JPH01246267A - ヒドロキシアルキル−アゾリル誘導体 - Google Patents
ヒドロキシアルキル−アゾリル誘導体Info
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- C07D405/00—Heterocyclic compounds containing both one or more hetero rings having oxygen atoms as the only ring hetero atoms, and one or more rings having nitrogen as the only ring hetero atom
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D407/00—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, at least one ring having oxygen atoms as the only ring hetero atoms, not provided for by group C07D405/00
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は新規なヒドロキシアルキル誘導体、その数種の
製造方法並びにその殺菌−殺カビ剤(fungicid
e)及び植物成長調節剤としての使用に関するものであ
る。
製造方法並びにその殺菌−殺カビ剤(fungicid
e)及び植物成長調節剤としての使用に関するものであ
る。
多数のヒドロキシアルキル−アゾリル誘導体が殺菌−殺
カビ及び植物成長調節特性を持つことが既に開示されて
いる(ヨーロッパ特許出願公開第0.040,345号
及び同第0.052,424号参照)。これらの物質の
活性は極めて良好であるが;ある場合に低い施用割合で
望まれることが残されている。
カビ及び植物成長調節特性を持つことが既に開示されて
いる(ヨーロッパ特許出願公開第0.040,345号
及び同第0.052,424号参照)。これらの物質の
活性は極めて良好であるが;ある場合に低い施用割合で
望まれることが残されている。
式
式中、Rは水素、アルキルまたはアシルを表わし、
R1はハロゲン、随時置換されていてもよいフェニルま
たは基−Z−R3を表わし、ここに Zは酸素、硫黄、SOまたはS02を表わし、そして R3は随時置換されていてもよいアルキル、随時置換さ
れていてもよいフェニルまたは随時置換されていてもよ
いフェニルアルキルを表わし、 R2は随時置換されていてもよいアルキル、随時置換さ
れていてもよいシクロアルキル、随時置換されていても
よいす7チルまたは式 %式% R4はハロゲン、炭素原子1〜4個を有するアルキル、
炭素原子1〜4個を有するアルコキシ、炭素原子1〜4
個を有するアルキルチオ、炭素原子lもしくは2個及び
ハロゲン原子1〜5個を有するハロゲノアルキル、炭素
原子1もしくは2個及びハロゲン原子1〜5個を有する
ハロゲノアルコキシ、炭素原子lもしくは2個及びハロ
ゲン原子1〜5個を有するハロゲノアルキルチオ、随時
炭素原子Iもしくは2個を有するアルキル及び/または
ハロゲンで置換されていてもよいフェニル、随時炭素原
子lもしくは2個を有するアルキル及び/またはハロゲ
ンで置換されていてもよいフェノキシ、ニトロ、アミノ
、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、アリールアミノ
またはアルキルカルボニルアミノを表わし、そして mは0、l、2または3の数を表わすか、或いは R2は式 %式% Xは窒素またはCH基を表わし、そしてYは基−CH,
−CH,−1−CH=CH−1−CEC−1を表わし、
ここに R5、R6、R7及びR8は相互に独立して水素または
炭素原子1〜4個を有するアルキルを表わす、 の新規なヒドロキシアルキル−アゾリル誘導体、並びに
その酸付加塩及び金属塩錯体が見い出された。
たは基−Z−R3を表わし、ここに Zは酸素、硫黄、SOまたはS02を表わし、そして R3は随時置換されていてもよいアルキル、随時置換さ
れていてもよいフェニルまたは随時置換されていてもよ
いフェニルアルキルを表わし、 R2は随時置換されていてもよいアルキル、随時置換さ
れていてもよいシクロアルキル、随時置換されていても
よいす7チルまたは式 %式% R4はハロゲン、炭素原子1〜4個を有するアルキル、
炭素原子1〜4個を有するアルコキシ、炭素原子1〜4
個を有するアルキルチオ、炭素原子lもしくは2個及び
ハロゲン原子1〜5個を有するハロゲノアルキル、炭素
原子1もしくは2個及びハロゲン原子1〜5個を有する
ハロゲノアルコキシ、炭素原子lもしくは2個及びハロ
ゲン原子1〜5個を有するハロゲノアルキルチオ、随時
炭素原子Iもしくは2個を有するアルキル及び/または
ハロゲンで置換されていてもよいフェニル、随時炭素原
子lもしくは2個を有するアルキル及び/またはハロゲ
ンで置換されていてもよいフェノキシ、ニトロ、アミノ
、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、アリールアミノ
またはアルキルカルボニルアミノを表わし、そして mは0、l、2または3の数を表わすか、或いは R2は式 %式% Xは窒素またはCH基を表わし、そしてYは基−CH,
−CH,−1−CH=CH−1−CEC−1を表わし、
ここに R5、R6、R7及びR8は相互に独立して水素または
炭素原子1〜4個を有するアルキルを表わす、 の新規なヒドロキシアルキル−アゾリル誘導体、並びに
その酸付加塩及び金属塩錯体が見い出された。
本発明による物質は不斉置換された炭素原子を含む。従
ってこれらのものは光学異性形で生じ得る。更にまた、
Yが一〇H=CH−基または基s を表わす式(I)の物質はシスまたはトランス異性体の
形態で存在し得る。本発明は個々の異性体及びその混合
物の両方に関するものである。
ってこれらのものは光学異性形で生じ得る。更にまた、
Yが一〇H=CH−基または基s を表わす式(I)の物質はシスまたはトランス異性体の
形態で存在し得る。本発明は個々の異性体及びその混合
物の両方に関するものである。
更に式(I)のヒドロキシアルキルアゾリル誘導体並び
にその酸付加塩及び金属塩錯体がa)式 式中、R1、R2及びYは上記の意味を有する、 のオキシランを酸結合剤の存在下及び希釈剤の存在下で
式 式中、Xは上記の意味を有する、 のアゾールと反応させるか、または b)式 式中、R’、R2、X及びYは上記の意味を有する、 のヒドロキシアルキル−アゾリル誘導体を希釈剤の存在
下で強塩基と反応させ、そしてこの反応により生成され
る式 式中、R’、R”、X及びYは上記の意味を有し、そし
て R9は塩基の陽イオン性基を表わす、 のアルコラードを希釈剤の存在下で式 %式%() 式中、RIGはアルキルまたはアシルを表わし、そして Halはハロゲンを表わす、 の化合物と反応させ、そして続いて必要に応じて酸また
は金属塩をかくて得られる式(I)の化合物に加えて酸
付加塩または金属塩錯体を生成させる場合に得られるこ
とが見い出された。
にその酸付加塩及び金属塩錯体がa)式 式中、R1、R2及びYは上記の意味を有する、 のオキシランを酸結合剤の存在下及び希釈剤の存在下で
式 式中、Xは上記の意味を有する、 のアゾールと反応させるか、または b)式 式中、R’、R2、X及びYは上記の意味を有する、 のヒドロキシアルキル−アゾリル誘導体を希釈剤の存在
下で強塩基と反応させ、そしてこの反応により生成され
る式 式中、R’、R”、X及びYは上記の意味を有し、そし
て R9は塩基の陽イオン性基を表わす、 のアルコラードを希釈剤の存在下で式 %式%() 式中、RIGはアルキルまたはアシルを表わし、そして Halはハロゲンを表わす、 の化合物と反応させ、そして続いて必要に応じて酸また
は金属塩をかくて得られる式(I)の化合物に加えて酸
付加塩または金属塩錯体を生成させる場合に得られるこ
とが見い出された。
最後に、新規な式(I)のヒドロキシアルキル−アゾリ
ル誘導体並びにその酸付加塩及び金属塩錯体が強い殺菌
・殺カビ及び植物成長調節特性を持つことが見い出され
た。
ル誘導体並びにその酸付加塩及び金属塩錯体が強い殺菌
・殺カビ及び植物成長調節特性を持つことが見い出され
た。
驚くべきことに、本発明による物質は等価の作用のタイ
プを有する構造に関して最も類似している従来公知の化
合物より良好な殺菌・殺カビ及び植物成長調節活性を示
す。
プを有する構造に関して最も類似している従来公知の化
合物より良好な殺菌・殺カビ及び植物成長調節活性を示
す。
式(I)は本発明によるヒドロキシアルキル−アゾール
誘導体の一般的定義を与える。
誘導体の一般的定義を与える。
この式において、Rが水素、炭素原子1〜6個を有する
アルキルまたはアルキル部分に炭素原子1〜6個を有す
るアルキルカルボニルを表わし、。
アルキルまたはアルキル部分に炭素原子1〜6個を有す
るアルキルカルボニルを表わし、。
R1がフッ素、塩素、臭素、随時ハロゲン、炭素原子l
もしくは2個及びハロゲン原子1〜5個を有するハロゲ
ノアルキル、炭素原子1〜4個を有するアルキル及び/
または炭素原子1〜4個を有するアルコキシで置換され
ていてもよいフェニル或いは基−Z−R3を表わし、こ
こに2が酸素、硫黄、SOまたはS02を表わし、そし
てR3が随時炭素原子1〜4個を有するアルコキシ、炭
素原子1〜4個を有するアルキルチオ、フェニル及び/
またはハロゲンで置換されていてもよい炭素原子1〜6
個を有するアルキル、随時ハロゲン、炭素原子lもしく
は2個及びハロゲン原子1〜5個を有するハロゲノアル
キル、炭素原子1〜4個を有するアルキル及び/または
炭素原子1〜4個を有するアルコキシで置換されていて
もよい7エ二ルあるいは随時フェニル部分においてハロ
ゲン、炭素原子lもしくは2個及びハロゲン原子1〜5
個ヲ有するハロゲノアルキル、炭素原子1〜4個を有す
るアルキル及び/または炭素原子1〜4個を有するアル
コキシを表わし、R2が随時炭素原子1〜4個をはをす
るアルコキシ、炭素原子1〜4個を有するアルキルチオ
、フェニル及び/またはハロゲンで置換されていてもよ
い炭素原子1〜6個をは有するアルキル、随時炭素原子
1〜4個を有するアルキル及び/まl;はハロゲンで置
換されていてもよい炭素原子3〜8個を有するシクロア
ルギル、随時炭素原子1〜4個を有するアルキル及び/
またはハロゲンで置換されていてもよいナフチル或いは
式 式 の基を表わし、ここにR4がフッ素、塩素、臭素、メチ
ル、エチル、イソプロピル、t−ブチル、メトキシ、メ
チルチオ、トリフルオロメチル、トリフルオロメトキシ
、トリフルオロメチルチオ、随時フッ素、塩素及び/ま
たはメチルで置換されていてもよいフェニル、随時フッ
素、塩素及び/またはメチルで置換されていてもよいフ
ェノキシ、ニトロ、アミノ、アルキル基中に炭素原子1
〜4個を有するアルキルアミノ、各々のアルキル基中に
炭素原子1〜4個を有するジアルキルアミノ、フェニル
アミノ或いはアルキル基中に炭素原子1〜4個を有する
アルキルカルボニルアミノを表わし、モしてmがO,l
、2または3を表わすか、或いはR2が式 の基を表わし、Xが窒素またはCH基を表わし、そして
Yが基−CH,−CH,−1−CH=CH−1−C三C
−1を表わし、ここにR6、R6、R7及びR6は相互
に独立して水素、メチルまたはエチルを表わすものが好
ましい。
もしくは2個及びハロゲン原子1〜5個を有するハロゲ
ノアルキル、炭素原子1〜4個を有するアルキル及び/
または炭素原子1〜4個を有するアルコキシで置換され
ていてもよいフェニル或いは基−Z−R3を表わし、こ
こに2が酸素、硫黄、SOまたはS02を表わし、そし
てR3が随時炭素原子1〜4個を有するアルコキシ、炭
素原子1〜4個を有するアルキルチオ、フェニル及び/
またはハロゲンで置換されていてもよい炭素原子1〜6
個を有するアルキル、随時ハロゲン、炭素原子lもしく
は2個及びハロゲン原子1〜5個を有するハロゲノアル
キル、炭素原子1〜4個を有するアルキル及び/または
炭素原子1〜4個を有するアルコキシで置換されていて
もよい7エ二ルあるいは随時フェニル部分においてハロ
ゲン、炭素原子lもしくは2個及びハロゲン原子1〜5
個ヲ有するハロゲノアルキル、炭素原子1〜4個を有す
るアルキル及び/または炭素原子1〜4個を有するアル
コキシを表わし、R2が随時炭素原子1〜4個をはをす
るアルコキシ、炭素原子1〜4個を有するアルキルチオ
、フェニル及び/またはハロゲンで置換されていてもよ
い炭素原子1〜6個をは有するアルキル、随時炭素原子
1〜4個を有するアルキル及び/まl;はハロゲンで置
換されていてもよい炭素原子3〜8個を有するシクロア
ルギル、随時炭素原子1〜4個を有するアルキル及び/
またはハロゲンで置換されていてもよいナフチル或いは
式 式 の基を表わし、ここにR4がフッ素、塩素、臭素、メチ
ル、エチル、イソプロピル、t−ブチル、メトキシ、メ
チルチオ、トリフルオロメチル、トリフルオロメトキシ
、トリフルオロメチルチオ、随時フッ素、塩素及び/ま
たはメチルで置換されていてもよいフェニル、随時フッ
素、塩素及び/またはメチルで置換されていてもよいフ
ェノキシ、ニトロ、アミノ、アルキル基中に炭素原子1
〜4個を有するアルキルアミノ、各々のアルキル基中に
炭素原子1〜4個を有するジアルキルアミノ、フェニル
アミノ或いはアルキル基中に炭素原子1〜4個を有する
アルキルカルボニルアミノを表わし、モしてmがO,l
、2または3を表わすか、或いはR2が式 の基を表わし、Xが窒素またはCH基を表わし、そして
Yが基−CH,−CH,−1−CH=CH−1−C三C
−1を表わし、ここにR6、R6、R7及びR6は相互
に独立して水素、メチルまたはエチルを表わすものが好
ましい。
mが2または3の数を表わす場合、R4を表わす基は同
一もしくは相異なることができる。
一もしくは相異なることができる。
殊に好適な化合物はRが水素、メチル、エチル、n−プ
ロピル、イソプロピル、n−ブチル、イソブチル、メチ
ルカルボニル、エチルカルボニル、n−プロピルカルボ
ニル、イソプロピルカルボニル、n−ブチルカルボニル
及びインブチルカルボニルを表わし、R1がフッ素、塩
素、臭素、随時フッ素、塩素、臭素、トリフルオロメチ
ル、メチル、エチル、メトキシ及び/またはエトキシよ
りなる群からの同一もしくは相異なる置換基で1〜3置
換されていてもよいフェニル、或いは式−Z−R3の基
を表わし、ここにZが酸素、硫黄、SOまたはSO2を
表わし、そしてR1がメチル、エチル、n−プロピル、
イソプロピル、n−ブチル、イソブチルまたはt−ブチ
ルを表わし、その際に該基の各々はメトキシ、エトキシ
、メチルチオ、フェニル、フッ素、塩素及び/または臭
素よりなる群からの同一もしくは相異なる置換基で1〜
3置換され得るか、R3が随時フッ素、塩素、臭素、ト
リフルオロメチル、メチル、エチル、メトキシ及び/ま
たはエトキシよりなる群からの同一もしくは相異なる置
換基で1〜3置換されていてもよいフェニルを表わすか
、或いはR3が随時フェニル部分においてフッ素、塩素
、臭素、トリフルオロメチル、メチル、エトキシ、メト
キシ及び/またはエトキシよりなる群からの同一もしく
は相異なる置換基で1〜3置換されていてもよいベンジ
ルを表わし、R2が随時メトキシ、エトキシ、メチルチ
オ、エチルチオ、フェニル、フッ素、塩素及び/または
臭素よりなる群からの同一もしくは相異なる置換基で1
〜3置換されていてもよい炭素原子1〜4個を有するア
ルキル、更に随時メチル、エチル、フッ素及び/または
塩素よりなる群からの同一もしくは相異なる置換基で1
〜3置換されていてもよい炭素原子3〜7個を有するシ
クロアルキル、並びに加えて随時メチル、フッ素及び/
または塩素よりなる群からの同一もしくは相異なる置換
基で1〜3置換されていてもよいナフチル、或いは式 の基を表わし、ここにR1がフッ素、塩素、臭素、メチ
ル、エチル、イソプロピル、t−ブチル、メトキシ、メ
チルチオ、トリフルオロメチル、トリフルオロメトキシ
、トリフルオロメチルチオ、随時フッ素、塩素及び/ま
たはメチルで置換されていてもよいフェニル、随時フッ
素、塩素及び/またはメチルで置換されていてもよいフ
ェノキシ、ニトロ、アミノ、アルキル基中に炭素原子I
もしくは2個を有するアルキルアミノ、各々のアルキル
基中に炭素原子lもしくは2個を有するジアルキルアミ
ノ、フェニルアミノ或いはアルキル基中に炭素原子lも
しくは2個を有するアルキルカルボニルアミノを表わし
、モしてmが0、L 2または3を表わすか、或いはR
2が式 の基を表わし、Xが窒素またはCH基を表わし、そして
Yが基−CILz−CH2−1−CH=C1(−1−C
EC−1R6RA を表わし、ここにR5、R6、R7及びRaが相互に独
立して水素、メチルまたはエチルを表わすものである。
ロピル、イソプロピル、n−ブチル、イソブチル、メチ
ルカルボニル、エチルカルボニル、n−プロピルカルボ
ニル、イソプロピルカルボニル、n−ブチルカルボニル
及びインブチルカルボニルを表わし、R1がフッ素、塩
素、臭素、随時フッ素、塩素、臭素、トリフルオロメチ
ル、メチル、エチル、メトキシ及び/またはエトキシよ
りなる群からの同一もしくは相異なる置換基で1〜3置
換されていてもよいフェニル、或いは式−Z−R3の基
を表わし、ここにZが酸素、硫黄、SOまたはSO2を
表わし、そしてR1がメチル、エチル、n−プロピル、
イソプロピル、n−ブチル、イソブチルまたはt−ブチ
ルを表わし、その際に該基の各々はメトキシ、エトキシ
、メチルチオ、フェニル、フッ素、塩素及び/または臭
素よりなる群からの同一もしくは相異なる置換基で1〜
3置換され得るか、R3が随時フッ素、塩素、臭素、ト
リフルオロメチル、メチル、エチル、メトキシ及び/ま
たはエトキシよりなる群からの同一もしくは相異なる置
換基で1〜3置換されていてもよいフェニルを表わすか
、或いはR3が随時フェニル部分においてフッ素、塩素
、臭素、トリフルオロメチル、メチル、エトキシ、メト
キシ及び/またはエトキシよりなる群からの同一もしく
は相異なる置換基で1〜3置換されていてもよいベンジ
ルを表わし、R2が随時メトキシ、エトキシ、メチルチ
オ、エチルチオ、フェニル、フッ素、塩素及び/または
臭素よりなる群からの同一もしくは相異なる置換基で1
〜3置換されていてもよい炭素原子1〜4個を有するア
ルキル、更に随時メチル、エチル、フッ素及び/または
塩素よりなる群からの同一もしくは相異なる置換基で1
〜3置換されていてもよい炭素原子3〜7個を有するシ
クロアルキル、並びに加えて随時メチル、フッ素及び/
または塩素よりなる群からの同一もしくは相異なる置換
基で1〜3置換されていてもよいナフチル、或いは式 の基を表わし、ここにR1がフッ素、塩素、臭素、メチ
ル、エチル、イソプロピル、t−ブチル、メトキシ、メ
チルチオ、トリフルオロメチル、トリフルオロメトキシ
、トリフルオロメチルチオ、随時フッ素、塩素及び/ま
たはメチルで置換されていてもよいフェニル、随時フッ
素、塩素及び/またはメチルで置換されていてもよいフ
ェノキシ、ニトロ、アミノ、アルキル基中に炭素原子I
もしくは2個を有するアルキルアミノ、各々のアルキル
基中に炭素原子lもしくは2個を有するジアルキルアミ
ノ、フェニルアミノ或いはアルキル基中に炭素原子lも
しくは2個を有するアルキルカルボニルアミノを表わし
、モしてmが0、L 2または3を表わすか、或いはR
2が式 の基を表わし、Xが窒素またはCH基を表わし、そして
Yが基−CILz−CH2−1−CH=C1(−1−C
EC−1R6RA を表わし、ここにR5、R6、R7及びRaが相互に独
立して水素、メチルまたはエチルを表わすものである。
また本発明による好適な化合物は酸並びにR1R’、R
”、X及びYが該基に対して好適なものとして既に上げ
られた意味を有する式(I)のヒドロキンアルキル−ア
ゾリル誘導体の付加生成物である。
”、X及びYが該基に対して好適なものとして既に上げ
られた意味を有する式(I)のヒドロキンアルキル−ア
ゾリル誘導体の付加生成物である。
付加して酸付加塩を生成し得る酸にはハロゲン化水素酸
例えば塩酸及び臭化水素酸、殊に塩酸、更にリン酸、硝
酸、硫酸、−及び二官能性カルボン酸並びにヒドロキシ
カルボン酸例えば酢酸、マレイン酸、コハク酸、フマー
ル酸、酒石酸、クエン酸、サリチル酸、ソルビン酸及び
乳酸並びにまたスルホン酸例えばp−トルエンスルホン
酸、1゜5−ナフタレンジスルホン酸またはカンフルス
ルホン酸がある。
例えば塩酸及び臭化水素酸、殊に塩酸、更にリン酸、硝
酸、硫酸、−及び二官能性カルボン酸並びにヒドロキシ
カルボン酸例えば酢酸、マレイン酸、コハク酸、フマー
ル酸、酒石酸、クエン酸、サリチル酸、ソルビン酸及び
乳酸並びにまたスルホン酸例えばp−トルエンスルホン
酸、1゜5−ナフタレンジスルホン酸またはカンフルス
ルホン酸がある。
加えて本発明による好適な化合物には元素の周期表の第
■〜■主族、第1及び■並びにまた第■〜■亜族の金属
の塩並びにRSR’、R2,X及びYが該基に対して好
適なものとして既に上げられた意味を有する式(I)の
ヒドロキシアルキル−アゾリル誘導体の付加生成物があ
る。
■〜■主族、第1及び■並びにまた第■〜■亜族の金属
の塩並びにRSR’、R2,X及びYが該基に対して好
適なものとして既に上げられた意味を有する式(I)の
ヒドロキシアルキル−アゾリル誘導体の付加生成物があ
る。
ここに銅、亜鉛、マンガン、マグネシウム、スズ、鉄及
びニッケルの塩が殊に好ましい。これらの塩の可能な陰
イオンには薬理学的に許容し得る付加生成物において生
じる酸から誘導されるものである。
びニッケルの塩が殊に好ましい。これらの塩の可能な陰
イオンには薬理学的に許容し得る付加生成物において生
じる酸から誘導されるものである。
これに関連して、殊に好適なこのタイプの酸にはハロゲ
ン化水素酸例えば塩酸及び臭化水素酸、並びに更にリン
酸、硝酸及び硫酸がある。
ン化水素酸例えば塩酸及び臭化水素酸、並びに更にリン
酸、硝酸及び硫酸がある。
式(I)のヒドロキシアルキル−アゾリル誘導体の例と
して次表に示す物質を挙げ得る:第1表 p 2.4−Cl2HN C1−CH,−CH2−2,
4−Fz HN C14−CH,HN
C1 4−CF、 HN C+4−OCF
s HN C14−0CR,HN
C1 4−5CH38N C1 3−CI HN −5−CH。
して次表に示す物質を挙げ得る:第1表 p 2.4−Cl2HN C1−CH,−CH2−2,
4−Fz HN C14−CH,HN
C1 4−CF、 HN C+4−OCF
s HN C14−0CR,HN
C1 4−5CH38N C1 3−CI HN −5−CH。
4−CI HN −5−C,R32
,4,6−cls u C1
4−(:I IT
R4−CI CHC14−
Cl CH,N C14−t、−C
,H,n Cl 2−CI 、4−CH,rr n C
1〃C1 4−Cl −Co−C)l、 〃C1
4−Cl −C2H,I C14−
