JPH01250891A - 平面位置決め装置 - Google Patents
平面位置決め装置Info
- Publication number
- JPH01250891A JPH01250891A JP63078986A JP7898688A JPH01250891A JP H01250891 A JPH01250891 A JP H01250891A JP 63078986 A JP63078986 A JP 63078986A JP 7898688 A JP7898688 A JP 7898688A JP H01250891 A JPH01250891 A JP H01250891A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- axis
- drive mechanism
- axis direction
- signal
- error amount
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
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- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Control Of Position Or Direction (AREA)
- Length Measuring Devices With Unspecified Measuring Means (AREA)
- Details Of Measuring And Other Instruments (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［発明の目的コ
（産業上の利用分野）
本発明は、半導体露光装置、半導体検査装置。
超精密加工装置などに組込むのに好適な平面位置決め装
置に関する。
置に関する。
（従来の技術）
周知のように、光ステッパを用いて半導体装置を製造す
るときには、露光するウェハ面を投影レンズの光軸に対
して直角に、かつ結像位置に正確に位置決めする必要が
ある。
るときには、露光するウェハ面を投影レンズの光軸に対
して直角に、かつ結像位置に正確に位置決めする必要が
ある。
ところで、上記のようにウェハ面を投影レンズの光軸に
対して直角に位置決めするための、いわゆる平面位置決
め装置としては、従来９次のようなものが考えられてい
る。すなわち、Ｘ軸、Ｙ軸。
対して直角に位置決めするための、いわゆる平面位置決
め装置としては、従来９次のようなものが考えられてい
る。すなわち、Ｘ軸、Ｙ軸。
Ｚ軸からなる直角座標を基準とし、ＸＹ軸方向に移動可
能な第１のテーブル上にＺ軸方向に移動可能な第２のテ
ーブルを設け、この第２のテーブルを選択的にＺ軸方向
に移動させる第１の駆動機構を設けている。また、第２
のテーブル上でＹ軸上に第１の支持機構を配置するとと
もに上記Ｙ軸を境にして対称的な位置にＺ軸方向へ移動
可能な第２および第３の支持機構を配置し、これら第１
゜第２．第３の支持機構でウェハを支持したウェハテー
ブルを３点支持させている。また、第２の支持機構およ
び第３の支持機構を選択的にＺ軸方向に移動させる第２
の駆動機構および第３の駆動機構を設けている。そして
、第１のテーブルをＸＹ軸方向に順次移動させ、このと
き対象とするウェハチップ面の３点以上のＺ軸方向位置
を順次１点ずつ測定し、これらの測定によって得られた
値から対象とするウェハチップ面のＸ軸回り回転誤差量
およびＹ軸回り回転誤差量を演算し、この結果に基いて
第２．第３の駆動機構を制御してウェハの角度補正を行
なうようにしている。また、露光時にはウェハのＺ軸方
向位置を常に検出し、この検出値に基いて第１の駆動機
構をフィードバック制御している。
能な第１のテーブル上にＺ軸方向に移動可能な第２のテ
ーブルを設け、この第２のテーブルを選択的にＺ軸方向
に移動させる第１の駆動機構を設けている。また、第２
のテーブル上でＹ軸上に第１の支持機構を配置するとと
もに上記Ｙ軸を境にして対称的な位置にＺ軸方向へ移動
可能な第２および第３の支持機構を配置し、これら第１
゜第２．第３の支持機構でウェハを支持したウェハテー
