JPH01253729A - 感光性樹脂の製造法および感光性樹脂組成物 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、稀アルカリ現像型液状感光性樹脂組成物にお
ける感光性樹脂成分として好適な感光性樹脂を製造する
方法、およびそれを用いた樹脂組成物に関するものであ
る。

従来の技術 従来、各種プリント配線基板のレジストパターンの形成
には、スクリーン印刷法が多く採用されてきたが、プリ
ント配線基板の高密度化に伴ない、インクのかすれ、ブ
リード、にじみ、垂れなどの問題が無視しえなくなって
きている。

そこで、この問題を克服するため、写真法（レジストを
フォトマスクなどを介して像状露光した後、現像により
未露光部分を除去してパターンを形成する方法）による
ドライフィルム型および液状のレジストが開発されてい
る。

このうちドライフィルム型のレジストは、露光をポリエ
ステルフィルム等の基材フィルムを通して行うため、フ
ィルムの厚みによって解像度が制限を受けたり、またン
ルダーレジスト用ドライフィルムでは、銅回路の段差の
角へのレジストの追随性が不充分であるという欠点があ
る。

これに対し液状レジストは、基材への密着性が良く、凹
凸追随性がすぐれていて、このような欠点を有しない。

液状レジストには、溶剤現像タイプのものと稀アルカリ
現像タイプのものとが知られているが、溶剤現像タイプ
のものは大気汚染や廃液処理に問題があるため、稀アル
カリ現像タイプへの移行が強く望まれている。

また液状レジストを別の観点から分類すると、反応性モ
ノマーで稀釈した無溶剤タイプと、溶剤で稀釈し予備乾
燥により造膜する溶剤タイプとの２種がある。

無溶剤タイプの液状レジストは、塗膜が乾燥造膜しない
ため、フォトマスクをレジストに接触させずに少し間隔
をあけ、平行露光機を用いて露光することが必要となる
。このため、装置が高価になり、また非接触露光のため
その分だけ解像度が悪くなる。さらに多量の反応性上ツ
マ−を含むため、耐熱性、＃酸性および耐薬品性に不安
がある。

一方溶剤タイブの液状レジストは、造膜後フォトマスク
をレジストに接触させて露光できるため、解像力にすぐ
れ、また高価な平行露光機を必要としないので有利であ
る。

このように、接触露光可能な溶剤タイプの液状レジスト
であってかつ稀アルカリ現像タイプのものが、最もこの
業界の要求に沿うものであると言うことができる。

この種のレジストとして、ノボラック型エポキシ化合物
と不飽和モノカルボン酸との反応物に酸無水物を反応さ
せた活性エネルギー線硬化性樹脂と、光重合開始剤と、
稀釈剤とからなる稀アルカリ現像型液状レジストが知ら
れている。（特開昭６１−２４３８６９号公報参照） 発明が解決しようとする課題 しかしながら、ノボラック型エポキシ化合物と不飽和モ
ノカルボン酸との反応物に酸無水物を反応させた樹脂（
プレポリマー）は、そのリジッドな骨格のため、露光感
度が必ずしも高くはなく、作業性の点でも改良の余地が
ある。また感度向上のため稀釈剤として反応性上ツマ−
を選択すると共にその量を増すと、指触乾燥性が悪くな
り、接触露光ができなくなる。

本発明は、このような背景から、感度、電気特性、耐熱
性、耐メツキ性などの性質がすぐれ、かつ接触露光が可
能な稀アルカリ現像型の液状感光性樹脂を提供すること
を目的になされたものである。

課題を解決するための手段 本発明の感光性樹脂の製造法は、二塩基酸またはその無
水物（ａ）の一方のカルボキシル基に、分子中に１個の
水酸基を有する多価アルコール（メタ）アクリル酸エス
テル部分エステル（ｂ）を反応させて得られる（メタ）
アクリロイル基とカルボキシル基とを含有するエステル
（ｃ）を、単独でまたは（メタ）アクリル酸（ｄ）と併
用してノボラック型エポキシ樹脂Ｃｅ’）と付加反応さ
せ、ついで、得られた付加反応物（ｆ）を多塩基酸（ｇ
）と反応させて、前記付加反応中にエポキシ環の開環に
より生成した水酸基をエステル化したプレポリマー（ｈ
）を得ることを特徴とするものである。