FCJ tr F 2.4−CI 2 HN C1−CH=CH
−2,4−F、 HN CI
H4−CH3HN C1 4−CF、 HN C1rL4−OCF
、 HN C14−0CHx H
N C1H4−5C)1. HN C
1#3−CI HN −5−CH34−
CI H)J −5−C,H82,4,
6−C1,rL C1−CH=CH−4−C1〃
ノy F4−CI
CHC14−Cl CH
,N C14−t、−C,H,n Cl 2−C1,4−CH,u IT C1
n C1 4−C1−Co−CHlu C14−Cl
−C2H,n C14、−FCl、
u F2.4−C12HN C1−C
EC−2,4−F2 HN C14−CH
,HN C1 4−CFI HN C14−0CFs
HN C14−0CR3HN
C1 4−5CH,HN C1 3−CI HN −3−CIl4−
CI HN −5−C2H11”
2.4.6−CIl #
CI −CH郭H−4引
〃 F 4−CI CI C1
4−Cl CH,N C14−t
、−C,H,rr C1 :l’CI、4−CH,tt n C
1rt el 4−CI −Co−CH,T/ C
14−Cl −C2H,JJ C1
4−F CH,IT F第2表 R CH2 噸 CH。
,4,6−cls u C1
4−(:I IT
R4−CI CHC14−
Cl CH,N C14−t、−C
,H,n Cl 2−CI 、4−CH,rr n C
1〃C1 4−Cl −Co−C)l、 〃C1
4−Cl −C2H,I C14−
FCJ tr F 2.4−CI 2 HN C1−CH=CH
−2,4−F、 HN CI
H4−CH3HN C1 4−CF、 HN C1rL4−OCF
、 HN C14−0CHx H
N C1H4−5C)1. HN C
1#3−CI HN −5−CH34−
CI H)J −5−C,H82,4,
6−C1,rL C1−CH=CH−4−C1〃
ノy F4−CI
CHC14−Cl CH
,N C14−t、−C,H,n Cl 2−C1,4−CH,u IT C1
n C1 4−C1−Co−CHlu C14−Cl
−C2H,n C14、−FCl、
u F2.4−C12HN C1−C
EC−2,4−F2 HN C14−CH
,HN C1 4−CFI HN C14−0CFs
HN C14−0CR3HN
C1 4−5CH,HN C1 3−CI HN −3−CIl4−
CI HN −5−C2H11”
2.4.6−CIl #
CI −CH郭H−4引
〃 F 4−CI CI C1
4−Cl CH,N C14−t
、−C,H,rr C1 :l’CI、4−CH,tt n C
1rt el 4−CI −Co−CH,T/ C
14−Cl −C2H,JJ C1
4−F CH,IT F第2表 R CH2 噸 CH。
CH,−C−HN C1−CH2−CH,−CH
。
。
CI 。
■
FCI+2−C−HN C1−CH2−C
lイ、−CH。
lイ、−CH。
CH3
CH。
出発物質として2−(I−クロロシクロプロピ、+L=
) −2−(4−クロロフェニルエチル) −オキシラ
ン及び1.2.4−トリアゾールを用いる場合、本発明
による工程(、)の径路は次式により説明し得る: 出発物質として2−(l−クロロシクロプロピル)−4
−(4−クロロフェニル)−1−(I゜2.4−トリア
ゾル−1−イル)−ブタン−2−オール及び反応成分と
してヨードメタンを用いる場合、本発明による工程(b
)の径路は次式により説明し得る: H 式(I[)は本発明による工程(a)に対する出発物質
として必要とされるオキシランの一船釣定義ヲ与える。
) −2−(4−クロロフェニルエチル) −オキシラ
ン及び1.2.4−トリアゾールを用いる場合、本発明
による工程(、)の径路は次式により説明し得る: 出発物質として2−(l−クロロシクロプロピル)−4
−(4−クロロフェニル)−1−(I゜2.4−トリア
ゾル−1−イル)−ブタン−2−オール及び反応成分と
してヨードメタンを用いる場合、本発明による工程(b
)の径路は次式により説明し得る: H 式(I[)は本発明による工程(a)に対する出発物質
として必要とされるオキシランの一船釣定義ヲ与える。
この式において R1、R2及びYは好ましくは本発明
による式(I)の物質の記載に関連して該基に対して好
適なものとして既に挙げられたものの意味を有する。
による式(I)の物質の記載に関連して該基に対して好
適なものとして既に挙げられたものの意味を有する。
式(If)のオキシランは従来未知のものであった。こ
れらのものは C)式 式中、R1、R2及びYは上記の意味を有する、 のシクロプロピルケトンを希釈剤の存在下でα)式 %式%() のジメチルオキソスルホニウムメチライドまたはβ)式 %式%() のジメチルスルホニウムメチライドのいずれかと反応さ
せるか、または d)式 、・−o5o’−2,・ (■) 一? CH。
れらのものは C)式 式中、R1、R2及びYは上記の意味を有する、 のシクロプロピルケトンを希釈剤の存在下でα)式 %式%() のジメチルオキソスルホニウムメチライドまたはβ)式 %式%() のジメチルスルホニウムメチライドのいずれかと反応さ
せるか、または d)式 、・−o5o’−2,・ (■) 一? CH。
」
Hal’
式中、R1及びR2は上記の意味を有し、そして
Ha I’ は塩素または臭素を表わす、のカルビノー
ルを希釈剤の存在下で塩基と反応させることにより製造
することができる。
ルを希釈剤の存在下で塩基と反応させることにより製造
することができる。
工程(e)を行う際に出発物質として必要とされる式(
v)のシクロプロピルケトンは従来未知であった。これ
らのものは e)式 %式%) [) 式中、R2、R6及びR6は上記の意味を有する、 のアルデヒドを触媒の存在下及び希釈剤の存在下で式 式中、R′は上記の意味を有する、 のメチルシクロプロピルケトンと反応させ、そして適当
ならば式 %式%() 式中、R1、R2、R6及びR6は上記の意味を有する
、 のシクロプロピルケトンをこの反応において触媒の存在
下及び希釈剤の存在下で水素化するか、まtこ は f)式 %式%() 式中、R2は上記の意味を有する、 のアセチレンを触媒の存在下及び希釈剤の存在下で式 %式%() 式中、R1は上記の意味を有し、そしてHat“は塩素
または臭素を表わす、 の酸ハロゲン化物と反応させることにより製造すること
ができる。
v)のシクロプロピルケトンは従来未知であった。これ
らのものは e)式 %式%) [) 式中、R2、R6及びR6は上記の意味を有する、 のアルデヒドを触媒の存在下及び希釈剤の存在下で式 式中、R′は上記の意味を有する、 のメチルシクロプロピルケトンと反応させ、そして適当
ならば式 %式%() 式中、R1、R2、R6及びR6は上記の意味を有する
、 のシクロプロピルケトンをこの反応において触媒の存在
下及び希釈剤の存在下で水素化するか、まtこ は f)式 %式%() 式中、R2は上記の意味を有する、 のアセチレンを触媒の存在下及び希釈剤の存在下で式 %式%() 式中、R1は上記の意味を有し、そしてHat“は塩素
または臭素を表わす、 の酸ハロゲン化物と反応させることにより製造すること
ができる。
工程(e)における出発物質として必要とされる式(f
f−a)及び(II−b)のアルデヒドは一般に公知の
有機化学の化合物である。
f−a)及び(II−b)のアルデヒドは一般に公知の
有機化学の化合物である。
更に工程(e)を行う際に反応成分として必要とされる
式(X)のメチルシクロプロピルケトンは公知であるか
、または原理的lこ公知である方法により製造し得る[
シンセシス(Synthesis) l 977.18
9参照1゜ 工程(e)の第一段階を行うに適する触媒にはこのタイ
プの縮合に対して普通であるすべての反応加速剤がある
。塩基性物質例えばアルカリ金属水酸化物例えば水酸化
物例えば水酸化ナトリウムまたは水酸化カリウムを好適
に使用し得る。
式(X)のメチルシクロプロピルケトンは公知であるか
、または原理的lこ公知である方法により製造し得る[
シンセシス(Synthesis) l 977.18
9参照1゜ 工程(e)の第一段階を行うに適する触媒にはこのタイ
プの縮合に対して普通であるすべての反応加速剤がある
。塩基性物質例えばアルカリ金属水酸化物例えば水酸化
物例えば水酸化ナトリウムまたは水酸化カリウムを好適
に使用し得る。
工程(e)の第一段階を行う際に、可能な希釈剤にはこ
のタイプの反応に普通であるすべての不活性有機溶媒が
ある。アルコール例えばメタノール、エタノール、イン
プロパツール、n−ブタノール及びt−ブタノールを好
適に使用し得る。
のタイプの反応に普通であるすべての不活性有機溶媒が
ある。アルコール例えばメタノール、エタノール、イン
プロパツール、n−ブタノール及びt−ブタノールを好
適に使用し得る。
工程(e)の第一段階を行う場合に反応温度は比較的広
い範囲内で変え得る。一般に反応はO乃至100°C間
、好ましくは10乃至80°C間の温度で温度で行う。
い範囲内で変え得る。一般に反応はO乃至100°C間
、好ましくは10乃至80°C間の温度で温度で行う。
工程(e)の第一段階は通常大気圧で行う。しかしなが
らまた、昇圧または減圧下で行うことができる。
らまた、昇圧または減圧下で行うことができる。
工程(e)の第一段階を行う場合、式(X)のメチルシ
クロプロピルケトン1モル当り1モルの式(ハ)のアル
デヒド及びまた触媒量の反応加速剤を用いる。しかしな
がらまた、ある成分または他のものを過剰に用いること
もできる。処理は常法により行う。一般に、固体状態で
沈澱する反応生成物を吸引で濾別する方法を用い、そし
て更に必要に応じて予備精製後に反応に用いる。
クロプロピルケトン1モル当り1モルの式(ハ)のアル
デヒド及びまた触媒量の反応加速剤を用いる。しかしな
がらまた、ある成分または他のものを過剰に用いること
もできる。処理は常法により行う。一般に、固体状態で
沈澱する反応生成物を吸引で濾別する方法を用い、そし
て更に必要に応じて予備精製後に反応に用いる。
工程(e)の第二段階において、式(V−a)または(
v−b)のシクロプロピルケトンを触媒及び希釈剤の存
在下にて水素を用いて水素化する。この工程において、
反応は懸濁させた粉末状の水素化触媒を用いるか(不均
一系)、または希釈剤に溶解した触媒複合体を用いて(
均一系)液相中で行う。水素化は液相の水素化または公
知の水素化反応器例えばオートクレーブ、オートクレー
ブ・カスケード、チューブ反応器または回転反応器中で
のトリクル(trickle)床として非連続的にか(
バッチ法)、または連続的に行うことができる。
v−b)のシクロプロピルケトンを触媒及び希釈剤の存
在下にて水素を用いて水素化する。この工程において、
反応は懸濁させた粉末状の水素化触媒を用いるか(不均
一系)、または希釈剤に溶解した触媒複合体を用いて(
均一系)液相中で行う。水素化は液相の水素化または公
知の水素化反応器例えばオートクレーブ、オートクレー
ブ・カスケード、チューブ反応器または回転反応器中で
のトリクル(trickle)床として非連続的にか(
バッチ法)、または連続的に行うことができる。
好適な方法11オートクレーブ中での昇温下での非連続
的液相水素化である。
的液相水素化である。
工程(e)の第二段階を行うに適する希釈剤には不活性
有機溶媒がある。これらのものには好ましくはアルコー
ル例えばメタノール、エタノール、インプロパツールま
たはエチレングリコール;エーテル例えばジエチルエー
テル、ジイソプロピルエーテル、エチレングリコールモ
ノメチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテ
ル、ジオキサンまたはテトラヒドロフラン、飽和炭化水
素例えばn−へブタンまたはシクロヘキサン;芳香族炭
化水素例えばトルエン:及びまたエステル例えば酢酸エ
チルが含まれる。
有機溶媒がある。これらのものには好ましくはアルコー
ル例えばメタノール、エタノール、インプロパツールま
たはエチレングリコール;エーテル例えばジエチルエー
テル、ジイソプロピルエーテル、エチレングリコールモ
ノメチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテ
ル、ジオキサンまたはテトラヒドロフラン、飽和炭化水
素例えばn−へブタンまたはシクロヘキサン;芳香族炭
化水素例えばトルエン:及びまたエステル例えば酢酸エ
チルが含まれる。
工程(e)の第二段階に適する水素化触媒には例えばメ
ンデレー7による元素の周期表の第8亜族の元素の金属
及び/または化合物からなるもの、またはこれらのもの
を含むものがある。ここに金属ルテニウム、ロジウム、
パラジウム、白金、コバルト及びニッケル並びにその化
合物が好ましい。
ンデレー7による元素の周期表の第8亜族の元素の金属
及び/または化合物からなるもの、またはこれらのもの
を含むものがある。ここに金属ルテニウム、ロジウム、
パラジウム、白金、コバルト及びニッケル並びにその化
合物が好ましい。
金属化合物は例えば塩化物、酸化物、水酸化物及び/ま
たはオキシ水和物であり得る。
たはオキシ水和物であり得る。
金属銅、バナジウム、モリブデン、クロム及び/または
マンガン、並びにまたこれら金属の化合物を更に存在さ
せ得る。
マンガン、並びにまたこれら金属の化合物を更に存在さ
せ得る。
水素化触媒は殊にまたは主に水素移動物質からなり得る
が、これらのものは担体物質にも塗布し得る。
が、これらのものは担体物質にも塗布し得る。
水素移動物質に適する担体物質には例えば次のものがあ
る:無機物質例えばケイソウ土、シリカ、酸化アルミニ
ウム、アルカリ金属ケイ酸塩及びアルカリ土金属ケイ酸
塩、ケイ酸アルミニウム、モンモリロナイト、ゼオライ
ト、スピネル、ドロマイト、カオリン、ケイ酸マグネシ
ウム、酸化ジルコニウム、酸化亜鉛、炭酸カルシウム、
炭化ケイ素、リン酸アルミニウム、リン酸ホウ素、アス
ベスト、活性炭または硫酸バリウム、及びまた有機物質
例えば高分子量を有する天然または合成化合物例えば綱
、ポリアミド、ポリスチレン、セルロースまたはポリウ
レタン、粉末状の無機担体物質が好ましい。
る:無機物質例えばケイソウ土、シリカ、酸化アルミニ
ウム、アルカリ金属ケイ酸塩及びアルカリ土金属ケイ酸
塩、ケイ酸アルミニウム、モンモリロナイト、ゼオライ
ト、スピネル、ドロマイト、カオリン、ケイ酸マグネシ
ウム、酸化ジルコニウム、酸化亜鉛、炭酸カルシウム、
炭化ケイ素、リン酸アルミニウム、リン酸ホウ素、アス
ベスト、活性炭または硫酸バリウム、及びまた有機物質
例えば高分子量を有する天然または合成化合物例えば綱
、ポリアミド、ポリスチレン、セルロースまたはポリウ
レタン、粉末状の無機担体物質が好ましい。
このタイプの担持触媒は担持触媒の全重量に関して一般
に0.5〜50重量%、好ましくは1〜lO重量%の水
素移動物質を含有し得る。かくて水素移動物質は担体物
質中に均一に分配され得るが、その外層または表面に水
素移動物質が沈着した触媒が好ましい。工程(e)に使
用し得る触媒の調製及び成形は公知の方法で行い得る[
例えばホーベン−ウニイル(Houben−Weyl)
、有機化学の方法(Methoden der org
anischen Chemie)、第■巻、Ic、第
1部、16〜26頁、ゲオルグ・チーメ・ベルラグ、シ
ュツッツガルト(Georg Thieme Verl
ag、 Stuttgart)、1980参照]。
に0.5〜50重量%、好ましくは1〜lO重量%の水
素移動物質を含有し得る。かくて水素移動物質は担体物
質中に均一に分配され得るが、その外層または表面に水
素移動物質が沈着した触媒が好ましい。工程(e)に使
用し得る触媒の調製及び成形は公知の方法で行い得る[
例えばホーベン−ウニイル(Houben−Weyl)
、有機化学の方法(Methoden der org
anischen Chemie)、第■巻、Ic、第
1部、16〜26頁、ゲオルグ・チーメ・ベルラグ、シ
ュツッツガルト(Georg Thieme Verl
ag、 Stuttgart)、1980参照]。
好適な担持触媒は木炭上のルテニウム、酸化アルミニウ
ム上のルテニウム、木炭上のロジウム、酸化アルミニウ
ム上のロジウム、木炭上のパラジウム、酸化アルミニウ
ム上のパラジウム、炭酸カルシウム上のパラジウム、硫
酸バリウム上のパラジウム、シリカ上のパラジウム、木
炭上の白金、酸化アルミニウム上の白金、ケイソウ上上
のニッケル、酸化アルミニウム上のニッケル並びにまた
酸化アルミニウム上のニッケル及びパラジウムである。
ム上のルテニウム、木炭上のロジウム、酸化アルミニウ
ム上のロジウム、木炭上のパラジウム、酸化アルミニウ
ム上のパラジウム、炭酸カルシウム上のパラジウム、硫
酸バリウム上のパラジウム、シリカ上のパラジウム、木
炭上の白金、酸化アルミニウム上の白金、ケイソウ上上
のニッケル、酸化アルミニウム上のニッケル並びにまた
酸化アルミニウム上のニッケル及びパラジウムである。
殊にまたは主に水素移動物質からなる不均一系における
水素化に好適な水素化触媒は例えば酸化物触媒例えば酸
化パラジウム、酸化白金、酸化ルテニウム及び/または
ニジムラ(NishiN15hiによる酸化ロジウム/
酸化白金、並びに更にアルカリ金属水素化物、アルカリ
金属ホウ水素化物、金属アルカリ、ヒドラジン、ホルム
アルデヒド、水素または電子陽性金属を用いる対応する
金属塩または金属塩混合物の還元により調製し得る黒色
触媒例えばパラジウム黒、白金黒及びロジウム黒;並び
にう不一(Raney)タイプのスポンジ触媒例えばラ
ネー・ニッケル、ラネー・コバルト、ラネー・ニッケル
/コバルト、ラネー・ニッケル/鉄、う不−・ニッケル
/銅、ラネー・ニッケル/鉄/クロム、う不一・ニッケ
ル/パラジウム及びラネー・ニッケル/鉄/バナジウム
である。
水素化に好適な水素化触媒は例えば酸化物触媒例えば酸
化パラジウム、酸化白金、酸化ルテニウム及び/または
ニジムラ(NishiN15hiによる酸化ロジウム/
酸化白金、並びに更にアルカリ金属水素化物、アルカリ
金属ホウ水素化物、金属アルカリ、ヒドラジン、ホルム
アルデヒド、水素または電子陽性金属を用いる対応する
金属塩または金属塩混合物の還元により調製し得る黒色
触媒例えばパラジウム黒、白金黒及びロジウム黒;並び
にう不一(Raney)タイプのスポンジ触媒例えばラ
ネー・ニッケル、ラネー・コバルト、ラネー・ニッケル
/コバルト、ラネー・ニッケル/鉄、う不−・ニッケル
/銅、ラネー・ニッケル/鉄/クロム、う不一・ニッケ
ル/パラジウム及びラネー・ニッケル/鉄/バナジウム
である。
不均一系における水素化に対し、工程(e)の第二段階
で反応混合物の全重量に関して0.05〜2.5、好ま
しくは0.1−1重量%の量で水素移動物質を存在させ
t;水素化触媒を用いる。
で反応混合物の全重量に関して0.05〜2.5、好ま
しくは0.1−1重量%の量で水素移動物質を存在させ
t;水素化触媒を用いる。
工程(e)の第二段階を行う場合、2種またはそれ以上
の上記の水素化触媒の混合物を用いることもできる。
の上記の水素化触媒の混合物を用いることもできる。
水素化触媒の触媒活性は工程(e)の第二段階を行う場
合に一般に大部分残っており、従ってこのものを非連続
法でくり返して用いることができ、そして連続法では比
較的長時間使用したままでいることができる。
合に一般に大部分残っており、従ってこのものを非連続
法でくり返して用いることができ、そして連続法では比
較的長時間使用したままでいることができる。
反応温度は比較的広い範囲内で変え得る。一般に、反応
は0乃至150°C間、好ましくは20乃至120℃間
の範囲で行う。
は0乃至150°C間、好ましくは20乃至120℃間
の範囲で行う。
工程(e)の第二段階において不均一接触された水素化
は好ましくは昇圧下で行う。一般に、反応はl乃至15
0バ一ル間、好ましくはlO乃至60バ一ル間で行う。
は好ましくは昇圧下で行う。一般に、反応はl乃至15
0バ一ル間、好ましくはlO乃至60バ一ル間で行う。
上記の不均一タイプの水素化触媒に加えて、溶解して均
一溶液を生成させる水素化触媒を工程(e)の第二段階
を行う際に用いることもできる。不均一系触媒と比較し
てしばしば高い選択性を有する均一系触媒により式(V
−a)または(v−b)のシクロプロピルケトンの選択
的水素化が行われ、その際にこのものは更に水素化でき
るか、または水素化分解感応性の置換基例えばフェニル
基上のハロゲンを含有する。かかる均一系水素化触媒に
は例えば中心原子としてメンデレーフによる元素の周期
表の第8亜族の金属を含む錯体がある。ここに好適な金
属にはルテニウム、ロジウム、バラジヴム、イリジウム
、コバルト及びニッケルがある。ルテニウム、ロジウム
及びイリジウムが殊に好ましい。挙げ得るこのタイプの
金属錯体の例には塩化トリス−(トリフェニルホスフィ
ン)−ロジウム(I)、塩化1−リス−(トリフェニル
ホスフィン)−ルテニウム(I[)及び塩化ビス−(ト
リフェニルホスフィン)−カルボニル−イリジウム(I
)がある。
一溶液を生成させる水素化触媒を工程(e)の第二段階
を行う際に用いることもできる。不均一系触媒と比較し
てしばしば高い選択性を有する均一系触媒により式(V
−a)または(v−b)のシクロプロピルケトンの選択
的水素化が行われ、その際にこのものは更に水素化でき
るか、または水素化分解感応性の置換基例えばフェニル
基上のハロゲンを含有する。かかる均一系水素化触媒に
は例えば中心原子としてメンデレーフによる元素の周期
表の第8亜族の金属を含む錯体がある。ここに好適な金
属にはルテニウム、ロジウム、バラジヴム、イリジウム
、コバルト及びニッケルがある。ルテニウム、ロジウム
及びイリジウムが殊に好ましい。挙げ得るこのタイプの
金属錯体の例には塩化トリス−(トリフェニルホスフィ
ン)−ロジウム(I)、塩化1−リス−(トリフェニル
ホスフィン)−ルテニウム(I[)及び塩化ビス−(ト
リフェニルホスフィン)−カルボニル−イリジウム(I
)がある。
工程(e)の第二段階を行う場合に溶解して均一な溶液
を生成させる水素化触媒の使用の場合に適する希釈剤は
不活性有機溶媒である。アルコール例えばメタノール、
エタノール、インプロパツールまたはエチレングリコー
ル、更に炭化水素例えばトルエン、加えてケトン例えば
アセトン及びブタノン、並びにまたエステル例えば酢酸
エチルを好適に使用し得る。
を生成させる水素化触媒の使用の場合に適する希釈剤は
不活性有機溶媒である。アルコール例えばメタノール、
エタノール、インプロパツールまたはエチレングリコー
ル、更に炭化水素例えばトルエン、加えてケトン例えば
アセトン及びブタノン、並びにまたエステル例えば酢酸
エチルを好適に使用し得る。
均一系における水素化に対し、工程(e)の第二段階を
行う際に水素化触媒は用いる式(V−a)または(V
−b)のシクロプロピルケトンに関して0、O1〜2.
5モル%、好ましくは0.05〜1.0モル%の量で水
素化触媒錯体を存在させて一般に用いる。
行う際に水素化触媒は用いる式(V−a)または(V
−b)のシクロプロピルケトンに関して0、O1〜2.