ブルを３点支持させている。また、第２の支持機構およ
び第３の支持機構を選択的にＺ軸方向に移動させる第２
の駆動機構および第３の駆動機構を設けている。そして
、第１のテーブルをＸＹ軸方向に順次移動させ、このと
き対象とするウェハチップ面の３点以上のＺ軸方向位置
を順次１点ずつ測定し、これらの測定によって得られた
値から対象とするウェハチップ面のＸ軸回り回転誤差量
およびＹ軸回り回転誤差量を演算し、この結果に基いて
第２．第３の駆動機構を制御してウェハの角度補正を行
なうようにしている。また、露光時にはウェハのＺ軸方
向位置を常に検出し、この検出値に基いて第１の駆動機
構をフィードバック制御している。
しかしながら、上記のように構成された従来の平面位置
決め装置にあっては次のような問題があった。すなわち
、従来の装置では、第１のテーブルをＸＹ軸方向に順次
移動させて、このとき対象とするウェハチップ面の３点
以上のＺ軸方向位置を順次、１点ずつ測定し、これらの
値からＸ軸回り回転誤差量およびＹ軸回り回転誤差量を
演算し。
決め装置にあっては次のような問題があった。すなわち
、従来の装置では、第１のテーブルをＸＹ軸方向に順次
移動させて、このとき対象とするウェハチップ面の３点
以上のＺ軸方向位置を順次、１点ずつ測定し、これらの
値からＸ軸回り回転誤差量およびＹ軸回り回転誤差量を
演算し。
この結果に基いて第２．第３の駆動機構をオープンルー
プで制御している。このような制御方式であると、対象
とするウェハチップを露光位置まで移動させるために、
第１のテーブルのステップ移動が終了した時点から、再
び第１のテーブルをＸＹ軸方向に順次移動させて角度補
正を行なうためのデータを収集する動作が行われること
になるので、１チツプ毎の露光に要する時間が長くなり
。
プで制御している。このような制御方式であると、対象
とするウェハチップを露光位置まで移動させるために、
第１のテーブルのステップ移動が終了した時点から、再
び第１のテーブルをＸＹ軸方向に順次移動させて角度補
正を行なうためのデータを収集する動作が行われること
になるので、１チツプ毎の露光に要する時間が長くなり
。
スループットが低下すると言う問題があった。また、オ
ーブンループ方式で角度補正制御を行なっているので、
外乱に対して補正を行なうことができず、露光中に外乱
が侵入すると、露光精度が悪化すると言う問題もあった
。
ーブンループ方式で角度補正制御を行なっているので、
外乱に対して補正を行なうことができず、露光中に外乱
が侵入すると、露光精度が悪化すると言う問題もあった
。
（発明が解決しようとする課題）
上述の如（、従来の平面位置決め装置にあっては２位置
決めに長時間を要するばかりか１位置決め後に外乱によ
って位置ずれが生じてもこれを補正することがてきない
と言う問題があった。
決めに長時間を要するばかりか１位置決め後に外乱によ
って位置ずれが生じてもこれを補正することがてきない
と言う問題があった。
そこで本発明は１位置決めに要する時間を短縮化できる
とともに外乱に対しても補償の行なえる平面位置決め装
置を提供することを目的としている。
とともに外乱に対しても補償の行なえる平面位置決め装
置を提供することを目的としている。
［発明の構成］
（課題を解決するための手段）
上記目的を達成するために１本発明に係る平面位置決め
装置では、平面位置決め対象・物の表面の３箇所位置を
同時に測定して基準平面に対する上記表面のＺ軸方向位
置誤差量、Ｘ軸回り回転誤差量およびＹ軸回り回転誤差
量を算出する手段と。
装置では、平面位置決め対象・物の表面の３箇所位置を
同時に測定して基準平面に対する上記表面のＺ軸方向位
置誤差量、Ｘ軸回り回転誤差量およびＹ軸回り回転誤差
量を算出する手段と。
この手段によって得られたＺ軸方向位置誤差ユ信号で前
述した第１の駆動機構を制御する第１のサーボ機構と、
前記手段によって得られたＸ軸回り回転誤差量信号を零
にすべく前述した第２および第３の駆動機構に与えるべ
き信号とＹ軸回り回転誤差量信号を零にすべく上記第２
および第３の駆動機構に与えるべき信号とを各駆動機構
毎に加算して得た信号で上記第２の駆動機構および第３
の駆動機構を制御する第２および第３のサーボ機構とを
設けている。
