JPH01240660A - スパッタ装置 - Google Patents
スパッタ装置Info
- Publication number
- JPH01240660A JPH01240660A JP6572088A JP6572088A JPH01240660A JP H01240660 A JPH01240660 A JP H01240660A JP 6572088 A JP6572088 A JP 6572088A JP 6572088 A JP6572088 A JP 6572088A JP H01240660 A JPH01240660 A JP H01240660A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- sample
- chamber
- etching
- sputtering
- samples
- Prior art date
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- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、スパッタ装置に係り、特にプリベーキング、
エツチング、スパッタ成膜等の処理を真空下で21続的
に又は間欠的に実施するインライン型のスパッタ装置に
関するものである。
エツチング、スパッタ成膜等の処理を真空下で21続的
に又は間欠的に実施するインライン型のスパッタ装置に
関するものである。
インライン型のスパッタ装置としては、例えば。
特開昭58−77239号公報に記載のような、トレー
に取付けられた試料なローラコンベヤにてスパッタ成膜
、エツチング等の処理域に搬送するようにしたものが知
られている。
に取付けられた試料なローラコンベヤにてスパッタ成膜
、エツチング等の処理域に搬送するようにしたものが知
られている。
上記従来技術では、プリベーキング、エツチング等の処
理域において、ローラコンベヤが加熱されて回転不良を
生じたり、エツチングされたりする不具合が生じ、試料
を安定して各処理域に搬送するのが内錐になるといった
問題を有している。
理域において、ローラコンベヤが加熱されて回転不良を
生じたり、エツチングされたりする不具合が生じ、試料
を安定して各処理域に搬送するのが内錐になるといった
問題を有している。
本発明の目的は、試料を安定して各処理域に搬送できる
インライン型のスパッタ装置を提供することにある。
インライン型のスパッタ装置を提供することにある。
上記目的は、スパッタ装置を、スパッタ成膜処理される
と共に該スパッタ成膜処理前に加熱処理。
と共に該スパッタ成膜処理前に加熱処理。
−エツチング処理される試料が取付けられる試料取付手
段を1回動具を有し前記試料取付手段に取付けられた皿
記試料を前記処理域に連続的に又は間欠的に搬送する搬
送手段に電気絶縁、断熱手段を介して設けたものとする
二とにより、達成される。
段を1回動具を有し前記試料取付手段に取付けられた皿
記試料を前記処理域に連続的に又は間欠的に搬送する搬
送手段に電気絶縁、断熱手段を介して設けたものとする
二とにより、達成される。
試料取付手段に取付けられた試料は、例えば、加熱処理
される。この場合、試料と共に試料取付手段も、例えば
、試料の被処理面から水分を除去可能な潤度に加熱され
る。しかし、搬送手段は、電2絶級、M熱手段の機能に
より加熱を防止され。
される。この場合、試料と共に試料取付手段も、例えば
、試料の被処理面から水分を除去可能な潤度に加熱され
る。しかし、搬送手段は、電2絶級、M熱手段の機能に
より加熱を防止され。
従って、搬送手段の回動具が加熱されて回動不良を起こ
すのを防止できる。また、試料取付手段に取付けられた
試料は、例えば、高周波印加によりエツチング処理され
る。しかし、搬送手段は、電気絶縁、断熱手段の機能に
よりエツチングを抑制され、従って、搬送手段の回動具
がエツチングされる不都合を除去できる。
すのを防止できる。また、試料取付手段に取付けられた
試料は、例えば、高周波印加によりエツチング処理され
る。しかし、搬送手段は、電気絶縁、断熱手段の機能に
よりエツチングを抑制され、従って、搬送手段の回動具
がエツチングされる不都合を除去できる。
以下、本発明の一実施例を第1図により説明する。
第1図で、台車10は、回動具、例えば、複数のコロ(
図示省略)によってレール加に、該レール美に案内され
て移動可能に設けられている。台車10の、この場合、
上表面には、電気絶縁、断熱手段、例えば、セラミック
(アルミナ)製の絶縁材間が例けられている。パレット
荀は、絶縁材間に設ケられている。パレット荀は、この
場合、試料間な被処理面垂直姿勢で保持可能に絶縁材間
に設けられている。台車10の、この場合、底面には、
ラック11が形成されている。ラックINこは、ピニオ
ン12が一合させられている。ビニオン校の駆動軸13
は、回転駆動装置(図示省略)に連結されている。ピニ
オン12.レールm等は、加熱処理室。
図示省略)によってレール加に、該レール美に案内され
て移動可能に設けられている。台車10の、この場合、
上表面には、電気絶縁、断熱手段、例えば、セラミック
(アルミナ)製の絶縁材間が例けられている。パレット
荀は、絶縁材間に設ケられている。パレット荀は、この
