JPH0124532B2

JPH0124532B2 -

Info

Publication number: JPH0124532B2
Application number: JP56055463A
Authority: JP
Inventors: Guratsuto Uerunaa
Original assignee: Glatt GmbH
Current assignee: Glatt GmbH
Priority date: 1981-04-13
Filing date: 1981-04-13
Publication date: 1989-05-12
Also published as: US4588366A; JPS57171429A; US4772193A

Description

【発明の詳細な説明】本発明は、製薬工業および化学工業、食品工業
ならびに農業の製品を造粒、凝集、混合および乾
燥するための、造粒機ケーシング、造粒機ケーシ
ング内に配置された回転円板、１個以上の粉末用
ノズル管ならびに１個以上の流体噴射ノズル、造
粒機ケーシングに後接されたフイルタ装置および
ベンチレーターからなる回転円板式造粒機に関す
る。

回転円板式造粒機は殊に球状物品を製造するの
に適当である。

未混合の粉末状材料が処理され、回転円板の回
転・空気噴射作用によつて均質な圧縮された球状
の材料にされ、その後この材料は同じ装置中で乾
燥される。

公知装置においては、粉末は上方から回転円板
式造粒機部に同心に噴射されるが、これは噴射さ
れた粉末が非常に緩慢に回転板の中心から運び去
られるにすぎない（その理由はこの範囲に強い負
圧領域が形成するからである）ので完全に満足な
ものではない。このため団塊が形成し、該団塊を
ほぐさねばならないが、これにより処理が遅くな
る。

公知装置の能率は後接されたフイルタ装置によ
つて制限されている。この理由はフイルタから、
排気によつて連行されて沈積した粒子を一定の時
間間隔で除去しなければならないからである。こ
れはフイルタを空気で逆洗することによつて行な
われるので、装置の作業休止期間が必要である。
この公知装置は、下方から造粒容器中へ供給さ
れ、回転円板の円周および造粒容器の内壁に沿つ
て吸込まれる空気量が全く制御不能であるかまた
は不十分にしか制御できないという欠点を有す
る。公知装置のもう１つの欠点は、試料取出し装
置が、回転円板式造粒部における流動比が影響を
受けないようにするのにあまり適当でないことに
よつて生じるが、その理由は試料の取出しの際に
は常に外気への連絡が生じ、これが負圧部分およ
びそれとともに造粒機部における流動に不利な影
響を及ぼすからである。

本発明の課題は、上記の欠点を回避し、圧縮さ
れた球形物質の形成を作業中断なしに迅速に行な
うことのできる装置を提供することである。本発
明によればこの課題を解決するために、上記形式
の造粒機において、回転円板を上下移動可能に配
置し、粒末用ノズル管を、これに対して同心に配
置された流体噴射ノズルと共に造粒機ケーシング
の套面に設け、粉末が直接に最強流動範囲に入る
ようにすることを提案する。これによつて、著し
く迅速な処理が達成され、団塊化の危検は避けら
れる。

フイルタ部に起因する作業の中断を避けるため
に、まず一方の室を遮断し、次いで第二の室を遮
断することができ、これにより装置の連続作業が
可能である二室フイルタ装置を提案する。さら
に、空気供給量を制御するために、回転円板を上
下移動可能に配置し、回転円板と円錐形ケーシン
グの内壁との間の空隙幅を調節することができる
ようにすることを提案する。最後に、造粒機の負
圧空間が外気と連絡するのを積極的に避けること
のできるゲート装置を備える試料取出し装置を提
案する。

次に、図面につき本発明を詳述する。

第１図において、１は造粒機ケーシングを表わ
し、該ケーシング内に回転円板２が上下調節可能
に配置されている。造粒機ケーシングの下部壁部
分は截頭円錐形に構成されているので、回転円板
の上下調節によつて間隙Ｓの幅を変えることがで
きる。

この手段によつて、空気供給量を調節すること
ができる。空気は装置下部からベンチレーターに
よつて吸込まれ、加熱装置ｈを経て、回転円板の
回転による遠心力によつて空気粒子が容器の内壁
面の方向に押圧されるために負圧領域が形成する
造粒容器３に入る。