述した第１の駆動機構を制御する第１のサーボ機構と、
前記手段によって得られたＸ軸回り回転誤差量信号を零
にすべく前述した第２および第３の駆動機構に与えるべ
き信号とＹ軸回り回転誤差量信号を零にすべく上記第２
および第３の駆動機構に与えるべき信号とを各駆動機構
毎に加算して得た信号で上記第２の駆動機構および第３
の駆動機構を制御する第２および第３のサーボ機構とを
設けている。
（作用）
平面位置決め対象物の表面の３箇所位置を同時に測定し
て基準平面に対する上記表面のＺ軸方向位置誤差量、Ｘ
軸回り回転誤差量およびＹ軸回り回転誤差量を算出する
手段を設けているので。
て基準平面に対する上記表面のＺ軸方向位置誤差量、Ｘ
軸回り回転誤差量およびＹ軸回り回転誤差量を算出する
手段を設けているので。
上記各誤差量を算出するために平面位置決め対象物をＸ
Ｙ軸方向に移動させる必要はない。したがって、Ｚ軸方
向位置誤差量、Ｘ軸回り回転誤差量およびＹ軸回り回転
誤差量をほとんど瞬時に算出できる。また、上述した誤
差量算出手段を設けているので、第２および第３の駆動
機構に対してもフィードバック制御が可能となる。した
がって。
Ｙ軸方向に移動させる必要はない。したがって、Ｚ軸方
向位置誤差量、Ｘ軸回り回転誤差量およびＹ軸回り回転
誤差量をほとんど瞬時に算出できる。また、上述した誤
差量算出手段を設けているので、第２および第３の駆動
機構に対してもフィードバック制御が可能となる。した
がって。
外乱の補償も確実に行なうことができる。
（実施例）
以下２図面を参照しながら実施例を説明する。
第Ｘ図には半導体露光システムに適用した一実施例に係
る平面位置決め装置の概略斜視図が示されている。
る平面位置決め装置の概略斜視図が示されている。
この装置の機械的可動部分は、第１図に示すようにＸ軸
、Ｙ軸、Ｚ軸からなる直角座標を基準としたとき１図示
しないＸＹ子テーブル上Ｚ軸方向に移動可能に配置され
たテーブル１と、このテーブル１をＺ軸方向に選択的に
移動させる第１の駆動機構２と、テーブル１上でＹ軸上
に配置された第１の支持機構３と、テーブル１上でＹ軸
を境にして対称的な位置にＺ軸方向へ移動可能に配置さ
れた第２および第３の支持機構４，５と、第２の支持機
構４および第３の支持機構５を選択的にＺ軸方向に移動
させる第２の駆動機構６および第３の駆動機構７とで構
成されている。各駆動機（ｔ２゜６．７としては、それ
ぞれモータとボールネジを含む減速ギアとを組合わせた
機構のもの、あるいは圧電素子を組合せたものが使用さ
れている。そして、これら各駆動機構２，６．７は、そ
れぞれ第１．第２．第３のサーボ機構８．９．１０によ
って制御される。
、Ｙ軸、Ｚ軸からなる直角座標を基準としたとき１図示
しないＸＹ子テーブル上Ｚ軸方向に移動可能に配置され
たテーブル１と、このテーブル１をＺ軸方向に選択的に
移動させる第１の駆動機構２と、テーブル１上でＹ軸上
に配置された第１の支持機構３と、テーブル１上でＹ軸
を境にして対称的な位置にＺ軸方向へ移動可能に配置さ
れた第２および第３の支持機構４，５と、第２の支持機
構４および第３の支持機構５を選択的にＺ軸方向に移動
させる第２の駆動機構６および第３の駆動機構７とで構
成されている。各駆動機（ｔ２゜６．７としては、それ
ぞれモータとボールネジを含む減速ギアとを組合わせた
機構のもの、あるいは圧電素子を組合せたものが使用さ
れている。そして、これら各駆動機構２，６．７は、そ
れぞれ第１．第２．第３のサーボ機構８．９．１０によ
って制御される。
一方、支持機構３．４．５の上面には、これらによって
３点支持される。ウェハテーブル１１が載置されており
、このウェハテーブル１１の上面には平面位置合せ対象
物としてのウェハ１２が支持されている。ウェハテーブ
ル１］の上方あるいは斜め上方位置には、ウェハ１２の
上面で丁度。
３点支持される。ウェハテーブル１１が載置されており
、このウェハテーブル１１の上面には平面位置合せ対象
物としてのウェハ１２が支持されている。ウェハテーブ
ル１］の上方あるいは斜め上方位置には、ウェハ１２の
上面で丁度。
露光位置に存在するウェハチップ１３の３箇所ＰＩ＋Ｐ
２＋ Ｐ３のＺ軸方向位置を同時に測定し。
２＋ Ｐ３のＺ軸方向位置を同時に測定し。
