JPH0124752B2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPH0124752B2 JPH0124752B2 JP58102296A JP10229683A JPH0124752B2 JP H0124752 B2 JPH0124752 B2 JP H0124752B2 JP 58102296 A JP58102296 A JP 58102296A JP 10229683 A JP10229683 A JP 10229683A JP H0124752 B2 JPH0124752 B2 JP H0124752B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- glaze
- layer
- treatment liquid
- surface treatment
- cracks
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B41/00—After-treatment of mortars, concrete, artificial stone or ceramics; Treatment of natural stone
- C04B41/45—Coating or impregnating, e.g. injection in masonry, partial coating of green or fired ceramics, organic coating compositions for adhering together two concrete elements
- C04B41/52—Multiple coating or impregnating multiple coating or impregnating with the same composition or with compositions only differing in the concentration of the constituents, is classified as single coating or impregnation
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Ceramic Engineering (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Structural Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Aftertreatments Of Artificial And Natural Stones (AREA)
Description
〔産業上の利用分野〕
本発明は、陶磁器、金属、セメント等の成形体
上に釉薬層を設けた施釉製品であつて、特に釉薬
層の表面側に雨水等が浸透するおそれのない亀裂
模様を現出せしめたものに関する。 〔従来技術と解決課題〕 従来、マツト（艶消し）状の施釉製品を得るた
めの釉薬としては、通常の釉薬原料中に結晶を析
出させるような化合物を添加し、全体にわたつて
均一に調合したスラリー状の釉薬が調整されてい
た。そして、これを陶磁器、金属、セメント等の
成形体上に塗布して焼成することにより、結晶質
の釉面を持つマツト状の施釉製品を得るようにし
ている。ところが、このような施釉製品の釉薬層
にあつては、上述の如く、上記化合物が釉薬層全
体にわたつて均一に分布しているので、該化合物
によつて上記釉薬の熱膨張係数及び焼成温度に著
しい変化が生じる。このため、陶磁器、金属、セ
メント等の成形体の熱膨張係数および焼成温度と
著しく異なることがあつた。その結果、釉薬の溶
け不良が起こつて成形体との馴染みが悪くなつた
り、或は第１図に示す如く釉薬層１に開放亀裂２
が入ることがあつた。このように釉薬層に開放亀
裂２が発生すると、該開放亀裂２から陶磁器等の