以下本発明の詳細な説明する。

［感光性樹脂（Ｘ）］ 五２ｊ二配置 本発明においては、まず、二塩基酸またはその無水物（
ａ）の一方のカルボキシル基に、分子中に１個の水酸基
を有する多価アルコール（メタ）アクリル酸エステル部
分エステル（ｂ）を反応させてエステル（ｃ）を得る。

二塩基酸またはその無水物（ａ）としては、無水フタル
酸、無水テトラヒドロフタル酸、無水へキサヒドロフタ
ル酸、無水エンドメチレンテトラヒドロフタル酸、無水
メチルエンドメチレンテトラヒドロフタル酸、メチルテ
トラヒドロ無水フタル酸、無水マレイン酸、無水コハク
酸などが用いられる。Ｓ水物以外の二塩基酸も使用可能
であるが、反応性の点から無水物の方が好ましい。

分子中に１個の水酸基を有する多価アルコール（メタ）
アクリル酸エステル部分エステル（ｂ）としては、トリ
メチロールプロパンジ（メタ）アクリレート、グリセリ
ンジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ
（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ
（メタ）アクリレートなど、分子中に１個の水酸基と２
以上の（メタ）アクリロイル基を有するものが好適に用
いられ、そのほか、エチレングリコールモノ（メタ）ア
クリレート、ジエチレングリコールモノ（メタ）アクリ
レート、テトラエチレングリコールモノ　（メタ）アク
リレート、プロピレングリコールモノ（メタ）アクリレ
ート、ポリプロピレングリコールモノ（メタ）アクリレ
ート、ブチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、
ネオペンチルグリコールジアクリレート、１，６−ヘキ
サングリコールモノ（メタ）アクリレートなど、分子中
に１個の水酸基と１個の（メタ）アクリロイル基を有す
るものも併用することができる。

上記（ａ）と（ｂ）との反応は、イミダゾール類等の３
級アミン系化合物およびその塩やホスフィン系化合物な
どのエステル化触媒の存在下または不存在下に、後述の
稀釈剤（Ｚ）の説明の個所で述べるような溶剤中、特に
水酸基を持たない溶剤中で行われる０反応温度は、通常
４０〜１４０℃程度に設定する。

この反応により、（ａ）の一方のカルボキシル基に（ｂ
）の水酸基が反応したエステル（ｃ）が得られる。この
エステル（ｃ）は、（メタ）アクリロイル基と１個のカ
ルボキシル基とを含有している。

口　・　　ｆ 上記のエステル（ｃ）を、単独でまたは（メタ）アクリ
ル酸（ｄ）と併用してノボラック型エポキシ樹脂（ｅ）
と付加反応させることにより、付加反応物（ｆ）が得ら
れる。

ノボラック型エポキシ樹脂（ｅ）としては、フェノール
ノボラック型エポキシ樹脂、タレゾールノボラック型エ
ポキシ樹脂などが用いられる。これらは、フェノールノ
ボラック樹脂、クレゾールノボラック樹脂にエピクロル
ヒドリンを反応させることにより取得できる。

エステル（ｃ）を（メタ）アクリル酸（ｄ）と併用する
ときは、エステル（ｃ）を両者の合計量に対し１０モル
％以上用いることが必要であり、さもないと所期の性質
を有するプレポリマーが得られなくなる。特に好ましい
範囲は２０〜６０モル％である。

（ｃ）または（ｃ）および（ｄ）と、（ｅ）との反応は
、ホスフィン系化合物、イミダゾール類等の３級アミン
系化合物およびその塩などのエステル化触媒の存在下、
後述の稀釈剤（Ｚ）の説明の個所で述べるような溶剤中
で行われる０反応温度は、通常７０〜１３０℃程度に設
定する。なお（ｃ）としては、（ａ）と（ｂ）の反応で
得られた反応物から（ｃ）を単離することなく用いるこ
とができる。