5モル%、好ましくは0.05〜1.0モル%の量で水
素化触媒錯体を存在させて一般に用いる。
また工程(e)の第二段階を行う場合に反応温度は均一
系における水素化に対して比較的広い範囲内で変え得る
。一般に、反応は0乃至150°C間、好ましくは20
乃至120°C間の温度で行う。
系における水素化に対して比較的広い範囲内で変え得る
。一般に、反応は0乃至150°C間、好ましくは20
乃至120°C間の温度で行う。
工程(e)の第二段階における均一系において水素化は
好ましくは昇圧下で行う。一般に、反応はl乃至150
バ一ル間、好ましくはIO乃至100バール間の圧力で
行う。
好ましくは昇圧下で行う。一般に、反応はl乃至150
バ一ル間、好ましくはIO乃至100バール間の圧力で
行う。
変法において、工程(e)の第二段階における均一系に
おける水素化は分子状、水素を水素化には用いずに、適
当な触媒の存在下で水素化を移行させ、従って水素供与
体として作用させる意味で、1個またはそれ以上の水素
原子を式(V−a)または(v −b)のシクロプロピ
ルケトンに移動させ得る還元剤を用いるように行うこと
もできる。かかる移動水素化に適する触媒は原理的に工
程(e)の第二段階において分子状水素を用いる均一に
接触させた水素化に対して既に記載されたメンデレー7
による元素の周期表の第8亜族の金属の錯体である。
おける水素化は分子状、水素を水素化には用いずに、適
当な触媒の存在下で水素化を移行させ、従って水素供与
体として作用させる意味で、1個またはそれ以上の水素
原子を式(V−a)または(v −b)のシクロプロピ
ルケトンに移動させ得る還元剤を用いるように行うこと
もできる。かかる移動水素化に適する触媒は原理的に工
程(e)の第二段階において分子状水素を用いる均一に
接触させた水素化に対して既に記載されたメンデレー7
による元素の周期表の第8亜族の金属の錯体である。
ここに可能な水素供与体は第−級及び第二級の一価また
は多価アルコールである。メタノール、エタノール、n
−プロパツール、i−プロパツール、n−ブタノーノ呟
2−ブタノール、ベンジルアルコール、エチレングリ
コール、113−プロパン−ジオール、■、4−ブタン
ジオール及びl。
は多価アルコールである。メタノール、エタノール、n
−プロパツール、i−プロパツール、n−ブタノーノ呟
2−ブタノール、ベンジルアルコール、エチレングリ
コール、113−プロパン−ジオール、■、4−ブタン
ジオール及びl。
5−ベンタンジオールを好適に使用し得る。これらのア
ルコールは水素供与体及びまた溶媒としての両方に使用
し得る。
ルコールは水素供与体及びまた溶媒としての両方に使用
し得る。
更に工程(e)の第二段階に使用し得る水素供与体には
ギ酸のアルカリ金属塩及びアルカリ土金属塩例えばギ酸
ナトリウム及びギ酸カリウム、並びにまたギ酸自体があ
る。ギ酸の塩の場合、工程(e)の第二段階は相間移動
触媒の状態で行うことができ、その際に式(V−a)ま
たは(v−b)のシクロプロピルケトン及び水素化触媒
を適当な有機溶媒に溶解し、モしてギ酸塩を水溶液とし
て第二相中に存在させる。従ってこれに関連して、適当
な溶媒は一方では式(V−a)または(v−b)のシク
ロプロピルケトン及び水素化触媒を溶解するが、他方で
は水と混和しないものである。このタイプの溶媒には例
えばベンゼン、トルエン、クロロベンゼン、ジクロロベ
ンゼン及び塩化メチレンがある。可能な相間移動触媒は
この目的のために有機化学で使用し得るすべての反応加
速剤である。臭化テトラブチルアンモニウム及び塩化メ
チル−トリデシル−アンモニウム(Aliquato3
36 )を好適に使用し得る。
ギ酸のアルカリ金属塩及びアルカリ土金属塩例えばギ酸
ナトリウム及びギ酸カリウム、並びにまたギ酸自体があ
る。ギ酸の塩の場合、工程(e)の第二段階は相間移動
触媒の状態で行うことができ、その際に式(V−a)ま
たは(v−b)のシクロプロピルケトン及び水素化触媒
を適当な有機溶媒に溶解し、モしてギ酸塩を水溶液とし
て第二相中に存在させる。従ってこれに関連して、適当
な溶媒は一方では式(V−a)または(v−b)のシク
ロプロピルケトン及び水素化触媒を溶解するが、他方で
は水と混和しないものである。このタイプの溶媒には例
えばベンゼン、トルエン、クロロベンゼン、ジクロロベ
ンゼン及び塩化メチレンがある。可能な相間移動触媒は
この目的のために有機化学で使用し得るすべての反応加
速剤である。臭化テトラブチルアンモニウム及び塩化メ
チル−トリデシル−アンモニウム(Aliquato3
36 )を好適に使用し得る。
工程(e)の第二段階に必要な反応時間は反応温度、水
素分圧、反応混合物の混合の強さ並びに水素化触媒の活
性及び濃度に依存する。一般に、必要な反応時間は15
分から数時間までの範囲である。
素分圧、反応混合物の混合の強さ並びに水素化触媒の活
性及び濃度に依存する。一般に、必要な反応時間は15
分から数時間までの範囲である。
各々の場合に処理は常法により行う。
工程(f)を行う際に出発物質として必要とされる式(
I[)のアセチレンは公知であるか、または原理的に公
知である方法により簡単に製造し得る。
I[)のアセチレンは公知であるか、または原理的に公
知である方法により簡単に製造し得る。
また工程(f)を行う際に反応成分として必要とされる
式(XI[)の酸ハロゲン化物は公知であるか、または
原理的に公知である方法により製造し得る。
式(XI[)の酸ハロゲン化物は公知であるか、または
原理的に公知である方法により製造し得る。
工程Cf)を行うに適する触媒はこのタイプの反応に通
常であるすべての反応加速剤である。銅塩例えばヨウ化
銅を好適に使用し得る。
常であるすべての反応加速剤である。銅塩例えばヨウ化
銅を好適に使用し得る。
工程(f)を行う際に可能な希釈剤はこのタイプの反応
に通常であるすべての不活性有機溶媒である。
に通常であるすべての不活性有機溶媒である。
エーテル例えばテトラヒドロフラン及びジエチルエーテ
ルを好適に使用し得る。
ルを好適に使用し得る。
工程(「)を行う場合に反応温度はある範囲内で変え得
る。一般に、反応は−78乃至50°C間、好ましくは
−78乃至40°C間の温度で行う。
る。一般に、反応は−78乃至50°C間、好ましくは
−78乃至40°C間の温度で行う。
工程(f)を行う場合、式(XI)のアセチレン1モル
当りl−1,2モルの式(ff)の酸ハロゲン化物及び
また触媒を一般に用いる。処理は常法により行う。
当りl−1,2モルの式(ff)の酸ハロゲン化物及び
また触媒を一般に用いる。処理は常法により行う。
工程(e)における反応成分として必要とされる式%式
% イドは公知である[ジャーナル・オプ・アメリカン・ケ
ミカル・ソサイアテイー(J、 Am、 Chem。
% イドは公知である[ジャーナル・オプ・アメリカン・ケ
ミカル・ソサイアテイー(J、 Am、 Chem。
Soc、)87−11363−1364(I965)参
照]。このものは上記反応において、希釈剤の存在下で
ヨウ化トリメチルオキソスルホニウムト水素化ナトリウ
ムまたはナトリウムアミド、殊にカリウムt−ブチラー
ドまたはナトリウムメチラートとの反応によりその場で
調製することにより新たに調製された状態で用いる。ま
た工程(e)において反応成分として更に可能である式
(■)のジメチルスルホニウムメチライドは公知である
[ヘテロサイクルズ旦、397 (I977)参照1゜
またこのものは上記反応において、例えば強塩基例えば
水素化ナトリウム、ナトリウムアミド、ナトリウムメチ
ラート、カリウムt−ブチラードまt;は水酸化カリウ
ムの存在下、希釈剤例えばt−ブタノールまたはジメチ
ルスルホキシドの存在下でハロゲン化トリメチルスルホ
ニウムまたはメチル硫酸トリメチルスルホニウムからそ
の場で調製することにより新たに調製した状態で用いる
。
照]。このものは上記反応において、希釈剤の存在下で
ヨウ化トリメチルオキソスルホニウムト水素化ナトリウ
ムまたはナトリウムアミド、殊にカリウムt−ブチラー
ドまたはナトリウムメチラートとの反応によりその場で
調製することにより新たに調製された状態で用いる。ま
た工程(e)において反応成分として更に可能である式
(■)のジメチルスルホニウムメチライドは公知である
[ヘテロサイクルズ旦、397 (I977)参照1゜
またこのものは上記反応において、例えば強塩基例えば
水素化ナトリウム、ナトリウムアミド、ナトリウムメチ
ラート、カリウムt−ブチラードまt;は水酸化カリウ
ムの存在下、希釈剤例えばt−ブタノールまたはジメチ
ルスルホキシドの存在下でハロゲン化トリメチルスルホ
ニウムまたはメチル硫酸トリメチルスルホニウムからそ
の場で調製することにより新たに調製した状態で用いる
。
工程(C)を行うに適する希釈剤は不活性有機溶媒であ
る。アルコール例えばt−ブタノール、エーテル例えば
テトラヒドロフランまたはジオキサン、更に脂肪族及び
芳香族炭化水素例えばベンゼン、トルエンまたはキシレ
ン、並びにまた強い極性溶媒例工ばジメチルスルホキシ
ドを好適に使用し得る。
る。アルコール例えばt−ブタノール、エーテル例えば
テトラヒドロフランまたはジオキサン、更に脂肪族及び
芳香族炭化水素例えばベンゼン、トルエンまたはキシレ
ン、並びにまた強い極性溶媒例工ばジメチルスルホキシ
ドを好適に使用し得る。
工程(e)を行う場合に反応温度は比較的広い範囲内で
変え得る。一般に、反応は0乃至100°C間、好まし
くは10乃至60°C間で行う。
変え得る。一般に、反応は0乃至100°C間、好まし
くは10乃至60°C間で行う。
工程(e)を行う場合、一般に式(V)のシクロプロピ
ルケトン1モル当り1〜3モルの式(VI)のジメチル
オキソスルホニウムメチライドまたは式(■)のジメチ
ルスルホニウムメチライドを用いる。式(II)のオキ
シランの単離は常法により行う。
ルケトン1モル当り1〜3モルの式(VI)のジメチル
オキソスルホニウムメチライドまたは式(■)のジメチ
ルスルホニウムメチライドを用いる。式(II)のオキ
シランの単離は常法により行う。
工程(cl)を行う際の出発物質として必要とされる式
(■)のカルビノールは従来未知であった。これらのも
のは g)式 式中、R1は上記の意味を有し、モしてHal〜は塩素
または臭素を表わす、 のハロゲノケトンを適当ならば酸結合剤の存在下及び希
釈剤の存在下で式 %式%) 式中、R2は上記の意味を有し、そしてMeは金属陽イ
オンの等価物を表わす、のアセチレン塩と反応させるこ
とにより製造できる。
(■)のカルビノールは従来未知であった。これらのも
のは g)式 式中、R1は上記の意味を有し、モしてHal〜は塩素
または臭素を表わす、 のハロゲノケトンを適当ならば酸結合剤の存在下及び希
釈剤の存在下で式 %式%) 式中、R2は上記の意味を有し、そしてMeは金属陽イ
オンの等価物を表わす、のアセチレン塩と反応させるこ
とにより製造できる。
工程(g)に対する出発物質として必要とされる式(x
m)のハロゲノケトンのあるものは公知である(ベルギ
ー国特許第879.785号及びドイツ国特許出願公開
第2.944.342号)。これらのものは h)式 %式%() 式中、R1は上記の意味を有する、 のメチル−シクロプロピルケトンを希釈剤の存在下で塩
素化剤または臭素化剤、と反応させることにより調製で
きる。
m)のハロゲノケトンのあるものは公知である(ベルギ
ー国特許第879.785号及びドイツ国特許出願公開
第2.944.342号)。これらのものは h)式 %式%() 式中、R1は上記の意味を有する、 のメチル−シクロプロピルケトンを希釈剤の存在下で塩
素化剤または臭素化剤、と反応させることにより調製で
きる。
工程(h)に対して可能な塩素化剤及び臭素化剤はこの
タイプの反応に通常であるすべての塩素化及び臭素化剤
である。塩化スルフリル、臭化スルフリル及び臭素を好
適に使用し得る。
タイプの反応に通常であるすべての塩素化及び臭素化剤
である。塩化スルフリル、臭化スルフリル及び臭素を好
適に使用し得る。
工程(h)に適する希釈剤はこのタイプの反応に通常で
あるすべての不活性有機溶媒である。ハロゲン化された
脂肪族炭化水素例えば塩化メチレン、クロロホルム及び
四塩化炭素を好適に使用し得る。
あるすべての不活性有機溶媒である。ハロゲン化された
脂肪族炭化水素例えば塩化メチレン、クロロホルム及び
四塩化炭素を好適に使用し得る。
工程ω)において反応温度はある範囲内で変え得る。一
般に、反応は−10乃至60℃間、好ましくは0乃至4
0°C間の温度で行う。
般に、反応は−10乃至60℃間、好ましくは0乃至4
0°C間の温度で行う。
工程(h)を行う場合、反応は大気圧で行う。しかしな
がらまた、各々の場合に昇圧または減圧下で行うことも
できる。
がらまた、各々の場合に昇圧または減圧下で行うことも
できる。
工程01)を行う場合、式(X)のケトン1モル当り化
学量論量または少々過剰の塩素化または臭素化剤を一般
に用いる。処理は常法により行う。−般に、反応混合物
を順次希釈炭酸水素ナトリウム水溶液及び水で洗浄し、
次に乾燥し、そして濃縮する方法を用いる。
学量論量または少々過剰の塩素化または臭素化剤を一般
に用いる。処理は常法により行う。−般に、反応混合物
を順次希釈炭酸水素ナトリウム水溶液及び水で洗浄し、
次に乾燥し、そして濃縮する方法を用いる。
式(XIV)は工程C)における反応成分として必要さ
れるアセチレン塩の一般的定義を与える。この式におい
て、R2は好ましくは本発明による式(I)の物質の記
載に関連して該基に対して好適なものとして既に挙げら
れたものの意味を有する。
れるアセチレン塩の一般的定義を与える。この式におい
て、R2は好ましくは本発明による式(I)の物質の記
載に関連して該基に対して好適なものとして既に挙げら
れたものの意味を有する。
Meは好ましくはリチウム陽イオンまたはセリウム(I
[I)陽イオンの等価物を表わす。
[I)陽イオンの等価物を表わす。
式(XrV)のアセチレン塩は公知であるか、ま
゛たは原理的に公知である方法により製造し得る。
゛たは原理的に公知である方法により製造し得る。
工程ω)を行うに適する酸結合剤はすべて通常の酸受容
体である。
体である。
工程値)を行う際に可能な希釈剤はすべての通常の不活
性有機溶媒である。芳香族炭化水素例えばトルエン、並
びに更にエーテル例えばジエチルエーテル、テトラヒド
ロフラン、t−ブチルメチルエーテル及びこれらエーテ
ルの混合物を好適に使用し得る。
性有機溶媒である。芳香族炭化水素例えばトルエン、並
びに更にエーテル例えばジエチルエーテル、テトラヒド
ロフラン、t−ブチルメチルエーテル及びこれらエーテ
ルの混合物を好適に使用し得る。
工程(g)を行う場合、反応温度は比較的広範囲に変え
得る。一般に反応は−100乃至100°C間、好まし
くは−80乃至50℃間の温度で行う。
得る。一般に反応は−100乃至100°C間、好まし
くは−80乃至50℃間の温度で行う。
工程(E)は一般に大気圧下で行う。しかしながらまた
、昇圧または減圧下で行うこともできる。
、昇圧または減圧下で行うこともできる。
工程(g)を行う場合、式(XDI)のハロゲノケトン
1モル当り1〜3モルの式(xrv)のアセチレン塩を
一般に用いる。処理は常法により行う。
1モル当り1〜3モルの式(xrv)のアセチレン塩を
一般に用いる。処理は常法により行う。
工程(d)を行う際に可能な塩基はこのタイプの反応に
通常速するすべての有機及び無機酸結合剤である。アル
カリ金属炭酸塩例えば炭酸ナトリウム及び炭酸カリウム
、更にアルカリ金属水酸化物例えば水酸化ナトリウム及
び水酸化カリウム、加えてアルカリ金属アルコラード例
えばナトリウムメチラート、カリウムメチラート、ナト
リウムエチラート、カリウムエチラート及びまたカリウ
ムt−ブチラードζ並びに更に低級の第三級アルキルア
ミン、シクロアルキルアミン及びアラルキルアミン例え
ば殊にトリエチルアミンを好適に使用し得る。
通常速するすべての有機及び無機酸結合剤である。アル
カリ金属炭酸塩例えば炭酸ナトリウム及び炭酸カリウム
、更にアルカリ金属水酸化物例えば水酸化ナトリウム及
び水酸化カリウム、加えてアルカリ金属アルコラード例
えばナトリウムメチラート、カリウムメチラート、ナト
リウムエチラート、カリウムエチラート及びまたカリウ
ムt−ブチラードζ並びに更に低級の第三級アルキルア
ミン、シクロアルキルアミン及びアラルキルアミン例え
ば殊にトリエチルアミンを好適に使用し得る。
工程(d)を行う際に可能な希釈剤はすべての通常の不
活性有機溶媒である。ニトリル例えばアセトニトリル、
更に芳香族炭化水素例えばベンゼン、トルエン及ヒシク
ロロベンゼン、加えてホルムアミド例えばジメチルホル
ムアミド、並びにまた強い極性溶媒例えばジメチルスル
ホキシド及びヘキサメチルリン酸トリアミドを好適に使
用し得る。
活性有機溶媒である。ニトリル例えばアセトニトリル、
更に芳香族炭化水素例えばベンゼン、トルエン及ヒシク
ロロベンゼン、加えてホルムアミド例えばジメチルホル
ムアミド、並びにまた強い極性溶媒例えばジメチルスル
ホキシド及びヘキサメチルリン酸トリアミドを好適に使
用し得る。
工程(d)を行う場合、反応温度はある範囲内で変え得
る。一般に、反応は−20乃至100°C間、好ましく
は0乃至60°C間の温度で行う。
る。一般に、反応は−20乃至100°C間、好ましく
は0乃至60°C間の温度で行う。
工程(d)を行う場合、反応は一般に大気圧下で行う。
しかしながらまた、昇圧または減圧下で行うこともでき
る。
る。
工程(d)を行う場合、式(■)のカルビノール1モル
当り1〜3モルの塩基を一般に用いる。処理は常法によ
り行う。
当り1〜3モルの塩基を一般に用いる。処理は常法によ
り行う。
本発明による工程(a)を行う際に反応成分として必要
とされる式(III)のアゾールは一般的に公知の有機
化学の化合物である。
とされる式(III)のアゾールは一般的に公知の有機
化学の化合物である。
本発明による工程(a)を行うに適する酸結合剤はすべ
ての通常の酸受容体である。アルカリ金属炭酸塩及び炭
酸水素塩例えば炭酸ナトリウム、炭酸カリウムまたは炭
酸水素ナトリウム、更にアルカリ金属の水酸化物及びア
ルコラード例えば水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、
ナトリウムメチラートまたはカリウムt−ブチラード、
加えて第三級脂肪族または芳香族アミン例えばトリエチ
ルアミン、N、N−ジメチル−シクロへキシル−アミン
、N、N−ジメチル−ベンジルアミン及びピリジン、並
びに加えて環式アミン例えば1.5−ジアザ−ビシクロ
[4,3,01−ノン−5−エン(I)BN)、1.8
−ジアザ−ビシクロ[5,4,01ウンデス−7−エン
(D B U)及び1.4−ジアザ−ビシクロ[2,2
,2] オクタン(DABCO)を好適に使用し得る。
ての通常の酸受容体である。アルカリ金属炭酸塩及び炭
酸水素塩例えば炭酸ナトリウム、炭酸カリウムまたは炭
酸水素ナトリウム、更にアルカリ金属の水酸化物及びア
ルコラード例えば水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、
ナトリウムメチラートまたはカリウムt−ブチラード、
加えて第三級脂肪族または芳香族アミン例えばトリエチ
ルアミン、N、N−ジメチル−シクロへキシル−アミン
、N、N−ジメチル−ベンジルアミン及びピリジン、並
びに加えて環式アミン例えば1.5−ジアザ−ビシクロ
[4,3,01−ノン−5−エン(I)BN)、1.8
−ジアザ−ビシクロ[5,4,01ウンデス−7−エン
(D B U)及び1.4−ジアザ−ビシクロ[2,2
,2] オクタン(DABCO)を好適に使用し得る。
本発明による工程(a)を行う際に可能な希釈剤はすべ
ての通常の不活性有機溶媒である。ニトリル例えば殊に
アセトニトリル:芳香族炭化水素例えばベンゼン、トル
エン及びジクロロベンゼン;ホルムアミド例えば殊にジ
メチルホルムアミド、並びにまたへキサメチルリン酸ト
リアミドを好適に使用し得る。
ての通常の不活性有機溶媒である。ニトリル例えば殊に
アセトニトリル:芳香族炭化水素例えばベンゼン、トル
エン及びジクロロベンゼン;ホルムアミド例えば殊にジ
メチルホルムアミド、並びにまたへキサメチルリン酸ト
リアミドを好適に使用し得る。
本発明による工程(a)を行う場合、反応温度は比較的
広い範囲内で変え得る。一般に、反応は0乃至200°
C間、好ましくは50乃至150°C間の温度で行う。
広い範囲内で変え得る。一般に、反応は0乃至200°
C間、好ましくは50乃至150°C間の温度で行う。
本発明による工程(a)を行う場合、式(II)のオキ
シラン1モル当り1〜4モルの式(II[)のアゾール
及び1〜2モルの塩基を好適に用いる。
シラン1モル当り1〜4モルの式(II[)のアゾール
及び1〜2モルの塩基を好適に用いる。
本発明による工程(b)に対して出発物質として必要と
される式(I a)のヒドロキシアルキルアゾリル誘導
体は本発明による化合物である。これらのものの対応す
るアルコラードへの転化は一般的に公知の方法において
、これらのものを不活性希釈剤例えばジオキサン中にて
室温で適当な強塩基例えばアルカリ金属のアミドまたは
水素化物、第四級アンモニウム水酸化物またはホスホニ
ウム水酸化物と反応させることにより行う。従って、式
(Ib)の化合物におけるR′は好ましくはアルカリ金
属陽イオン例えばナトリウムもしくはカリウム陽イオン
、または第四級アンモニウムもしくはホスホニウム陽イ
オンを表わす。
される式(I a)のヒドロキシアルキルアゾリル誘導
体は本発明による化合物である。これらのものの対応す
るアルコラードへの転化は一般的に公知の方法において
、これらのものを不活性希釈剤例えばジオキサン中にて
室温で適当な強塩基例えばアルカリ金属のアミドまたは
水素化物、第四級アンモニウム水酸化物またはホスホニ
ウム水酸化物と反応させることにより行う。従って、式
(Ib)の化合物におけるR′は好ましくはアルカリ金
属陽イオン例えばナトリウムもしくはカリウム陽イオン
、または第四級アンモニウムもしくはホスホニウム陽イ
オンを表わす。
式(IV)は本発明による工程(b)に対する出発物質
として加えて必要とされるハロゲン化合物の一般的定義
を与える。この式において RIQは好ましくは水素の
意味以外は本発明による式(A)の物質の記載に関連し
て置換基R1に対して既に挙げられた意味を表わす。H
alは好ましくは塩素または臭素を表わす。
として加えて必要とされるハロゲン化合物の一般的定義
を与える。この式において RIQは好ましくは水素の
意味以外は本発明による式(A)の物質の記載に関連し
て置換基R1に対して既に挙げられた意味を表わす。H
alは好ましくは塩素または臭素を表わす。
式(IV)のハロゲン化合物は公知であるか、または原
理的に公知である方法により製造し得る。
理的に公知である方法により製造し得る。
本発明による工程中)を行うに適する希釈剤は不活性有
機溶媒である。これらのものには好ましくはエーテル例
えばジエチルエーテルまたはジオキサン、芳香族炭化水
素例えばベンゼン、また個々の場合に塩素化された炭化
水素例えばクロロホルム、塩化メチレンまたは四塩化炭
素並びにまたへキサメチルリン酸トリアミドが含まれる
。
機溶媒である。これらのものには好ましくはエーテル例
えばジエチルエーテルまたはジオキサン、芳香族炭化水
素例えばベンゼン、また個々の場合に塩素化された炭化
水素例えばクロロホルム、塩化メチレンまたは四塩化炭
素並びにまたへキサメチルリン酸トリアミドが含まれる
。
本発明による工程中)を行う場合、反応温度は比較的広
い範囲内で変え得る。一般に、反応はO乃至120℃間
、好ましくは20乃至100°C間で行う。
い範囲内で変え得る。一般に、反応はO乃至120℃間
、好ましくは20乃至100°C間で行う。
本発明による工程(b)を行う場合、式(Ia)のヒド
ロキシ化合物を最初に強塩基を用いて対応する式(Ib
)のアルコラードに転化する。次の工程において、式(
Ib)のアルコラード1モル当り1〜2モルの式(IV
)のハロゲン化合物を好適に用いる。
ロキシ化合物を最初に強塩基を用いて対応する式(Ib
)のアルコラードに転化する。次の工程において、式(
Ib)のアルコラード1モル当り1〜2モルの式(IV
)のハロゲン化合物を好適に用いる。
最終生成物の単離のために、反応混合物から溶媒を除去
し、そして水及び有機溶媒を残渣に加える。有機相を分
別し、常法で処理し、そして精製する。
し、そして水及び有機溶媒を残渣に加える。有機相を分
別し、常法で処理し、そして精製する。
好適な具体例において、式(I a)のヒドロキシ化合
物から出発し、このものを適当な有機溶媒中でアルカリ
金属水素化物またはアルカリ金属アミドを用いてアルカ
リ金属アルコラードに転化し、このものを単離せずに式
(IV)のハロゲン化合物と直接反応させ、本発明によ
る式(I)の化合物をアルカリ金属ハロゲン化物を除去
するl工程で得る方法を用いることが有利である。
物から出発し、このものを適当な有機溶媒中でアルカリ
金属水素化物またはアルカリ金属アミドを用いてアルカ
リ金属アルコラードに転化し、このものを単離せずに式
(IV)のハロゲン化合物と直接反応させ、本発明によ
る式(I)の化合物をアルカリ金属ハロゲン化物を除去
するl工程で得る方法を用いることが有利である。
更に好適な具体例により、アルコラードの調製及びまた
式(IV)のハロゲン化合物との反応は0゜0f−1モ
ルの相間移動触媒例えばアンモニウムまたはホスホニウ
ム化合物を加えて2相系例えば水酸化ナトリウムまたは
水酸化カリウム水溶液/トルエンまたは塩化メチレン中
で行うことが有利であり、その際にアルコラードは有機