成形体３に雨水等が浸透し、これが凍結する場合
は成形体３自体が破壊されることがあつた。また
上記釉薬の熱膨張係数及び焼成温度に変化がある
と、成形体が熱的に変化を始める温度以上でない
と釉薬を焼成できなくなり、焼成時に成形体自体
の性質が変態または破壊することがあつた。 本出願人は、従来技術の上記欠点を解消するた
めの施釉製品を発明し、これを特願昭58−51111
号として既に出願ずみである。該既出願に係る発
明の要旨は、陶磁器、金属、セメント等の成形体
上に釉薬層を設けてなる施釉製品において、釉薬
層の表面から成形体との界面にかけて、酸化チタ
ン、酸化ジルコニウム、酸化ストロンチウム、酸
化スズ等の耐薬品性及び耐久性に優れた酸化化合
物を分布させて成り、該酸化化合物の分布密度は
釉薬層の表面側が密であり、成形体との界面側が
粗であつて、連続的に変化していることを特徴と
するものである。ところで、上記既出願のものを
発明するに至つた過程の中で、発明者らは、釉薬
層に対する酸化化合物の分布が連続的変化を呈し
ていない場合、即ち、酸化化合物が次第に厚い層
をなし、該酸化化合物層と釉薬層との間に比較的
際立つた境界が認められるようになつた場合に
は、酸化化合物が細粗様々の区画をなして凝集
し、酸化化合物層の表面に亀裂が生ずる現象を知
見した。既に述べたように、上記の如き亀裂現象
は従来好ましくないものとされてきた。然し発明
者らは、上記の如き亀裂現象に対する先入観を打
破して、これを善用する方途について考えをめぐ
らした。換言すれば、本発明は、従来否定詳価さ
れていた亀裂現象を肯定評価されるべく転用する
ことを課題とするものである。 〔課題を解決するための手段〕 前記課題を解決するために採用した本発明の手
段は、陶磁器、金属、セメント等の成形体上に釉
薬層を設けた施釉製品において、釉薬層上にジル
コニウム化合物、チタン化合物等の一種又は二種
以上よりなる表面処理液層を設けてなり、該表面
処理液層には方向性又は無方向性の亀裂による模
様が現出され、該亀裂は釉薬によつて填充されて
いるところにある。 〔作用〕 上記の解決手段によれば、陶磁器、金属、セメ
ント等の成形体と直に接しているのは釉薬の成分
のみであるため、従来のマツト状施釉製品の場合
のように、成形体と釉薬層との間に支障となるよ
うな熱膨張係数差が発生することはない。また、
表面処理液層に現出された亀裂は釉薬によつて充
填されているので、成形体に悪影響をもたらす雨
水等が浸透するおそれは全くない。しかも亀裂に
よる模様は、一種の風趣をかもし出して成形体の
商品価値を向上せしめる。 〔実施例〕 以下に本発明の構成を図面に示す実施例に基づ
いて説明すると次の通りである。 第２図及び第３図は、本発明に係る施釉製品４
の製造過程途中の断面状態を示すものである。施
釉製品４の基本的製造方法は、先づ陶磁器、金
属、セメント等の成形体５上に釉薬６を塗布して
釉薬層７を形成する。この釉薬層７は生の状態で
あつてもよく、また一度焼成してガラス質の状態
になつているものであつてもよい、生の場合は、
釉薬６の塗布後、室温にて乾燥させて養生する。
一度焼成する場合は、釉薬６の塗布後、室温にて
乾燥させて養生し、これを焼成炉で焼成してその
後室温まで冷却する。釉薬層７の形成後は、その
表面にジルコニウム化合物、チタン化合物等の成
分を含む表面処理液８を塗布して表面処理液層９
を設ける。この表面処理液８は、焼成によつて成
分が酸化し、その酸化化合物が凝集するものであ
ればよい。また表面処理液８には二種類以上の上
記化合物を混合したものであつてもよい。表面処
理液８の具体例としては、酸化ジルコニウム或い
は水酸化ジルコニウムの水分散液、酸化チタン或
いは水酸化チタンの水分散液、ジルコニウム・
ｎ・プロポキシドのエチルアルコール溶液、チタ
ニウム・イソ・プロポキシドのエチルアルコール
溶液などがある。表面処理液８の選択及びそれら
の塗布量は、施釉製品４の製造に期待される表面
層状態、すなわち、形成された表面処理液層９と
釉薬層７との間に比較的際立つた境界が認めら
