JPH0512691B2 - - Google Patents

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JPH0512691B2
JPH0512691B2 JP803988A JP803988A JPH0512691B2 JP H0512691 B2 JPH0512691 B2 JP H0512691B2 JP 803988 A JP803988 A JP 803988A JP 803988 A JP803988 A JP 803988A JP H0512691 B2 JPH0512691 B2 JP H0512691B2
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JP
Japan
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matrix
photosensitive material
focusing screen
substrate
mask
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Toshiharu Takahashi
Hiroshi Kubotani
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Pentax Corp
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Asahi Kogaku Kogyo Co Ltd
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Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) この発明は、一眼レフカラメ等の焦点合わせ用
ピント板に具えるフオーカシングスクリーンを製
造する際に用いられるフオーカシングスクリーン
用母型の作製方法に関するものである。
(従来の技術) 従来、一眼レフカメラ等の焦点合わせ用ピント
板に具えるためのフオーカシングスクリーンを製
造する方法として、表面に凹凸形状を有する成形
型を作製し、例えばアクリル樹脂を始めとするプ
ラスチツク光学材料に、上述した凹凸形状を転写
成形する技術が知られている。
この成形型を作製する方法として、例えば金属
板の表面に砂等を摺擦して凹凸部を形成すること
が成されていた。しかしながら、成形型の概略的
断面によつて示す第3図からも理解できるよう
に、この方法により得られる成形型11の凹凸部
13は、連続的な広がりを有する反面、その大部
分が尖頭形状を以つて形成される。これがため、
この凹凸部13を転写して製造されるフオーカシ
ングスクリーン(図示せず)では、連続的なボケ
を得ることができる反面、これら凹凸部13のう
ちで、15の符号を付して示す尖頭部において入
射する光が急角度で曲げられ、全体として、フア
インダーを介して得られる像の明度が低く、かつ
粒状性が目立つという欠点が有つた。
上述した欠点を改善するため、光学的に凹凸部
を形成したフオーカシングスクリーン用母型(以
下、単に母型と称する場合も有る。)を作製し、
さらに、電鋳法により、母型の凹凸部を転写した
成形型を用いて光学材料を成形してフオーカシン
グスクリーンを製造する技術が開発され、実用に
供されている。
このような製造技術において、フオーカシング
スクリーンの表面形状を規定する母型の形状は、
電鋳法により転写される成形型を介して、製品と
してのフオーカシングスクリーンに正確に反映さ
れる。これがため、上述の製造技術においては、
母型の作製技術が重要となり、係る技術として、
例えば特開昭57−148728号公報、或いは特開昭59
−208536号公報に開示されるものが知られてい
る。
これらの技術のうち、特開昭57−148728号公報
で提案されている母型の作製技術によれば、例え
ばレジスト材を塗布した基板やゼラチン乾板とい
つた感光材の表面に、マスク上に画成した規則的
な微細パターンを投影し、所定の現像(或いはブ
リーチ)処理を行ない、上述した感光材を凹凸部
として形成して母型が作製される。
このようにして得られる母型では、例えば微細
パターンを画成したマスクと、感光材料を塗布し
た感光材との距離Δtを所定の値に変化させて露
光することにより、母型表面に形成される凹凸部
の形状を変化せしめることが可能である。
以下、図面を参照して、上述した公報に開示さ
れる技術につき説明する。
第4図A〜Cは、母型の模式的断面により示す
説明図である。これら図中、同一の機能を有する
構成成分には同一の符号を付して示す。
まず始めに、マスクと感光材とを密着させ、前
述した距離Δtを実質的に0として露光させた場
合には、第4図Aから理解できるように、基板1
7上に形成される凹凸部19aの形状は、図示し
ていないマスクの微細パターンの平面形状を正確
に転写し、夫々の凹凸部19aは平坦部21aを
有し、かつ稜線が直角な角度を以つて、母型23
が構成される。
また、距離Δtを約10μm程度として露光させる
場合には、マスクを介して感光材表面に結ばれる
像の輪郭が、回折光によつてボケる。これがた
め、第4図Bに示すように、凹凸部19bの形状
は、上述した平坦部21aを有すると共に、稜線
を斜面とする母型25が得られる。
さらに、距離Δtを上述の値よりも大きくし、
回折の度合を大きくすれば、第4図Cに示すよう
に、上述の平坦部21aが解消されるのに対し
て、変曲点21bが形成され、母型27を構成す
る凹凸部19cは、連続した緩やかな曲線とな
る。
(発明が解決しようとする課題) しかしながら、上述した従来の母型作製技術で