相中または境界面で有機相中に存在するハロゲン化物と
反応する。
式(IV)のハロゲン化合物との反応は0゜0f−1モ
ルの相間移動触媒例えばアンモニウムまたはホスホニウ
ム化合物を加えて2相系例えば水酸化ナトリウムまたは
水酸化カリウム水溶液/トルエンまたは塩化メチレン中
で行うことが有利であり、その際にアルコラードは有機
相中または境界面で有機相中に存在するハロゲン化物と
反応する。
本発明の方法により得られる式(I)のヒドロキシアル
キル−アゾリル誘導体を酸付加塩または金属塩錯体に転
化し得る。
キル−アゾリル誘導体を酸付加塩または金属塩錯体に転
化し得る。
式(I)の化合物の酸付加塩の製造に対して適する酸は
好ましくは本発明による酸付加塩の記載に関連して好適
な厳として既に挙げられたものである。
好ましくは本発明による酸付加塩の記載に関連して好適
な厳として既に挙げられたものである。
式(I)の化合物の酸付加塩は通常の塩生成法により簡
単に、例えば式(I)の化合物を適当な不活性溶媒に溶
解し、酸例えば塩酸を加えることにより得ることができ
、公知の方法で、例えば濾別により単離し、そして必要
に応じて不活性有機溶媒で洗浄することにより精製する
ことができる。
単に、例えば式(I)の化合物を適当な不活性溶媒に溶
解し、酸例えば塩酸を加えることにより得ることができ
、公知の方法で、例えば濾別により単離し、そして必要
に応じて不活性有機溶媒で洗浄することにより精製する
ことができる。
式(I)の化合物の金属塩錯体の製造に対して適する金
属の塩は好ましくは本発明による金属塩錯体の記載に関
連して好適な金属塩として既に挙げられたものである。
属の塩は好ましくは本発明による金属塩錯体の記載に関
連して好適な金属塩として既に挙げられたものである。
式(I)の化合物の金属塩錯体を常法により簡単に、か
くて例えば金属塩をアルコール例えばエタノールに溶解
し、そして式(I)の化合物に加えることにより得るこ
とができる。金属塩錯体は公知の方法で、例えば濾別に
より単離することができ、そして必要に応じて再結晶に
より精製することができる。
くて例えば金属塩をアルコール例えばエタノールに溶解
し、そして式(I)の化合物に加えることにより得るこ
とができる。金属塩錯体は公知の方法で、例えば濾別に
より単離することができ、そして必要に応じて再結晶に
より精製することができる。
本発明により活性化合物は強い殺微生物(m1crob
icidal)作用を示し、そして殺菌・殺カビ剤とし
て用いることができる。
icidal)作用を示し、そして殺菌・殺カビ剤とし
て用いることができる。
かくて穀物におけるうどんこ病及びさび病、赤さび病(
Puccinia recondita) 、レプトス
フェリアQノドルム(Leptosphaeria n
odorum) 、網斑病(Pyrenophora
teres) 、斑点病(Cochlioboluss
ativus)及びプソイドセルコスポレラ・ヘルポト
リコイデス(Pseudocercosporella
herpotrich。
Puccinia recondita) 、レプトス
フェリアQノドルム(Leptosphaeria n
odorum) 、網斑病(Pyrenophora
teres) 、斑点病(Cochlioboluss
ativus)及びプソイドセルコスポレラ・ヘルポト
リコイデス(Pseudocercosporella
herpotrich。
1des)並びにイネにおけるピリキュラリア(Pyr
1cularia)及びペリキュラリア(Pe1li
cularia)を殊に良好に防除できる。加えて本化
合物は極めて良好な試験管内作用を持つ。
1cularia)及びペリキュラリア(Pe1li
cularia)を殊に良好に防除できる。加えて本化
合物は極めて良好な試験管内作用を持つ。
加えてまた、本発明による活性化合は植物生長調節特性
を持つ。
を持つ。
植物保護におけるの殺菌・殺カビ剤はプラスモジオフオ
ロミセテス(P lasmodiophoromyce
tes)、卵菌類(Oomycetes)、チトリジオ
ミセテス(chytridio−mycetes)、接
合菌類(Z ygomycetes)、異子菌類(A
scomycetes)、担子菌類(B asidom
ycetes)、及び不完全菌類(D euterom
ycetes)を防除する際に用いられる。
ロミセテス(P lasmodiophoromyce
tes)、卵菌類(Oomycetes)、チトリジオ
ミセテス(chytridio−mycetes)、接
合菌類(Z ygomycetes)、異子菌類(A
scomycetes)、担子菌類(B asidom
ycetes)、及び不完全菌類(D euterom
ycetes)を防除する際に用いられる。
上記の一般的な菌類に含まれる菌・カビ及びバクテリア
の病気のある病原体を例として次に挙げることができる
が、しかし、決してこれに限定されるものではない:キ
サントモナス(X anthomonas)種例えばキ
サントモナス・オリザエ(X anthomonaso
ryzaa) ;プソイドモナス(P seudomo
nas)種例えばプソイドモナス・ラクリマンス(p
s6udomonaslachrymans) ;エル
ウィニア(E rwinia)種例えばエルウィニア峻
アミノポラ(E rvinia amylovora
);ピチウム(p ythium)種例えば苗立枯病(
Pythiumultimum);フィトフトラ(P
hytophthora)種例えば疫病(Phytop
hthora 1nfestans);プソイドモナ
スボラ(P 5eudoperonospora、)種
例えばべと病(Pseudoperonospora
humuliまたはP 5eudoper。
の病気のある病原体を例として次に挙げることができる
が、しかし、決してこれに限定されるものではない:キ
サントモナス(X anthomonas)種例えばキ
サントモナス・オリザエ(X anthomonaso
ryzaa) ;プソイドモナス(P seudomo
nas)種例えばプソイドモナス・ラクリマンス(p
s6udomonaslachrymans) ;エル
ウィニア(E rwinia)種例えばエルウィニア峻
アミノポラ(E rvinia amylovora
);ピチウム(p ythium)種例えば苗立枯病(
Pythiumultimum);フィトフトラ(P
hytophthora)種例えば疫病(Phytop
hthora 1nfestans);プソイドモナ
スボラ(P 5eudoperonospora、)種
例えばべと病(Pseudoperonospora
humuliまたはP 5eudoper。
nospora cubense);プラスモパラ(
P lasmopara)種例えばべと病(P Ias
mopara viticola);ペロノスボラ(
P eronospora)種例えばべと病(P er
onospora pisiまたはP 、brass
icae);エリシフエ(Erysiphe)種例えば
うどんこ病(Erysiphe graminis);
スファエロセカ(Sphaerotheca)種例えば
うどんこ病(S phaerotheca fuli
ginea);ポドスフエラ(P odosphaer
a)種例えばうどんこ病(p □d□5phaera
1eucotricha);ベンチュリア(V en
tur ia)種例えば黒星病(V enturia
1naequalis);ピレノホラ(P yren
o−phora)種例えば網斑病(P yrenoph
orateresまたはP 、 graminea)(
分生胞子基型: D rechslera、同義: H
elminthosporium);コクリオボルス(
Cochliobolus)種例えば斑点病(Coch
liobolus 5ativus) (分生胞子基型
: D rechslera1同義:Helminth
osporium) ;ウロミセス(U romyce
s)種例えばさび病(Uromyces appen
diculatus);プシニア(P ucc in
ia)種例えば赤さび病(Pucciniarecon
dita);ふすべ菌属(7111etia)種例えば
網なまぐさ黒穂病(T 1lle−tia cari
es);黒穂病(Usti Iago)種例えば裸黒穂
病(U sLilago nudaまたはUstil
ago avenae);ペリキュラリア(P el
licularia)種例えば紋枯病(P ellic
ularia 5asakii);ピリキュラリア(
P yricularia)種例えばいもち病(Pyr
icularia oryzae);フーザリウム(
F usarium)種例えばフーザリウム・クルモル
ム(F usariumcu 1morum) ;灰色
かび属(B otryt is)種例えば灰色かび病(
B otrytis cinerea);セプトリア
(Septoria)種例えばふ枯病(S eptor
ia nodorum) ;レプトスフェリア(L
eptosphaar ia)種例えばレプトスフェ
リア・ノドルム(L eptosphaaria n
odorum);セルコスポラ(Carcospora
)種例えばセルコスポラ−カネセンス(Cercosp
ora canescens);アルテルナリア(A
Iternaria)種例えば黒斑病(A 1ter
naria brassicae)及びプソイドセル
コスポレラ(Pseudocercosporel l
a)種例えばプソイドセルコスポレラ・へルポトリコイ
デス(P 5eudocercospore11a
herpotrichoides)。
P lasmopara)種例えばべと病(P Ias
mopara viticola);ペロノスボラ(
P eronospora)種例えばべと病(P er
onospora pisiまたはP 、brass
icae);エリシフエ(Erysiphe)種例えば
うどんこ病(Erysiphe graminis);
スファエロセカ(Sphaerotheca)種例えば
うどんこ病(S phaerotheca fuli
ginea);ポドスフエラ(P odosphaer
a)種例えばうどんこ病(p □d□5phaera
1eucotricha);ベンチュリア(V en
tur ia)種例えば黒星病(V enturia
1naequalis);ピレノホラ(P yren
o−phora)種例えば網斑病(P yrenoph
orateresまたはP 、 graminea)(
分生胞子基型: D rechslera、同義: H
elminthosporium);コクリオボルス(
Cochliobolus)種例えば斑点病(Coch
liobolus 5ativus) (分生胞子基型
: D rechslera1同義:Helminth
osporium) ;ウロミセス(U romyce
s)種例えばさび病(Uromyces appen
diculatus);プシニア(P ucc in
ia)種例えば赤さび病(Pucciniarecon
dita);ふすべ菌属(7111etia)種例えば
網なまぐさ黒穂病(T 1lle−tia cari
es);黒穂病(Usti Iago)種例えば裸黒穂
病(U sLilago nudaまたはUstil
ago avenae);ペリキュラリア(P el
licularia)種例えば紋枯病(P ellic
ularia 5asakii);ピリキュラリア(
P yricularia)種例えばいもち病(Pyr
icularia oryzae);フーザリウム(
F usarium)種例えばフーザリウム・クルモル
ム(F usariumcu 1morum) ;灰色
かび属(B otryt is)種例えば灰色かび病(
B otrytis cinerea);セプトリア
(Septoria)種例えばふ枯病(S eptor
ia nodorum) ;レプトスフェリア(L
eptosphaar ia)種例えばレプトスフェ
リア・ノドルム(L eptosphaaria n
odorum);セルコスポラ(Carcospora
)種例えばセルコスポラ−カネセンス(Cercosp
ora canescens);アルテルナリア(A
Iternaria)種例えば黒斑病(A 1ter
naria brassicae)及びプソイドセル
コスポレラ(Pseudocercosporel l
a)種例えばプソイドセルコスポレラ・へルポトリコイ
デス(P 5eudocercospore11a
herpotrichoides)。
植物の病気を防除する際に必要な濃度で、本活性化合物
の植物による良好な許容性があるために、植物の地上部
分、生長増殖茎及び種子、並びに土壌の処理が可能であ
る。
の植物による良好な許容性があるために、植物の地上部
分、生長増殖茎及び種子、並びに土壌の処理が可能であ
る。
植物保護剤として本発明による活性化合物は穀物及びい
ね作物における病気を防除するため特に適している。
ね作物における病気を防除するため特に適している。
本発明による活性化合物は植物の代謝作用に関係し、従
って生長調節剤として用いることができる。
って生長調節剤として用いることができる。
植物生長調節剤の作用方法の今日までの経験から、活性
化合物が植物にいくつかの異なる作用を及ぼすことが分
っている。化合物の作用は本質的に該化合物を使用する
時点、植物の発育段階、並びに植物にまたはその周りに
適用する活性化合物の量及び化合物の適用方法に依存す
る。各々の場合に、生長調節剤が特定の所望の方法で穀
物植物に影響を及ぼすようにする。
化合物が植物にいくつかの異なる作用を及ぼすことが分
っている。化合物の作用は本質的に該化合物を使用する
時点、植物の発育段階、並びに植物にまたはその周りに
適用する活性化合物の量及び化合物の適用方法に依存す
る。各々の場合に、生長調節剤が特定の所望の方法で穀
物植物に影響を及ぼすようにする。
植物の生長を調節する化合物は例えば植物の生長を抑制
すために用いることができる。かかる生長抑制はなかで
も草の場合は経済的な利害関係によるものであり、その
理由はこれによって装飾用の庭、公園及び運動場内、境
界、空港でまたは果樹園内での草刈りの回数を減じるこ
とができるためである。境界及びパイプラインもしくは
オーバーランド・ライン付近内であるいは全く一般的に
、植物の大量の追加生長が望ましくない場所で草及び木
質植物の生長を抑制することは重要なことである。
すために用いることができる。かかる生長抑制はなかで
も草の場合は経済的な利害関係によるものであり、その
理由はこれによって装飾用の庭、公園及び運動場内、境
界、空港でまたは果樹園内での草刈りの回数を減じるこ
とができるためである。境界及びパイプラインもしくは
オーバーランド・ライン付近内であるいは全く一般的に
、植物の大量の追加生長が望ましくない場所で草及び木
質植物の生長を抑制することは重要なことである。
また穀物のだけの生長を抑制するための生長調節剤の使
用も重要である。これによって収穫前の植物のだおれ(
rlodgingJ )の危険が減じられるか、または
完全に除去される。更に生長調節剤は穀物の茎を強くす
ることができ、このことはまただおれを妨げる。茎を短
かく及び強くする際の生長調節剤の使用は、穀物のだお
れの危険なしに、収量を増加させるために多量の肥料を
施用することができる。
用も重要である。これによって収穫前の植物のだおれ(
rlodgingJ )の危険が減じられるか、または
完全に除去される。更に生長調節剤は穀物の茎を強くす
ることができ、このことはまただおれを妨げる。茎を短
かく及び強くする際の生長調節剤の使用は、穀物のだお
れの危険なしに、収量を増加させるために多量の肥料を
施用することができる。
多くの穀物植物の場合に、植物生長の抑制はより密集し
た植え付けを可能にし、従って土地の面積当りより多量
の収量を得ることができる。またかくして作られた小さ
な植物の利点は作物をより容易に処理しそ17て収穫で
きることである。
た植え付けを可能にし、従って土地の面積当りより多量
の収量を得ることができる。またかくして作られた小さ
な植物の利点は作物をより容易に処理しそ17て収穫で
きることである。
また植物の生長の抑制は収量の増加をもたらす、その理
由は栄養及び同化物が、植物の生長部分のt;めになる
よりも、大部分が開花及び果実形成のためになるからで
ある。
由は栄養及び同化物が、植物の生長部分のt;めになる
よりも、大部分が開花及び果実形成のためになるからで
ある。
また植物生長の促進を度々生長調節剤によって行うこと
ができる。この促進が収穫する植物の生長部分である場
合、極めて有利である。しかしながらまた、植物生長促
進は同時に繁殖の促進をもたらし、その理由はより同化
物を生じ、従って多くのまたは大きな果実が得られるた
めである。
ができる。この促進が収穫する植物の生長部分である場
合、極めて有利である。しかしながらまた、植物生長促
進は同時に繁殖の促進をもたらし、その理由はより同化
物を生じ、従って多くのまたは大きな果実が得られるた
めである。
ある場合には、植物代謝に作用して、植物生長に認めら
れるほどの変化もなく、収量の増加を図ることができる
。更に、また収穫物の良好な品質をもたらし得る植物の
組成変化を生長調節剤によってもたらすことができる。
れるほどの変化もなく、収量の増加を図ることができる
。更に、また収穫物の良好な品質をもたらし得る植物の
組成変化を生長調節剤によってもたらすことができる。
かくて例えば、てんさい、さとうきび、パイナツプル及
びかんきつ類の果実中の糖分含量を増加させるか、或い
は大豆または穀物中の蛋白含量を増加させることが可能
である。また生長調節剤を用いて、所望の成分例えばて
んさいまたはさとうきび中の糖分の減成を収穫前または
後に阻止することができる。また第二の植物成分の生成
または流出物に有利な影響を与えることができる。その
例としてゴムの木におけるラテックス流の刺激を挙げる
ことができる。
びかんきつ類の果実中の糖分含量を増加させるか、或い
は大豆または穀物中の蛋白含量を増加させることが可能
である。また生長調節剤を用いて、所望の成分例えばて
んさいまたはさとうきび中の糖分の減成を収穫前または
後に阻止することができる。また第二の植物成分の生成
または流出物に有利な影響を与えることができる。その
例としてゴムの木におけるラテックス流の刺激を挙げる
ことができる。
単為結実果実を生成調節剤の影響下で生成させることが
できる。更に花の性に影響を与えることができる。また
花粉を無効にすることができ、このことは、雑種種子の
繁殖及び製造において極めて重要である。
できる。更に花の性に影響を与えることができる。また
花粉を無効にすることができ、このことは、雑種種子の
繁殖及び製造において極めて重要である。
植物の枝分れを生長調節剤の使用によって調節すること
ができる。一方、先端の優勢を妨げることにより、側芽
の発達を促進させることができ、このことは生長抑制と
関連して装飾植物の栽培に極めて望ましいことである。
ができる。一方、先端の優勢を妨げることにより、側芽
の発達を促進させることができ、このことは生長抑制と
関連して装飾植物の栽培に極めて望ましいことである。
しかしながら一方、側芽の生長を抑制することもできる
。この作用は例えばタバコの栽培またはトマトの栽培に
おいて極めて重要である。
。この作用は例えばタバコの栽培またはトマトの栽培に
おいて極めて重要である。
植物における葉の量を生長調節剤の影響下で調節するこ
とができ、従って所望の時点で植物の落葉が行える。か
かる落葉は綿の機械的収穫に際して極めて重要であるが
、しかしまた他の作物、例えば武道栽培における収穫促
進に対しても重要である。また植物の落葉は植物を移植
する前に植物の蒸散を低下させるために行うことができ
る。
とができ、従って所望の時点で植物の落葉が行える。か
かる落葉は綿の機械的収穫に際して極めて重要であるが
、しかしまた他の作物、例えば武道栽培における収穫促
進に対しても重要である。また植物の落葉は植物を移植
する前に植物の蒸散を低下させるために行うことができ
る。
また果実の落下を生長調節剤で抑制することができる。
一方、果実の早期落下を防止することができる。しかし
ながら一方、果実の落下または花の落下を、交替を防止
するために成る程度(まばら)まで促進させることがで
きる。交替によって、内因の理由から年毎に極めて収量
を生じるために果実の成る変化の特色が理解されよう。
ながら一方、果実の落下または花の落下を、交替を防止
するために成る程度(まばら)まで促進させることがで
きる。交替によって、内因の理由から年毎に極めて収量
を生じるために果実の成る変化の特色が理解されよう。
最後に、生長調節剤を用いるこ々により、収穫時に果実
を摘果するために必要な力を減じることができ、従って
機械的収穫が可能になるか、或いは手による収穫が容易
になる。
を摘果するために必要な力を減じることができ、従って
機械的収穫が可能になるか、或いは手による収穫が容易
になる。
生長調節剤を用いて、更に収穫前または後に収穫物の成
熟を促進または遅延させることができる。
熟を促進または遅延させることができる。
このことは、これによって市場の要求に最適に適応でき
るため、殊に有利である。更に生長調節剤は時には果実
の色を改善することができる。加えてまた、生長調節剤
によって成る一定期間内に成熟を集中させることができ
る。このことは例えばタバコ、トマトまたはコーヒーの
場合に、1回の通過のみで完全に機械的または手による
収穫を行い得る必須条件を与えるものである。
るため、殊に有利である。更に生長調節剤は時には果実
の色を改善することができる。加えてまた、生長調節剤
によって成る一定期間内に成熟を集中させることができ
る。このことは例えばタバコ、トマトまたはコーヒーの
場合に、1回の通過のみで完全に機械的または手による
収穫を行い得る必須条件を与えるものである。
生長調節剤を用いて、植物の種子または芽の潜伏期間に
影響を及ぼすことができ、従って植物例えばパイナツプ
ルまたは苗床内の装飾用植物が正常でない時期はずれに
発芽し、枝を出しまたは開花する。生長調節剤による芽
の枝出しまたは種子の発芽の遅延は、晩霜による損害を
避けるために、霜の危険がある地域に望ましいことであ
る。
影響を及ぼすことができ、従って植物例えばパイナツプ
ルまたは苗床内の装飾用植物が正常でない時期はずれに
発芽し、枝を出しまたは開花する。生長調節剤による芽
の枝出しまたは種子の発芽の遅延は、晩霜による損害を
避けるために、霜の危険がある地域に望ましいことであ
る。
最後に、霜、早ばつ或いは土壌中の高度の塩含量に対す
る植物の耐性を生長調節剤によって誘発させることがで
きる。従ってこの目的に通常適さぬ場所に植物の栽培が
可能となる。
る植物の耐性を生長調節剤によって誘発させることがで
きる。従ってこの目的に通常適さぬ場所に植物の栽培が
可能となる。
本発明による活性化合物は穀物及び草の生長を抑制する
際に好適に使用し得る。
際に好適に使用し得る。
本活性化合物は、普通の組成物例えば、溶液、乳液、懸
濁剤、粉末、包沫剤、塗布剤、顆粒、エアロゾル、種子
用の重合物質中の極く細かいカプセルおよびコーティン
グ組成物、並びにULV組成物に変えることができる。
濁剤、粉末、包沫剤、塗布剤、顆粒、エアロゾル、種子
用の重合物質中の極く細かいカプセルおよびコーティン
グ組成物、並びにULV組成物に変えることができる。
これらの組成物は公知の方法において、例えば活性化合
物を伸展剤、即ち液体溶媒及び/または固体の担体と随
時表面活性剤、即ち乳化剤及び/または分散剤及び/ま
たは発泡剤と混合して製造される。また伸展剤として水
を用いる場合、例えば補助溶媒として有機溶媒を用いる
こともできる。
物を伸展剤、即ち液体溶媒及び/または固体の担体と随
時表面活性剤、即ち乳化剤及び/または分散剤及び/ま
たは発泡剤と混合して製造される。また伸展剤として水
を用いる場合、例えば補助溶媒として有機溶媒を用いる
こともできる。
液体溶媒として、主に、芳香族炭化水素例えばキンレン
、トルエンもしくはアルキルナフタレン塩素化された芳
香族もしくは脂肪族炭化水素例えハクロロベンゼン、ク
ロロエチレンもしくは塩化メチレン、脂肪族炭化水素例
えばシクロヘキサン、またはパラフィン例えば鉱油留分
、鉱油及び植物油、アルコール例えばブタノールもしく
はグリコール並びにそのエーテル及びエステル、ケトン
例えばアセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチ
ルケトンもしくはシクロヘキサノン、強い有極性溶媒例
えばジメチルホルムアミド及びジメチルスルホキシド並
びに水が適している;液化した気体の伸展剤または担体
とは、常温及び常圧では気体である液体を意味し、例え
ばハロゲン化された炭化水素並びにブタン、プロパン、
窒素及び二酸化炭素の如きエアロゾル噴射基剤である:
固体の担体として、粉砕した天然鉱物、例えばカオリン
、クレイ、タルク、チョーク、石英、アタパルジャイト
、モントモリロナイト、またはケイソウ土並びに粉砕し
た合成鉱物例えば高度に分散したケイ酸、アルミナ及び
シリケートが適している;粒剤に対する固体の担体とし
て、粉砕し且つ分別した天然岩、例えば方解石、大理石
、軽石、海泡石及び白雲石並びに無機及び有機のびされ
り合成顆粒及び有機物質の顆粒例えばおがくず、やしか
ら、トウモロコシ穂軸及びタバコ茎が適している:乳化
剤及び/または発泡剤として非イオン性及び陰イオン性
乳化剤例えばポリオキシエチレン−脂肪酸エステル、ポ
リオキシエチレン脂肪族アルコールエーテル例えばアル
キルアリールポリグリコールエーテル、アルキルスルホ
ネート、アルキルスルフェート、アリールスルホネート
並ヒにアルブミン加水分解生成物が適している:分散剤