れ、表面処理液層９の表面に亀裂が出現されるよ
う考慮して決定する。 表面処理液８を塗布した後は、釉薬６の軟化点
付近で焼成を行う。この焼成により、表面処理液
８の成分は、釉薬６の軟化と共に該釉薬６中に若
干浸透し、該釉薬６と反応する。表面処理液８の
成分と釉薬６との上記反応は、釉薬６の流動性が
著しく大きくなる以前に行われる。そして、表面
処理液８の成分が酸化することによつて生じた化
合物は、釉薬層７の上層部に近い部分に多く集ま
つて厚みを増し、ついには表面処理液層９を形成
するようになる。この場合の表面処理液層９は、
釉薬層７の中に前記反応物が若干分散するとして
も釉薬層７との間には比較的際立つた境界を形成
する。このような状態になると、表面処理液層９
を形成する酸化化合物は、細粗様々の区画をなし
て凝集し、該凝集区画の隣接部には亀裂が生じ
る。従つて表面処理液層９の表面には亀裂模様が
現出される。なお、このような表面処理液層９の
表面には、表面処理液８の成分が酸化物の結晶と
して存在し、このため亀裂模様と同時にマツト状
をも呈することとなる。 第４図は、上記の如くにして出来上がつた施釉
製品４の断面を摸式的に表わしたものである。表
面処理液層９には亀裂１０が存在するが、この亀
裂１０は第１図について前述した場合の釉薬層１
に発生する開放亀裂２とは全く別異のものであ
る。何となれば、第４図の亀裂１０は、釉薬６に
よつて填充され、閉塞状態にあるからである。亀
裂１０が釉薬６によつて充填されるメカニズムに
ついて説明すれば次の如くである。すなわち、表
面処理液８の成分は、高耐火度をもつ物質で構成
されているため、800〜1300℃程度の焼成ではそ
れ自身で溶けたり、釉薬６と完全に反応すること
はなく、焼成過程の中で前記の成分が表面寄りに
集まり、厚みを増して層をなす。層の中には核と
なるものが存在し、その周囲に多くの成分が凝集
する。そして隣接する凝集成分集団との間に空隙
が生ずるが、この空隙が亀裂１０である。これに
対して釉薬６は、前記の焼成温度の低温域で熱膨
張し、高温域で流動性が大きくなる。流動性が大
きくなつた釉薬６は、前記凝集成分集団相互間の
空隙部分（亀裂１０）に流れ込む。このようにし
て亀裂１０は釉薬６によつて填充され、閉塞状態
となるのである。故に亀裂１０の場合は、従来の
開放亀裂２の場合とは異なり、成形体５の地肌が
露呈することもなく、また雨水等が浸透すること
も全く有り得ない。しかも、釉薬層７と表面処理
液層９との密着状態は極めて良好であり、表面処
理液層９には物理的あるいは化学的な劣化は生じ
ない。なお、第４図にみられる如く、釉薬層７へ
は表面処理液８に由来する反応物の浸透が若干認
められるけれども、その浸透度は際立つて少な
く、釉薬層７自体の性質に変化をもたらすもので
はない。勿論、成形体５と直に接しているのは、
ガラス質化された釉薬６である。この部分におけ
る釉薬６の熱膨張係数は、成形体５の熱膨張係数
に準ずるものであり、そのための釉薬６の原料及
びそれらの調合割合は、成形体５の材質に応じて
選択し設定されることは言うまでもない。従つ
て、釉薬層７と成形体５との間の熱膨張係数差に
起因して、施釉製品４に別個の亀裂が発生するよ
うな問題はなくなる。 次に、施釉製品４を具体的に製造する場合の実
施例について説明する。表面処理液層形成のもと
となる表面処理液の塗布には、既に述べた如く、
生の釉薬層の上に塗布する場合と一度焼成後の釉
薬層の上に塗布する場合とがある。以下では主と
して前者の場合について、表−１及び表−２を参
照して説明する。成形体５としては、109mm角の
内装用素焼タイルを用いた。この素焼タイルを所
定枚数準備して、表−１に示す組成の陶磁器用釉
薬を湿式幕掛け法等によつて素焼タイル表面に塗
布する。そして、これを室温にして乾燥し養生す
る。
上に釉薬層を設けた施釉製品であつて、特に釉薬
層の表面側に雨水等が浸透するおそれのない亀裂
模様を現出せしめたものに関する。 〔従来技術と解決課題〕 従来、マツト（艶消し）状の施釉製品を得るた