得られた付加反応物（ｆ）には、付加反応中のエポキシ
環の開環に伴ない水酸基が生成している。

プレポリマー　ｈ 次に、上記で得られた付加反応物（ｆ）を多塩基酸（ｇ
）と反応させて、付加反応物（ｆ）の水酸基をエステル
化する。これにより目的とするプレポリマー（ｈ）が得
られる。

多塩基酸（ｇ）としては、先に述べた二塩基酸またはそ
の無水物（ａ）が用いられ、そのほか、無水トリメリッ
ト酸、無水ピロメリット酸、ベンゾフェノンテトラカル
ポン酸二無水物なども用いられる０反応性からは、無水
物が好ましい。

（ｆ）と（ｇ）の反応は、ホスフィン系化合物、イミダ
ゾール等の３級アミン系化合物などのエステル化触媒の
存在下、後述の稀釈剤（Ｚ）の説明の個所で述べるよう
な溶剤中、特に水酸基を持たない溶剤中で行われる０反
応温度は、通常４０〜１４０℃程度に設定する。なおこ
の反応は、（ｆ）製造の際の反応物に（ｇ）を添加して
引き続き行うのが有利であり、この場合は、必要に応じ
溶剤を追加して濃度調整を行うだけで、触媒は改めて添
加するには及ばないことが多い。

反応の終点は、酸価な測定することによりコントロール
できる。

［稀アルカリ現像型の液状感光性樹脂組成物］本発明の
稀アルカリ現像型液状感光性樹脂組成物は、感光性樹脂
（Ｘ）、光重合開始剤（Ｙ）および稀釈剤（Ｚ）からな
る。

鳳遺」目組胆」１つ− 感光性樹脂（Ｘ）は、上記で得たプレポリマー（ｈ）か
らなる、感光性樹脂組成物の調製には、（ｈ）製造の際
の反応液をそのまま用いるのが有利である。

光重合開始剤（Ｙ）としては、たとえば、ベンゾイン、
ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル
、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインｎ−ブ
チルエーテル、ベンゾインフェニルエーテル、ベンジル
ジフェニルジスルフィド、ジベンジル、ジアセチル、ア
ントラキノン、ナフトキノン、ベンゾフェノン、ピバロ
インエチルエーテル、ベンゾイルパーオキサイド、ベン
ジルケタール、１．１−ジクロロアセトフェノン、バラ
ーｔ−プチルジクロロアセトフェ／７．２−クロロチオ
キサントン、２−メチルチオキサントン、２．４−ジエ
チルチオキサントン、２゜２−ジェトキシアセトフェノ
ン、２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン
、２，２−ジクロロ−４−フェノキシアセトフェノン、
ミヒラースケトン、フェニルグリオキシレート、α−ヒ
ドロキシイソブチルフェノン、ベンゾフェノンアミン系
、１−（４−イソプロピルフエこル）−２−ヒドロキシ
−２−メチル−１−プロパノン、２−メチル−［４−（
メチルチオ）フェニル］−２−モルフォリノ−１−プロ
パノンなどが用いられる。

光重合開始剤（Ｙ）の配合割合は、感光性樹脂（Ｘ）１
００重量部に対し、０．２〜４０重量部、特に０．５〜
２０重量部とするのが適当である。

徨呈」Ｌ立ムｌ 稀釈剤（Ｚ）としては、セロソルブ、ブチルセロソルブ
、セロソルブアセテート、ブチルセロソルブアセテート
、カルピトール、ブチルカルピトール、エチルカルピト
ールアセテート、メチルエチルケトン、シクロヘキサノ
ン、酢酸エチル、酢酸ブチル、トルエン、キシレン、石
油エーテル、石油ナフサなどの有機溶剤が好適に用いら
れる。

