JPH01238664A - 現像処理機構を有する処理装置 - Google Patents

現像処理機構を有する処理装置

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JPH01238664A
JPH01238664A JP63066547A JP6654788A JPH01238664A JP H01238664 A JPH01238664 A JP H01238664A JP 63066547 A JP63066547 A JP 63066547A JP 6654788 A JP6654788 A JP 6654788A JP H01238664 A JPH01238664 A JP H01238664A
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Japan
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humidity
temperature
constant
chamber
air
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JP63066547A
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Katsuhiro Kinemura
杵村 勝博
Fujio Fukushima
福島 不二夫
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Toppan Inc
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Toppan Printing Co Ltd
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  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は例えばフォトマスクの現像処理工程など、温度
、湿度の管理を要する装置に付随して設けることができ
る恒温恒湿スポットチャンバーに関する。
(従来の技術) 例えばフォトマスク処理工程において、ポジレジストの
現像時の温度、湿度の管理は現像条件の重要なポイント
となっている。従来、このような場合の温度および湿度
の管理はフォトマスク処理装置全体を恒温恒湿チャンバ
ー内に収容しておこなわれていた。
(発明が解決しようとする課題) しかし、このような従来の温度、湿度管理方式は管埋す
べき空間が大きくなり、管理をよシ困難なものとするだ
けでなく、フォトマスクの現像、焼成、エツチング、剥
膜などをインライン方式で処理するフォトマスク自動処
理装置等、装置の長さ等が著るしく大きくなる場合には
対応が極めて困廟となる。
(n題を屏決するための手段) 本発明は温度、湿度について管理すべき空間を可及的に
小さくすることができ、装置全体が著るしく大きくなる
インライン方式の場合にも適用することができる恒温恒
湿スポットチャンバーを提供することを目的とする。
この目的達成のため、本発明は以下の構成、即ち、上部
に配設された調節済みエアーを供給するエアー供給チャ
ンバーと、このエアー供給チャンバーの下方に除じんフ
ィルターを介して設けられ、温湿度制御を要する装#を
部分を局部的に被冠、密閉する処理用チャンバーと、上
記エアー供給チャンバーに連設されたエアー吸い込み口
と、上記処理用チャンバーの下部に連設された排気口と
、一端が上記エアー吸い込み口と連通し、他端が温湿制
御装置と連通する第1のパイプ機構と、一端が上記排気
口と連通し、他端が上記温湿制御装置と連通ずる第2の
パイプ機構とを具備してなり、温度および湿度を所望レ
ベルに調節したエアーを循環させながら上記処理用チャ
ンバーに供給するようにした恒温恒湿スポットチャンバ
ーを提供する。
(作用) 本発明の恒温恒湿スヂットチャンパーは温湿度制御を必
要とする処理装置部分のみを局部的に被冠、密閉し、こ
れと別に分離して設けられた温湿制御装置と連通させる
ことにより、温度、湿度について予め調節されたエアー
を上記処理装置部分に絶えず供給することが可能となる
(実施例) 以下、本発明を図示の実施例を参照して説明する。
第1図は視像処理機構、焼成機構、エツチング機構、剥
膜機構等をインライン方式で接続してなるフォトマスク
自動処理装置10の一部、即ち現像処理機構1部分を示
すものであって、この視像処理機構1の上部に本発明の
恒温恒湿ヌボットチャンパー2が載置、固定されている
。即ち、この恒温恒湿スポットチャンバー2は視像処理
機構1の処理部3及び被加工物供給部4を局部的に被冠
、密閉した状態で固定されている。
この恒温恒湿スIットチャンパー2は第1図及び第2図
から明らかなように、天井部分に温度、湿度について予
め調節されたエアーを供給するためのエアー供給チャン
バー6と、このエアー供給チャンバー6の下方に除じん
フィルター7を介して連通ずる処理用チャンバー8とか
らなって−る。
この処理用チャンバー8には温湿度センサ−9が設けら
れていて、処理用チャンバ−8内部の温度、湿度に関す
る情報を絶えず、後述する温湿制御装置に伝達し、所望
レベルに温度及び湿度調節されたエアーがこの処理用チ
ャンバー8に供給されるようになっている。
エアー供給チャンバー6の一側には第2図に示す如くエ
アー吸い込み口11が設けられていて、これに温湿制御
装置に接続されている・9イブ12(第1のパイプ機構
)の一端が接続されている・処理用チャンバー8の下部
にも排気口13が設けられていて、これに温湿制御装置
に接続されている・9イグJ4(第2のパイf機構)の
一端が接続されている。除じんフィルター7としてはメ
ソシュタイプのものなど公知のものを適宜使用し得る。
次に、上記恒温恒湿スポットチャンバー2に供給するエ