めの釉薬としては、通常の釉薬原料中に結晶を析
出させるような化合物を添加し、全体にわたつて
均一に調合したスラリー状の釉薬が調整されてい
た。そして、これを陶磁器、金属、セメント等の
成形体上に塗布して焼成することにより、結晶質
の釉面を持つマツト状の施釉製品を得るようにし
ている。ところが、このような施釉製品の釉薬層
にあつては、上述の如く、上記化合物が釉薬層全
体にわたつて均一に分布しているので、該化合物
によつて上記釉薬の熱膨張係数及び焼成温度に著
しい変化が生じる。このため、陶磁器、金属、セ
メント等の成形体の熱膨張係数および焼成温度と
著しく異なることがあつた。その結果、釉薬の溶
け不良が起こつて成形体との馴染みが悪くなつた
り、或は第１図に示す如く釉薬層１に開放亀裂２
が入ることがあつた。このように釉薬層に開放亀
裂２が発生すると、該開放亀裂２から陶磁器等の
成形体３に雨水等が浸透し、これが凍結する場合
は成形体３自体が破壊されることがあつた。また
上記釉薬の熱膨張係数及び焼成温度に変化がある
と、成形体が熱的に変化を始める温度以上でない
と釉薬を焼成できなくなり、焼成時に成形体自体
の性質が変態または破壊することがあつた。 本出願人は、従来技術の上記欠点を解消するた
めの施釉製品を発明し、これを特願昭58−51111
号として既に出願ずみである。該既出願に係る発
明の要旨は、陶磁器、金属、セメント等の成形体
上に釉薬層を設けてなる施釉製品において、釉薬
層の表面から成形体との界面にかけて、酸化チタ
ン、酸化ジルコニウム、酸化ストロンチウム、酸
化スズ等の耐薬品性及び耐久性に優れた酸化化合
物を分布させて成り、該酸化化合物の分布密度は
釉薬層の表面側が密であり、成形体との界面側が
粗であつて、連続的に変化していることを特徴と
するものである。ところで、上記既出願のものを
発明するに至つた過程の中で、発明者らは、釉薬
層に対する酸化化合物の分布が連続的変化を呈し
ていない場合、即ち、酸化化合物が次第に厚い層
をなし、該酸化化合物層と釉薬層との間に比較的
際立つた境界が認められるようになつた場合に
は、酸化化合物が細粗様々の区画をなして凝集
し、酸化化合物層の表面に亀裂が生ずる現象を知
見した。既に述べたように、上記の如き亀裂現象
は従来好ましくないものとされてきた。然し発明
者らは、上記の如き亀裂現象に対する先入観を打
破して、これを善用する方途について考えをめぐ
らした。換言すれば、本発明は、従来否定詳価さ
れていた亀裂現象を肯定評価されるべく転用する
ことを課題とするものである。 〔課題を解決するための手段〕 前記課題を解決するために採用した本発明の手
段は、陶磁器、金属、セメント等の成形体上に釉
薬層を設けた施釉製品において、釉薬層上にジル
コニウム化合物、チタン化合物等の一種又は二種
以上よりなる表面処理液層を設けてなり、該表面
処理液層には方向性又は無方向性の亀裂による模
様が現出され、該亀裂は釉薬によつて填充されて
いるところにある。 〔作用〕 上記の解決手段によれば、陶磁器、金属、セメ
ント等の成形体と直に接しているのは釉薬の成分
のみであるため、従来のマツト状施釉製品の場合
のように、成形体と釉薬層との間に支障となるよ
うな熱膨張係数差が発生することはない。また、
表面処理液層に現出された亀裂は釉薬によつて充
填されているので、成形体に悪影響をもたらす雨
水等が浸透するおそれは全くない。しかも亀裂に
よる模様は、一種の風趣をかもし出して成形体の
商品価値を向上せしめる。 〔実施例〕 以下に本発明の構成を図面に示す実施例に基づ
いて説明すると次の通りである。 第２図及び第３図は、本発明に係る施釉製品４
の製造過程途中の断面状態を示すものである。施
釉製品４の基本的製造方法は、先づ陶磁器、金
属、セメント等の成形体５上に釉薬６を塗布して
釉薬層７を形成する。この釉薬層７は生の状態で
あつてもよく、また一度焼成してガラス質の状態
になつているものであつてもよい、生の場合は、
釉薬６の塗布後、室温にて乾燥させて養生する。