ウェハチップ１３のＺ軸方向位置ＺＪ！、ｘ軸回り回転
角Ｘθ、Ｙ軸回り回転角Ｙθを検出して。
角Ｘθ、Ｙ軸回り回転角Ｙθを検出して。
Ｚ軸方向位置信号ｚ、１？、、ｘ軸回り回転角信号Ｘθ
１．Ｙ軸回り回転角信号Ｙθ１を出力する変位計１４が
設けられている。そして、変位計１４から出力されたＺ
軸方向位置信号Ｚ、ｉ？ｔはサーボ機構８に、Ｘ軸回り
回転角信号Ｘθ１はサーボ機（Ｘ４つに、また１Ｙ軸回
り回転角信号Ｙθｌはサーボ機構１０に入力される。
１．Ｙ軸回り回転角信号Ｙθ１を出力する変位計１４が
設けられている。そして、変位計１４から出力されたＺ
軸方向位置信号Ｚ、ｉ？ｔはサーボ機構８に、Ｘ軸回り
回転角信号Ｘθ１はサーボ機（Ｘ４つに、また１Ｙ軸回
り回転角信号Ｙθｌはサーボ機構１０に入力される。
サーボ機構８，９．１０は、具体的には第２図に示すよ
うに構成されている。すなわち、サーボ機構８は、減算
器２１てＺ軸方向基準位置信号Ｚ）、とＺ軸方向位置信
号Ｚ、ｅｌとの偏差をとり。
うに構成されている。すなわち、サーボ機構８は、減算
器２１てＺ軸方向基準位置信号Ｚ）、とＺ軸方向位置信
号Ｚ、ｅｌとの偏差をとり。
この誤差信号Ｚノ′をドライバ回路２２の入力信号とし
て与えている。ドライバ回路２２は、誤差信号Ｚノ′に
対応させて駆動機構２のアクチュエータを駆動する。サ
ーボ機構９は、減算器２３でＸ軸回り基準回転角信号Ｘ
θＳとＸ軸回り回転角信号Ｘθ１との偏差をとり、この
誤差信号Ｘθ′を干渉補償要素２４を介して加算器２５
の一方の入力端に導入し、この加算器２５の出力をドラ
イバ回路２６の入力信号として与えている。ドライバ回
路２６は、入力信号に対応させて駆動機構６のアクチュ
エータを駆動する。また、サーボ機構１０は、減算器２
７でＹ軸回り基準回転角信号Ｙθ８とＹ軸回り回転角信
号Ｙ０１との偏差をとり、この誤差信号Ｙθ′をゲイン
補償要素２８を介して一方においては前記加算器２５の
他方の入力端に導入し、他方においてはインバータ２９
を介して加算器３０の一方の入力端に導入している。
て与えている。ドライバ回路２２は、誤差信号Ｚノ′に
対応させて駆動機構２のアクチュエータを駆動する。サ
ーボ機構９は、減算器２３でＸ軸回り基準回転角信号Ｘ
θＳとＸ軸回り回転角信号Ｘθ１との偏差をとり、この
誤差信号Ｘθ′を干渉補償要素２４を介して加算器２５
の一方の入力端に導入し、この加算器２５の出力をドラ
イバ回路２６の入力信号として与えている。ドライバ回
路２６は、入力信号に対応させて駆動機構６のアクチュ
エータを駆動する。また、サーボ機構１０は、減算器２
７でＹ軸回り基準回転角信号Ｙθ８とＹ軸回り回転角信
号Ｙ０１との偏差をとり、この誤差信号Ｙθ′をゲイン
補償要素２８を介して一方においては前記加算器２５の
他方の入力端に導入し、他方においてはインバータ２９
を介して加算器３０の一方の入力端に導入している。
この加算器３０の他方の入力端には前記干渉補償要素２
４を通った誤差信号Ｘθ′が与えられている。そして、
加算器３０の出力をドライバ回路３１の人力信号として
与えている。ドライバ回路３１は１人力信号に対応させ
て駆動機構７のアクチュエータを駆動する。上記信号の
流れから判かるように、サーボ機構９のドライバ回路２
６には。
４を通った誤差信号Ｘθ′が与えられている。そして、
加算器３０の出力をドライバ回路３１の人力信号として
与えている。ドライバ回路３１は１人力信号に対応させ
て駆動機構７のアクチュエータを駆動する。上記信号の
流れから判かるように、サーボ機構９のドライバ回路２
６には。
Ｘ軸回り回転誤差信号を零にすべく駆動機構６゜７に与
えるべき信号とＹ軸回り回転誤差信号を零にすべく駆動
機構６，７に与えるべき信号のうち駆動機構６に与えら
れる信号分を加算した信号が入力として与えられる。ま
た、ドライバ回路３１には、Ｘ軸回り回転誤差信号を零
にすべく駆動機構６，７に与えるべき信号とＹ軸回り回
転誤差信号を零にすべく駆動機構６．７に与えるべき信
号のうちの駆動機構７に与えられる信号分を加算した信
号が入力として与えられる。
えるべき信号とＹ軸回り回転誤差信号を零にすべく駆動
機構６，７に与えるべき信号のうち駆動機構６に与えら
れる信号分を加算した信号が入力として与えられる。ま