これらの有機溶剤と共に、エチレングリコールジ（メタ
）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アク
リレート、テトラエチレングリコールジ（メタ）アクリ
レート、プロピレングリコールジ（メタ）アクリレート
、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、
プチレンゲリコールジ（メタ）アクリレート、ネオベン
チルグリコールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキ
サンゲリコールジ（メタ）アクリレート、トリメチロー
ルプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリ
トールトリ　（メタ）アクリレート、ペンタエリスリト
ールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリト
ールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリト
ールヘキサ（メタ）アクリレート、２．２−ビス［４−
（メタ）アクリロキシ（ジェトキシ）フェニル］プロパ
ン、２．２−ビス［４−（メタ）アクリロキシ（ポリエ
トキシ）フェニル］プロパン、トリス（アクリロキシエ
チル）インシアヌレート、ウレタンアクリレートなどの
多官能のモノマー、２−ヒドロキシエチル（メタ）アク
リレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレー
ト、２−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、フェ
ノキシエチレングリコール（メタ）アクリレート、２−
フェノキシ−２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレ
ート、２−（メタ）アクリロイルオキシ−２−ヒドロキ
シプロピルフタレート、３−クロロ−２−ヒドロキシプ
ロピル（メタ）アクリレート、エチレングリコールモノ
メチルエーテル（メタ）アクリレート、エチレングリコ
ールモノエチルエーテル（メタ）アクリレート、ジエチ
レングリコール七ツメチルエーテル（メタ）アクリレ−
ト、ジエチレングリコールモノエチルエーテル（メタ）
アクリレート、ジエチレングリコール七ノーｎ−モノプ
ロピルエーテル（メタ）アクリレート、トリエチレング
リコールモノエチルエーテル（メタ）アクリレート、ポ
リエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、グリ
セリンモノ（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アク
リロキシフタレート、エチレングリコール（メタ）アク
リレートヒドロキシフタレート、エチレングリコール（
メタ）アクリレートサクシネート、フェノキシエチレン
グリコール（メタ）アクリレート、Ｎ−メチロール（メ
タ）アクリルアミド、ダイア七トン（メタ）アクリルア
ミド、ジメチル（メタ）アクリルアミド、（メタ）アク
リルアミド、ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレー
ト、ジエチルアミノエチル（メタ）アクリレートなどの
単官簡のモノマーを用いることができる。

稀釈剤（Ｚ）の配合割合は、感光性樹脂（Ｘ）１００重
量部に対し３０〜３００重量部程度である。稀釈剤（Ｚ
）として溶剤と共にモノマーを併用するときは、該モノ
マーの添加量は、感光性樹脂（Ｘ）１００重量部に対し
多くとも３０重量部程度に設定する。さもないと、接触
露光が不可能になるからである。

天１百１Ω」Ｌ１週 本発明の稀アルカリ現像型液状感光性樹脂組成物は、感
光性樹脂（Ｘ）、光重合開始剤（Ｙ）および稀釈剤（Ｚ
）のほかに、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、ビスフ
ェノールＳ型エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エ
ポキシ樹脂、タレゾールノボラック型エポキシ樹脂等の
グリシジルエーテル型またはエステル型のエポキシ樹脂
、Ｎ−グリシジル型エポキシ樹脂、脂環式エポキシ樹脂
などのエポキシ化合物とその硬化剤とを添加することが
好ましい、また、充填剤、着色剤、可塑剤、レベリング
剤、安定剤、消泡剤などの公知の添加剤を配合すること
もできる。

Ｋ１去り 上記の感光性樹脂組成物は、銅張積層板などの金属面に
塗工される。塗工後は６０−１００℃程度の温度で予備
乾燥して稀釈剤（Ｚ）中の溶剤を揮散させる。

七 予備乾燥終了後は、塗工面に直接フォトマスクを接触さ
せて露光に供する。

露光は通常紫外線照射により行い、その際の光源として
は、高圧水銀灯、超高圧水銀灯カーボンアーク灯、キャ
ノン灯、メタルハライドランプ、ケミカルランプ、ブラ
ックライトなどが用いられ６、’Ｗｓ光１ｊｃハ、５０
〜２０００ＩＩＪ／Ｃｌ１ｚ程度、特に１００〜１００
０　ｍＪ／ｃ＋ｗ’−程度とすることが多い。

皮３ 本発明の感光性樹脂組成物は棲アルカリ現像型であるの
で、露光後の現像は、炭酸ソーダ、炭酸カリウム、水酸
化ナトリウムなどのアルカリの稀薄水溶液を用いて行う
。