一度焼成する場合は、釉薬６の塗布後、室温にて
乾燥させて養生し、これを焼成炉で焼成してその
後室温まで冷却する。釉薬層７の形成後は、その
表面にジルコニウム化合物、チタン化合物等の成
分を含む表面処理液８を塗布して表面処理液層９
を設ける。この表面処理液８は、焼成によつて成
分が酸化し、その酸化化合物が凝集するものであ
ればよい。また表面処理液８には二種類以上の上
記化合物を混合したものであつてもよい。表面処
理液８の具体例としては、酸化ジルコニウム或い
は水酸化ジルコニウムの水分散液、酸化チタン或
いは水酸化チタンの水分散液、ジルコニウム・
ｎ・プロポキシドのエチルアルコール溶液、チタ
ニウム・イソ・プロポキシドのエチルアルコール
溶液などがある。表面処理液８の選択及びそれら
の塗布量は、施釉製品４の製造に期待される表面
層状態、すなわち、形成された表面処理液層９と
釉薬層７との間に比較的際立つた境界が認めら
れ、表面処理液層９の表面に亀裂が出現されるよ
う考慮して決定する。 表面処理液８を塗布した後は、釉薬６の軟化点
付近で焼成を行う。この焼成により、表面処理液
８の成分は、釉薬６の軟化と共に該釉薬６中に若
干浸透し、該釉薬６と反応する。表面処理液８の
成分と釉薬６との上記反応は、釉薬６の流動性が
著しく大きくなる以前に行われる。そして、表面
処理液８の成分が酸化することによつて生じた化
合物は、釉薬層７の上層部に近い部分に多く集ま
つて厚みを増し、ついには表面処理液層９を形成
するようになる。この場合の表面処理液層９は、
釉薬層７の中に前記反応物が若干分散するとして
も釉薬層７との間には比較的際立つた境界を形成
する。このような状態になると、表面処理液層９
を形成する酸化化合物は、細粗様々の区画をなし
て凝集し、該凝集区画の隣接部には亀裂が生じ
る。従つて表面処理液層９の表面には亀裂模様が
現出される。なお、このような表面処理液層９の
表面には、表面処理液８の成分が酸化物の結晶と
して存在し、このため亀裂模様と同時にマツト状
をも呈することとなる。 第４図は、上記の如くにして出来上がつた施釉
製品４の断面を摸式的に表わしたものである。表
面処理液層９には亀裂１０が存在するが、この亀
裂１０は第１図について前述した場合の釉薬層１
に発生する開放亀裂２とは全く別異のものであ
る。何となれば、第４図の亀裂１０は、釉薬６に
よつて填充され、閉塞状態にあるからである。亀
裂１０が釉薬６によつて充填されるメカニズムに
ついて説明すれば次の如くである。すなわち、表
面処理液８の成分は、高耐火度をもつ物質で構成
されているため、800〜1300℃程度の焼成ではそ
れ自身で溶けたり、釉薬６と完全に反応すること
はなく、焼成過程の中で前記の成分が表面寄りに
集まり、厚みを増して層をなす。層の中には核と
なるものが存在し、その周囲に多くの成分が凝集
する。そして隣接する凝集成分集団との間に空隙
が生ずるが、この空隙が亀裂１０である。これに
対して釉薬６は、前記の焼成温度の低温域で熱膨
張し、高温域で流動性が大きくなる。流動性が大
きくなつた釉薬６は、前記凝集成分集団相互間の
空隙部分（亀裂１０）に流れ込む。このようにし
て亀裂１０は釉薬６によつて填充され、閉塞状態
となるのである。故に亀裂１０の場合は、従来の
開放亀裂２の場合とは異なり、成形体５の地肌が
露呈することもなく、また雨水等が浸透すること
も全く有り得ない。しかも、釉薬層７と表面処理
液層９との密着状態は極めて良好であり、表面処
理液層９には物理的あるいは化学的な劣化は生じ
ない。なお、第４図にみられる如く、釉薬層７へ
は表面処理液８に由来する反応物の浸透が若干認
められるけれども、その浸透度は際立つて少な
く、釉薬層７自体の性質に変化をもたらすもので
はない。勿論、成形体５と直に接しているのは、
ガラス質化された釉薬６である。この部分におけ
る釉薬６の熱膨張係数は、成形体５の熱膨張係数
に準ずるものであり、そのための釉薬６の原料及
びそれらの調合割合は、成形体５の材質に応じて