は、マスクを用いて距離Δtを変化させ、このΔt
に応じた光の回折のみを利用して凹凸部の形状を
制御する構成となつている。これがため、マスク
表面に形成された微細パターンに応じて形成され
る凹凸部が離散的に構成されてしまい、摺擦面と
して得られる成形型(第2図参照)を転写したフ
オーカシングスクリーンのように、連続的な広が
りを以つて凹凸部を形成し、全体として自然なボ
ケ味を実現することが難しいという問題点が有つ
た。
即ち、まず第4図A及びBから理解できるよう
に、平坦部21aを含む凹凸部19a及び19b
では、製品としてのフオーカシングスクリーンを
通過した光の直進成分が多くなり、全体としての
ボケ味が不十分となる。
さらに、第4図Cに示すように、連続した緩や
かな曲線から成る凹凸部19cでは、多数の変曲
点21bにより、上述した平坦部21aと同様な
現像を生じ、光の拡散効率がさらに低下する。
この発明の目的は、上述した従来の問題点を解
消するフオーカシングスクリーン用母型の作製方
法を提供し、以つて良好なボケ味を実現可能なフ
オーカシングスクリーンを簡単かつ容易に製造す
ることに有る。
(課題を解決するための手段) この目的の達成を図るため、この発明のフオー
カシングスクリーン用母型の作製方法によれば、
基板に被着された感光材料を、マスクに画成した
微細パターンを投影して露光することにより、凹
凸部として形成するフオーカシングスクリーン用
母型の作製方法において、 上述した基板の感光材料被着面に散乱面を形成
して、上述の露光を行なう ことを特徴としている。
(作用) この発明のフオーカシングスクリーン用母型の
作製方法の構成によれば、既に述べた従来の作製
方法に加えて、感光材料被着面に散乱面を形成し
た基板を用いて露光を行なう。これがため、微細
パターンの離散的な分布のみならず、上述の散乱
面に応じた反射光または散乱面自体をも凹凸部形
成に寄与させることができる。
(実施例) 以下、図面を参照して、この発明のフオーカシ
ングスクリーン用母型の作製方法の実施例につき
説明する。
尚、以下の説明で参照する図面は、この発明が
理解できる程度に概略的かつ模式的に示してある
に過ぎず、この発明は、これら図示例にのみ限定
されるものではないことを理解されたい。
また、以下の説明においては、説明の理解を容
易とするため、従来周知の工程をも含めて、詳細
に説明する。
第1図A〜Dは、母型を得るための各作製工程
毎に、概略的に示す説明図である。尚、図中、既
に説明した構成成分と同一の機能を有する構成成
分については同一の符号を付して示す。また、こ
れら図においては、実施例で用いた種々の構成成
分を図示するに当つて、マスクの要部平面により
示す第1図Aを除き、母型を構成する基板の断面
により示した第4図A〜Cと同様にして示す。
まず始めに、第1図Aを参照して、この実施例
で用いたマスクにつき簡単に説明する。
この実施例で用いたマスク29はガラス板で構
成され、クロム(Cr)から成るドツト状の微細
パターン31を、約15〜20(μm)程度のピツチp
及び約10〜15(μm)の直径で印刷して作製した。
次に、露光工程につき、第1図Bを参照して説
明する。
まず、露光に先立つて、散乱面33を形成した
基板35を作製する。この実施例で用いた基板3
5につき、さらに詳細に説明すれば、上述の散乱
面33による反射率を大きくするため、構成材料
を金属とした。このような基板35表面の散乱面
33を形成するに当つては、第3図を参照して説
明した砂等による摺擦や、或いは従来周知のエツ
チング技術により行ない、上述の散乱面33の表
面粗さRmaxが約1(μm)程度として基板35を
作製した。
続いて、上述した基板35の散乱面33を感光
材料被着面として、約2〜3(μm)程度の膜厚範
囲内の所定の厚さで、表面が平坦となるように感
光材料37としてのポシ型レジスト材料を塗布
し、感光材39を作製する。
次に、前述した公報に開示される技術と同様
に、マスク29の微細パターン31側表面と、感
光材39の感光材料37側表面とを対向させて位
置合わせを行なう。この際、マスク29と感光材
39との距離Δtは、約15(μm)として行なつた。
然る後、同図中、一連の矢印aを付して示す光
をマスク29の側から感光材39に向かつて照射
し、微細パターン31を感光材料37の表面に投
影することにより露光を行なう。
上述した工程を経た後、現像処理を行ない、露
光後の感光材料37を凹凸部41として形成し、
第1図Cに示すような、この実施例の母型43が
得られる。
以下、第2図Aを参照して、上述した母型43
の形状につき詳細に説明する。
第2図Aは、第1図Cに示す母型43の要部を
拡大して、概略的断面により示す説明図である。
この第2図Aからも理解できるように、上述し
た工程により形成される凹凸部41は、主とし
て、比較的大きな膜厚を以つて形成される山頂領
域45と、比較的小さな膜厚を以つて形成される
谷底領域47とにより構成される。
このうち、山頂領域45は、第1図Bを参照し
て説明した露光工程において、基板35上の散乱
面33からの距離が遠いため、第4図を参照して
説明した従来技術と実質的に同一の形状を以つて
形成される。
これに対して、基板35上に散乱面33を形成
して露光を行なうことにより、谷底領域47は、
当該面33による反射(散乱)光の影響を受けて
形状の乱れを生じる。この乱れは、上述した膜厚
が小さい(散乱面に近い)程大きくなり、谷底領
域47の中央部分(図中、矢印bを付して示す)、
で、実質的に、最大の乱れを生じるのが理解でき
る。
次に、この発明の他の実施例につき、第2図A
と同様にして示す、第2図Bを参照して、簡単に
説明する。
第1図及び第2図Aを参照して説明した上述の