アーの温度及び湿度をN節するための温湿制御装置につ
いての説明する。
第3図は温湿制御装置の一例を示す断面図でおって、第
1のハウジング15と第2のハウジング16とから構成
され、第1のハウジング15内にはその底部に冷凍機1
6が配設されていて、その上方に冷却コイル17、加湿
機18、ヒータ19および送風ファン20が設けられて
いる。送風ファン20は第1のハウジング15の上部1
111面に設けられた吹出し口21と連設されていて、
温度及び湿度について調節されたエアーをノやイブ12
を介して恒温恒湿スポットチャンバー2内に導入するよ
うKなっている。上記/−4,Elコイル17よシやや
下方の側壁にもエアー吸い込み口22が設けられていて
、パイfl 4f介して恒温恒湿スポットチャンバー2
の排気口13と連通している。
第2のハウジング23内には除湿機24が設けられてい
て、第1のハウジング15内のエアーを・母イブ24に
よシ導入し、この除湿機23に導いて除湿したのち、こ
れを/?イブ25を介して再び第1のハウジング15内
に戻すようになっている。
次に、この恒温恒湿スポットチャンバー2を操作につい
て説明すると、まず、その内部に設けられた温湿センサ
ー9により検出きれたエアーの温度、湿度についての情
報が温湿制御装置の制御機I1m(図示しない)に伝達
され、これに基づいて、温湿制御装置のヒータ19又は
冷i![機16が作動し、同時に除湿機24又は加湿機
18が働き、第1のハウジング15内のエアーの温度、
湿度が適当レベルに調節され、これが送風ファン20に
より、・マイプ12を介して恒温恒湿スポットチャンバ
ー2のエアー供給チャンバー6内に送られ、さらにフィ
ルター7により除じんされたのち、処理用チャンバー8
内に導入され、さらに排気口13、・母イブ14′t−
介して再び第1の)・ウジフグ15内に戻される。この
ようなエアー循環サイクルによって、現像処理機構1の
処理1653及び被加工物供給部4は常に一定の温湿度
ならびに清浄度に維持されることになる。
なお、上記実施例においてはフォトマスクの現像工程に
本発明の装置を適用した場合について説明したが、これ
に限らず、その他局部的に温度、湿度についての管理に
必要な装置に対しても適用し得ることは明らかであろう
。又、本発明の恒温恒湿スポットチャンバーと連通して
用いられる温湿制御装置についても上記実施例のものに
限らず、任意のものを利用することができよう。
ところで、上記恒温恒湿スポットチャンバー2はメンテ
ナンス上の便宜を図るため、その側面、前面、又は背面
を臓状に開閉自在にしてもよい。
(発明の効果) 以上祥述したように本発明の恒温恒湿スポットチャンバ
ーは温湿制御を必要とする部分のみ囲繞し、その内部の
温湿度の制御をおこなうよう圧したから、管理すべき空
間を可及的に小さくすることが可能となり、制御性、コ
ストの面で従来のものと比較して著るしく有利となるほ
か、インライン方式の大型の自動処理装置に対しても容
易に適応させることが可能となる。第1、第2チヤンバ
ーは一体型にしても効果は同じなので、スペース等の余
裕があれば一体型にしてもよい。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明罠係わる恒温恒温スポットチャンバ〜を
フォトマスクの現像処理装置罠適用した例を示す一部切
欠断面図、第2図は第1図のものを側方から見た場合の
状態を示す断面図、第3図は本発明の恒温恒湿スポット
チャンバーと連通させて用いられる温湿制御装置の一例
を示す断面図である。 図中、1・・・現像処理機構、2・・・恒温恒湿スポッ
トチャンバー、3・・・処理部、4・・・被加工物供給
部、6・・・エアー供給チャンバー、7・・・除じんフ
ィルター、8・・・処理用チャンバー、9・・・@湿セ
ンサー、11・・・吸い込み口、12.14・・・パイ
プ、13・・・排気口、15・・・第1のハウジング、
16・・・第2のハウジング、17・・・冷却コイル、
18・・・加湿機、19・・・ヒータ、20・・・送風
ファン、21・・・吸出し口、22・・・吸い込み口、
23・・・第2のノ\ウジング、24・・・除湿機。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1.  上部に配設された調節済みエアーを供給するエアー供
    給チャンバーと、このエアー供給チャンバーの下方に除
    じんフィルターを介して設けられ、温湿度制御を要する
    装置部分を局部的に被冠、密閉する処理用チャンバーと
    、上記エアー供給チャンバーに連設されたエアー吸い込
    み口と、上記処理用チャンバーの下部に連設された排気
    口と、一端が上記エアー吸い込み口と連通し、他端が温
    湿制御装置と連通する第1のパイプ機構と、一端が上記
    排気口と連通し、他端が上記温湿制御装置と連通する第
    2のパイプ機構とを具備してなり、温度および湿度を所
    望レベルに調節したエアーを循環させながら上記処理用
    チャンバーに供給するようにした恒温恒湿スポットチャ
    ンバー。
JP63066547A 1988-03-18 1988-03-18 現像処理機構を有する処理装置 Expired - Lifetime JP2615784B2 (ja)

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US5097943A (en) * 1986-02-05 1992-03-24 Nisshinbo Industries, Inc. Bobbin transfer appartaus in spinning processes
CN113467197A (zh) * 2021-07-02 2021-10-01 宁波润华全芯微电子设备有限公司 一种新型匀胶显影机

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