として、例えばリグニンスルファイト廃液及びメチルセ
ルロースが適している。
、トルエンもしくはアルキルナフタレン塩素化された芳
香族もしくは脂肪族炭化水素例えハクロロベンゼン、ク
ロロエチレンもしくは塩化メチレン、脂肪族炭化水素例
えばシクロヘキサン、またはパラフィン例えば鉱油留分
、鉱油及び植物油、アルコール例えばブタノールもしく
はグリコール並びにそのエーテル及びエステル、ケトン
例えばアセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチ
ルケトンもしくはシクロヘキサノン、強い有極性溶媒例
えばジメチルホルムアミド及びジメチルスルホキシド並
びに水が適している;液化した気体の伸展剤または担体
とは、常温及び常圧では気体である液体を意味し、例え
ばハロゲン化された炭化水素並びにブタン、プロパン、
窒素及び二酸化炭素の如きエアロゾル噴射基剤である:
固体の担体として、粉砕した天然鉱物、例えばカオリン
、クレイ、タルク、チョーク、石英、アタパルジャイト
、モントモリロナイト、またはケイソウ土並びに粉砕し
た合成鉱物例えば高度に分散したケイ酸、アルミナ及び
シリケートが適している;粒剤に対する固体の担体とし
て、粉砕し且つ分別した天然岩、例えば方解石、大理石
、軽石、海泡石及び白雲石並びに無機及び有機のびされ
り合成顆粒及び有機物質の顆粒例えばおがくず、やしか
ら、トウモロコシ穂軸及びタバコ茎が適している:乳化
剤及び/または発泡剤として非イオン性及び陰イオン性
乳化剤例えばポリオキシエチレン−脂肪酸エステル、ポ
リオキシエチレン脂肪族アルコールエーテル例えばアル
キルアリールポリグリコールエーテル、アルキルスルホ
ネート、アルキルスルフェート、アリールスルホネート
並ヒにアルブミン加水分解生成物が適している:分散剤
として、例えばリグニンスルファイト廃液及びメチルセ
ルロースが適している。
接着剤例えばカルボキシメチルセルロース並びに粉状、
粒状またはラテックス状の天然及び合成重合体例えばア
ラビアゴム、ポリビニルアルコール及びポリビニルアセ
テート並びに天然リン脂質、例えばセファリン及びレン
チン、及び合成リン脂質を組成物に用いることができる
。更に添加物は鉱油及び植物油であることができる。
粒状またはラテックス状の天然及び合成重合体例えばア
ラビアゴム、ポリビニルアルコール及びポリビニルアセ
テート並びに天然リン脂質、例えばセファリン及びレン
チン、及び合成リン脂質を組成物に用いることができる
。更に添加物は鉱油及び植物油であることができる。
着色剤例えば無機顔料、例えば酸化鉄、酸化チタン及び
プルシアンブルー並びに有機染料例えばアリザリン染料
及び金属フタロシアニン染料、及び微量の栄養剤例えば
鉄、マンガン、ホウ素、銅、コバルト、モリブテン及び
亜鉛の塩を用いることができる。
プルシアンブルー並びに有機染料例えばアリザリン染料
及び金属フタロシアニン染料、及び微量の栄養剤例えば
鉄、マンガン、ホウ素、銅、コバルト、モリブテン及び
亜鉛の塩を用いることができる。
調製物は一般に活性化合物口l乃至95重量%間、好ま
しくは帆5乃至90重量%間を含有する。
しくは帆5乃至90重量%間を含有する。
本発明による活性化合物は他の公知の活性化合物、例え
ば殺菌・殺カビ剤、殺虫剤(Insec t ic 1
de)、殺ダニ剤(acar ic 1des)及び除
草剤との混合物として、並びに肥料及び他の生長調節剤
との混合物としての調製物中に存在することができる。
ば殺菌・殺カビ剤、殺虫剤(Insec t ic 1
de)、殺ダニ剤(acar ic 1des)及び除
草剤との混合物として、並びに肥料及び他の生長調節剤
との混合物としての調製物中に存在することができる。
本活性化合物はそのままで、その調製物の形態或いは該
調製物から調製した使用形態、例えば調製清液剤、乳化
可能な濃厚物、乳剤、泡末剤、懸濁剤、水利剤、塗布剤
、可溶性粉剤、粉剤及び粒剤の形態で用いることができ
る。これらのものは普通の方法において、例えば液剤散
布、スプレー、アトマイジング、粒剤散布、粉剤散布、
7オーミング(foaming)、コーティング等によ
って施用される。更に、超低容量法に従って活性化合物
を施用するか、或いは活性化合物の調製物または活性化
合物自体を土壌中に注入することによって施用すること
ができる。また植物の種子を処理することもできる。
調製物から調製した使用形態、例えば調製清液剤、乳化
可能な濃厚物、乳剤、泡末剤、懸濁剤、水利剤、塗布剤
、可溶性粉剤、粉剤及び粒剤の形態で用いることができ
る。これらのものは普通の方法において、例えば液剤散
布、スプレー、アトマイジング、粒剤散布、粉剤散布、
7オーミング(foaming)、コーティング等によ
って施用される。更に、超低容量法に従って活性化合物
を施用するか、或いは活性化合物の調製物または活性化
合物自体を土壌中に注入することによって施用すること
ができる。また植物の種子を処理することもできる。
本発明による物質を殺菌・殺カビ剤として用いる場合、
施用用量は施用のタイプに依存して比較的広い範囲内で
変えることができる。かくて植物の部分を処理する場合
、施用形態における活性化合物濃度は一般に濃度はl乃
至0.0001重量%、好ましくは0.5乃至0.00
1重量%間である。種子を処理する際には、一般に種子
IKg当り0.001〜50g1好ましくは0.01−
logの活性化合物を必要とする。
施用用量は施用のタイプに依存して比較的広い範囲内で
変えることができる。かくて植物の部分を処理する場合
、施用形態における活性化合物濃度は一般に濃度はl乃
至0.0001重量%、好ましくは0.5乃至0.00
1重量%間である。種子を処理する際には、一般に種子
IKg当り0.001〜50g1好ましくは0.01−
logの活性化合物を必要とする。
土壌を処理する際には、一般に作用場所に0.0000
1〜0.1重量%、好ましくは0゜0001〜0.02
重量%の活性化合物濃度を必要とする。
1〜0.1重量%、好ましくは0゜0001〜0.02
重量%の活性化合物濃度を必要とする。
本発明による化合物を植物生長調節剤として用いる場合
、施用量は比較的広い範囲内で変えることができる。一
般に土壌表面1ヘクタール当り0.01〜50kg、好
ましくは0.05〜10kgの活性化合物を用いる。
、施用量は比較的広い範囲内で変えることができる。一
般に土壌表面1ヘクタール当り0.01〜50kg、好
ましくは0.05〜10kgの活性化合物を用いる。
本発明による物質を植物生長調節剤として用いる場合、
これらのものは好適な時期内で用いられるが、その厳密
な定義は天候及び植物環境に依存する。
これらのものは好適な時期内で用いられるが、その厳密
な定義は天候及び植物環境に依存する。
本発明による活性化合物の製造及び使用は次の実施例か
ら知ることができる。
ら知ることができる。
製造実施例
実施例1
H
アセトニトリル20mQ中の2−(I−クロロシクロプ
ロピル’)−2−(4−クロロフェニルエチル)−オキ
シラン13.47 (0,05モル)の溶液を窒素雰
囲気下で炭酸カリウムloz、1.2゜4−トリアゾー
ル152 Co−22モル)及びアセトニトリル50
mQの混合物に滴下しながら加え、そして反応混合物を
還流下で加熱した。添加の完了後、反応混合物を還流下
で更に8時間撹拌し、残渣を吸引で濾別し、そして濾液
を減圧下で溶媒を除去することにより濃縮した。残った
残渣を酢酸エチル中に採取し、有機相を水を用いて洗浄
し、硫酸ナトリウム上で乾燥し、そして減圧下で溶媒を
除去することにより濃縮した。生じた残渣を溶離液とし
てクロロホルム/エタノール−98:2を用いてシリカ
ゲルカラム上でクロマトグラフにかけた。かくて残った
生成物をシクロヘキサンから再結晶した後、2− (I
−クロロシクロプロピル)−4−(4−クロロフェニル
)−1−(I゜2.4.−トリアゾル−1−イル)−ブ
タン−2−オール5.17 (理論値の30%)が融
点137°Cの固体物質の状態で得られた。
ロピル’)−2−(4−クロロフェニルエチル)−オキ
シラン13.47 (0,05モル)の溶液を窒素雰
囲気下で炭酸カリウムloz、1.2゜4−トリアゾー
ル152 Co−22モル)及びアセトニトリル50
mQの混合物に滴下しながら加え、そして反応混合物を
還流下で加熱した。添加の完了後、反応混合物を還流下
で更に8時間撹拌し、残渣を吸引で濾別し、そして濾液
を減圧下で溶媒を除去することにより濃縮した。残った
残渣を酢酸エチル中に採取し、有機相を水を用いて洗浄
し、硫酸ナトリウム上で乾燥し、そして減圧下で溶媒を
除去することにより濃縮した。生じた残渣を溶離液とし
てクロロホルム/エタノール−98:2を用いてシリカ
ゲルカラム上でクロマトグラフにかけた。かくて残った
生成物をシクロヘキサンから再結晶した後、2− (I
−クロロシクロプロピル)−4−(4−クロロフェニル
)−1−(I゜2.4.−トリアゾル−1−イル)−ブ
タン−2−オール5.17 (理論値の30%)が融
点137°Cの固体物質の状態で得られた。
出発物質の製造:
硫化ジメチル16m12(0,22モル)及びジメチル
硫酸24.29 (0,19モル)をt−ブタノール
30m(2に加え、そして混合物を20°Cで14時間
放置した。t−ブタノール70mQ中の1−クロロシク
ロプロピル4−クロロフェニルエチルケトン171
(0,07モル)の溶液を最初に撹拌しながら反応混合
物に滴下して加え、次に水酸化カリウム粉末229を導
入し、その際に反応混合物の温度を20〜30°Cで保
持した。混合物を30°Cで更に3時間撹拌し、次に硫
化ジメチルを減圧下で除去し、次に反応混合物を1%過
酸化水素水溶液50m12中に注いだ。混合物を酢酸エ
チルを用いて抽出しI;。有機相を水を用いて洗浄し、
そして硫酸ナトリウム上で乾燥した後、減圧下で溶媒を
除去することにより濃縮した。この方法で、2−(I−
クロロシクロプロピル)−2−(4−クロロフェニルエ
チル)−オキシラン13.4.9(理論値の75%)が
油状生成物の状態で得られ、このものを更に追加の精製
はせずに反応させた。
硫酸24.29 (0,19モル)をt−ブタノール
30m(2に加え、そして混合物を20°Cで14時間
放置した。t−ブタノール70mQ中の1−クロロシク
ロプロピル4−クロロフェニルエチルケトン171
(0,07モル)の溶液を最初に撹拌しながら反応混合
物に滴下して加え、次に水酸化カリウム粉末229を導
入し、その際に反応混合物の温度を20〜30°Cで保
持した。混合物を30°Cで更に3時間撹拌し、次に硫
化ジメチルを減圧下で除去し、次に反応混合物を1%過
酸化水素水溶液50m12中に注いだ。混合物を酢酸エ
チルを用いて抽出しI;。有機相を水を用いて洗浄し、
そして硫酸ナトリウム上で乾燥した後、減圧下で溶媒を
除去することにより濃縮した。この方法で、2−(I−
クロロシクロプロピル)−2−(4−クロロフェニルエ
チル)−オキシラン13.4.9(理論値の75%)が
油状生成物の状態で得られ、このものを更に追加の精製
はせずに反応させた。
トリス−トリフェニルホスフィン−塩化ロジウム460
nG?(0,5ミリモル)(=1モル%、反応成分に関
して)を100mρオートクレーブに加えた。窒素を吹
き込んだ後、トルエン40mQ中の1−10口シク口プ
ロピル4−10ロフエニルーエテニルケトン12?
(0,05モル)の空気を含まぬ溶液を加え、そして混
合物を30バールの水素圧力下にて50°Cに加熱した
。ガスの取込みが終了するまで(約1時間後)水素圧力
40乃至50バ一ル間に保持した。次に混合物を更に1
時間反応させた。処理のために、溶媒を減圧下で除去し
、そして残りの残渣を溶離液としてジクロロメタンを用
いてシリカゲル上で精製した。1−クロロシクロプロピ
ル4−クロロフェニルエチルケトン119 (理論値の
90%)が油状生成物の状態で得られた。
nG?(0,5ミリモル)(=1モル%、反応成分に関
して)を100mρオートクレーブに加えた。窒素を吹
き込んだ後、トルエン40mQ中の1−10口シク口プ
ロピル4−10ロフエニルーエテニルケトン12?
(0,05モル)の空気を含まぬ溶液を加え、そして混
合物を30バールの水素圧力下にて50°Cに加熱した
。ガスの取込みが終了するまで(約1時間後)水素圧力
40乃至50バ一ル間に保持した。次に混合物を更に1
時間反応させた。処理のために、溶媒を減圧下で除去し
、そして残りの残渣を溶離液としてジクロロメタンを用
いてシリカゲル上で精製した。1−クロロシクロプロピ
ル4−クロロフェニルエチルケトン119 (理論値の
90%)が油状生成物の状態で得られた。
’ H−N M R(200MHz、 CDCl、):
δ=1.28−1.38(m、2H)、1.57−1.
67(m、2H)、2.84(t。
δ=1.28−1.38(m、2H)、1.57−1.
67(m、2H)、2.84(t。
2H)、3.15(t、2H)、7.08−7.29(
m、4H)。
m、4H)。
水50m<7及び固体水酸化ナトリウム錠剤10個を室
温で1−クロロシクロプロピルメチルケトン602
(0,5モル)、4−クロロベンズアルデヒド709
(0,5モル)及びエタノール250mQの混合物に
加えた。混合物を室温で16時間撹拌した。次に沈澱し
た固体を吸引濾過した。この方法で、l−クロロシクロ
プロピル4−クロロフェニル−エチニルケトン108.
5.? (理論i<7)89%)が融点92°Cの固
体物質の状態で得られjこ 。
温で1−クロロシクロプロピルメチルケトン602
(0,5モル)、4−クロロベンズアルデヒド709
(0,5モル)及びエタノール250mQの混合物に
加えた。混合物を室温で16時間撹拌した。次に沈澱し
た固体を吸引濾過した。この方法で、l−クロロシクロ
プロピル4−クロロフェニル−エチニルケトン108.
5.? (理論i<7)89%)が融点92°Cの固
体物質の状態で得られjこ 。
実施例2
アセトニトリル30m12中の2−(4−クロロ7二二
ルエチル)−2〜(I−フェニルメルカプト−シクロプ
ロピル)−オキシラン25.1(0,1モル)の溶液を
窒素雰囲気下で炭酸カリウム142.1.2.4−トリ
アゾール212 (0,3モル)及びアセトニトリル
70m(lの混合物に滴下しながら加え、そして反応混
合物を還流下で加熱した。
ルエチル)−2〜(I−フェニルメルカプト−シクロプ
ロピル)−オキシラン25.1(0,1モル)の溶液を
窒素雰囲気下で炭酸カリウム142.1.2.4−トリ
アゾール212 (0,3モル)及びアセトニトリル
70m(lの混合物に滴下しながら加え、そして反応混
合物を還流下で加熱した。
添加の完了後、混合物を還流下で更に8時間撹拌し、残
渣を吸引で濾別し、モして濾液を減圧下で溶媒を除去す
ることにより濃縮した。残った残渣を酢酸エチル/トル
エン中に採取し、有機相を水を用いて洗浄し、硫酸ナト
リウム上で乾燥し、そして減圧下で溶媒を除去すること
により濃縮した。
渣を吸引で濾別し、モして濾液を減圧下で溶媒を除去す
ることにより濃縮した。残った残渣を酢酸エチル/トル
エン中に採取し、有機相を水を用いて洗浄し、硫酸ナト
リウム上で乾燥し、そして減圧下で溶媒を除去すること
により濃縮した。
生じた残渣を溶離液としてクロロホルム/エタノール=
99:lを用いてシリカゲルカラム上でりロマトグラフ
にかけた。残った残渣をシクロヘキサンから再結晶した
後、4−(4−クロロフェニル)−2−(I−フェニル
メルカプトシクロプロピル −ブタン−2−オール11.l&(理論値の37%)が
融点137°Cの固体の状態で得られた。
99:lを用いてシリカゲルカラム上でりロマトグラフ
にかけた。残った残渣をシクロヘキサンから再結晶した
後、4−(4−クロロフェニル)−2−(I−フェニル
メルカプトシクロプロピル −ブタン−2−オール11.l&(理論値の37%)が
融点137°Cの固体の状態で得られた。
出発物質の製造:
硫化ジメチル21m12(0.29モル)及びジメチル
硫酸32.5,? (0.26モル)をt−ブタノー
ル40mQに加え、そして混合物を室温で14時間放置
した。t−ブタノール9OrnQ中の4−クロロジフェ
ニルエチルl−フェニルメルカプト−シクロプロピルケ
トン302 (0.095モル)の溶液を撹拌しなが
ら最初に滴下して反応混合物に加え、次に水酸化カリウ
ム粉末29.2,?を導入し、その際に反応温度を20
〜30°Cで保持した。
硫酸32.5,? (0.26モル)をt−ブタノー
ル40mQに加え、そして混合物を室温で14時間放置
した。t−ブタノール9OrnQ中の4−クロロジフェ
ニルエチルl−フェニルメルカプト−シクロプロピルケ
トン302 (0.095モル)の溶液を撹拌しなが
ら最初に滴下して反応混合物に加え、次に水酸化カリウ
ム粉末29.2,?を導入し、その際に反応温度を20
〜30°Cで保持した。
混合物を30°Cで更に3時間撹拌し、次に硫化ジメチ
ルを減圧下で除去し、次に反応混合物を1%過酸化水素
水溶液70m(l中に注いだ。混合物を酢酸エチルを用
いて抽出した。有機相を水を用いて洗浄し、そして硫酸
ナトリウム上で乾燥した後に減圧下で溶媒を除去するこ
とにより濃縮した。こ)方法で、2−(4−クロロフェ
ニルエチル)−2− (I−フェニルメルカプト−シク
ロプロピル)−オキシラン25.62 (、理論値の
82%)が油状生成物の状態で得られ、このものを追加
の精製はせずに反応させた。
ルを減圧下で除去し、次に反応混合物を1%過酸化水素
水溶液70m(l中に注いだ。混合物を酢酸エチルを用
いて抽出した。有機相を水を用いて洗浄し、そして硫酸
ナトリウム上で乾燥した後に減圧下で溶媒を除去するこ
とにより濃縮した。こ)方法で、2−(4−クロロフェ
ニルエチル)−2− (I−フェニルメルカプト−シク
ロプロピル)−オキシラン25.62 (、理論値の
82%)が油状生成物の状態で得られ、このものを追加
の精製はせずに反応させた。
トリス−トリフェニルホスフィン−塩化ロジウム460
m.?(0.5ミリモル) (=1モル%、反応成分に
関して)を100m12オートクレーブに加えた。窒素
を吹き込んだ後、トルエン40mQ中の410口フェニ
ルエテニル1−フェニルメルカプト−シクロプロピルケ
トンL5.’N (0.05モル)の空気を含まぬ溶
液を加え、そして混合物を30バールの水素圧力下にて
50°Cに加熱した。
m.?(0.5ミリモル) (=1モル%、反応成分に
関して)を100m12オートクレーブに加えた。窒素
を吹き込んだ後、トルエン40mQ中の410口フェニ
ルエテニル1−フェニルメルカプト−シクロプロピルケ
トンL5.’N (0.05モル)の空気を含まぬ溶
液を加え、そして混合物を30バールの水素圧力下にて
50°Cに加熱した。
ガスの取込みが終了するまで水素圧力を40乃至50バ
一ル間に保持した。次に混合物を更に1時間反応させた
。処理のためIこ、溶媒を減圧下で除去し、そして残り
の残液を溶離液としてジクロロメタンを用いてンリカゲ
ル上で精製した。4−クロロフェニルエチル1−フェニ
ルメルカプトシクロプロピルケトン14.27(理論値
の90%)が油状生成物の状態で得られた。
一ル間に保持した。次に混合物を更に1時間反応させた
。処理のためIこ、溶媒を減圧下で除去し、そして残り
の残液を溶離液としてジクロロメタンを用いてンリカゲ
ル上で精製した。4−クロロフェニルエチル1−フェニ
ルメルカプトシクロプロピルケトン14.27(理論値
の90%)が油状生成物の状態で得られた。
’ H N M R (200 MHz, CDCI
り:δー1.25−1 、35(m,21()、1.7
5−1.90(m,2H)、2.79(t。
り:δー1.25−1 、35(m,21()、1.7
5−1.90(m,2H)、2.79(t。
2H)、3.18(t,2H)、6.95−7.45(
i,9H)。
i,9H)。
水50m12及び固体水酸化ナトリウム錠剤8個を室温
で1−フェニルメルカプトシクロプロピルメチルケトン
7’5& (0.39モル)、4−クロロベンズアル
デヒド562 (0.39モル)及びエタノール20
0m12の混合物に加えた。混合物を室温で14時間撹
拌した。次に沈澱した固体を吸引濾過した。この方法で
、4−クロロフェニルエチニル1−フェニルメルカプト
−シクロプロピルケトン120.3J(理論値の98%
)が固体物質の状態で得られた。
で1−フェニルメルカプトシクロプロピルメチルケトン
7’5& (0.39モル)、4−クロロベンズアル
デヒド562 (0.39モル)及びエタノール20
0m12の混合物に加えた。混合物を室温で14時間撹
拌した。次に沈澱した固体を吸引濾過した。この方法で
、4−クロロフェニルエチニル1−フェニルメルカプト
−シクロプロピルケトン120.3J(理論値の98%
)が固体物質の状態で得られた。
’ H N M R (200 MHz, CDC1
3):δ=1.32−1.41(m,2H)、1.87
−1.95(m,2H)、7.05−7、84([11
,IIH)。
3):δ=1.32−1.41(m,2H)、1.87
−1.95(m,2H)、7.05−7、84([11
,IIH)。
塩化メチレン130mu中の臭素134I(0.83モ
ル)の溶液を10°Cで撹拌しながら塩化メチレン40
0m(2中の5−クロロペンタン−2−オン1001
(0.83モル)の溶液に滴下して加えた。反応混合物
を室温で更に1時間撹拌し、次に水及び希釈炭酸ナトリ
ウム水溶液を用いて洗浄し、そして硫酸ナトリウム上で
乾燥した。
ル)の溶液を10°Cで撹拌しながら塩化メチレン40
0m(2中の5−クロロペンタン−2−オン1001
(0.83モル)の溶液に滴下して加えた。反応混合物
を室温で更に1時間撹拌し、次に水及び希釈炭酸ナトリ
ウム水溶液を用いて洗浄し、そして硫酸ナトリウム上で
乾燥した。
混合物を減圧下で溶媒を除去することにより濃縮し、残
渣をメタノール200mfl中に採取し、そしてチオフ
ェノール91.5.? (0,83モル)を5°Cで
撹拌しながら加えた。次にメタノール500mQ中の水
酸化カリウム粉末932の混合物を滴下しながら加えた
。反応混合物を最初に室温で2時間、次に40°Cで4
時間撹拌した。次に混合物を減圧下で溶媒を除去するこ
とにより濃縮し、そして残った残渣を塩化メチレン中に
採取した。有機溶液を順次水、希釈水酸化ナトリウム水
溶液及び再び水を用いて洗浄し、次に減圧下で濃縮し、
次に真空蒸留した。この方法で沸点155°C/20ミ
リバールのメチルI−フェニルーメルカプトシクロプロ
ピルケトン76.81 (理論値の48%)が得られ
た。
渣をメタノール200mfl中に採取し、そしてチオフ
ェノール91.5.? (0,83モル)を5°Cで
撹拌しながら加えた。次にメタノール500mQ中の水
酸化カリウム粉末932の混合物を滴下しながら加えた
。反応混合物を最初に室温で2時間、次に40°Cで4
時間撹拌した。次に混合物を減圧下で溶媒を除去するこ
とにより濃縮し、そして残った残渣を塩化メチレン中に
採取した。有機溶液を順次水、希釈水酸化ナトリウム水
溶液及び再び水を用いて洗浄し、次に減圧下で濃縮し、
次に真空蒸留した。この方法で沸点155°C/20ミ
リバールのメチルI−フェニルーメルカプトシクロプロ
ピルケトン76.81 (理論値の48%)が得られ
た。
実施例3及び4
ジメチルホルムアミド30mQ中の2−(2,4−ジク
ロロフェニルエチニル) −2−(I−7’口ピルメル
カブトシク口プロビル)−オキシラン38.29 (
0,12モル)の溶液を窒素雰囲気下にて80°Cで撹
拌しながら1.2.4−1リアゾール24.? (0
,35モル)、カリウムt−ブタノール2.7i (
0,02モル)及びジメチルホルムアミド50m(2の
混合物に滴下しながら加えた。混合物を80°Cで6時
間撹拌し、次に溶媒を減圧下で除去し、残渣を酢酸エチ
ル/トルエン中に採取し、水を用いて洗浄し、硫酸ナト
リウム上で乾燥し、そして減圧下で濃縮した。残った残
液を溶離液トしてクロロホルムを用いてシリカゲル上で
クロマトグラフにかけた。この方法で、トランス−4−
(2,4−ジクロロフェニル)−2−(I−プロピルメ
ルカプトシクロプロピル)−1−(I゜2.4−トリア
ゾル−1−イル)−ブドー3−エン−2−オール12.
1.? (理論値の26%)が油状生成物の状態で得
られた。
ロロフェニルエチニル) −2−(I−7’口ピルメル
カブトシク口プロビル)−オキシラン38.29 (
0,12モル)の溶液を窒素雰囲気下にて80°Cで撹
拌しながら1.2.4−1リアゾール24.? (0
,35モル)、カリウムt−ブタノール2.7i (
0,02モル)及びジメチルホルムアミド50m(2の
混合物に滴下しながら加えた。混合物を80°Cで6時
間撹拌し、次に溶媒を減圧下で除去し、残渣を酢酸エチ
ル/トルエン中に採取し、水を用いて洗浄し、硫酸ナト
リウム上で乾燥し、そして減圧下で濃縮した。残った残
液を溶離液トしてクロロホルムを用いてシリカゲル上で
クロマトグラフにかけた。この方法で、トランス−4−
(2,4−ジクロロフェニル)−2−(I−プロピルメ
ルカプトシクロプロピル)−1−(I゜2.4−トリア
ゾル−1−イル)−ブドー3−エン−2−オール12.
1.? (理論値の26%)が油状生成物の状態で得
られた。
’ HN M R(200Mn2. CDC13):δ
=0.75−1.65(m、9H)、2.63(t、2
H)、4.62(d、Lo)、4.73(d、IH)、
6.30(d、 tH)、6.90(d、LH)、7.
12−7.42(m、3H)、7.90(s 、 IH
)、8.17(s、IH)。
=0.75−1.65(m、9H)、2.63(t、2
H)、4.62(d、Lo)、4.73(d、IH)、
6.30(d、 tH)、6.90(d、LH)、7.