実施例では、基板35に形成した散乱面33を反
射面として利用し、当該基板35表面が感光材料
から成る凹凸部により被覆された状態の母型43
として得る場合につき説明した。しかしながら、
この発明は、この実施例にのみ限定されるもので
はない。
第2図Bからも理解できるように、例えばエツ
チング技術により、第1図と同様な工程を経た後
に得られる凹凸部の膜厚を全体に亙つて小さく
し、少なくとも山頂領域49が残存し、かつ谷底
領域51では散乱面33が露出した状態の凹凸部
53を形成して、母型55を得ることもできる。
この場合、母型55を利用して製造されるフオー
カシングスクリーンの形状を、散乱面33自体に
より形成することとなる。
このようにして得られた母型43或いは55を
利用して、従来と同様な技術により成形型を作製
し、さらに最終製品としてのフオーカシングスク
リーンを製造した。既に述べたように、母型の形
状は、成形型を介して、製品としてのフオーカシ
ングスクリーンに正確に反映される。
これがため、当該スクリーンの図示を省略する
が、第2図A及びBからも明らかなように、凹凸
部に相当する微小なレンズ山が規則的に配列され
たフオーカシングスクリーンにおいて、このレン
ズ山の谷底領域に相当する部分に拡散面を形成す
ることができる。
従つて、上述の実施例により得られた母型によ
り、拡散性に優れ、自然なボケ味を有する、明る
いフオーカシングスクリーンを製造することがで
きた。
以上、この発明の実施例につき説明したが、こ
の発明は上述の実施例にのみ限定されるものでは
ない。
例えば、上述の実施例では感光材料としてポジ
型のレジスト材料を用いた場合につき説明した
が、これに限定されるものではなく、ネガ型のレ
ジスト材料として行なうこともできる。また、こ
れらレジスト材料のみならず、上述と同様な散乱
面を有する基板上に、ゼラチンまたはその他任意
好適な感光材料を被着して行なうこともできる。
さらに、この発明の方法によれば、前述した距
離Δtの値、露光量、感光材料37の膜厚、当該
材料の現像条件、マスクの作製条件、またはその
他の条件を任意好適に選択することにより、種々
の形状を有する凹凸部として、母型を作製するこ
とができる。
これに加えて、上述した実施例では、散乱面に
よる反射効率を考慮し、当該面を構成する基板が
金属とした場合につき説明した。しかしながら、
第2図Bを参照して説明したように、反射面とし
ての利用のみならず、散乱面の形状自体を利用す
ることも可能であり、例えばガラスのような透明
性を有する材料を基板として、散乱面が形成され
る場合であつても良い。
これら材料、形状、配置関係、数値的条件及び
その他の条件は、この発明の目的の範囲内で、設
計に応じた任意好適な変形及び変更を行ない得る
こと明らかである。
(発明の効果) 上述した説明からも明らかなように、散乱面を
形成した基板を用いて露光を行なうことにより、
微細パターンの離散的な分布と、上述の散乱面に
応じた反射光、または当該面の形状自体をも凹凸
部形成に寄与させることができる。
従つて、この発明の作製方法により得られるフ
オーカシングスクリーン用母型を利用することに
より、明度を損なうことなく、かつ粒状性を解消
し、良好なボケ味を以つて光を効率良く拡散せし
める優れたフオーカシングスクリーンを簡単かつ
容易に製造することが可能となる。
【図面の簡単な説明】
第1図A〜Cと、第2図A及びBは、この発明
の実施例の説明に供する図、第3図及び第4図A
〜Cは、従来技術の説明に供する図である。 11……成形型、13,19a,19b,19
c,41,53……凹凸部、15……尖頭部、1
7,35……基板、21a……平坦部、21b…
…変曲点、23,25,27,43,55……フ
オーカシングスクリーン用母型、29……マス
ク、31……微細パターン、33……散乱面、3
7……感光材料、39……感光材、45,49…
…山頂領域、47,51……谷底領域、a……露
光時に用いる光、b……谷底領域41の中央部。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 基板に被着された感光材料を、マスクに画成
    した微細パターンを投影して露光することによ
    り、凹凸部として形成するフオーカシングスクリ
    ーン用母型の作製方法において、 前記基板の感光材料被着面に散乱面を形成して
    前記露光を行なう ことを特徴とするフオーカシングスクリーン用母
    型の作製方法。
JP803988A 1988-01-18 1988-01-18 フォーカシングスクリーン用母型の作製方法 Granted JPH01185535A (ja)

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JPH01185535A JPH01185535A (ja) 1989-07-25
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Families Citing this family (2)

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JP2800378B2 (ja) * 1990-06-28 1998-09-21 株式会社ニコン 焦点板の製造方法
JP2001133614A (ja) * 1999-10-29 2001-05-18 Hitachi Chem Co Ltd 拡散反射板及びその転写原型、その製造方法及びそれを用いたベースフィルム、転写フィルム、並びにこれらを用いた拡散反射板の製造方法

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