JPH01252902A - 低反射回折格子およびその作製方法 - Google Patents
低反射回折格子およびその作製方法Info
- Publication number
- JPH01252902A JPH01252902A JP8033288A JP8033288A JPH01252902A JP H01252902 A JPH01252902 A JP H01252902A JP 8033288 A JP8033288 A JP 8033288A JP 8033288 A JP8033288 A JP 8033288A JP H01252902 A JPH01252902 A JP H01252902A
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- Japan
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- diffraction grating
- low
- reflection
- reflection diffraction
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［産業上の利用分野］
この発明は、ＣＤプレイヤーやカラー撮像装置等のオプ
トエレクトロニクス製品に用いられる回折格子に関する
。
トエレクトロニクス製品に用いられる回折格子に関する
。
［従来の技術］
撮像装置の光学的ローパスフィルタとして用いられる回
折格子においては、格子表面での反射による像か画像を
変化することを防止するために。
折格子においては、格子表面での反射による像か画像を
変化することを防止するために。
格子表面の反射率を低減した反射回折格子とする必要か
ある。
ある。
第５図を参照して従来の低反射回折格子の構成を説明す
る。従来は、真空蒸着法等により回折格子の表面にＭｇ
Ｆ２，５ｉＯｚ 、Ｓｉｎ、Ａ１２０１等の無機誘電体
膜５１．５２を多層コートすることにより低反射回折格
子が作製されている。
る。従来は、真空蒸着法等により回折格子の表面にＭｇ
Ｆ２，５ｉＯｚ 、Ｓｉｎ、Ａ１２０１等の無機誘電体
膜５１．５２を多層コートすることにより低反射回折格
子が作製されている。
［発明か解決しようとする課題］
ところて、第５図に示される低反射回折格子は、真空蒸
着法により無機誘電体膜５１．５２を多層コートするた
め、どうしても高価になってしまうという問題点かあっ
た。また、格子基板５０の材料としてプラスチックを用
いた場合は、プラスチックと無機誘電体膜との密着性が
悪く信頼性か低いという問題かあった。
着法により無機誘電体膜５１．５２を多層コートするた
め、どうしても高価になってしまうという問題点かあっ
た。また、格子基板５０の材料としてプラスチックを用
いた場合は、プラスチックと無機誘電体膜との密着性が
悪く信頼性か低いという問題かあった。
この発明は、このような点に鑑みてなされたものて、安
価で信頼性の高い低反射回折格子を提供することを目的
とする。
価で信頼性の高い低反射回折格子を提供することを目的
とする。
［問題点を解決するための手段］
この発明による低反射回折格子は、上記の目的を達成す
るために回折格子の表面に周期が可視光線の波長以下の
凹凸構造を設けたことを特徴とする。
るために回折格子の表面に周期が可視光線の波長以下の
凹凸構造を設けたことを特徴とする。
第１図にこの発明による低反射回折格子の断面図を示す
。この発明では、回折格子ｌの表面を低反射性にするた
めの方法として、周期か可視光線の波長以下の凹凸構造
２を回折格子ｌの表面に設けだものである。この結果、
凹凸構造２の作用により回折格子ｌの表面の屈折率か空
気の屈折率ｎＯから格子材３の屈折率ｎまて連続的に変
化するため、表面か実質的に低反射面となる。また、凹
凸構造２は干渉露光法を用いて作製した。
。この発明では、回折格子ｌの表面を低反射性にするた
めの方法として、周期か可視光線の波長以下の凹凸構造
２を回折格子ｌの表面に設けだものである。この結果、
凹凸構造２の作用により回折格子ｌの表面の屈折率か空