選択し設定されることは言うまでもない。従つ
て、釉薬層７と成形体５との間の熱膨張係数差に
起因して、施釉製品４に別個の亀裂が発生するよ
うな問題はなくなる。 次に、施釉製品４を具体的に製造する場合の実
施例について説明する。表面処理液層形成のもと
となる表面処理液の塗布には、既に述べた如く、
生の釉薬層の上に塗布する場合と一度焼成後の釉
薬層の上に塗布する場合とがある。以下では主と
して前者の場合について、表−１及び表−２を参
照して説明する。成形体５としては、109mm角の
内装用素焼タイルを用いた。この素焼タイルを所
定枚数準備して、表−１に示す組成の陶磁器用釉
薬を湿式幕掛け法等によつて素焼タイル表面に塗
布する。そして、これを室温にして乾燥し養生す
る。
【表】
上述の如く乾燥させて養生した後に、酸化チタ
ンの20Wt5％水分散液を表面処理液として、上記
釉薬層の表面にスプレー塗布して表面処理液層を
設ける。その時の表面処理液の塗布量は種々変化
をもたせた。それを表−２に示す。同表において
試番１は比較例品であり、試番２乃至４は本発明
に係る実施例品である。
ンの20Wt5％水分散液を表面処理液として、上記
釉薬層の表面にスプレー塗布して表面処理液層を
設ける。その時の表面処理液の塗布量は種々変化
をもたせた。それを表−２に示す。同表において
試番１は比較例品であり、試番２乃至４は本発明
に係る実施例品である。
本発明に係る施釉製品は、前記説明の如く、成
形体の上に設けられた釉薬層の上にジルコニウム
化合物、チタン化合物等の一種又は二種以上より
なる表面処理液を設けたものであり、該表面処理
液層の表面には方向性又は無方向性の亀裂による
模様が現出され、該亀裂は釉薬によつて填充され
閉塞状態である。従つて本発明は次の如き効果を
奏するものである。 成形体と直に接着しているのは、該成形体と
の間に熱膨張係数差の少ない釉薬層であり、加
えて該釉薬層と表面処理液層とは、該表面処理
液層の成分が釉薬層の方へ若干浸透する程の親
和性により極めて良好な密着状態を示すので、
冷熱サイルを繰返す環境の中で長年使用して
も、支障となるような物理的又は化学的劣化が
生ずるおそれはなく、高品質の施釉製品を提供
することができる。 表面処理液層表面に現出された亀裂模様の各
亀裂は、釉薬によつて填充閉塞されているの
で、従来の施釉製品に発生する開放亀裂とは全
く異質であつて、雨水等の浸透によつて成形体
が劣化するようなことはない。 表面処理液層表面の亀裂模様は、各亀裂を填
充閉塞した釉薬の光澤と艶消しされたマツト状
によつて風趣豊かなトーンをかもし出し、施釉
製品の商品価値を向上せしめる。
形体の上に設けられた釉薬層の上にジルコニウム
化合物、チタン化合物等の一種又は二種以上より
なる表面処理液を設けたものであり、該表面処理
液層の表面には方向性又は無方向性の亀裂による
模様が現出され、該亀裂は釉薬によつて填充され
閉塞状態である。従つて本発明は次の如き効果を
奏するものである。 成形体と直に接着しているのは、該成形体と
の間に熱膨張係数差の少ない釉薬層であり、加
えて該釉薬層と表面処理液層とは、該表面処理
液層の成分が釉薬層の方へ若干浸透する程の親
和性により極めて良好な密着状態を示すので、
冷熱サイルを繰返す環境の中で長年使用して
も、支障となるような物理的又は化学的劣化が
生ずるおそれはなく、高品質の施釉製品を提供
することができる。 表面処理液層表面に現出された亀裂模様の各
亀裂は、釉薬によつて填充閉塞されているの
で、従来の施釉製品に発生する開放亀裂とは全
く異質であつて、雨水等の浸透によつて成形体
が劣化するようなことはない。 表面処理液層表面の亀裂模様は、各亀裂を填
充閉塞した釉薬の光澤と艶消しされたマツト状
によつて風趣豊かなトーンをかもし出し、施釉
製品の商品価値を向上せしめる。
第１図は従来の施釉製品を示す摸式的縦断面
図、第２図及び第３図は本発明に係る施釉製品の
製造過程中の状態を示す摸式的縦断面図、第４図
は本発明に係る施釉製品が出来上がつた状態を示
