間に金線などからな
るリード線を橋架してロウ付けしなければならないため
、チップパッケージンクの処理作業効率が低いうえ、こ
れらチップ、基板における占有面積が大きくなり、前記
要求を満足させることが困難であり、しかも伝送速度か
おそいといった課題がある。
前記要求を満足させるうえて有効な手段の一つとして、
チップとパッケージ基板との各電極を直接ロウ付けする
一体化構成が考えられる。
チップとパッケージ基板との各電極を直接ロウ付けする
一体化構成が考えられる。
この場合、前記各電極間を接続する超小型の入出力ピン
か望ましい。
か望ましい。
本発明の目的は、主として、この種のICにおけるチッ
プのパッケージ基板への直付は接続による軽薄短小化、
低コスト化、伝送速度を速めるなどの点で最適であるマ
イクロ入出力ピンおよびその製造方法を提供することに
ある。
プのパッケージ基板への直付は接続による軽薄短小化、
低コスト化、伝送速度を速めるなどの点で最適であるマ
イクロ入出力ピンおよびその製造方法を提供することに
ある。
(課題を解決するための手段)
前記目的を達成するため、本発明にかかるマイクロ入出
力ピンは、導電性脚部と、該脚部のの両端部に該脚部よ
りも径大である導電性頭部とからなるマイクロ入出力ピ
ンてあって、前記脚部は、その全長にわたって実質的に
同径に形成し、かつ、前記頭部の各々は、前記脚部の端
部の外周面に一体に形成したメッキ層と、該脚部の端部
の端面および該メッキ層の端面に一体に形成したロウ材
層とからなる。
力ピンは、導電性脚部と、該脚部のの両端部に該脚部よ
りも径大である導電性頭部とからなるマイクロ入出力ピ
ンてあって、前記脚部は、その全長にわたって実質的に
同径に形成し、かつ、前記頭部の各々は、前記脚部の端
部の外周面に一体に形成したメッキ層と、該脚部の端部
の端面および該メッキ層の端面に一体に形成したロウ材
層とからなる。
また、前記目的を達成するため、本発明にかかるマイク
ロ入出力ピンの製造方法は、或る種のエツチング液て侵
されない金属材料で形成した所定数の導電性ピンを、前
記エツチング液て侵される金属材料て前記ピンの脚部の
長さに実質的に同じ厚さに形成した板体の面方向に所定
間隔で該板体の厚さ方向に貫通し配列して被加工体を形
成する工程と、前記被加工体における前記脚部の両端面
に前記エツチング液で侵されない導電性ロウ材層を設け
て所定径大の頭部を形成する工程と、前記エツチング液
の存在下に、前記脚部および前記頭部を残して、前記板
体部分をエツチング処理する工程とを含む。
ロ入出力ピンの製造方法は、或る種のエツチング液て侵
されない金属材料で形成した所定数の導電性ピンを、前
記エツチング液て侵される金属材料て前記ピンの脚部の
長さに実質的に同じ厚さに形成した板体の面方向に所定
間隔で該板体の厚さ方向に貫通し配列して被加工体を形
成する工程と、前記被加工体における前記脚部の両端面
に前記エツチング液で侵されない導電性ロウ材層を設け
て所定径大の頭部を形成する工程と、前記エツチング液
の存在下に、前記脚部および前記頭部を残して、前記板
体部分をエツチング処理する工程とを含む。
(実施例)
添付図面を参照して本発明の詳細な説明すると、以下の
とおりである。
とおりである。
第1図および第2図において、本発明にかかるマイクロ
入出力ピンを例示しである。このピン1は、導電性脚部
2と、該脚部の両端部に該脚部よりも径大である導電性
頭部3とからなる0脚部lは、銅またはその合金などの
導電性材料で、たとえば、長さし約0.6〜0.9m+
s、径り約0.1mmに形成しである0頭部3は、脚部
2の端部の周面を一体に覆うように形成した導電性メッ
キ層4と、該端部の端面および該メッキ層の端面を一体
に覆うように形成した導電性ロウ材層5とからなる。メ
ッキ層4は、たとえば、銅で、また、ロウ材層5は、た
とえば、金と錫の合金て、それぞれ形成しである。脚部
2および頭部3の横断面は、実質的に円形状であること
2!!i好ましいが、その他の形状であってもよい。
入出力ピンを例示しである。このピン1は、導電性脚部