気の屈折率ｎＯから格子材３の屈折率ｎまて連続的に変
化するため、表面か実質的に低反射面となる。また、凹
凸構造２は干渉露光法を用いて作製した。
［実施例］
以下、この発明の実施例を図面を参照して詳しく説明す
る。
る。
実施例 １
第１の実施例による低反射回折格子の作製手順を第２図
に示す。第２図（Ａ）に示すように、基板２１として厚
さ１ｍｍ（直径３ ｃｍ）のガラスを用いた。第２図（
Ｂ）に示すように、ガラス基板２１上に感光性透明膜２
２を形成する。この感光性透明膜２２の感光性樹脂とし
て、メチルメタクリレートとクロメチルメタクリレート
の等モル共重合体を合成し、この共重合体中のクロチル
メタクリレ−１〜成分と等モルのベンゾフェノンを加え
、４１匿％ベンゼン溶液を調整した。この溶液をスピン
コード法によりガラス基板２１に塗布し、感光性透明膜
２２を形成した。次に、第２図（Ｃ）に示すように、こ
の感光性透明膜２２を周期３０ｇｍの回折格子用フォト
マスク２３を介して超高圧水銀灯により２０００ｍＪ
／ｃｒｍ”程度露光し、次いて第２ｒＪ （Ｄ）に示す
ように、波長３２５ｎｍのＨｅ−Ｃｄレーザをθ＝５４
．３゜の角度で左右の斜め上方から二光束干渉露光させ
て、１０００ｍＪ ／ｃ＋ｓ２程度露光し、ベンゾフェ
ノンをクロチルメタクリレート成分に結合させた。最後
に、試料を圧力０．２ｍｍＨｇ、温度１００°Ｃの条件
で減圧加熱して未反応のベンゾフェノンを昇華させ、第
２図（Ｅ）に示す低反射回折格子２０を作製１ノだ。凹
凸構造２４の周期は０．２ルｍ、凹凸構造２４の段差は
０．２ルｍとなり、反射率か全可視域で１％以下の低反
射回折−格子２０か得られた。
に示す。第２図（Ａ）に示すように、基板２１として厚
さ１ｍｍ（直径３ ｃｍ）のガラスを用いた。第２図（
Ｂ）に示すように、ガラス基板２１上に感光性透明膜２
２を形成する。この感光性透明膜２２の感光性樹脂とし
て、メチルメタクリレートとクロメチルメタクリレート
の等モル共重合体を合成し、この共重合体中のクロチル
メタクリレ−１〜成分と等モルのベンゾフェノンを加え
、４１匿％ベンゼン溶液を調整した。この溶液をスピン
コード法によりガラス基板２１に塗布し、感光性透明膜
２２を形成した。次に、第２図（Ｃ）に示すように、こ
の感光性透明膜２２を周期３０ｇｍの回折格子用フォト
マスク２３を介して超高圧水銀灯により２０００ｍＪ
／ｃｒｍ”程度露光し、次いて第２ｒＪ （Ｄ）に示す
ように、波長３２５ｎｍのＨｅ−Ｃｄレーザをθ＝５４
．３゜の角度で左右の斜め上方から二光束干渉露光させ
て、１０００ｍＪ ／ｃ＋ｓ２程度露光し、ベンゾフェ
ノンをクロチルメタクリレート成分に結合させた。最後
に、試料を圧力０．２ｍｍＨｇ、温度１００°Ｃの条件
で減圧加熱して未反応のベンゾフェノンを昇華させ、第
２図（Ｅ）に示す低反射回折格子２０を作製１ノだ。凹
凸構造２４の周期は０．２ルｍ、凹凸構造２４の段差は
０．２ルｍとなり、反射率か全可視域で１％以下の低反
射回折−格子２０か得られた。
実施例 ２
第２の実施例による低反射回折格子の作製手順を第３図
に示す。第３図（Ａ）に示すように、基板２１として厚
さ１ｍｍ（直径３ ｃｎ）のガラスな用いた。第３図（
Ｂ）に示すように、前記第１の実施例と同様の方法によ
りガラス基板３１上に感光性透明ｌｌ！Ｉ３２を塗布し
た。この感光性透明膜３２を波長４２２ｎｍのＨｅ−Ｃ
ｄレーザ光３３を用いレンズ３４を使用したレーザ直接
描画により、周期かｌｏｏｐｍの回折格子状に露光した
。
に示す。第３図（Ａ）に示すように、基板２１として厚
さ１ｍｍ（直径３ ｃｎ）のガラスな用いた。第３図（
Ｂ）に示すように、前記第１の実施例と同様の方法によ
りガラス基板３１上に感光性透明ｌｌ！Ｉ３２を塗布し
た。この感光性透明膜３２を波長４２２ｎｍのＨｅ−Ｃ
ｄレーザ光３３を用いレンズ３４を使用したレーザ直接
描画により、周期かｌｏｏｐｍの回折格子状に露光した
。
次いて、第３図（Ｄ）に示すように第１の実施例と同様
の方法て三光束干渉露光しで、最後に、試料を同様の条
件で減圧加熱して現像し、第３図（Ｅ）に示される低反