12−7.42(m、3H)、7.90(s 、 IH
)、8.17(s、IH)。
シス−4−(2,4−ジクロロフェニル)−2−(l−
プロピルメルカプトシクロプロピル)−1−(I,2,
4−トリアゾル−1−イル)−ブドー3−エン−2−オ
ール1.8jl (理論値の4%)を加えて単離した
(化合物l−4)。
プロピルメルカプトシクロプロピル)−1−(I,2,
4−トリアゾル−1−イル)−ブドー3−エン−2−オ
ール1.8jl (理論値の4%)を加えて単離した
(化合物l−4)。
’ HN M R(200MHz、 CDCIa):8
□0.75−1.10(m、7H)、1.50(sex
、2H)、4.40(t、2H)、4.35−4.53
(m、3H)、5.97(d、 11()、7.00(
d、II()、7.20−7.44(m、3H)、7−
92(s、IH)、8.13(s、IH)。
□0.75−1.10(m、7H)、1.50(sex
、2H)、4.40(t、2H)、4.35−4.53
(m、3H)、5.97(d、 11()、7.00(
d、II()、7.20−7.44(m、3H)、7−
92(s、IH)、8.13(s、IH)。
出発物質の製造:
硫化ジメチル30ma(0,41モル)及びジメチル硫
酸43.52 (Oi5モル)をt−ブタノール60n
+Qに加え、そして室温で14時間放置した。t−ブタ
ノール120mM中の2,4−ジクロロフェニルエチニ
ル ロプロピルケトン40,? (0.13モル)の溶液
を最初に撹拌しながら反応混合物に滴下して加え、次に
水酸化カリウム粉末39.1,?を導入し、その際に反
応混合物の温度を20〜30°Cで保持し□た。混合物
を30°Cで更に3時間撹拌し、次に硫化ジメチルを減
圧下で除去し、次に反応混合物を1%過酸化水素水溶液
7OmQ中に注いだ。混合物を酢酸エチルを用いて抽出
した。有機相を水を用いて洗浄し、そして硫酸ナトリウ
ム上で乾燥後に減圧下で溶媒を除去することにより濃縮
した。この方法で、2− (2.4−ジクロロフェニル
エチニル)−2− (I−プロピルメルカプトシクロプ
ロピル)−オキシラン38.2IC理論値の91%)が
油状生成物の状態で得られζこのものを追加の精製なし
で更に反応させた。
酸43.52 (Oi5モル)をt−ブタノール60n
+Qに加え、そして室温で14時間放置した。t−ブタ
ノール120mM中の2,4−ジクロロフェニルエチニ
ル ロプロピルケトン40,? (0.13モル)の溶液
を最初に撹拌しながら反応混合物に滴下して加え、次に
水酸化カリウム粉末39.1,?を導入し、その際に反
応混合物の温度を20〜30°Cで保持し□た。混合物
を30°Cで更に3時間撹拌し、次に硫化ジメチルを減
圧下で除去し、次に反応混合物を1%過酸化水素水溶液
7OmQ中に注いだ。混合物を酢酸エチルを用いて抽出
した。有機相を水を用いて洗浄し、そして硫酸ナトリウ
ム上で乾燥後に減圧下で溶媒を除去することにより濃縮
した。この方法で、2− (2.4−ジクロロフェニル
エチニル)−2− (I−プロピルメルカプトシクロプ
ロピル)−オキシラン38.2IC理論値の91%)が
油状生成物の状態で得られζこのものを追加の精製なし
で更に反応させた。
固体水酸化ナトリウム錠剤5個を室温で1−アセチル−
l−プロビルメルカプトーシクロプロパン41.7.?
(0,26モル)、2.4−ジクロロペンズアルデ
ヒF46Lj (0,26モル)、エタノール130m
12及びジクロロメタン30mQの混合物を室温で更に
14時間撹拌した。水50mQを加え、油相を分別し、
そしてジクロロメタン中に採取した。有機相を水を用い
て洗浄し、硫酸ナトリウム上で乾燥し、そして減圧下で
溶媒を除去することにより濃縮した。この方法で、2.
4−ジクロロフェニルエチニルl−7’口ピルメルカブ
トシクロブロピルケトン(シス−トランス異性体)80
:i (理論値の97%)が油状生成物の状態で得られ
l二。
l−プロビルメルカプトーシクロプロパン41.7.?
(0,26モル)、2.4−ジクロロペンズアルデ
ヒF46Lj (0,26モル)、エタノール130m
12及びジクロロメタン30mQの混合物を室温で更に
14時間撹拌した。水50mQを加え、油相を分別し、
そしてジクロロメタン中に採取した。有機相を水を用い
て洗浄し、硫酸ナトリウム上で乾燥し、そして減圧下で
溶媒を除去することにより濃縮した。この方法で、2.
4−ジクロロフェニルエチニルl−7’口ピルメルカブ
トシクロブロピルケトン(シス−トランス異性体)80
:i (理論値の97%)が油状生成物の状態で得られ
l二。
’HN M R(200MHz、 CDC1a):δ−
0,95(t、3)1)、1.19−1.29(m、2
H)、1.50−1−70(m。
0,95(t、3)1)、1.19−1.29(m、2
H)、1.50−1−70(m。
41()、2.57(t 、 2H)、7.20−7.
95(m、5H)。
95(m、5H)。
塩化メチレン130m(l中の臭素1341(0,83
モル)の溶液を撹拌しながら10℃で塩化メチレン40
0mQ中の5−クロロペンタン−2−オン100.?
(0,83モル)の溶液に滴下して加えた。反応混合
物を室温で更に1時間撹拌し、次に水及び希釈炭酸ナト
リウム水溶液を用いて洗浄し、そして硫酸ナトリウム上
で乾燥した。
モル)の溶液を撹拌しながら10℃で塩化メチレン40
0mQ中の5−クロロペンタン−2−オン100.?
(0,83モル)の溶液に滴下して加えた。反応混合
物を室温で更に1時間撹拌し、次に水及び希釈炭酸ナト
リウム水溶液を用いて洗浄し、そして硫酸ナトリウム上
で乾燥した。
混合物を減圧下で溶媒を除去することにより濃縮し、残
渣をメタノール200mQ中に採取し、そしてn−プロ
ピルメルカプタン637 (0,83モル)を撹拌し
ながら5℃で加えた。次にメタノール500m(2中の
水酸化カリウム932の混合物を滴下しながら加えた。
渣をメタノール200mQ中に採取し、そしてn−プロ
ピルメルカプタン637 (0,83モル)を撹拌し
ながら5℃で加えた。次にメタノール500m(2中の
水酸化カリウム932の混合物を滴下しながら加えた。
反応混合物を最初に室温で2時間、次に40℃で4時間
撹拌した。次に混合物を減圧下で溶媒を除去することに
より濃縮し、そして残った残渣を塩化メチレン中に採取
した。
撹拌した。次に混合物を減圧下で溶媒を除去することに
より濃縮し、そして残った残渣を塩化メチレン中に採取
した。
有機溶液を順次水、希釈水酸化ナトリウム水溶液及び再
び水を用いて洗浄し、次に減圧下で濃縮し、次に真空蒸
留した。この方法で、沸点107℃/20ミリバールの
1−アセチル−1−グロビルメルカプトシクログロバン
422 (理論値の32%)が得られた。
び水を用いて洗浄し、次に減圧下で濃縮し、次に真空蒸
留した。この方法で、沸点107℃/20ミリバールの
1−アセチル−1−グロビルメルカプトシクログロバン
422 (理論値の32%)が得られた。
実施例5
H
また4−(4−シクロフェニル) −2−[1−(2,
4−ジクロロフェノキシ)−シクロプロピル]−1−(
I,2,4−トリアゾル−1−イル)−ブタン−2−オ
ールが以前に与えられた方法により油状生成物の状態で
得られた。
4−ジクロロフェノキシ)−シクロプロピル]−1−(
I,2,4−トリアゾル−1−イル)−ブタン−2−オ
ールが以前に与えられた方法により油状生成物の状態で
得られた。
’HN M R(200MHz、 CDCl5):a
=0.25−0.45(m、2H)、0.67−0.8
3(m、 IH)、0.83−1.05(m、LH)、
1.80−2−15(m 、 2H)、2.70−2−
90(m 。
=0.25−0.45(m、2H)、0.67−0.8
3(m、 IH)、0.83−1.05(m、LH)、
1.80−2−15(m 、 2H)、2.70−2−
90(m 。
IH)、2.90−3.13(m、lH)、4.16(
s、LH)、4.38(d。
s、LH)、4.38(d。
IH)、4.70(a、to)、7.00−7.40(
m、7H)、8.02(s。
m、7H)、8.02(s。
IH)、8.38(s 、 IH)。
また以前に与えられた実施例に記載された方法により次
の第3表に示される物質が得られた。
の第3表に示される物質が得られた。
区 区
派 派
z z z
z z z
z zz
z z z
z z z
z z z z
z z z z
z :e :1::e
:ll: :1::e 冨−一
一一一一一一 次の使用例において比較物質として下記の式の化合物を
用いた: 1”111 (ヨーロッパ特許出願公開筒0.040.345号から
公知) H (ヨーロッパ特許出願公開筒0.180,136号から
公知) (ヨーロッパ特許出願公開筒0.180.136号から
公知) I (ヨーロッパ特許出願公開筒0.180,136号から
公知) lH (ヨーロッパ特許出願公開筒0.015,387号から
公知) 実施例A 黒星病(Venturia)試験(リンゴ)/保護溶
媒:アセトン4.7重量部 乳化剤:アルキルアリールポリグリコールエーテル0.
3重量部 活性化合物の適当な調製物を製造するために、活性化合
物1重量部を上記量の溶媒及び乳化剤と混合し、この濃
厚物を水で希釈して所望の濃度にし Iこ 。
z z z
z zz
z z z
z z z
z z z z
z z z z
z :e :1::e
:ll: :1::e 冨−一
一一一一一一 次の使用例において比較物質として下記の式の化合物を
用いた: 1”111 (ヨーロッパ特許出願公開筒0.040.345号から
公知) H (ヨーロッパ特許出願公開筒0.180,136号から
公知) (ヨーロッパ特許出願公開筒0.180.136号から
公知) I (ヨーロッパ特許出願公開筒0.180,136号から
公知) lH (ヨーロッパ特許出願公開筒0.015,387号から
公知) 実施例A 黒星病(Venturia)試験(リンゴ)/保護溶
媒:アセトン4.7重量部 乳化剤:アルキルアリールポリグリコールエーテル0.
3重量部 活性化合物の適当な調製物を製造するために、活性化合
物1重量部を上記量の溶媒及び乳化剤と混合し、この濃
厚物を水で希釈して所望の濃度にし Iこ 。
保護活性を試験するために、若い植物に活性化合物の調
製物をしたたり落ちる程度にぬれるまで噴霧した。噴霧
コーティングが乾燥した後、この植物にリンゴ黒星病原
細菌[apple 5cab causaLive o
rganism (Venturia 1naequa
lis)]の分生胞子器の水性懸濁液を接種し、次に2
0℃及び相対湿度100%で培養室に1日間酸いた。
製物をしたたり落ちる程度にぬれるまで噴霧した。噴霧
コーティングが乾燥した後、この植物にリンゴ黒星病原
細菌[apple 5cab causaLive o
rganism (Venturia 1naequa
lis)]の分生胞子器の水性懸濁液を接種し、次に2
0℃及び相対湿度100%で培養室に1日間酸いた。
この植物を約20°Cの温度及び約70%の相対湿度で
温床に置いた。
温床に置いた。
評価を接種の12日後に行った。
この試験において、本発明による化合物(I−1)は、
比較物質(A)及び(B)より良好な活性を示した。そ
の結果を第A表に示す。
比較物質(A)及び(B)より良好な活性を示した。そ
の結果を第A表に示す。
第A表
黒星病試験(リンゴ)/保護
公知:
u
(B)
本発明による:
R
実施例B
斑点病(Cochliobolus 5ativus)
試験(大麦)/保護 溶 媒ニジメチルホルムアミド100重量部乳化剤:ア
ルキルアリールポリグリコールエーテル0.25重量部 活性化合物の適当な調製物を製造するために、活性化合
物1重量部を上記量の溶媒及び乳化剤と混合し、そして
濃厚物を水で所望の濃度に希釈しIこ 。
試験(大麦)/保護 溶 媒ニジメチルホルムアミド100重量部乳化剤:ア
ルキルアリールポリグリコールエーテル0.25重量部 活性化合物の適当な調製物を製造するために、活性化合
物1重量部を上記量の溶媒及び乳化剤と混合し、そして
濃厚物を水で所望の濃度に希釈しIこ 。
保護活性を試験するために、若い植物に活性化合物の調
製物をしたたり落る程度にぬれるまで噴霧した。噴霧コ
ーティングが乾燥した後、植物に斑点病の胞子懸濁液を
噴霧した。この植物を2゜°C及び100%の相対湿度
で48時間培養室中に置いた。
製物をしたたり落る程度にぬれるまで噴霧した。噴霧コ
ーティングが乾燥した後、植物に斑点病の胞子懸濁液を
噴霧した。この植物を2゜°C及び100%の相対湿度
で48時間培養室中に置いた。
植物を約20°Cの温度及び約80%の相対湿度で温床
中に置いた。
中に置いた。
評価を接種7日後に行った。
この試験において、本発明による化合物(’l−1)及
び(I’ −5)は比較物質(C)及び(D)より良好
な活性を示した。
び(I’ −5)は比較物質(C)及び(D)より良好
な活性を示した。
その結果を第B表に示す。
第B表
斑点病試験(大麦)/保護
本発明による:
nl(
実施例C
小麦の生長
溶 媒ニジメチルホルムアミド30重量部乳化剤:ポリ
オキシエチレンソルビタンモノラウレート1重量部 活性化合物の適当な調製物を製造するために、活性化合
物1重量部を上記量の溶媒及び乳化剤と混合し、この混
合物を水で所望の濃度にした。
オキシエチレンソルビタンモノラウレート1重量部 活性化合物の適当な調製物を製造するために、活性化合
物1重量部を上記量の溶媒及び乳化剤と混合し、この混
合物を水で所望の濃度にした。
小麦植物2−葉段階まで温床中にて発育させた。
この段階で、植物に活性化合物の調製物をしたたり落る
程度にぬれるまで噴霧した。2週間後、追加の生長を全
ての植物について測定し、対照植物の追加生長の百分率
における生長抑制を計算した。
程度にぬれるまで噴霧した。2週間後、追加の生長を全
ての植物について測定し、対照植物の追加生長の百分率
における生長抑制を計算した。
100%は対照植物に対応する生長を表わし、モして0
%は生長が完全に止ったことを意味する。
%は生長が完全に止ったことを意味する。
100%以上の値は生長の促進を特徴づける。
この試験において、本発明による化合物(I−38)は
比較物質(E)より顕著に良好な活性を示した。その結
果を第0表に示す。
比較物質(E)より顕著に良好な活性を示した。その結
果を第0表に示す。
第0表
小麦の生長
(対照)
1”IM
(E)(公知)
lH−
実施例り
大麦の生長
溶 媒ニジメチルホルムアミド30重量部乳化剤:ポリ
オキシエチレンソルビタンモノラウレート1重量部 活性化合物の適当な調製物を製造するために、活性化合
物1重量部を上記量の溶媒及び乳化剤と混合し、この混
合物を水で所望の濃度にした。
オキシエチレンソルビタンモノラウレート1重量部 活性化合物の適当な調製物を製造するために、活性化合
物1重量部を上記量の溶媒及び乳化剤と混合し、この混
合物を水で所望の濃度にした。
大麦植物2−葉段階まで温床中にて発育させた。
この段階で、植物に活性化合物の調製物をしたたり落ち
る程度にぬれるまで噴霧した。2週間後、追加の生長を
全ての植物について測定し、対照植物の追加生長の百分
率における生長抑制を計算した。100%は対照植物に
対応する生長を表わし、モして0%は生長が完全に止っ
たことを意味する。
る程度にぬれるまで噴霧した。2週間後、追加の生長を
全ての植物について測定し、対照植物の追加生長の百分
率における生長抑制を計算した。100%は対照植物に
対応する生長を表わし、モして0%は生長が完全に止っ
たことを意味する。
100%以上の値は生長の促進を特徴づける。
この試験において、本発明による化合物(I−38)は
極めて良好な生長抑制作用を示した。その結果を第り表
に示す。
極めて良好な生長抑制作用を示した。その結果を第り表
に示す。
第り表
大麦の生長
(対照)
0■
きH2
実施例E
草[フエスツ力・プラテンシス(Festuca pr
atensis)]の生長 溶媒ニジメチルホルムアミド30重量部乳化剤:ポリオ
キシエチレンソルビタンモノラウニー計重M量部 活性化合物の適当な調製物を製造するために、活性化合
物1重量部を上記量の溶媒及び乳化剤と混合し、この混
合物を水で所望の濃度にした。
atensis)]の生長 溶媒ニジメチルホルムアミド30重量部乳化剤:ポリオ
キシエチレンソルビタンモノラウニー計重M量部 活性化合物の適当な調製物を製造するために、活性化合
物1重量部を上記量の溶媒及び乳化剤と混合し、この混
合物を水で所望の濃度にした。
草(Festuca pratensis)を5cm
の高さに生長するまで温床で発育させた。この段階で植
物に活性化合物の調製物をしたたり落る程度にぬれるま
で噴霧した。2週間後、追加の生長を測定し、対照植物
の追加生長の百分率における生長抑制を計算した。10
0%は対照植物に対応する生長を表わし、そして0%は
生長が止ったことを表わす。
の高さに生長するまで温床で発育させた。この段階で植
物に活性化合物の調製物をしたたり落る程度にぬれるま
で噴霧した。2週間後、追加の生長を測定し、対照植物
の追加生長の百分率における生長抑制を計算した。10
0%は対照植物に対応する生長を表わし、そして0%は
生長が止ったことを表わす。
100%以上の値は生長の促進を特徴づける。
この試験にむいて、本発明による化合物(I−38)は
比較物質(F)及び(E)より顕著に良好な生長抑制活
性を示した。その結果を第E表に示す。
比較物質(F)及び(E)より顕著に良好な生長抑制活
性を示した。その結果を第E表に示す。
第E表
草(Festuca pratensis)の生長−=
100 −(対照) H (E)(公知) (CHi:hc−CH=CH−睡)→ 曹・ 実施例F ライムギの生長 溶 媒ニジメチルホルムアミド30重量部乳化剤:ポリ
オキシエチレンソルビタンモノラウレート1重量部 活性化合物の適当な調製物を製造するために、活性化合
物1重量部を上記量の溶媒及び乳化剤と混合し、この混
合物を水で所望の濃度にした。
100 −(対照) H (E)(公知) (CHi:hc−CH=CH−睡)→ 曹・ 実施例F ライムギの生長 溶 媒ニジメチルホルムアミド30重量部乳化剤:ポリ
オキシエチレンソルビタンモノラウレート1重量部 活性化合物の適当な調製物を製造するために、活性化合
物1重量部を上記量の溶媒及び乳化剤と混合し、この混
合物を水で所望の濃度にした。
ライムギ植物を2−葉段階まで温床中にて発育させた。
この段階で、植物に活性化合物の調製物をしたたり落る
程度にぬれるまで噴霧した。2週間後、追加の生長を全
ての植物について測定し、対照植物の追加生長の百分率
における生長抑制を計算した。100%は対照に対応す
る生長を表わし、そして0%は生長が完全に止ったこと
を表わす。100%以上の値は生長の促進を特徴づける
。
程度にぬれるまで噴霧した。2週間後、追加の生長を全
ての植物について測定し、対照植物の追加生長の百分率
における生長抑制を計算した。100%は対照に対応す
る生長を表わし、そして0%は生長が完全に止ったこと
を表わす。100%以上の値は生長の促進を特徴づける
。
この試験において、本発明による化合物(I−38)は
比較物質(G)より顕著に良好な生長抑制活性を示した
。その結果を第F表に示す。
比較物質(G)より顕著に良好な生長抑制活性を示した
。その結果を第F表に示す。
第F表
ライムギの生長
(対照)
■
H
(CH3)3C−CH=CH−い5;二く1費
本発明の主なる特徴及び態様は以下のとおりである。
1、式
np
式中、Rは水素、アルキルまたはアシルを表わし、
R1はハロゲン、随時置換されていてもよいフェニルま
たは基−Z−R3を表わし、ここに Zは酸素、硫黄、SOまたはSO□を表わし、そして R3は随時置換されていてもよいアルキル、随時置換さ
れていてもよいフェニルまたは随時置換されていてもよ
いフェニルアルキルを表わし、 R2は随時置換されていてもよいアルキル、随時置換さ
れていてもよいシクロアルキル、随時置換されていても
よいす7チルまたはの基を表わし、ここに R4はハロゲン、炭素原子1〜4個を有するアルキル、
炭素原子1〜4個を有するアルコキシ、炭素原子1〜4
個を有するアルキルチオ、炭素原子lもしくは2個及び
ハロゲン原子1〜5個を有するハロゲノアルキル、炭素
原子lもしくは2個及びハロゲン原子1〜5個を有する
ハロゲノアルコキシ、炭素原子lもしくは2個及びハロ
ゲン原子1〜5個を有するハロゲノアルキルチオ、随時
炭素原子1もしくは′2個を有するアルキル及び/また
はハロゲンで置換されていてもよいフェニル、随時炭素
原子lもしくは2個を有するアルキル及び/またはハロ
ゲンで置換されていてもよいフェノキシ、ニトロ、アミ
ノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、アリールアミ
ノまたはアルキルカルボニルアミノを表わし、モして mは0.1,2または3の数を表わすか、或いは R2は式 %式% Xは窒素またはCH基を表わし、そしてYは基−CH2
−CH,−1−CH=CH−1−C=C−1R“
Ra を表わし、ここに R5、R6、R7及びR8は相互に独立して水素または
炭素原子1〜4個を有するアルキルを表わす、 のヒドロキシアルキル−アゾリル誘導体、並びにその酸
付加塩及び金属塩錯体。
たは基−Z−R3を表わし、ここに Zは酸素、硫黄、SOまたはSO□を表わし、そして R3は随時置換されていてもよいアルキル、随時置換さ
れていてもよいフェニルまたは随時置換されていてもよ
いフェニルアルキルを表わし、 R2は随時置換されていてもよいアルキル、随時置換さ
れていてもよいシクロアルキル、随時置換されていても
よいす7チルまたはの基を表わし、ここに R4はハロゲン、炭素原子1〜4個を有するアルキル、
炭素原子1〜4個を有するアルコキシ、炭素原子1〜4
個を有するアルキルチオ、炭素原子lもしくは2個及び
ハロゲン原子1〜5個を有するハロゲノアルキル、炭素
原子lもしくは2個及びハロゲン原子1〜5個を有する
ハロゲノアルコキシ、炭素原子lもしくは2個及びハロ
ゲン原子1〜5個を有するハロゲノアルキルチオ、随時
炭素原子1もしくは′2個を有するアルキル及び/また
はハロゲンで置換されていてもよいフェニル、随時炭素
原子lもしくは2個を有するアルキル及び/またはハロ
ゲンで置換されていてもよいフェノキシ、ニトロ、アミ
ノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、アリールアミ
ノまたはアルキルカルボニルアミノを表わし、モして mは0.1,2または3の数を表わすか、或いは R2は式 %式% Xは窒素またはCH基を表わし、そしてYは基−CH2
−CH,−1−CH=CH−1−C=C−1R“
Ra を表わし、ここに R5、R6、R7及びR8は相互に独立して水素または
炭素原子1〜4個を有するアルキルを表わす、 のヒドロキシアルキル−アゾリル誘導体、並びにその酸
付加塩及び金属塩錯体。
2、Rが水素、炭素原子1〜6個を有するアルキルまた
はアルキル部分に炭素原子1〜6個を有するアルキルカ
ルボニルを表わし R1がフッ素、塩素、臭素、随時ハ
ロゲン、炭素原子lもしくは2個及びハロゲン原子1〜
5個を有するハロゲノアルキル、炭素原子1〜4個を有
するアルキル及び/または炭素原子1〜4個を有するア
ルコキシで置換されていてもよいフェニル或いは基−2
−R3を表わし、ここにZが酸素、硫黄、SOまたはS
O□を表わし、モしてR3が随時炭素原子1〜4個を有
するアルコキシ、炭素原子1〜4個を有するアルキルチ
オ、フェニル及び/またはハロゲンで置換されていても
よい炭素原子1〜6個を有するアルキル、随時ハロゲン
、炭素原子lもしくは2個及びハロゲン原子1〜5個を
有するハロゲノアルキル、炭素原子1〜4個を有するア
ルキル及び/または炭素原子1〜4個を有するアルコキ
シで置換されていてもよいフェニルあるいはU時フェニ
ル部分においてハロゲン、炭素原子lもしくは2個及び
ハロゲン原子1〜5個を有するハロゲノアルキル、炭素
原子1〜4個を有するアルキル及び/または炭素原子1
〜4個を有するアルコキシを表わし、R2が随時炭素原
子1〜4個をは有するアルコキシ、炭素原子1〜4個を
有するアルキルチオ、フェニル及び/またはハロゲンで
置換されていてもよい炭素原子1〜6個をは有するアル
キル、随時炭素原子1〜4個を有するアルキル及び/ま
たはハロゲンで置換されていてもよい炭素原子3〜8個
を有するシクロアルキル、随時炭素原子1〜4個を有す
るアルキル及び/またはハロゲンで置換されていてもよ
いナフチル或いは式 の基を表わし、ここにR4がフッ素、塩素、臭素、メチ
ル、エチル、イソプロピル、(−ブチル、メトキシ、メ
チルチオ、トリフルオロメチル、トリフルオロメトキシ
、トリフルオロメチルチオ、随 ゛時フッ素、塩素及び
/またはメチルで置換されていてもよいフェニル、随時
フッ素、塩素及び/またはメチルで置換されていてもよ
いフェノキシ、ニトロ、アミノ、アルキル基中に炭素原
子1〜4個を有するアルキルアミノ、各々のアルキル基
中に炭素原子1〜4個を有するジアルキルアミノ、フェ
ニルアミノ或いはアルキル基中に炭素原子1〜4個を有
するアルキルカルボニルアミノを表わし、モしてmが0
、l、2または3を表わすか、或いはR2が式 の基を表わし、Xは窒素またはCH基を表わし、モして
Yが基−CH!−CH,−1−CH=CH−1−CEC
−1を表わし、ここにR’、R“、Rr及びR6は相互
に独立して水素、メチルまたはエチルを表わす、上記l
に記載の式CI)のヒドロキシアルキル−アゾリル誘導
体。
はアルキル部分に炭素原子1〜6個を有するアルキルカ
ルボニルを表わし R1がフッ素、塩素、臭素、随時ハ
ロゲン、炭素原子lもしくは2個及びハロゲン原子1〜
5個を有するハロゲノアルキル、炭素原子1〜4個を有
するアルキル及び/または炭素原子1〜4個を有するア
ルコキシで置換されていてもよいフェニル或いは基−2
−R3を表わし、ここにZが酸素、硫黄、SOまたはS
O□を表わし、モしてR3が随時炭素原子1〜4個を有
するアルコキシ、炭素原子1〜4個を有するアルキルチ
オ、フェニル及び/またはハロゲンで置換されていても
よい炭素原子1〜6個を有するアルキル、随時ハロゲン
、炭素原子lもしくは2個及びハロゲン原子1〜5個を
有するハロゲノアルキル、炭素原子1〜4個を有するア
ルキル及び/または炭素原子1〜4個を有するアルコキ
シで置換されていてもよいフェニルあるいはU時フェニ
ル部分においてハロゲン、炭素原子lもしくは2個及び
ハロゲン原子1〜5個を有するハロゲノアルキル、炭素
原子1〜4個を有するアルキル及び/または炭素原子1
〜4個を有するアルコキシを表わし、R2が随時炭素原
子1〜4個をは有するアルコキシ、炭素原子1〜4個を
有するアルキルチオ、フェニル及び/またはハロゲンで
置換されていてもよい炭素原子1〜6個をは有するアル
キル、随時炭素原子1〜4個を有するアルキル及び/ま
たはハロゲンで置換されていてもよい炭素原子3〜8個
を有するシクロアルキル、随時炭素原子1〜4個を有す
るアルキル及び/またはハロゲンで置換されていてもよ
いナフチル或いは式 の基を表わし、ここにR4がフッ素、塩素、臭素、メチ
ル、エチル、イソプロピル、(−ブチル、メトキシ、メ
チルチオ、トリフルオロメチル、トリフルオロメトキシ
、トリフルオロメチルチオ、随 ゛時フッ素、塩素及び
/またはメチルで置換されていてもよいフェニル、随時
フッ素、塩素及び/またはメチルで置換されていてもよ
いフェノキシ、ニトロ、アミノ、アルキル基中に炭素原
子1〜4個を有するアルキルアミノ、各々のアルキル基
中に炭素原子1〜4個を有するジアルキルアミノ、フェ
ニルアミノ或いはアルキル基中に炭素原子1〜4個を有
するアルキルカルボニルアミノを表わし、モしてmが0
、l、2または3を表わすか、或いはR2が式 の基を表わし、Xは窒素またはCH基を表わし、モして
Yが基−CH!−CH,−1−CH=CH−1−CEC
−1を表わし、ここにR’、R“、Rr及びR6は相互
に独立して水素、メチルまたはエチルを表わす、上記l
に記載の式CI)のヒドロキシアルキル−アゾリル誘導
体。
3、式
式中、Rは水素、アルキルまたはアンルを表わし、
R’はハロゲン、随時置換されていてもよいフェニルま
たは基−Z−R3を表わし、ここに Zは酸素、硫黄、SOまたはSO□を表わし、そして R3は随時置換されていてもよいアルキル、随時置換さ
れていてもよいフェニルまたは随時置換されていてもよ
いフェニルアルキルを表わし、 R2は随時置換されていてもよいアルキル、随時置換さ
れていてもよいシクロアルキル、随時置換されていても
よいナフチルまたは式 %式% R4はハロゲン、炭素原子1〜4個を有するアルキル、
炭素原子1〜4個を有するアルコキシ、炭素原子1〜4
個を有するアルキルチオ、炭素原子lもしくは2個及び
ハロゲン原子1〜5個を有するハロゲノアルキル、炭素
原子lもしくは2個及びハロゲン原子1〜5個を有する
ハロゲノアルコキシ、炭素原子lもしくは2個及びハロ
ゲン原子1〜5個を有するハロゲノアルキルチオ、随時
炭素原子1もしくは2個を有するアルキル及び/または
ハロゲンで置換されていてもよいフェニル、随時炭素原
子lもしくは2個を有するアルキル及び/またはハロゲ
ンで置換されていてもよいフェノキシ、ニトロ、アミノ
、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、アリールアミノ
またはアルキルカルボニルアミ/を表わし、そして mは0、L 2または3の数を表わすか、或いは R2は式 %式% Xは窒素またはCH基を表わし、モしてYは基−CH!