た、ドライバ回路３１には、Ｘ軸回り回転誤差信号を零
にすべく駆動機構６，７に与えるべき信号とＹ軸回り回
転誤差信号を零にすべく駆動機構６．７に与えるべき信
号のうちの駆動機構７に与えられる信号分を加算した信
号が入力として与えられる。
このような構成であると、ＸＹテーブルの移動によって
対象とするウエノ１チップ１３が、露光位置まで送られ
てきた時点で、変位計１４が瞬時にＺ軸方向位置信号ｚ
Ｉ！１．ｘ軸回り回転角信号Ｘθ３．Ｙ軸回り回転角信
号Ｙ０１を出力する。
対象とするウエノ１チップ１３が、露光位置まで送られ
てきた時点で、変位計１４が瞬時にＺ軸方向位置信号ｚ
Ｉ！１．ｘ軸回り回転角信号Ｘθ３．Ｙ軸回り回転角信
号Ｙ０１を出力する。
そして、この出力によってサーボ機構８，９゜１０にサ
ーボがかけられる。したがって、極めて短時間に対象と
するウニ／＼チップ１３の表面全体を正確に位置合せす
ることができる。また、駆動機構２．６．７をそれぞれ
サーボ機構８，９゜１０を使って制御しているので２位
置決め後に外乱が入ってもこれを速やかに補償すること
ができる。
ーボがかけられる。したがって、極めて短時間に対象と
するウニ／＼チップ１３の表面全体を正確に位置合せす
ることができる。また、駆動機構２．６．７をそれぞれ
サーボ機構８，９゜１０を使って制御しているので２位
置決め後に外乱が入ってもこれを速やかに補償すること
ができる。
第３図には本発明の別の実施例に係る平面位置決め装置
におけるサーボ機構８ａ、９ａ、１０ａが示されている
。この実施例では、干渉補償要素４１．４２と加算器４
３とを用いて互いの間での干渉を防止している。このよ
うに構成すると、前記実施例と同様な効果が期待できる
ことは勿論のこと、平面位置決め制御を一層円滑に、か
つ応答性良く行なわせることができる。
におけるサーボ機構８ａ、９ａ、１０ａが示されている
。この実施例では、干渉補償要素４１．４２と加算器４
３とを用いて互いの間での干渉を防止している。このよ
うに構成すると、前記実施例と同様な効果が期待できる
ことは勿論のこと、平面位置決め制御を一層円滑に、か
つ応答性良く行なわせることができる。
［発明の効果］
以上述べたように１本発明によれば平面位置決めに要す
る時間の短縮化を図れるばかりか外乱に対しても十分な
補償を行なうことができる。
る時間の短縮化を図れるばかりか外乱に対しても十分な
補償を行なうことができる。
第１図は半導体露光システムに適用した一実施例に係る
平面位置決め装置の概略斜視図、第２図は同装置におけ
るサーボ機構の構成図、第３図は別の実施例に係る平面
位置決め装置におけるサーボ機構の構成図である。 １・・・テーブル、２・・・第１の駆動機構、３・・・
第１の、支持機構、４・・・第２の支持機構、５・・・
第３の支持機構、６・・・第２の駆動機構、７・・・第
３の駆動機構。 ８・・・第１のサーボ機構、９・・・第２のサーボ機構
。 ］０・・・第３のサーボ機構、１１・・・ウェハテーブ
ル。 １３・・・ウェハチップ、１４・・・変位計。 出願人代理人 弁理士 鈴江武彦 第１図
平面位置決め装置の概略斜視図、第２図は同装置におけ
るサーボ機構の構成図、第３図は別の実施例に係る平面
位置決め装置におけるサーボ機構の構成図である。 １・・・テーブル、２・・・第１の駆動機構、３・・・
第１の、支持機構、４・・・第２の支持機構、５・・・
第３の支持機構、６・・・第２の駆動機構、７・・・第
３の駆動機構。 ８・・・第１のサーボ機構、９・・・第２のサーボ機構
。 ］０・・・第３のサーボ機構、１１・・・ウェハテーブ
ル。 １３・・・ウェハチップ、１４・・・変位計。 出願人代理人 弁理士 鈴江武彦 第１図
Claims (1)
- Ｘ軸、Ｙ軸、Ｚ軸からなる直角座標を基準とし、Ｚ軸
方向に移動可能に設けられたテーブルと、このテーブル
を選択的にＺ軸方向に移動させる第１の駆動機構と、前
記テーブル上でＹ軸上に配置された第１の支持機構と上
記Ｙ軸を境にして対称的な位置にＺ軸方向へ移動可能に
配置された第２および第３の支持機構とで構成されて平
面位置決め対象物を直接もしくは平面位置決め対象物を
支持した支持テーブルを３点で支持する３点支持機構と
、前記第２の支持機構および第３の支持機構を選択的に
Ｚ軸方向に移動させる第２の駆動機構および第３の駆動