射回折格子３０を作製した。凹凸構造３５の周期は０．
２μｍ、凹凸構造３５の段差は０．２ｇｍとなり、反射
率が全可視域で１％以下の低反射回折格子か得られた。
の方法て三光束干渉露光しで、最後に、試料を同様の条
件で減圧加熱して現像し、第３図（Ｅ）に示される低反
射回折格子３０を作製した。凹凸構造３５の周期は０．
２μｍ、凹凸構造３５の段差は０．２ｇｍとなり、反射
率が全可視域で１％以下の低反射回折格子か得られた。
実施例 ３
第３の実施例による低反射回折格子の作製手順を第４図
に示す。先ず、第４図（Ａ）に示される前記第１或いは
第２の実施例により得られた低反射回折格子４１に、第
４図（Ｂ）に示す真空蒸着法によりＡｇ膜４２を蒸着し
、次いで、第４図（Ｃ）に示すように電鋳法により膜厚
か３００牌ｍのＮｉ膜４３を形成し、第４図ＣＤ）に示
されるＮｉスタンバ−４４を作製した。次いて、第４図
（Ｅ）に示すように、２Ｐ用ＵＶ樹脂４５をＮｉスタン
バ−４４に塗布し、次いて、第４図（Ｆ）に示すように
、その上にガラス基板４６をのせ、そのガラス基板４６
側から超高圧水銀灯による光で１０１００Ｏ／ｃｍ２程
度露光して第４図（Ｇ）に示される低反射回折格子４０
を複製した。複製された凹凸構造４０の段差は、原型よ
りも若干小さくなったが、反射率は全可視域て１％以下
てあった。
に示す。先ず、第４図（Ａ）に示される前記第１或いは
第２の実施例により得られた低反射回折格子４１に、第
４図（Ｂ）に示す真空蒸着法によりＡｇ膜４２を蒸着し
、次いで、第４図（Ｃ）に示すように電鋳法により膜厚
か３００牌ｍのＮｉ膜４３を形成し、第４図ＣＤ）に示
されるＮｉスタンバ−４４を作製した。次いて、第４図
（Ｅ）に示すように、２Ｐ用ＵＶ樹脂４５をＮｉスタン
バ−４４に塗布し、次いて、第４図（Ｆ）に示すように
、その上にガラス基板４６をのせ、そのガラス基板４６
側から超高圧水銀灯による光で１０１００Ｏ／ｃｍ２程
度露光して第４図（Ｇ）に示される低反射回折格子４０
を複製した。複製された凹凸構造４０の段差は、原型よ
りも若干小さくなったが、反射率は全可視域て１％以下
てあった。
［発明の効果］
以上説明したように、この発明によれば１回折格子の表
面に周期か可視光線の波長以下の凹凸構造を形成するこ
とにより、安価で信頼性の高い低反射回折格子を提供す
ることかてきる。
面に周期か可視光線の波長以下の凹凸構造を形成するこ
とにより、安価で信頼性の高い低反射回折格子を提供す
ることかてきる。
第１図は、本発明による低反射回折格子の一部分の拡大
断面図、 第２図（Ａ）〜（Ｅ）は、第１の実施例による低反射回
折格子の作製方法を示す拡大断面図、第３図（Ａ）〜（
Ｅ）は第２の実施例による低反射回折格子の作製方法を
示す拡大断面図、第４図（Ａ）〜（Ｇ）は第３の実施例
による低反射回折格子の作製方法を示す拡大断面図、第
５図は、従来の低反射回折格子の拡大断面図である。 １．２０，３０．４０・・・・回折格子２．２４，３５
．４７・・・・周期か可視光線の波長以下の凹 凸構造 特許出願人 株式会社 り ラ し
断面図、 第２図（Ａ）〜（Ｅ）は、第１の実施例による低反射回
折格子の作製方法を示す拡大断面図、第３図（Ａ）〜（
Ｅ）は第２の実施例による低反射回折格子の作製方法を
示す拡大断面図、第４図（Ａ）〜（Ｇ）は第３の実施例
による低反射回折格子の作製方法を示す拡大断面図、第
５図は、従来の低反射回折格子の拡大断面図である。 １．２０，３０．４０・・・・回折格子２．２４，３５
．４７・・・・周期か可視光線の波長以下の凹 凸構造 特許出願人 株式会社 り ラ し
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、回折格子の表面反射率を低減するために、上記回折
格子の表面に周期が可視光線の波長以下の凹凸構造を設
けたことを特徴とする低反射回折格子。 ２、撮像装置の光学的ローパスフィルタとして用いられ
る回折格子において、表面反射率を低減させるために、
上記回折格子の表面に周期が可視光線の波長以下の凹凸