2と、該脚部の両端部に該脚部よりも径大である導電性
頭部3とからなる0脚部lは、銅またはその合金などの
導電性材料で、たとえば、長さし約0.6〜0.9m+
s、径り約0.1mmに形成しである0頭部3は、脚部
2の端部の周面を一体に覆うように形成した導電性メッ
キ層4と、該端部の端面および該メッキ層の端面を一体
に覆うように形成した導電性ロウ材層5とからなる。メ
ッキ層4は、たとえば、銅で、また、ロウ材層5は、た
とえば、金と錫の合金て、それぞれ形成しである。脚部
2および頭部3の横断面は、実質的に円形状であること
2!!i好ましいが、その他の形状であってもよい。
第3図に示すよに、前記構成を有するピンlは、たとえ
ば、ICチップ6の電極とポリマセラミックなどの高熱
伝導材からなるセラミック基板7のプリント電極との間
に前記頭部3を挟持する状態に配置し、加熱圧着処理下
に、ロウ材5を介してICチップ6のセラミック基板7
への直付けを行うのに用いることかできる。この図示例
のチップバッキングは、ICチップ6を樹脂層8て封入
し、これにキャップ9を被嵌し、基板7に外部リートl
Oを取り付けである。
ば、ICチップ6の電極とポリマセラミックなどの高熱
伝導材からなるセラミック基板7のプリント電極との間
に前記頭部3を挟持する状態に配置し、加熱圧着処理下
に、ロウ材5を介してICチップ6のセラミック基板7
への直付けを行うのに用いることかできる。この図示例
のチップバッキングは、ICチップ6を樹脂層8て封入
し、これにキャップ9を被嵌し、基板7に外部リートl
Oを取り付けである。
第4図ないし第16図において、前記ピンlの製造工程
を例示しである。
を例示しである。
第4図および第5図において、導電性材料、たとえば、
鉄系材料で高さ(厚さ)Hの保持板11を形成し、該保
持板の上面に深さDを有する所要数の条溝12をピッチ
Pて列設する。高さHおよびツピッチPは、前記ピンl
の配置ピッチ(たとえば約0.6 mm)と、深さDは
、前記ピン1の径(たとえは約0.1皇鳳)と、それぞ
れ実質的に同じに設定する。なお、前記ピンlの配置ピ
ッチとは、前記ICチップ6および前記セラミック基板
7の電極のそれを意味する。
鉄系材料で高さ(厚さ)Hの保持板11を形成し、該保
持板の上面に深さDを有する所要数の条溝12をピッチ
Pて列設する。高さHおよびツピッチPは、前記ピンl
の配置ピッチ(たとえば約0.6 mm)と、深さDは
、前記ピン1の径(たとえは約0.1皇鳳)と、それぞ
れ実質的に同じに設定する。なお、前記ピンlの配置ピ
ッチとは、前記ICチップ6および前記セラミック基板
7の電極のそれを意味する。
第6図において、前記条溝12には、前記ピン1の脚部
2と同質・同径である該脚部の線状母材2を導電性また
は絶縁性接着剤(図示せず)を介して接着する。
2と同質・同径である該脚部の線状母材2を導電性また
は絶縁性接着剤(図示せず)を介して接着する。
第7図ないし第9図において、前記脚部母材2を接着し
た適宜数の前記保持板11を導電性または絶縁性接着剤
(図示せず)を介し接合して積層体13を形成したのち
、該積層体を縦方向、すなわち、前記脚部母材12の長
さ方向と直角に交差する方向に、かつ、前記脚部2の長
さLと同@Lにスライスして、所定数の前記脚部2を有
する被加工体14を形成する。
た適宜数の前記保持板11を導電性または絶縁性接着剤
(図示せず)を介し接合して積層体13を形成したのち
、該積層体を縦方向、すなわち、前記脚部母材12の長
さ方向と直角に交差する方向に、かつ、前記脚部2の長
さLと同@Lにスライスして、所定数の前記脚部2を有
する被加工体14を形成する。
第1O図において、前記被加工体14の両面を、たとえ
ば、ゴム系の電気絶縁性ホトレジスト材15で所定厚さ
に被覆する。
ば、ゴム系の電気絶縁性ホトレジスト材15で所定厚さ
に被覆する。
第11図において、両レジスト材15の面に、前記被加
工体14における前記ピン2の端面が位置する該レジス
ト材域を露光域15aとし、該露光域の周辺に位置する