現像後は、必要に応じて後露光や加熱を行い、硬化の完
全を図る。特にエポキシ化合物とその硬化剤とを添加し
たときは、現像後１２０−１８０℃程度に加熱して後硬
化を行うようにする。

現像後は、常法に従い、エツチング工程あるいはメツキ
工程に供する。パターン形成法として、エツチング法、
メツキ法、ソルダーレジスト法等のいずれも採用可能で
ある。

且垂 本発明の感光性樹脂組成物は、プリント配線板の製造用
、金属の精密加工用をはじめ、種々の用途に用いること
ができる。

作用および発明の効果 本発明の方法により得られた感光性樹脂（Ｘ）に光重合
開始剤（Ｙ）および稀釈剤（Ｚ）を配合した感光性樹脂
組成物は、塗工、予備乾燥後は粘着性を有しなくなるの
で、その上から直接にフォトマスクを接触させた状態で
露光することができる。また、感度が良好であり、比較
的低露光量でもすぐれた解像性を持つ、そのため解像度
が顕著に向上し、プリント配線板の高密度化が達成でき
る。加えて、両面ガラスエポキシ基板において、両面同
時に露光を行うことも可能であり、作業性を大幅に向上
することができる。

そして露光後の現像は稀アルカリ水溶液を用いて行うこ
とができるので、有機溶剤を用いる場合のような環境汚
染の問題を生じない。

得られた硬化レジストは、密着性、耐熱性、耐酸性、耐
メツキ性などの性質もすぐれている。

実施例 次に実施例をあげて本発明をさらに説明する。

以下１部」、「％」とあるのは、特に断りのない限り重
量基準で表わしたものである。

［感光性樹脂の製造］ 実施例１ フラスコに２−ヒドロキシ−１−アクリロキシ−３−メ
タクリロキシプロパン（ｂ）１．０５モルとテトラヒド
ロ無水フタル酸（ａ）１．０モルとを仕込み、セロソル
ブアセテートを加えて（ａ）と（ｂ）との合計量の濃度
が２０％となるようにし、さらに２−メチルイミダゾー
ルを触媒として加えて７０℃で２時間反応させ１分子中
に１個のアクリロイル基、１個のメタクリロイル基およ
び１個のカルボキシル基とを含有するエステル（ｃ）を
得た。

ついで、上記で得られたエステル（ｃ）０．３当量、ア
クリル酸（ｄ）０．７当量、およびエポキシ当量が２０
０で軟化点が８０℃のクレゾールノボラックエポキシ樹
脂（ｅ）１．０当量をフラスコに仕込み、セロソルブア
セテートを加えてこれらの合計量の濃度が３０％となる
ようにし、さらにトリフェニルホスフィンを触媒として
加えて８０℃で２００時間反応せ、付加反応物（ｆ）を
得た。

引き続き、付加反応物（ｆ）を含む反応液にテトラヒド
ロ無水フタル酸（ｇ）ｏ、ｓｓ当量を加えると共に、セ
ロソルブアセテートを追加して３０％漕度に調整し、７
０℃で２時間反応させた。これにより、目的とするプレ
ポリマー（ｈ）を含む樹脂液を得た。このプレポリマー
（ｈ）の酸価は１００識ｇＫＯＨ／ｇであった。

実施例２ ペンタエリスリトールトリアクリレート（ｂ）１．０５
モルと無水マレイン酸（ａ）１０モルとを用いたほかは
実施例１と同様にして、分子中に３個のアクリロイル基
と１個のカルボキシル基を含有するエステル（ｃ）を得
た。

ついで、上記で得られたエステル（ｃ）０．５当量、メ
タクリル酸（ｄ）０．５当量、およびエポキシ当量が２
２０で軟化点が６５℃のクレゾールノボラックエポキシ
樹脂（ｅ）１．０当量をフラスコに仕込み、セロソルブ
アセテートを加えてこれらの合計量の濃度が３０％とな
るようにし、さらにトリフェニルホスフィンを触媒とし
て加えて８０℃で１５時間反応させ、付加反応物（ｆ）
を得た。