−C1l 2−1−CH=C)I−1−C三C−1R
@ R8 を表わし、ここに R5,RI、 R7及びRaは相互に独立して水素また
は炭素原子1〜4個を有するアルキルを表わす、 のヒドロキシアルキル−アゾリル誘導体、並びにその酸
付加塩及び金属塩錯体を製造する方法において、 a)式 %式% 式中、R1%R2及びYは上記の意味を有する、 のオキシランを酸結合剤の存在下及び希釈剤の存在下で
式 式中、Xは上記の意味を有する、 のアゾールと反応させるか、または b)式 式中、R’、R”、X及びYは上記の意味を有する、 のヒドロキシアルキル−アゾリル誘導体を希釈剤の存在
下で強塩基と反応させ、そしてこの反応により生成され
る式 式中、R’SR2、X及びYは上記の意味を有し、そし
て R9は塩基の陽イオン性基を表わす、 のアルコラードを希釈剤の存在下で式 %式%() 式中、Rloはアルキルまたはアシルを表わし、そして Hatはハロゲンを表わす、 の化合物と反応させ、そして続いて必要に応じて酸また
は金属塩をかくて得られる式(I)の化合物に加えて酸
付加塩または金属塩錯体を生成させることを特徴とする
、式(I)のヒドロキシアルキル−アゾリル誘導体並び
にその酸付加塩及び金属塩錯体の製造方法。
たは基−Z−R3を表わし、ここに Zは酸素、硫黄、SOまたはSO□を表わし、そして R3は随時置換されていてもよいアルキル、随時置換さ
れていてもよいフェニルまたは随時置換されていてもよ
いフェニルアルキルを表わし、 R2は随時置換されていてもよいアルキル、随時置換さ
れていてもよいシクロアルキル、随時置換されていても
よいナフチルまたは式 %式% R4はハロゲン、炭素原子1〜4個を有するアルキル、
炭素原子1〜4個を有するアルコキシ、炭素原子1〜4
個を有するアルキルチオ、炭素原子lもしくは2個及び
ハロゲン原子1〜5個を有するハロゲノアルキル、炭素
原子lもしくは2個及びハロゲン原子1〜5個を有する
ハロゲノアルコキシ、炭素原子lもしくは2個及びハロ
ゲン原子1〜5個を有するハロゲノアルキルチオ、随時
炭素原子1もしくは2個を有するアルキル及び/または
ハロゲンで置換されていてもよいフェニル、随時炭素原
子lもしくは2個を有するアルキル及び/またはハロゲ
ンで置換されていてもよいフェノキシ、ニトロ、アミノ
、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、アリールアミノ
またはアルキルカルボニルアミ/を表わし、そして mは0、L 2または3の数を表わすか、或いは R2は式 %式% Xは窒素またはCH基を表わし、モしてYは基−CH!
−C1l 2−1−CH=C)I−1−C三C−1R
@ R8 を表わし、ここに R5,RI、 R7及びRaは相互に独立して水素また
は炭素原子1〜4個を有するアルキルを表わす、 のヒドロキシアルキル−アゾリル誘導体、並びにその酸
付加塩及び金属塩錯体を製造する方法において、 a)式 %式% 式中、R1%R2及びYは上記の意味を有する、 のオキシランを酸結合剤の存在下及び希釈剤の存在下で
式 式中、Xは上記の意味を有する、 のアゾールと反応させるか、または b)式 式中、R’、R”、X及びYは上記の意味を有する、 のヒドロキシアルキル−アゾリル誘導体を希釈剤の存在
下で強塩基と反応させ、そしてこの反応により生成され
る式 式中、R’SR2、X及びYは上記の意味を有し、そし
て R9は塩基の陽イオン性基を表わす、 のアルコラードを希釈剤の存在下で式 %式%() 式中、Rloはアルキルまたはアシルを表わし、そして Hatはハロゲンを表わす、 の化合物と反応させ、そして続いて必要に応じて酸また
は金属塩をかくて得られる式(I)の化合物に加えて酸
付加塩または金属塩錯体を生成させることを特徴とする
、式(I)のヒドロキシアルキル−アゾリル誘導体並び
にその酸付加塩及び金属塩錯体の製造方法。
4、少なくとも1つの上記1に記載の式(I)のヒドロ
キシアルキル−アゾリル誘導体または式(I)のヒドロ
キシアルキル−アゾリル誘導体の酸付加塩もしくは金属
塩錯体を含むことを特徴とする、殺菌・殺カビ剤及び植
物成長調節剤。
キシアルキル−アゾリル誘導体または式(I)のヒドロ
キシアルキル−アゾリル誘導体の酸付加塩もしくは金属
塩錯体を含むことを特徴とする、殺菌・殺カビ剤及び植
物成長調節剤。
5、菌・カビを防除し、そして植物成長を調節する際の
上記1に記載のヒドロキシアルキル−アゾリル誘導体ま
たはその酸付加塩及び金属塩錯体の使用。
上記1に記載のヒドロキシアルキル−アゾリル誘導体ま
たはその酸付加塩及び金属塩錯体の使用。
6、式
%式%
式中、Rは水素、アルキルまたはアシルを表わし、
R1はハロゲン、随時置換されていてもよいフェニルま
たは基−Z−R)を表わし、ここに 2は酸素、硫黄、SOまたはSO2を表わし、そして R3は随時置換されていてもよいアルキル、随時置換さ
れていてもよいフェニルまたは随時置換されていてもよ
いフェニルアルキルを表わし、 R2は随時置換されていてもよいアルキル、随時置換さ
れていてもよいシクロアルキル、随時置換されていても
よいナフチルまたは式 %式% R4はハロゲン、炭素原子1〜4個を何するアルキル、
炭素原子1〜4個を有するアルコキシ、炭素原子1〜4
個を有するアルキルチす、炭素原子lもしくは2個及び
ハロゲン原子1〜5個を有するハロゲノアルキル、炭素
原子lもしくは2個及びハロゲン原子1〜5個を有する
ハロゲノアルコキシ、炭素原子1もしくは2個及びハロ
ゲン原子1〜5個を有するハロゲノアルキルチオ、随時
炭素原子lもしくは2個を有するアルキル及び/または
ハロゲンで置換されていてもよいフェニル、随時炭素原
子lもしくは2個を有するアルキル及び/またはハロゲ
ンで置換されていてもよいフェノキシ、ニトロ、アミノ
、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、アリールアミノ
またはアルキルカルボニルアミノを表わし、モして mは0、l、2または3の数を表わすか、或いは R2は式 %式% R5、R6、R7及びR6は相互に独立して水素または
炭素原子1〜4個を有するアルキルを表わす、 で表わされるオキシラン。
たは基−Z−R)を表わし、ここに 2は酸素、硫黄、SOまたはSO2を表わし、そして R3は随時置換されていてもよいアルキル、随時置換さ
れていてもよいフェニルまたは随時置換されていてもよ
いフェニルアルキルを表わし、 R2は随時置換されていてもよいアルキル、随時置換さ
れていてもよいシクロアルキル、随時置換されていても
よいナフチルまたは式 %式% R4はハロゲン、炭素原子1〜4個を何するアルキル、
炭素原子1〜4個を有するアルコキシ、炭素原子1〜4
個を有するアルキルチす、炭素原子lもしくは2個及び
ハロゲン原子1〜5個を有するハロゲノアルキル、炭素
原子lもしくは2個及びハロゲン原子1〜5個を有する
ハロゲノアルコキシ、炭素原子1もしくは2個及びハロ
ゲン原子1〜5個を有するハロゲノアルキルチオ、随時
炭素原子lもしくは2個を有するアルキル及び/または
ハロゲンで置換されていてもよいフェニル、随時炭素原
子lもしくは2個を有するアルキル及び/またはハロゲ
ンで置換されていてもよいフェノキシ、ニトロ、アミノ
、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、アリールアミノ
またはアルキルカルボニルアミノを表わし、モして mは0、l、2または3の数を表わすか、或いは R2は式 %式% R5、R6、R7及びR6は相互に独立して水素または
炭素原子1〜4個を有するアルキルを表わす、 で表わされるオキシラン。
7、式
式中、Rは水素、アルキルまたはアシルを表わし、
R1はハロゲン、随時置換されていてもよいフェニルま
たは基−Z−R3を表わし、ここに Zは酸素、硫黄、S○またはSO3を表わし、そして R3は随時置換されていてもよいアルキル、随時置換さ
れていてもよいフェニルまたは随時置換されていてもよ
いフェニルアルキルを表わし、 R2は随時置換されていてもよいアルキル、随時置換さ
れていてもよいシクロアルキル、随時置換されていても
よいナフチルまたは式 %式% R4はハロゲン、炭素原子1〜4個を有するアルキル、
炭素原子1〜4個を有するアルコキシ、炭素原子1〜4
個を有するアルキルチオ、炭素原子lもしくは2個及び
ハロゲン原子1〜5個を有するハロゲノアルキル、炭素
原子工もしくは2個及びハロゲン原子1=5mを有する
ハロゲノアルコキシ、炭素原子1もしくは2個及びハロ
ゲン原子1〜5個を何するハロゲノアルキルチオ、随時
炭素原子lもしくは2個を有するアルキル及び/または
ハロゲンで置換されていてもよいフェニル、随時炭素原
子1もしくは2個を有するアルキル及び/またはハロゲ
ンで置換されていてもよいフェノキシ、ニトロ、アミノ
、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、アリールアミノ
またはアルキルカルボニルアミノを表わし、モして mはOll、2または3の数を表わすか、或いは R2は式 %式% Yは基−CH2−CH2−1−CH=CH−1−CミC
−1R6Ra を表わし、ここに R5、R6、R7及びR8は相互に独立して水素または
炭素原子1〜4個を有するアルキルを表わす、 で表わされるオキシランを製造する方法において、C)
式 %式%() 式中、R1、R2及びYは上記の意味を有する、 のシクロプロピルケトンを希釈剤の存在下でσ)式 %式%() のジメチルオキソスルホニウムメチライドまたはβ)式 %式%() のジメチルスルホニウムメチライドのいずれかと反応さ
せるか、または d)式 式中、R1及びR2は上記の意味を有し、そして Ha l’ は塩素または臭素を表わす、のカルビノー
ルを希釈剤の存在下で塩基と反応させることを特徴とす
る、式(n)のオキシランの製造方法。
たは基−Z−R3を表わし、ここに Zは酸素、硫黄、S○またはSO3を表わし、そして R3は随時置換されていてもよいアルキル、随時置換さ
れていてもよいフェニルまたは随時置換されていてもよ
いフェニルアルキルを表わし、 R2は随時置換されていてもよいアルキル、随時置換さ
れていてもよいシクロアルキル、随時置換されていても
よいナフチルまたは式 %式% R4はハロゲン、炭素原子1〜4個を有するアルキル、
炭素原子1〜4個を有するアルコキシ、炭素原子1〜4
個を有するアルキルチオ、炭素原子lもしくは2個及び
ハロゲン原子1〜5個を有するハロゲノアルキル、炭素
原子工もしくは2個及びハロゲン原子1=5mを有する
ハロゲノアルコキシ、炭素原子1もしくは2個及びハロ
ゲン原子1〜5個を何するハロゲノアルキルチオ、随時
炭素原子lもしくは2個を有するアルキル及び/または
ハロゲンで置換されていてもよいフェニル、随時炭素原
子1もしくは2個を有するアルキル及び/またはハロゲ
ンで置換されていてもよいフェノキシ、ニトロ、アミノ
、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、アリールアミノ
またはアルキルカルボニルアミノを表わし、モして mはOll、2または3の数を表わすか、或いは R2は式 %式% Yは基−CH2−CH2−1−CH=CH−1−CミC
−1R6Ra を表わし、ここに R5、R6、R7及びR8は相互に独立して水素または
炭素原子1〜4個を有するアルキルを表わす、 で表わされるオキシランを製造する方法において、C)
式 %式%() 式中、R1、R2及びYは上記の意味を有する、 のシクロプロピルケトンを希釈剤の存在下でσ)式 %式%() のジメチルオキソスルホニウムメチライドまたはβ)式 %式%() のジメチルスルホニウムメチライドのいずれかと反応さ
せるか、または d)式 式中、R1及びR2は上記の意味を有し、そして Ha l’ は塩素または臭素を表わす、のカルビノー
ルを希釈剤の存在下で塩基と反応させることを特徴とす
る、式(n)のオキシランの製造方法。
8、式
式中、Rは水素、アルキルまたはアシルを表わし、
R1はハロゲン、随時置換されていてもよいフェニルま
たは基−Z−R3を表わし、ここに 2は酸素、硫黄、SOまたはSO□を表わし、そして R3は随時置換されていてもよいアルキル、随時置換さ
れていてもよいフェニルまたは随時置換されていてもよ
いフェニルアルキルを表わし、 R2は随時置換されていてもよいアルキル、随時置換さ
れていてもよいシクロアルキル、随時置換されていても
よいす7チルまたは式 %式% R′はハロゲン、炭素原子1〜4flliを有するアル
キル、炭素原子1〜4個を有するアルコキシ、炭素原子
1〜4個を有するアルキルチオ、炭素原子lもしくは2
個及びハロゲン原子1〜5個を有するハロゲノアルキル
、炭素原子1もしくは2個及びハロゲン原子1〜5個を
有するハロゲノアルコキシ、炭素原子lもしくは2個及
びハロゲン原子1〜5個を有するハロゲノアルキルチオ
、随時炭素原子1もしくは2個を有するアルキル及び/
またはハロゲンで置換されていてもよいフェニル、随時
炭素原子1もしくは2個を有するアルキル及び/または
ハロゲンで置換されていてもよいフェノキシ、ニトロ、
アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、アリール
アミノまたはアルキルカルボニルアミノ mはO、l,2または3の数を表わすか、或いは R2は式 %式% R’、R’、R7及びR6は相互に独立して水素または
炭素原子1〜4個を有するアルキルを表わす、 で表わされるシクロプロピルケトン。
たは基−Z−R3を表わし、ここに 2は酸素、硫黄、SOまたはSO□を表わし、そして R3は随時置換されていてもよいアルキル、随時置換さ
れていてもよいフェニルまたは随時置換されていてもよ
いフェニルアルキルを表わし、 R2は随時置換されていてもよいアルキル、随時置換さ
れていてもよいシクロアルキル、随時置換されていても
よいす7チルまたは式 %式% R′はハロゲン、炭素原子1〜4flliを有するアル
キル、炭素原子1〜4個を有するアルコキシ、炭素原子
1〜4個を有するアルキルチオ、炭素原子lもしくは2
個及びハロゲン原子1〜5個を有するハロゲノアルキル
、炭素原子1もしくは2個及びハロゲン原子1〜5個を
有するハロゲノアルコキシ、炭素原子lもしくは2個及
びハロゲン原子1〜5個を有するハロゲノアルキルチオ
、随時炭素原子1もしくは2個を有するアルキル及び/
またはハロゲンで置換されていてもよいフェニル、随時
炭素原子1もしくは2個を有するアルキル及び/または
ハロゲンで置換されていてもよいフェノキシ、ニトロ、
アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、アリール
アミノまたはアルキルカルボニルアミノ mはO、l,2または3の数を表わすか、或いは R2は式 %式% R’、R’、R7及びR6は相互に独立して水素または
炭素原子1〜4個を有するアルキルを表わす、 で表わされるシクロプロピルケトン。
94式
%式%()
式中、Rは水素、アルキルまたはアシルを表わし、
R1はハロゲン、随時置換されていてもよいフェニルま
たは基−Z−R”を表わし、ここに Zは酸素、硫黄、SOまたはSO2を表わし、そして R3は随時置換されていてもよいアルキル、随時置換さ
れていてもよいフェニルまたは随時置換されていてもよ
いフェニルアルキルを表わし、 R2は随時置換されていてもよいアルキル、随時置換さ
れていてもよいシクロアルキル、随時置換されていても
よいナフチルまたは式 %式% R′はハロゲン、炭素原子1〜4個を有するアルキル、
炭素原子1〜4(iiを有するアルコキシ、炭素原子1
〜4個を有するアルキルチオ、炭素原子lもしくは2個
及びハロゲン原子1〜5個を有するハロゲノアルキル、
炭素原子1もしくは2例及びハロゲン原子1〜5個を有
するハロゲノアルコキシ、炭素原子lもしくは2個及び
ハロゲン原子1〜5個を有するハロゲノアルキルチオ、
随時炭素原子1もしくは2個を有するアルキル及び/ま
たはハロゲンで置換されていてもよいフェニル、随時炭
素原子1もしくは2個を有するアルキル及び/またはハ
ロゲンで置換されていてもよいフェノキシ、ニトロ、ア
ミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、アリールア
ミノまたはアルキルカルボニルアミノを表わし、そして mはo、■、2または3の数を表わすか、或いは R2は式 %式% R5、R6、R7及びR8は相互に独立して水素または
炭素原子1〜4個を有するアルキルを表わす、 で表わされるシクロプロピルケトンを製造する方法にお
いて、 e)式 %式%) 式中、R”、R’及びR6は上記の意味を有する、 のアルデヒドを触媒の存在下及び希釈剤の存在下で式 式中、R1は上記の意味を有する、 のメチルシクロプロピルケトンと反応させ、そして適当
ならば式 %式%() 式中、R’ 、R” 、R’及びR’lLh記<7)意
味を有する、 のシクロプロピルケトンをこの反応において触媒の存在
下及び希釈剤の存在下で水素化するか、まtこは f)式 %式%() 式中、R2は上記の意味を有する、 のアセチレンを触媒の存在下及び希釈剤の存在下で式 %式%() 式中、R1は上記の意味を有し、そしてHal“は塩素
または臭素を表わす、 の酸ハロゲン化物と反応させることを特徴とする、式(
L)のシクロプロピルケトンの製造方法。
たは基−Z−R”を表わし、ここに Zは酸素、硫黄、SOまたはSO2を表わし、そして R3は随時置換されていてもよいアルキル、随時置換さ
れていてもよいフェニルまたは随時置換されていてもよ
いフェニルアルキルを表わし、 R2は随時置換されていてもよいアルキル、随時置換さ
れていてもよいシクロアルキル、随時置換されていても
よいナフチルまたは式 %式% R′はハロゲン、炭素原子1〜4個を有するアルキル、
炭素原子1〜4(iiを有するアルコキシ、炭素原子1
〜4個を有するアルキルチオ、炭素原子lもしくは2個
及びハロゲン原子1〜5個を有するハロゲノアルキル、
炭素原子1もしくは2例及びハロゲン原子1〜5個を有
するハロゲノアルコキシ、炭素原子lもしくは2個及び
ハロゲン原子1〜5個を有するハロゲノアルキルチオ、
随時炭素原子1もしくは2個を有するアルキル及び/ま
たはハロゲンで置換されていてもよいフェニル、随時炭
素原子1もしくは2個を有するアルキル及び/またはハ
ロゲンで置換されていてもよいフェノキシ、ニトロ、ア
ミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、アリールア
ミノまたはアルキルカルボニルアミノを表わし、そして mはo、■、2または3の数を表わすか、或いは R2は式 %式% R5、R6、R7及びR8は相互に独立して水素または
炭素原子1〜4個を有するアルキルを表わす、 で表わされるシクロプロピルケトンを製造する方法にお
いて、 e)式 %式%) 式中、R”、R’及びR6は上記の意味を有する、 のアルデヒドを触媒の存在下及び希釈剤の存在下で式 式中、R1は上記の意味を有する、 のメチルシクロプロピルケトンと反応させ、そして適当
ならば式 %式%() 式中、R’ 、R” 、R’及びR’lLh記<7)意
味を有する、 のシクロプロピルケトンをこの反応において触媒の存在
下及び希釈剤の存在下で水素化するか、まtこは f)式 %式%() 式中、R2は上記の意味を有する、 のアセチレンを触媒の存在下及び希釈剤の存在下で式 %式%() 式中、R1は上記の意味を有し、そしてHal“は塩素
または臭素を表わす、 の酸ハロゲン化物と反応させることを特徴とする、式(
L)のシクロプロピルケトンの製造方法。
100式
式中、Rは水素、アルキルまたはアシルを表わし、
R1はハロゲン、随時置換されていてもよいフェニルま
たは基−Z−R3を表わし、ここに 2は酸素、硫黄、S○またはSO□を表わし、そして R3は随時置換されていてもよいアルキル、随時置換さ
れていてもよいフェニルまたは随時置換されていてもよ
いフェニルアルキルを表わし、 R2は随時置換されていてもよいアルキル、随時置換さ
れていてもよいシクロアルキル、随時置換されていても
よいナフチルまたはの基を表わし、ここに R4はハロゲン、炭素原子1〜4個を有するアルキル、
炭素原子1〜4個を有するアルコキシ、炭素原子1〜4
個を有するアルキルチオ、炭素原子Iもしくは2個及び
ハロゲン原子1〜5個を有するハロゲノアルキル、炭素
原子lもしくは2個及びハロゲン原子1〜5個を有する
ハロゲノアルコキシ、炭素原子lもしくは2m及びハロ
ゲン原子1〜5個を有するハロゲノアルキルチオ、随時
炭素原子1もしくは2個を有するアルキル及び/または
ハロゲンで置換されていてもよいフェニル、随時炭素原
子1もしくは2個を有するアルキル及び/またはハロゲ
ンで置換されていてもよいフェノキシ、ニトロ、アミノ
、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、アリールアミノ
またはアルキルカルポニルアミノを表わし、そして mは0.112または3の数を表わすか、或いは R2は式 %式% Hal’ は塩素または臭素を表わす、で表わされるカ
ルビノール 11、式 式中、Rは水素、アルキルまたはアシルを表わし、 R1はハロゲン、随時置換されていてもよいフェニルま
たは基−Z−R3を表わし、ここに 2は酸素、硫黄、S○またはSO2を表わし、そして R3は随時置換されていてもよいアルキル、随時置換さ
れていてもよいフェニルまたは随時置換されていてもよ
いフェニルアルキルを表わし、 R2は随時置換されていてもよいアルキル、随時置換さ
れていてもよいシクロアルキル、随時置換されていても
よいナフチルまたは式 %式% R4はハロゲン、炭素原子1〜4個を有するアルキル、
炭素原子1〜4個を有するアルコキシ、炭素原子1〜4
個を有するアルキルチオ、炭素原子1もしくは2個及び
ハロゲン原子1〜5個を有するハロゲノアルキル、炭素
π子lもしくは2個及びハロゲン原子1〜5個を有する
ハロゲノアルコキシ、炭素原子1もしくは2個及びハロ
ゲン原子1〜5個を有するハロゲノアルキルチオ、随時
炭素原子lもしくは2個を有するアルキル及び/または
ハロゲンで置換されていてもよいフェニル、随時炭素原
子lもしくは2個を有するアルキル及び/またはハロゲ
ンで置換されていてもよいフェノキシ、ニトロ、アミノ
、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、アリールアミノ
またはアルキルカルボニルアミノを表わし、そして mはO,l、2または3の数を表わすか、或いは R2は式 %式% Hal’ は塩素または臭素を表わす、で表わされるカ
ルビノールを製造する方法において、 g)式 式中、R1は上記の意味を有し、そしてHal〜は塩素
または臭素を表わす、 のハロゲノケトンを適当ならば酸結合剤の存在下及び希
釈剤の存在下で式 %式%) 式中、R2は上記の意味を有し、そしてMeは金属陽イ
オンの等個物を表わす、のアセチレン塩と反応させるこ
とを特徴とする、式(■)のカルビノールの製造方法。