該レジスト材域を未露光域15bとするパターン16を
配置して、光源17でパターン露光する。
工体14における前記ピン2の端面が位置する該レジス
ト材域を露光域15aとし、該露光域の周辺に位置する
該レジスト材域を未露光域15bとするパターン16を
配置して、光源17でパターン露光する。
第12図において、前記パターン露光によって前記露光
域15aの前記レジスト材15を硬化させ、未露光域1
5bを洗浄処理して該レジスト材を除去したのち、ある
いは、未露光域15bを化学的(電気化学的を含む)エ
ツチング液中または機械的スクライビング処理して除去
すると同時に前記保持板11の面から若干くぼむ凹陥部
18を形成し、前記露光域15aの該レジスト材を残す
。
域15aの前記レジスト材15を硬化させ、未露光域1
5bを洗浄処理して該レジスト材を除去したのち、ある
いは、未露光域15bを化学的(電気化学的を含む)エ
ツチング液中または機械的スクライビング処理して除去
すると同時に前記保持板11の面から若干くぼむ凹陥部
18を形成し、前記露光域15aの該レジスト材を残す
。
第13図において、前記凹陥部18に導電性材料、たと
えば、銅でメッキ処理してメッキ層4を形成する。
えば、銅でメッキ処理してメッキ層4を形成する。
第14図において、前記露光域15aの前記硬化させた
レジスト15を剥離して前記脚部2の端面な露出する。
レジスト15を剥離して前記脚部2の端面な露出する。
第15図において、前記脚部2の露出端面および前記メ
ッキ層4の端面域には、たとえば、金のロウ材層5aを
メッキ処理して形成し、さらに、該ロウ材層上に、たと
えば、錫のロウ材層5bをメッキ処理して形成したのち
、該両ロウ材層を焼付処理して合金化することによって
前記頭部3の一部を構成するロウ材層5を形成する(第
16図参照)。なお、金のロウ材層5aは約80重量%
、錫のロウ材R5bは約20重量%かロウ材としての特
性から好ましい。
ッキ層4の端面域には、たとえば、金のロウ材層5aを
メッキ処理して形成し、さらに、該ロウ材層上に、たと
えば、錫のロウ材層5bをメッキ処理して形成したのち
、該両ロウ材層を焼付処理して合金化することによって
前記頭部3の一部を構成するロウ材層5を形成する(第
16図参照)。なお、金のロウ材層5aは約80重量%
、錫のロウ材R5bは約20重量%かロウ材としての特
性から好ましい。
第16図において、前記合金化したロウ材層5を有する
前記被加工体14を、たとえば、塩化第一鉄のエツチン
グ液中に浸漬し電解エツチング液中し、前記頭部3の材
料を侵食させることなく、前記保持板11を侵食させ、
該保持板が或る薄さになるまで該処理を行う。その結果
、薄くなった保持板11で連結したピンlをうることか
てきる。
前記被加工体14を、たとえば、塩化第一鉄のエツチン
グ液中に浸漬し電解エツチング液中し、前記頭部3の材
料を侵食させることなく、前記保持板11を侵食させ、
該保持板が或る薄さになるまで該処理を行う。その結果
、薄くなった保持板11で連結したピンlをうることか
てきる。
前記連結状態を保っているピン1群は、たとえば、それ
らの一端面を、整列ケースまたは整列板に剥離回走に接
着したのち、たとえば、電気的エツチング処理によって
前記連結部を除去し、さらに、該接着状態にある該ピン
群を別の整列ケースて保持する。そして、たとえば、前
記整列ケースをバッキング材としてIC組付自動機にか
け、第3図に例示し既述したように、ICチップ7の電
極とポリマセラミックなどの高熱伝導材からなるセラミ
ック基板のプリント電極との間に配置し、直付けを行う
ことかできる。
らの一端面を、整列ケースまたは整列板に剥離回走に接
着したのち、たとえば、電気的エツチング処理によって
前記連結部を除去し、さらに、該接着状態にある該ピン
群を別の整列ケースて保持する。そして、たとえば、前
記整列ケースをバッキング材としてIC組付自動機にか
け、第3図に例示し既述したように、ICチップ7の電
極とポリマセラミックなどの高熱伝導材からなるセラミ