引き続き、付加反応物（ｆ）を含む反応液に無水マレイ
ン酸（ｇ）０．７８当量を加えると共に、セロソルブア
セテートを追加して３０％濃度に調整し、７０℃で３時
間反応させた。これにより、目的とするプレポリマー（
ｈ）を含む樹脂液を得た。このプレポリマー（ｈ）の酸
価は８０　ｍｇＫＯＨ／ｇであった。

比較例１ エポキシ当量が２００で軟化点が８０℃のクレゾールノ
ボラックエポキシ樹脂１．０当量とアクリル酸１．０当
量をフラスコに仕込み、セロソルブアセテートを加えて
これらの合計量の濃度が３０％となるようにし、さらに
トリフェニルホスフィンを触媒として加えて８０℃で２
００時間反応せた。

引き続き、この反応液にテトラヒドロ無水フタル酸０．
８８当量を加えると共に、セロソルブアセテートを追加
して３０％濃度に調整し、７０℃で２時間反応させてプ
レポリマーを得た。このプレポリマーの酸価は１００　
ｍｇＫＯＨ／ｇ　テ：ｈった。

比較例２ エポキシ当量が２２０で軟化点が６５℃のクレゾールノ
ボラックエポキシ樹脂１．０当量とメタクリル酸１．０
当量をフラスコに仕込み、セロソルブアセテートを加え
てこれらの合計量の濃度が３０％となるようにし、さら
にトリフェニルホスフィンを触媒として加えて８０℃で
１５時間反応させた。

引き続き、この反応液に無水マレイン酸０．５１当量を
加えると共に、セロソルブアセテートを追加して３０％
濃度に調整し、７０℃で２時間反応させてプレポリマー
を得た。このプレポリマーの酸価は８０　ｍｇＫＯＨ／
ｇであった。

［感光性樹脂組成物の調製］ 実施例１〜２および比較例１〜２の樹脂液を用いて１次
の２種の配合処方の感光性樹脂組成物を調製した。

凰丈通 樹脂液　　　　　　　　　　　　　　　４０．０部ジペ
ンタエリスリトールへキサアクリレート２．０部 Ｕ−４ＨＡ　（新中村化学工業株式会社製のウレタンア
クリル系モノマー）　　　　　　　　　２−ｏ部ミヒラ
ーズケトン　　　　　　　　　　　　０．５部ベンゾフ
ェノン　　　　　　　　　　　　５．０部ＴＥＰＩＣ（
Ｓ）（日産化学工業株式会社製のグリシジルアミン系エ
ポキシ樹脂）　　　　１８．０部ジシアンジアミド　　
　　　　　　　　　１．０部シリカ　　　　　　　　　
　　　　　　　　２２．０部フタロシアニングリーン　
　　　　　　　ｏ、ｓ部シリコーンレベリンク剤０．５
ｍ セロソルブアセテート　　　　　　　　　５．５部ブチ
ルセロソルブ　　　　　　　　　　　３．０部（合計　
１００部） 区去Ｊ 樹脂液　　　　　　　　　　　　　　　４０．０部トリ
メチロールプロパントリアクリレート２．０部 ＤＰＣＡ−６０（日本化薬株式会社製のカプロラクトン
変性ジペンタエリスリトールへキサアクリレート系モノ
マー）２．０部 ２．４−ジエチルチオキサントン　　　　１．０部イル
ガキュアー９０７（日本チバガイギー株式会社製の光重
合開始剤）４．５部 エピコートＹＸ４０００　（油化シェルエポキシ株式会
社製のグリシジルエーテル系エポキシ樹脂１８．０部 ２−メチルイミダゾール　　　　　　　　１．０部タル
ク　　　　　　　　　　　　　　　　　２２．０部フタ
ロシアニングリーン　　　　　　　　０．５１シリコー
ンレベリン）；ｌ剤　　　　　　　　０．５部エチルカ
ルピトールアセテート５．５部ツルペッツ＃１５０　（
エッソスタンダードオイツ社製の芳香族系溶剤）３．０
部 （合計　１００部） ［塗工、露光、現像、後加熱］ 上記処方の組成物を、スキージを用いて銅張基板の研磨
された銅面に２００メツシユのスクリーンを介して全面
塗布し、７０℃で３０分子備乾燥して、膜厚２０　ＪＬ
ｍの塗膜を得た。