場合、試料間な被処理面垂直姿勢で保持可能に絶縁材間
に設けられている。台車10の、この場合、底面には、
ラック11が形成されている。ラックINこは、ピニオ
ン12が一合させられている。ビニオン校の駆動軸13
は、回転駆動装置(図示省略)に連結されている。ピニ
オン12.レールm等は、加熱処理室。
エツチング室、スパッタ成膜室(図示省略)にそれぞれ
設けられている。各室は、仕切弁ωを介してそれぞれ隔
離可能に連設されている。仕切弁ωは1台車10.該台
車IOに絶縁材間を介して設けられたパレット切が通過
可能な開口を有している。
設けられている。各室は、仕切弁ωを介してそれぞれ隔
離可能に連設されている。仕切弁ωは1台車10.該台
車IOに絶縁材間を介して設けられたパレット切が通過
可能な開口を有している。
このような場合、ピニオン校、駆動軸13は、各室−の
人口側と出口側とに少なくとも1個配設される。
人口側と出口側とに少なくとも1個配設される。
また、台車10は、隣接する室にスムーズに移動可能な
長さを有している。
長さを有している。
第1図で、試料間は、この場合、形状が略方形であり、
パレット切に、この場合、16個、被処理面垂直姿勢で
それぞれ取付けられる。このようにパレット伯に取付け
られた試料間は、例えば。
パレット切に、この場合、16個、被処理面垂直姿勢で
それぞれ取付けられる。このようにパレット伯に取付け
られた試料間は、例えば。
加熱処理室にて加熱処理され、これにより試料間の被処
理面の水分が除去される。このような加熱処理時におい
て試料間と共にパレット旬も加熱されるが、しかし、台
車10は、絶縁材Iの機能によって加熱を防止される。
理面の水分が除去される。このような加熱処理時におい
て試料間と共にパレット旬も加熱されるが、しかし、台
車10は、絶縁材Iの機能によって加熱を防止される。
従って、コロおよびレール美の加熱も防止される。この
ような加熱処理完了後、ピニオン社は、駆動軸13を介
して回転駆動装置により回転させられる。これと共に、
仕切弁ωは開弁される。ピニオンジの回転により台車1
0は、レール囚に案内され、開弁している仕切弁ωを介
して1例えば、エツチング室に搬送される。
ような加熱処理完了後、ピニオン社は、駆動軸13を介
して回転駆動装置により回転させられる。これと共に、
仕切弁ωは開弁される。ピニオンジの回転により台車1
0は、レール囚に案内され、開弁している仕切弁ωを介
して1例えば、エツチング室に搬送される。
仕切弁θを通過した台車10はエツチング室のレール加
に受は取られ、エツチング室のピニオンUを回転させる
ことでエツチング室螢こ搬入される。その後、開弁して
いる仕切弁ωは閉弁される。この状態で、エツチング室
にはエツチングガス、例えば、アルゴンガスが導入され
、また、ノくレット切には、高周波が印加される。これ
によりエツチング室内ではグロー放電が生じ、エツチン
グ室内のエツチングガスは、この放電によりプラズマ化
される。このプラズマにより試料間の被処理面はエツチ
ング処理され、試料(資)の被処理面にあるスパッタ成
膜にとりで不都合な不純物は除去されて試料間の被処理
面は清浄化される。しかし、台*10は、絶縁材間の機
能によりエツチングを抑制される。また、これと共に、
構造上、コロがプラズマに露呈されるのを抑制されるの
で、コロがエツチングされるといった不都合が除去され
る。このようなエツチング処理完了後、ピニオンnは、
駆動軸13を介して回転駆動装置により回転させられる
。
に受は取られ、エツチング室のピニオンUを回転させる
ことでエツチング室螢こ搬入される。その後、開弁して
いる仕切弁ωは閉弁される。この状態で、エツチング室
にはエツチングガス、例えば、アルゴンガスが導入され
、また、ノくレット切には、高周波が印加される。これ
によりエツチング室内ではグロー放電が生じ、エツチン
グ室内のエツチングガスは、この放電によりプラズマ化
される。このプラズマにより試料間の被処理面はエツチ
ング処理され、試料(資)の被処理面にあるスパッタ成
膜にとりで不都合な不純物は除去されて試料間の被処理
面は清浄化される。しかし、台*10は、絶縁材間の機
能によりエツチングを抑制される。また、これと共に、
構造上、コロがプラズマに露呈されるのを抑制されるの
で、コロがエツチングされるといった不都合が除去され
る。このようなエツチング処理完了後、ピニオンnは、
駆動軸13を介して回転駆動装置により回転させられる
。
これと共に、仕切弁ωは開弁される。ピニオンLの回転
により台車lOは、レール加に案内され、開弁している
仕切弁ωを介して、例えば、スパッタ成膜室に搬送され
る。仕切弁ωを通過した台車10はスパッタ成り室のレ
ールmに受は取られ、スパッタ成膜室のビニオンジを回
転させることでスパッタ成膜室に搬入される。その後、
開弁している仕切弁(イ)は閉弁される。この状態で、
スパッタ成膜室では、スパッタ成膜処理が実施され、こ
れにより試料間の被処理面には膜が形成される。このよ
うにスパッタ成膜処理が完了した試料間は1例えば、真
空下で冷却された後に搬出室(図示省略)を介して系外
へ取り出される。
により台車lOは、レール加に案内され、開弁している
仕切弁ωを介して、例えば、スパッタ成膜室に搬送され
る。仕切弁ωを通過した台車10はスパッタ成り室のレ