造粒機ケーシングの套面面には粉末用噴射ノズ
ル４が配置されている。任意数のノズルを配置す
ることができる。例えば第２図において、３つの
ノズルは軸線Ａ，A′およびA″がそれぞれ互いに
120゜ずらされていることが示されている。粉末用
噴射ノズル４内には、流体ｆ（空気、液体もしく
両者の混合物）を供給するためにもう１つのノズ
ル５が設けられている。双方のノズルはその軸線
を互いに相対的にずらすことができ、これによつ
て、形成する気泡ｂを最適に調節し、粉末を該気
泡を中心に矢印で示したように渦動させることが
可能である。

粉末ｐは貯槽７から配量装置８を経てノズル管
９に供給され、ここから造粒機ケーシング中へ吹
込まれる。吹込み用の空気は、外気または装置下
部（ここで加熱装置ｈによつて加熱される）から
吸込むことができる。後者の場合には、吸込みは
バイパス管１０によつて行なわれる。バイパス管
１０がノズル管９に接続している個所には、弁板
１０ａが設けられていて、これがノズル管９を外
気またはバイパス管１０に対して遮断する。

処理すべき材料が膜を形成する傾向のある場合
には、配量装置８により分離剤を添加することが
できる。

さらに第１図からは、回転円板２上には、同様
に流動状態の形成を有利ならしめる飛散体１１が
設けられていることが認められる。該飛散体は同
様に、回転円板の最小円周の範囲に材料が集まつ
て、さもないときにここから極めて緩慢にしか搬
出することができなくなるのを阻止する。処理ず
み材料用の取出し管はｅで表わされている。

造粒機ケーシング上には、フイルタ部が装着さ
れており、該フイルタ部はフイルタケーシング１
２、分離壁１３、底板の分離壁１４およびフイル
タ１５からなる。

フイルタ１５はその下方の開放端が孔のまわり
に固定されている。その閉じた上端が連杆１７に
より懸吊されている。この連杆１７に、フイルタ
の清掃の目的のために振動が伝達される。これは
機械的または空気力によつて行なうことができ
る。図で右側に示されている室中には、フイルタ
に付着する物質をフイルタから振り落して造粒容
器へ落下させるために、フイルタをｈの大きさだ
け振動させることのできることが図示されてい
る。このフイルタ清掃工程においては、接続され
ている図示されてないベンチレーターは、弁板２
０によつて閉じられている。吸込みは、図で左側
に示されているフイルタ室、その弁板２１の開い
ている接続部１９を介して行なわれる。こうし
て、弁板２０および２１の簡単な切換によつて、
常に少なくとも１つのフイルタ半部が利用できる
ので、作業を連続的に続けることが可能である。

フイルタの分離壁の配置は同様に第３図から明
らかである。

図示の実施例において、試料取出し装置２２は
造粒容器の前面に取付けられている。第４図は、
試料取出し装置を拡大尺による断面図で表わす。

試料取出し装置は、分離壁２４を有するシリン
ダ状ケーシング２３からなる。シリンダ２３の一
方の断面にはピストン２５が嵌められ、該ピスト
ンは弁棒２６と強固に結合されている。弁棒上で
一端には弁頭２７が取付けられ、他端にはノツブ
２８が固定されている。ピストン２５はばね弾性
部材３２、図示の場合にはコイイルばねによつて
シリンダから押出され、その結果弁頭２７は弁座
２９に接し、造粒機ケーシング１を外気に対して
密封する。シリンダ２３は試料取出し容器３０と
連結され、該容器はその下端が蓋３１によつて閉
じられている。ノツブを図示された矢印の方向に
操作すると、一面でばね３２が圧縮され、他面で
弁頭２７が、図面に点線で示したように、弁座２
９から持上げられる。図面に矢印が示すように、
物質は空間３３を経て試料取出し容器３０に入る
ことができる。ノツブ２８を離すと、ばね３２が
弁頭を弁棒２６を介して引戻し、その結果造粒容
器３は再び閉じられる。このときにはじめて、試
料は蓋３１を開くことによつて取出される。試料
取出し装置が、上述したように、ゲート装置の原
理に従つて作業した後、試料の取出しの際に造粒
室内での流動状態が、外気への直接連絡は生じな
いので、不利な影響を受けるのは避けられる。