機構と、前記平面位置決め対象物の表面の３箇所位置を
同時に測定し、基準平面に対する上記表面のＺ軸方向位
置誤差量、Ｘ軸回り回転誤差量およびＹ軸回り回転誤差
量を算出する手段と、この手段によって得られたＺ軸方
向位置誤差量信号で前記第１の駆動機構を制御する第１
のサーボ機構と、前記手段によって得られたＸ軸回り回
転誤差量信号を零にすべく前記第２および第３の駆動機
構に与えるべき信号とＹ軸回り回転誤差量信号を零にす
べく上記第２および第３の駆動機構に与えるべき信号と
を各駆動機構毎に加算して得た信号で上記第２の駆動機
構および第３の駆動機構を制御する第２および第３のサ
ーボ機構とを具備してなることを特徴とする平面位置決
め装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63078986A JP3003863B2 (ja) | 1988-03-31 | 1988-03-31 | 平面位置決め装置および方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63078986A JP3003863B2 (ja) | 1988-03-31 | 1988-03-31 | 平面位置決め装置および方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01250891A true JPH01250891A (ja) | 1989-10-05 |
| JP3003863B2 JP3003863B2 (ja) | 2000-01-31 |
Family
ID=13677216
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63078986A Expired - Fee Related JP3003863B2 (ja) | 1988-03-31 | 1988-03-31 | 平面位置決め装置および方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3003863B2 (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH03185327A (ja) * | 1989-12-15 | 1991-08-13 | Sanwa Musen Sokki Kenkyusho:Kk | 真空測定装置 |
| JPH04134293A (ja) * | 1990-09-27 | 1992-05-08 | Canon Inc | 位置決め装置 |
| JPH05506959A (ja) * | 1990-10-22 | 1993-10-07 | インターナシヨナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレーシヨン | デユアル・モードｚステージ |
| JPH06120105A (ja) * | 1992-09-30 | 1994-04-28 | Canon Inc | 位置決め装置及びこれに用いられるピエゾアクチュエータ駆動装置 |
| JP2009058368A (ja) * | 2007-08-31 | 2009-03-19 | Sokkia Topcon Co Ltd | 二次元座標測定機の測定テーブル |
| WO2011111327A1 (ja) * | 2010-03-12 | 2011-09-15 | パナソニック株式会社 | アライメント方法およびフラットパネルディスプレイの製造方法 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS59129636A (ja) * | 1983-01-10 | 1984-07-26 | Hitachi Ltd | ６自由度を有するステ−ジの制御装置 |
-
1988
- 1988-03-31 JP JP63078986A patent/JP3003863B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (1)
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