ック基板のプリント電極との間に配置し、直付けを行う
ことかできる。
なお、本発明方法においては、第4図から第9図に示す
工程を経ることか好ましいか、第8図および第9図に示
す被加工体を第4図から第7図に示す工程を経ることな
く形成してもよい。また、第1O図から第14図に示す
工程を経ることが好ましいが、該工程を経ることなくピ
ン脚部の端面にロウ材層を形成してもよい。
工程を経ることか好ましいか、第8図および第9図に示
す被加工体を第4図から第7図に示す工程を経ることな
く形成してもよい。また、第1O図から第14図に示す
工程を経ることが好ましいが、該工程を経ることなくピ
ン脚部の端面にロウ材層を形成してもよい。
(発明の効果)
本発明にかかるマイクロ入出力ピンによれば、モノシリ
ツクIC、ハイブリッドICなどにおけるチップ素子の
パッケージ基板への直付け、しかも微細付けか可能とな
り、この種の集積回路の軽薄短小化、低コスト化をはか
り、伝送特性を高めるうえで、きわめて有効である。
ツクIC、ハイブリッドICなどにおけるチップ素子の
パッケージ基板への直付け、しかも微細付けか可能とな
り、この種の集積回路の軽薄短小化、低コスト化をはか
り、伝送特性を高めるうえで、きわめて有効である。
なお、前記ピンの頭部の一部を構成するロウ材層は、該
ピンの脚部の端面および該脚部の端部の外周面に形成し
たメッキ層の端面に形成しであるか、該脚部の断面径が
非常に小さいために該脚部の端面の面積も同様に小さく
ても、該メッキ層の端面の存在で該ロウ材層を形成する
面がそれだけ拡大しているので、該ロウ材層の形成面に
おける固定強度が、該メッキ層を形成してない場合に比
べて高い。
ピンの脚部の端面および該脚部の端部の外周面に形成し
たメッキ層の端面に形成しであるか、該脚部の断面径が
非常に小さいために該脚部の端面の面積も同様に小さく
ても、該メッキ層の端面の存在で該ロウ材層を形成する
面がそれだけ拡大しているので、該ロウ材層の形成面に
おける固定強度が、該メッキ層を形成してない場合に比
べて高い。
さらに、本発明にかかる前記ピンの製造方法によれば、
前記ピンを同時に多数個取りすることがてきる。しかも
、エッチンク処理技術自体は貨来よく知られた習熟技術
を用いることかてきるので、処理装置のuIr&か比較
的容易であるとともに、製品の品質管理か容易で、高品
質の製品を得ることか可能である。
前記ピンを同時に多数個取りすることがてきる。しかも
、エッチンク処理技術自体は貨来よく知られた習熟技術
を用いることかてきるので、処理装置のuIr&か比較
的容易であるとともに、製品の品質管理か容易で、高品
質の製品を得ることか可能である。
第1図は、本発明にかかるマイクロ入出力ピンの一例の
斜視図。 第2図は、前記ピンの縦断面図。 第3図は、前記ピンの使用例の断面図。 第4図〜第16図は、本発明製造方法の一例を工程処理
順に示す概略説明図であり。 そのうち、第4図〜第8図は、被加工体の形成工程の斜
視図、 第9図〜第16図は、前記被加工体の加工工程の断面図
。 l:入出力ピン、2:脚部またはその母材、3:頭部、
4:メッキ層、5:ロウ材層、ll:保持板、12;条
溝、13:積層体、14:被加工体、15ニレジスト材
、 16−二パターン、18:凹陥部
斜視図。 第2図は、前記ピンの縦断面図。 第3図は、前記ピンの使用例の断面図。 第4図〜第16図は、本発明製造方法の一例を工程処理
順に示す概略説明図であり。 そのうち、第4図〜第8図は、被加工体の形成工程の斜
視図、 第9図〜第16図は、前記被加工体の加工工程の断面図
。 l:入出力ピン、2:脚部またはその母材、3:頭部、
4:メッキ層、5:ロウ材層、ll:保持板、12;条
溝、13:積層体、14:被加工体、15ニレジスト材
、 16−二パターン、18:凹陥部
Claims (2)
- (1)導電性脚部と、該脚部の両端部に該脚部よりも径
大の導電性頭部とからなるマイクロ入出力ピンであって
、前記脚部は、その全長にわたって実質的に同径に形成
し、かつ、前記頭部の各々は、前記脚部の端部の外周面