構造を設けたことを特徴とする低反射回折格子。 ３、基板の表面に感光性樹脂を塗布し、次いで上記回折
格子を作製するためのフォトマスク露光および上記凹凸
構造を作製するための干渉露光を行なった後で、上記回
折格子と上記凹凸構造のパターンを現像することを特徴
とする請求項１または請求項２記載の低反射回折格子の
作製方法。 ４、基板の表面に感光性樹脂を塗布し、次いで上記回折
格子を作製するためのレーザビーム直接描画および上記
凹凸構造を作製するための干渉露光を行なった後で、上
記回折格子と上記凹凸構造のパターンを現像することを
特徴とする請求項１または請求項２記載の低反射回折格
子の作製方法。 ５、回折格子の表面反射率を低減するために、上記回折
格子の表面に周期が可視光線の波長以下の凹凸構造を設
けた回折格子の成形用の母型により複製することを特徴
とする低反射回折格子の作製方法。 ６、請求項３および請求項４記載の方法により作製され
た上記低反射回折格子から成形用の母型を作製し、上記
成型用母型により複製することを特徴とする請求項１ま
たは請求項２記載の低反射回折格子の作製方法。 ７、上記回折格子が形成された成型用の型の表面に感光
性樹脂を塗布し、次いで上記凹凸構造を作製するための
干渉露光を行なった後で、上記感光性樹脂の現像、上記
成型用の型のエッチングを行なうことにより低反射回折
格子の成型用の型を作製し、上記成型用型により複製す
ることを特徴とする請求項１または請求項２記載の低反
射回折格子の作製方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8033288A JPH01252902A (ja) | 1988-04-01 | 1988-04-01 | 低反射回折格子およびその作製方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8033288A JPH01252902A (ja) | 1988-04-01 | 1988-04-01 | 低反射回折格子およびその作製方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01252902A true JPH01252902A (ja) | 1989-10-09 |
Family
ID=13715301
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8033288A Pending JPH01252902A (ja) | 1988-04-01 | 1988-04-01 | 低反射回折格子およびその作製方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH01252902A (ja) |
Cited By (13)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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Citations (3)
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|---|---|---|---|---|
| JPS4920105A (ja) * | 1972-06-22 | 1974-02-22 | ||
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-
1988
- 1988-04-01 JP JP8033288A patent/JPH01252902A/ja active Pending
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| JP2013210680A (ja) * | 2007-11-06 | 2013-10-10 | Seiko Epson Corp | 回折光学素子とその製造方法、及びレーザー加工方法 |
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