第３図においては、フイルタ部は１つの垂直な
分離壁１３によつて分割されているが、殊に大き
い装置の場合、実際に３つ、４つまたはそれ以上
の互いに独立に振動しうるフイルタ室を得るた
め、互いに直交する２つの分離壁１３によつて分
割することもできる。第５図は、４つの分離され
たフイルタ室を備える本発明のかかる実施例を示
す。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明による装置の、第２図の―
線ないしは第３図の―線による垂直断面図、
第２図は第１図の―線による水平断面図、第
３図は第１図の―線による水平断面図であ
り、第４図は第２図の―線による垂直断面
図、第５図は、４つの分離されたフイルタ室を備
える本発明の装置の他の実施例を示す、第３図に
相応する水平断面図である。１……造粒機ケーシング、２……回転円板、３
……造粒容器、４……粉末用噴射ノズル、５……
流体噴射ノズル、７……貯槽、８……配置装置、
９……ノズル管、１０……バイパス管、１０ａ…
…弁板、１２……フイルタケーシング、１３……
分離壁、１４……底板の分離壁、１５……フイル
タ、１７……連杆、１８，１９……接続部、２
０，２１……弁板、２２……試料取出し装置、２
３……シリンダケーシング、２４……分離壁、２
５……ピストン、２６……弁棒、２７……弁頭、
２９……弁座、３０……試料取出し装置、３２…
…ばね、ｂ……気泡、ｅ……取出し管、ｆ……流
体、ｈ……加熱装置、ｐ……粉末、ｓ……間隙。

Claims

【特許請求の範囲】１造粒機ケーシング、造粒機ケーシング内に配
置された回転円板、１個以上のノズル管ならびに
１個以上の流体噴射ノズル、造粒機ケーシングに
後接されたフイルタ装置およびベンチレーターか
らなる回転円板式造粒機において、回転円板が上
下移動可能に配置されており、粉末用ノズル管
が、これに対して同心に配置された流体噴射ノズ
ルと共に造粒機ケーシングの套面に設けられてい
ることを特徴とする回転円板式造粒機。２造粒機に後接された二室フイルタ装置を有す
る、特許請求の範囲第１項記載の回転円板式造粒
機。３ゲート装置を備える試料取出し装置を有す
る、特許請求の範囲第１項記載の回転円板式造粒
機。４ノズル管および流体噴射ノズルが互いに相対
的に移動調節可能である、特許請求の範囲第１項
記載の回転円板式造粒機。５ノズル管が造粒容器の接続部に移動調節可能
に配置されている、特許請求の範囲第１項記載の
回転円板式造粒機。６ノズルが回転円板の回転方向に向けられてい
る、特許請求の範囲第１項記載の回転円板式造粒
機。７ノズルが造粒容器の壁に半径方向に配置され
ている、特許請求の範囲第１項記載の回転円板式
造粒機。８ノズルが造粒容器の壁に、回転円板の回転方
向と反対方向に配置されている、特許請求の範囲
第１項記載の回転円板式造粒機。９フイルタ部が垂直な中間壁によつて２つの室
に分けられている、特許請求の範囲第１項または
第２項記載の回転円板式造粒機。１０フイルタはその上部が、振動発生機と連結
されている連杆を介して振動される、特許請求の
範囲第１項または第２項記載の回転円板式造粒
機。１１双方のフイルタ室が共通のベンチレータに
接続されている、特許請求の範囲第１項または第
２項記載の回転円板式造粒機。１２試料取出し装置が造粒機ケーシングに対す
る第一ゲート装置および試料取出しのための第二
ゲート装置を有する、特許請求の範囲第１項また
は第３項記載の回転円板式造粒機。