に一体に形成したメッキ暦と、該脚部の端部の端面およ
び該メッキ層の端面に一体に形成したロウ材層とからな
ることを特徴とする前記ピン。 - (2)或る種のエッチング液で侵されない金属材料で形
成した所定数の導電性ピンを、前記エッチング液で侵さ
れる金属材料で前記ピンの脚部の長さに実質的に同じ厚
さに形成した板体の面方向に所定間隔で該板体の厚さ方
向に貫通し配列して被加工体を形成する工程と、前記被
加工体における前記脚部の両端面に前記エッチング液で
侵されない導電性ロウ材層を設けて所定径大の頭部を形
成する工程と、前記エッチング液の存在下に、前記脚部
および前記頭部を残して、前記板体部分をエッチング処
理する工程とを含むことを特徴とするマイクロ入出力ピ
ンの製造方法。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63045427A JP2573016B2 (ja) | 1988-02-27 | 1988-02-27 | マイクロ入出力ピンおよびその製造方法 |
| US07/305,312 US4949455A (en) | 1988-02-27 | 1989-02-01 | I/O pin and method for making same |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63045427A JP2573016B2 (ja) | 1988-02-27 | 1988-02-27 | マイクロ入出力ピンおよびその製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01235170A true JPH01235170A (ja) | 1989-09-20 |
| JP2573016B2 JP2573016B2 (ja) | 1997-01-16 |
Family
ID=12718990
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63045427A Expired - Lifetime JP2573016B2 (ja) | 1988-02-27 | 1988-02-27 | マイクロ入出力ピンおよびその製造方法 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4949455A (ja) |
| JP (1) | JP2573016B2 (ja) |
Families Citing this family (19)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| JP6559728B2 (ja) * | 2017-04-04 | 2019-08-14 | 株式会社豊田中央研究所 | 半導体装置及び電力変換装置 |
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| US3616283A (en) * | 1969-09-29 | 1971-10-26 | Ibm | Method of making electrical contact pins |
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-
1988
- 1988-02-27 JP JP63045427A patent/JP2573016B2/ja not_active Expired - Lifetime
-
1989
- 1989-02-01 US US07/305,312 patent/US4949455A/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US4949455A (en) | 1990-08-21 |
| JP2573016B2 (ja) | 1997-01-16 |
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