ールmに受は取られ、スパッタ成膜室のビニオンジを回
転させることでスパッタ成膜室に搬入される。その後、
開弁している仕切弁(イ)は閉弁される。この状態で、
スパッタ成膜室では、スパッタ成膜処理が実施され、こ
れにより試料間の被処理面には膜が形成される。このよ
うにスパッタ成膜処理が完了した試料間は1例えば、真
空下で冷却された後に搬出室(図示省略)を介して系外
へ取り出される。
本実施例によれば、コロおよびレールの加熱が防止され
るので、コロの回転不良が生じるのを防止できる。また
、これと共に、コロがエツチングされる不都合を除去で
きる。従って、パレットに取付けられた試料を加熱処理
室、エツチング室。
るので、コロの回転不良が生じるのを防止できる。また
、これと共に、コロがエツチングされる不都合を除去で
きる。従って、パレットに取付けられた試料を加熱処理
室、エツチング室。
スパッタ成膜室等各室に安定して搬送することができる
。
。
なお、上記一実施例において、搬送手段を被駆動部と該
被駆動部を、例えば、非接触にて駆動する駆動部とで構
成し、被駆動部を真空側に、駆動部を大気側にそれぞれ
設けるようにすれば、スパッタ成膜処理時におけるスパ
ッタ粒子の付着、それによる移動不都合を除去すること
ができ、インライン型のスパッタ装置において試料を更
に安定して各処理室モこ搬送することができる。また、
上記一実施例では、試料を被処理面垂直姿勢で取付。
被駆動部を、例えば、非接触にて駆動する駆動部とで構
成し、被駆動部を真空側に、駆動部を大気側にそれぞれ
設けるようにすれば、スパッタ成膜処理時におけるスパ
ッタ粒子の付着、それによる移動不都合を除去すること
ができ、インライン型のスパッタ装置において試料を更
に安定して各処理室モこ搬送することができる。また、
上記一実施例では、試料を被処理面垂直姿勢で取付。
保持可能にパレットを設けているが、このような試料の
取付姿勢に特に限定される必要はない。
取付姿勢に特に限定される必要はない。
本発明によれば、試料を各処理域に安定して搬送できる
インライン型のスパッタ装置を提供できる効果がある。
インライン型のスパッタ装置を提供できる効果がある。
4、図面の簡単説明
M1図は1本発明の一実施例のインライン型のスパッタ
装置の試料搬送部の斜視外観図である。
装置の試料搬送部の斜視外観図である。
10・・・・・・台車、11・・・・・・ラック、校・
・・・・・ビニオン。
・・・・・ビニオン。
囚・・・・・・レール、30・・・・・・絶縁材、切・
・・・・・パレット、父・・・・・・試料、■・・・・
・・仕切弁代理人 弁理士 小 川 勝 男′F−\
(、−: −A \、−“
・・・・・パレット、父・・・・・・試料、■・・・・
・・仕切弁代理人 弁理士 小 川 勝 男′F−\
(、−: −A \、−“
Claims (1)
- 1、スパッタ成膜処理されると共に該スパッタ成膜処理
前に加熱処理、エッチング処理される試料が取付けられ
る試料取付手段を、回動具を有し前記試料取付手段に取
付けられた前記試料を前記処理域に連続的に又は間欠的
に搬送する搬送手段に電気絶縁、断熱手段を介して設け
たことを特徴とするスパッタ装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6572088A JPH01240660A (ja) | 1988-03-22 | 1988-03-22 | スパッタ装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6572088A JPH01240660A (ja) | 1988-03-22 | 1988-03-22 | スパッタ装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01240660A true JPH01240660A (ja) | 1989-09-26 |
Family
ID=13295136
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6572088A Pending JPH01240660A (ja) | 1988-03-22 | 1988-03-22 | スパッタ装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH01240660A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH07280709A (ja) * | 1994-04-08 | 1995-10-27 | Chubu Electric Power Co Inc | 石炭灰品質管理方法及び装置 |
-
1988
- 1988-03-22 JP JP6572088A patent/JPH01240660A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH07280709A (ja) * | 1994-04-08 | 1995-10-27 | Chubu Electric Power Co Inc | 石炭灰品質管理方法及び装置 |
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