たは基−Z−R3を表わし、ここに 2は酸素、硫黄、S○またはSO□を表わし、そして R3は随時置換されていてもよいアルキル、随時置換さ
れていてもよいフェニルまたは随時置換されていてもよ
いフェニルアルキルを表わし、 R2は随時置換されていてもよいアルキル、随時置換さ
れていてもよいシクロアルキル、随時置換されていても
よいナフチルまたはの基を表わし、ここに R4はハロゲン、炭素原子1〜4個を有するアルキル、
炭素原子1〜4個を有するアルコキシ、炭素原子1〜4
個を有するアルキルチオ、炭素原子Iもしくは2個及び
ハロゲン原子1〜5個を有するハロゲノアルキル、炭素
原子lもしくは2個及びハロゲン原子1〜5個を有する
ハロゲノアルコキシ、炭素原子lもしくは2m及びハロ
ゲン原子1〜5個を有するハロゲノアルキルチオ、随時
炭素原子1もしくは2個を有するアルキル及び/または
ハロゲンで置換されていてもよいフェニル、随時炭素原
子1もしくは2個を有するアルキル及び/またはハロゲ
ンで置換されていてもよいフェノキシ、ニトロ、アミノ
、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、アリールアミノ
またはアルキルカルポニルアミノを表わし、そして mは0.112または3の数を表わすか、或いは R2は式 %式% Hal’ は塩素または臭素を表わす、で表わされるカ
ルビノール 11、式 式中、Rは水素、アルキルまたはアシルを表わし、 R1はハロゲン、随時置換されていてもよいフェニルま
たは基−Z−R3を表わし、ここに 2は酸素、硫黄、S○またはSO2を表わし、そして R3は随時置換されていてもよいアルキル、随時置換さ
れていてもよいフェニルまたは随時置換されていてもよ
いフェニルアルキルを表わし、 R2は随時置換されていてもよいアルキル、随時置換さ
れていてもよいシクロアルキル、随時置換されていても
よいナフチルまたは式 %式% R4はハロゲン、炭素原子1〜4個を有するアルキル、
炭素原子1〜4個を有するアルコキシ、炭素原子1〜4
個を有するアルキルチオ、炭素原子1もしくは2個及び
ハロゲン原子1〜5個を有するハロゲノアルキル、炭素
π子lもしくは2個及びハロゲン原子1〜5個を有する
ハロゲノアルコキシ、炭素原子1もしくは2個及びハロ
ゲン原子1〜5個を有するハロゲノアルキルチオ、随時
炭素原子lもしくは2個を有するアルキル及び/または
ハロゲンで置換されていてもよいフェニル、随時炭素原
子lもしくは2個を有するアルキル及び/またはハロゲ
ンで置換されていてもよいフェノキシ、ニトロ、アミノ
、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、アリールアミノ
またはアルキルカルボニルアミノを表わし、そして mはO,l、2または3の数を表わすか、或いは R2は式 %式% Hal’ は塩素または臭素を表わす、で表わされるカ
ルビノールを製造する方法において、 g)式 式中、R1は上記の意味を有し、そしてHal〜は塩素
または臭素を表わす、 のハロゲノケトンを適当ならば酸結合剤の存在下及び希
釈剤の存在下で式 %式%) 式中、R2は上記の意味を有し、そしてMeは金属陽イ
オンの等個物を表わす、のアセチレン塩と反応させるこ
とを特徴とする、式(■)のカルビノールの製造方法。
第1”−18図はいずれもNMRスペクトルを表わす。
特許出頭人 バイエル・アクチェンゲゼルシャフト
手続補正書 く方式)
平成1年3月18日
特許庁長官 吉 1)文 毅 殿
1、事件の表示
昭和63年特許願第169186号
2、発明の名称
ヒドロキシアルキル−アゾリル誘導体
3、補正をする者
事件との関係 特許出願人
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、式 ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) 式中、Rは水素、アルキルまたはアシルを表わし、 R^1はハロゲン、随時置換されていてもよいフエニル
または基−Z−R^3を表わし、ここに Zは酸素、硫黄、SOまたはSO_2を表わし、そして R^3は随時置換されていてもよいアルキル、随時置換
されていてもよいフェニルまたは随時置換されていても
よいフェニルアルキルを表わし、 R^2は随時置換されていてもよいアルキル、随時置換
されていてもよいシクロアルキル、随時置換されていて
もよいナフチルまたは 式 ▲数式、化学式、表等があります▼ の基を表わし、ここに R^4はハロゲン、炭素原子1〜4個を有するアルキル
、炭素原子1〜4個を有するアルコキシ、炭素原子1〜
4個を有するアルキルチオ、炭素原子1もしくは2個及
びハロゲン原子1〜5個を有するハロゲノアルキル、炭
素原子1もしくは2個及びハロゲン原子1〜5個を有す
るハロゲノアルコキシ、炭素原子1もしくは2個及びハ
ロゲン原子1〜5個を有するハロゲノアルキルチオ、随
時炭素原子1もしくは2個を有するアルキル及び/また
はハロゲンで置換されていてもよいフェニル、随時炭素
原子1もしくは2個を有するアルキル及び/またはハロ
ゲンで置換されていてもよいフェノキシ、ニトロ、アミ
ノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、アリールアミ
ノまたはアルキルカルボニルアミノを表わし、そして mは0、1、2または3の数を表わすか、 或いは R^2は式 ▲数式、化学式、表等があります▼ の基を表わし、 Xは窒素またはCH基を表わし、そして Yは基−CH_2−CH_2−、−CH=CH−、−C
≡C−、▲数式、化学式、表等があります▼または▲数
式、化学式、表等があります▼ を表わし、ここに R^5、R^6、R^7及びR^8は相互に独立して水
素または炭素原子1〜4個を有するアルキルを表わす、 のヒドロキシアルキル−アゾリル誘導体、並びにその酸
付加塩及び金属塩錯体。 2、式 ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) 式中、Rは水素、アルキルまたはアシルを表わし、 R^1はハロゲン、随時置換されていてもよいフェニル
または基−Z−R^3を表わし、ここに Zは酸素、硫黄、SOまたはSO_2を表わし、そして R^3は随時置換されていてもよいアルキル、随時置換
されていてもよいフェニルまたは随時置換されていても
よいフェニルアルキルを表わし、 R^2は随時置換されていてもよいアルキル、随時置換
されていてもよいシクロアルキル、随時置換されていて
もよいナフチルまたは 式 ▲数式、化学式、表等があります▼ の基を表わし、ここに R^4はハロゲン、炭素原子1〜4個を有するアルキル
、炭素原子1〜4個を有するアルコキシ、炭素原子1〜
4個を有するアルキルチオ、炭素原子1もしくは2個及
びハロゲン原子1〜5個を有するハロゲノアルキル、炭
素原子1もしくは2個及びハロゲン原子1〜5個を有す
るハロゲノアルコキシ、炭素原子1もしくは2個及びハ
ロゲン原子1〜5個を有するハロゲノアルキルチオ、 随時炭素原子1もしくは2個を有するアルキル及び/ま
たはハロゲンで置換されていてもよいフェニル、随時炭
素原子1もしくは2個を有するアルキル及び/またはハ
ロゲンで置換されていてもよいフェノキシ、ニトロ、ア
ミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、アリールア
ミノまたはアルキルカルボニルアミノを表わし、そして mは0、1、2または3の数を表わすか、 或いは R^2は式 ▲数式、化学式、表等があります▼ の基を表わし、 Xは窒素またはCH基を表わし、そして Yは基−CH_2−CH_2−、−CH=CH−、−C
≡C−、▲数式、化学式、表等があります▼または▲数
式、化学式、表等があります▼ を表わし、ここに R^5、R^6、R^7及びR^8は相互に独立して水
素または炭素原子1〜4個を有するアルキルを表わす、 のヒドロキシアルキル−アゾリル誘導体、並びにその酸
付加塩及び金属塩錯体を製造する方法において、 a)式 ▲数式、化学式、表等があります▼(II) 式中、R^1、R^2及びYは上記の意味を有する、 のオキシランを酸結合剤の存在下及び希釈剤の存在下で
式 ▲数式、化学式、表等があります▼(III) 式中、Xは上記の意味を有する、 のアゾールと反応させるか、または b)式 ▲数式、化学式、表等があります▼( I a) 式中、R^1、R^2、X及びYは上記の意味を有する
、 のヒドロキシアルキル−アゾリル誘導体を希釈剤の存在
下で強塩基と反応させ、そしてこの反応により生成され
る式 ▲数式、化学式、表等があります▼( I b) 式中、R^1、R^2、X及びYは上記の意味を有し、
そして R^3は塩基の陽イオン性基を表わす、 のアルコラートを希釈剤の存在下で式 R^1^0−Hal(IV) 式中、R^1^0はアルキルまたはアシルを表わし、そ
して Halはハロゲンを表わす、 の化合物と反応させ、そして続いて必要に応じて酸また
は金属塩をかくて得られる式( I )の化合物に加えて
酸付加塩または金属塩錯体を生成させることを特徴とす
る、式( I )のヒドロキシアルキル−アゾリル誘導体
並びにその酸付加塩及び金属塩錯体の製造方法。 3、少なくとも1つの特許請求の範囲第1項記載の式(
I )のヒドロキシアルキル−アゾリル誘導体または式
( I )のヒドロキシアルキル−アゾリル誘導体の酸付
加塩もしくは金属塩錯体を含むことを特徴とする、殺菌
・殺カビ剤及び植物成長調節剤。 4、菌・カビを防除し、そして植物成長を調節する際の
特許請求の範囲第1項記載のヒドロキシアルキル−アゾ
リル誘導体またはその酸付加塩及び金属塩錯体の使用。 5、式 ▲数式、化学式、表等があります▼(II) 式中、Rは水素、アルキルまたはアシルを表わし、 R^1はハロゲン、随時置換されていてもよいフェニル
または基−Z−R^3を表わし、ここに Zは酸素、硫黄、SOまたはSO_2を表わし、そして R^3は随時置換されていてもよいアルキル、随時置換
されていてもよいフェニルまたは随時置換されていても
よいフェニルアルキルを表わし、 R^2は随時置換されていてもよいアルキル、随時置換
されていてもよいシクロアルキル、随時置換されていて
もよいナフチルまたは 式 ▲数式、化学式、表等があります▼ の基を表わし、ここに R^4はハロゲン、炭素原子1〜4個を有するアルキル
、炭素原子1〜4個を有するアルコキシ、炭素原子1〜
4個を有するアルキルチオ、炭素原子1もしくは2個及
びハロゲン原子1〜5個を有するハロゲノアルキル、炭
素原子1もしくは2個及びハロゲン原子1〜5個を有す
るハロゲノアルコキシ、炭素原子1もしくは2個及びハ
ロゲン原子1〜5個を有するハロゲノアルキルチオ、随
時炭素原子1もしくは2個を有するアルキル及び/また
はハロゲンで置換されていてもよいフェニル、随時炭素
原子1もしくは2個を有するアルキル及び/またはハロ
ゲンで置換されていてもよいフェノキシ、ニトロ、アミ
ノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、アリールアミ
ノまたはアルキルカルボニルアミノを表わし、そしてm
は0、1、2または3の数を表わすか、 或いは R^2は式 ▲数式、化学式、表等があります▼ の基を表わし、そして Yは基−CH_2−CH_2−、−CH=CH−、−C
≡C−、▲数式、化学式、表等があります▼または▲数
式、化学式、表等があります▼ を表わし、ここに R^5、R^6、R^7及びR^8は相互に独立して水
素または炭素原子1〜4個を有するアルキルを表わす、 で表わされるオキシラン。 6、式 ▲数式、化学式、表等があります▼(II) 式中、Rは水素、アルキルまたはアシルを表わし、 R^1はハロゲン、随時置換されていてもよいフェニル
または基−Z−R^3を表わし、ここに Zは酸素、硫黄、SOまたはSO_2を表わし、そして R^3は随時置換されていてもよいアルキル、随時置換
されていてもよいフェニルまたは随時置換されていても
よいフエニルアルキルを表わし、 R^2は随時置換されていてもよいアルキル、随時置換
されていてもよいシクロアルキル、随時置換されていて
もよいナフチルまたは式 ▲数式、化学式、表等があります▼ の基を表わし、ここに R^4はハロゲン、炭素原子1〜4個を有するアルキル
、炭素原子1〜4個を有するアルコキシ、炭素原子1〜
4個を有するアルキルチオ、炭素原子1もしくは2個及
びハロゲン原子1〜5個を有するハロゲノアルキル、炭
素原子1もしくは2個及びハロゲン原子1〜5個を有す
るハロゲノアルコキシ、炭素原子1もしくは2個及びハ
ロゲン原子1〜5個を有するハロゲノアルキルチオ、 随時炭素原子1もしくは2個を有するアルキル及び/ま
たはハロゲンで置換されていてもよいフエニル、随時炭
素原子1もしくは2個を有するアルキル及び/またはハ
ロゲンで置換されていてもよいフェノキシ、ニトロ、ア
ミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、アリールア
ミノまたはアルキルカルボニルアミノを表わし、そして mは0、1、2または3の数を表わすか、 或いは R^2は式 ▲数式、化学式、表等があります▼ の基を表わし、そして Yは基−CH_2−CH_2−、−CH=CH−、−C
≡C−、▲数式、化学式、表等があります▼または▲数
式、化学式、表等があります▼ を表わし、ここに R^5、R^6、R^7及びR^8は相互に独立して水
素または炭素原子1〜4個を有するアルキルを表わす、 で表わされるオキシランを製造する方法において、c)
式 ▲数式、化学式、表等があります▼(V) 式中、R^1、R^2及びYは上記の意味を有する、 のシクロプロピルケトンを希釈剤の存在下でα)式 ▲数式、化学式、表等があります▼(VI) のジメチルオキソスルホニウムメチライドまたはβ)式 ▲数式、化学式、表等があります▼(VII) のジメチルスルホニウムメチライドのいずれかと反応さ
せるか、または d)式 ▲数式、化学式、表等があります▼(VIII) 式中、R^1及びR^2は上記の意味を有し、そして Hal′は塩素または臭素を表わす、 のカルビノールを希釈剤の存在下で塩基と反応させるこ
とを特徴とする、式(II)のオキシランの製造方法。 7、式 ▲数式、化学式、表等があります▼(V) 式中、Rは水素、アルキルまたはアシルを表わし、 R^1はハロゲン、随時置換されていてもよいフェニル
または基−Z−R^3を表わし、ここに Zは酸素、硫黄、SOまたはSO_2を表わし、そして R^3は随時置換されていてもよいアルキル、随時置換
されていてもよいフェニルまたは随時置換されていても
よいフェニルアルキルを表わし、 R^2は随時置換されていてもよいアルキル、随時置換
されていてもよいシクロアルキル、随時置換されていて
もよいナフチルまたは 式 ▲数式、化学式、表等があります▼ の基を表わし、ここに R^4はハロゲン、炭素原子1〜4個を有するアルキル
、炭素原子1〜4個を有するアルコキシ、炭素原子1〜
4個を有するアルキルチオ、炭素原子1もしくは2個及
びハロゲン原子1〜5個を有するハロゲノアルキル、炭
素原子1もしくは2個及びハロゲン原子1〜5個を有す
るハロゲノアルコキシ、炭素原子1もしくは2個及びハ
ロゲン原子1〜5個を有するハロゲノアルキルチオ、 随時炭素原子1もしくは2個を有するアルキル及び/ま
たはハロゲンで置換されていてもよいフエニル、随時炭
素原子1もしくは2個を有するアルキル及び/またはハ
ロゲンで置換されていてもよいフェノキシ、ニトロ、ア
ミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、アリールア
ミノまたはアルキルカルボニルアミノを表わし、そして mは0、1、2または3の数を表わすか、 或いは R^2は式 ▲数式、化学式、表等があります▼ の基を表わし、そして Yは基−CH_2−CH_2−、−CH=CH−、−C
≡C−、▲数式、化学式、表等があります▼または▲数
式、化学式、表等があります▼ を表わし、ここに R^5、R^6、R^7及びR^8は相互に独立して水
素または炭素原子1〜4個を有するアルキルを表わす、 で表わされるシクロプロピルケトン。 8、式 ▲数式、化学式、表等があります▼(V) 式中、Rは水素、アルキルまたはアシルを表わし、 R^1はハロゲン、随時置換されていてもよいフエニル
または基−Z−R^3を表わし、ここに Zは酸素、硫黄、SOまたはSO_2を表わし、そして R^3は随時置換されていてもよいアルキル、随時置換
されていてもよいフェニルまたは随時置換されていても
よいフェニルアルキルを表わし、 R^2は随時置換されていてもよいアルキル、随時置換
されていてもよいシクロアルキル、随時置換されていて
もよいナフチルまたは 式 ▲数式、化学式、表等があります▼ の基を表わし、ここに R^4はハロゲン、炭素原子1〜4個を有するアルキル
、炭素原子1〜4個を有するアルコキシ、炭素原子1〜
4個を有するアルキルチオ、炭素原子1もしくは2個及
びハロゲン原子1〜5個を有するハロゲノアルキル、炭
素原子1もしくは2個及びハロゲン原子1〜5個を有す
るハロゲノアルコキシ、炭素原子1もしくは2個及びハ
ロゲン原子1〜5個を有するハロゲノアルキルチオ、 随時炭素原子1もしくは2個を有するアルキル及び/ま
たはハロゲンで置換されていてもよいフェニル、随時炭
素原子1もしくは2個を有するアルキル及び/またはハ
ロゲンで置換されていてもよいフェノキシ、ニトロ、ア
ミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、アリールア
ミノまたはアルキルカルボニルアミノを表わし、そして mは0、1、2または3の数を表わすか、 或いは R^2は式 ▲数式、化学式、表等があります▼ の基を表わし、そして Yは基−CH_2−CH_2−、−CH=CH−、−C
≡C−、▲数式、化学式、表等があります▼または▲数
式、化学式、表等があります▼ を表わし、ここに R^5、R^6、R^7及びR^8は相互に独立して水
素または炭素原子1〜4個を有するアルキルを表わす、 で表わされるシクロプロピルケトンを製造する方法にお
いて、 e)式 R^2−CHO(IX−a) または ▲数式、化学式、表等があります▼(IX−b) 式中、R^2、R^5及びR^6は上記の意味を有する
、 のアルデヒドを触媒の存在下及び希釈剤の存在下で式 ▲数式、化学式、表等があります▼(X) 式中、R^1は上記の意味を有する、 のメチルシクロプロピルケトンと反応させ、そして適当
ならば式 ▲数式、化学式、表等があります▼(V−a) または ▲数式、化学式、表等があります▼(V−b) 式中、R^1、R^2、R^5及びR^6は上記の意味
を有する、 のシクロプロピルケトンをこの反応において触媒の存在
下及び希釈剤の存在下で水素化するか、または f)式 R^2−C≡CH(X I ) 式中、R^2は上記の意味を有する、 のアセチレンを触媒の存在下及び希釈剤の存在下で式 ▲数式、化学式、表等があります▼(XII) 式中、R^1は上記の意味を有し、そして Hal″は塩素または臭素を表わす、 の酸ハロゲン化物と反応させることを特徴とする、式(
V)のシクロプロピルケトンの製造方法。 9、式 ▲数式、化学式、表等があります▼(VIII) 式中、Rは水素、アルキルまたはアシルを表わし、 R^1はハロゲン、随時置換されていてもよいフェニル
または基−Z−R^3を表わし、ここに Zは酸素、硫黄、SOまたはSO_2を表わし、そして R^3は随時置換されていてもよいアルキル、随時置換
されていてもよいフェニルまたは随時置換されていても
よいフェニルアルキルを表わし、 R^2は随時置換されていてもよいアルキル、随時置換
されていてもよいシクロアルキル、随時置換されていて
もよいナフチルまたは 式 ▲数式、化学式、表等があります▼ の基を表わし、ここに R^4はハロゲン、炭素原子1〜4個を有するアルキル
、炭素原子1〜4個を有するアルコキシ、炭素原子1〜
4個を有するアルキルチオ、炭素原子1もしくは2個及
びハロゲン原子1〜5個を有するハロゲノアルキル、炭
素原子1もしくは2個及びハロゲン原子1〜5個を有す
るハロゲノアルコキシ、炭素原子1もしくは2個及びハ
ロゲン原子1〜5個を有するハロゲノアルキルチオ、 随時炭素原子1もしくは2個を有するアルキル及び/ま
たはハロゲンで置換されていてもよいフェニル、随時炭
素原子1もしくは2個を有するアルキル及び/またはハ
ロゲンで置換されていてもよいフェノキシ、ニトロ、ア
ミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、アリールア
ミノまたはアルキルカルボニルアミノを表わし、そして mは0、1、2または3の数を表わすか、 或いは R^2は式 ▲数式、化学式、表等があります▼ の基を表わし、そして Hal′は塩素または臭素を表わす、 で表わされるカルビノール。 10、式 ▲数式、化学式、表等があります▼(VIII) 式中、Rは水素、アルキルまたはアシルを表わし、 R^1はハロゲン、随時置換されていてもよいフェニル
または基−Z−R^3を表わし、ここに Zは酸素、硫黄、SOまたはSO_2を表わし、そして R^3は随時置換されていてもよいアルキル、随時置換
されていてもよいフエニルまたは随時置換されていても
よいフェニルアルキルを表わし、 R^2は随時置換されていてもよいアルキル、随時置換
されていてもよいシクロアルキル、随時置換されていて
もよいナフチルまたは 式 ▲数式、化学式、表等があります▼ の基を表わし、ここに R^4はハロゲン、炭素原子1〜4個を有するアルキル
、炭素原子1〜4個を有するアルコキシ、炭素原子1〜
4個を有するアルキルチオ、炭素原子1もしくは2個及
びハロゲン原子1〜5個を有するハロゲノアルキル、炭
素原子1もしくは2個及びハロゲン原子1〜5個を有す
るハロゲノアルコキシ、炭素原子1もしくは2個及びハ
ロゲン原子1〜5個を有するハロゲノアルキルチオ、 随時炭素原子1もしくは2個を有するアルキル及び/ま
たはハロゲンで置換されていてもよいフェニル、随時炭
素原子1もしくは2個を有するアルキル及び/またはハ
ロゲンで置換されていてもよいフェノキシ、ニトロ、ア
ミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、アリールア
ミノまたはアルキルカルボニルアミノを表わし、そして mは0、1、2または3の数を表わすか、 或いは R^2は式 ▲数式、化学式、表等があります▼ の基を表わし、そして Hal′は塩素または臭素を表わす、 で表わされるカルビノールを製造する方法において、 g)式 ▲数式、化学式、表等があります▼(XIII) 式中、R^1は上記の意味を有し、そして Hal″′は塩素または臭素を表わす、 のハロゲノケトンを適当ならば酸結合剤の存在下及び希
釈剤の存在下で式 R^2−C≡CMe(XIV) 式中、R^2は上記の意味を有し、そして Meは金属陽イオンの等価物を表わす、 のアセチレン塩と反応させることを特徴とする、式(V
III)のカルビノールの製造方法。
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