ついで、得られたレジストに直接フォトマスクを接触さ
せて露光を行った。露光には３ＫＷ超高圧水銀灯を使用
し、照射量は１５０　ｍＪ／ｃｍ”、２００ｍＪ／ｃｍ
”または３００層Ｊ／ｃｍ’とした。

露光終了後、温度３０℃の１％炭酸ソーダ水溶液を使用
して、スプレー圧２　ｋｇ／ａｍ”にて５０秒間現像を
行った。

現像終了後は、１４０℃で５０分間、後加熱を行った。

「評価方法と評価結果」 直肢亙差上 指触乾燥性は、露光後のフォトマスクの剥離性で評価し
たが、実施例１〜２の樹脂液を用いたＡ、Ｂいずれの処
方の場合も、抵抗なく剥離することができた。一方、比
較例１〜２においては、剥離するときに若干の抵抗があ
った。

１呈上上 光硬化性の評価は、現像後の塗膜（後加熱を行う前の塗
膜）につき、感度（スト−ファー２１段、ダル段数）、
解像力（最小解像、ライン／スペース巾、単位はｐｍ）
、現像残り（現像された銅面上をＳＥＭ観察）、鉛筆硬
度（ＪＩＳ　Ｋ　５４００）について行った・ 結果を第１表に示す。

加　　　の′ 後加熱後の塗膜物性は、露光量２００　ｍＪ／ａｍ”の
場合について、鉛筆硬度（ＪＩＳ　Ｋ　５４００）　、
密着性（ＪＩＳ　Ｄ　０２０２）　、はんだ耐熱性（Ｊ
ＩＳ　ＣＢ２Ｓ３．２６０℃×１０秒×６サイクル）、
耐溶剤性（２０℃のアセトン中に１時間放置後の状態）
、耐酸性（２０℃の１０％塩酸水溶液中に１時間放置）
、絶縁抵抗（ＪＩＳ　Ｚ　３１９？）　、耐金メツキ性
（メルテックス株式会社製の金メツキ液「ロノベルＲ」
を用いて、電流密度ＩＡ／ｄｒｎ”Ｘ１２分の条件で金
メツキを２ｇｍ析出させ、塗膜の状態を密着性で判断）
で評価した。

結果を第２表に示す。

手続補正書（自発） 昭和６３年特許願第８１６７１号 ２、発明の名称 感光性樹脂の製造法および感光性樹脂組成物３、補正を
する者 事件との関係　　特許出゛願人 住所大阪市北区野崎町９番６号 名　称　（４１０）　日本合成化学工業株式会社代表者
野田勝哉 ４、代理人　　〒５３３ 住　所　大阪市東淀用区東中島１丁目１９番１１号明細
書の発明の詳細な説明の欄 ６、補正の内容 （１）本願明細書１８頁３行の「常法に従い、」の次に
「ハンダ寸は工程、ｊを挿入する。

（２）同１８頁４〜５行の「パターン形成法として、エ
ツチング去、メツキ法、」を「レジスト形成法として、
エツチングレジスト法、メツキレジスト法、１と訂正す
る。

以上

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、二塩基酸またはその無水物（ａ）の一方のカルボキ
   シル基に、分子中に１個の水酸基を有する多価アルコー
   ル（メタ）アクリル酸エステル部分エステル（ｂ）を反
   応させて得られる（メタ）アクリロイル基とカルボキシ
   ル基とを含有するエステル（ｃ）を、単独でまたは（メ
   タ）アクリル酸（ｄ）と併用してノボラック型エポキシ
   樹脂（ｅ）と付加反応させ、ついで、得られた付加反応
   物（ｆ）を多塩基酸（ｇ）と反応させて、前記付加反応
   中にエポキシ環の開環により生成した水酸基をエステル
   化したプレポリマー（ｈ）を得ることを特徴とする感光
   性樹脂の製造法。 ２、請求項１で得られたプレポリマー（ｈ）からなる感
   光性樹脂（Ｘ）、光重合開始剤（Ｙ）および稀釈剤（Ｚ
   ）よりなる稀アルカリ現像型の液状感光性樹脂組成物。