す摸式的縦断面図、第５図は施釉製品の表面状態
を示す平面図であつて、同図の図イは比較例のも
の、同図の図ロ，ハ，ニは本発明における実施例
のうち無方向性亀裂模様を現出したもの、第６図
イ，ロ，ハ，ニは本発明に係る施釉製品の表面状
態を示す平面図であつて幾何学的な方向性亀裂模
様を現出したものである。 ４……施釉製品、５……成形体、７……釉薬
層、９……表面処理液層、１０……亀裂。
図、第２図及び第３図は本発明に係る施釉製品の
製造過程中の状態を示す摸式的縦断面図、第４図
は本発明に係る施釉製品が出来上がつた状態を示
す摸式的縦断面図、第５図は施釉製品の表面状態
を示す平面図であつて、同図の図イは比較例のも
の、同図の図ロ，ハ，ニは本発明における実施例
のうち無方向性亀裂模様を現出したもの、第６図
イ，ロ，ハ，ニは本発明に係る施釉製品の表面状
態を示す平面図であつて幾何学的な方向性亀裂模
様を現出したものである。 ４……施釉製品、５……成形体、７……釉薬
層、９……表面処理液層、１０……亀裂。
Claims (1)
- １ 陶磁器、金属、セメント等の成形体上に釉薬
層を設けた施釉製品において、釉薬層上にジルコ
ニウム化合物、チタン化合物等の一種又は二種以
上よりなる表面処理液層を設けてなり、該表面処
理液層には方向性又は無方向性の亀裂による模様
が現出され、該亀裂は釉薬によつて填充されてい
ることを特徴とする施釉製品。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58102296A JPS59227788A (ja) | 1983-06-07 | 1983-06-07 | 施「ゆう」製品 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58102296A JPS59227788A (ja) | 1983-06-07 | 1983-06-07 | 施「ゆう」製品 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59227788A JPS59227788A (ja) | 1984-12-21 |
| JPH0124752B2 true JPH0124752B2 (ja) | 1989-05-12 |
Family
ID=14323649
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58102296A Granted JPS59227788A (ja) | 1983-06-07 | 1983-06-07 | 施「ゆう」製品 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS59227788A (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2010155769A (ja) * | 2008-12-05 | 2010-07-15 | Toto Ltd | 衛生陶器 |
| CN104119095B (zh) * | 2013-04-27 | 2016-04-27 | 比亚迪股份有限公司 | 一种金属陶瓷复合制品及其制备方法 |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS631277A (ja) * | 1986-06-20 | 1988-01-06 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | カラ−固体撮像装置 |
-
1983
- 1983-06-07 JP JP58102296A patent/JPS59227788A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS59227788A (ja) | 1984-12-21 |
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