JPH01254632A

JPH01254632A - フロン系溶剤の精製方法

Info

Publication number: JPH01254632A
Application number: JP8375988A
Authority: JP
Inventors: Kunio Kashiwada; 柏田　邦夫; Kiyomitsu Sugano; 菅野　清光; Junichi Torisu; 純一鳥巣
Original assignee: Showa Denko KK
Current assignee: Resonac Holdings Corp
Priority date: 1988-04-05
Filing date: 1988-04-05
Publication date: 1989-10-11

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】（産業上の利用分野）本発明は洗浄用などに使用されたフロン系溶剤の精製方
法に関し、特に使用ずみの不純物を含んだフロン１１３
液の精製方法に関する。

〔従来の技術〕

近年フロン系溶剤の使用化は増加しているが特にフロン
１１３は半導体産業をはじめとする精密洗浄分野でその
使用量の増加は箸しい。

しかし、オゾン層破壊の問題から、国際会議においてフ
ロン１１３の生産量削減が決定され各国で代替品の開発
に取組んでいるが、これに代るものは見つかっていない
。そのため、各国とも、並行してフロン１１３の回収再
利用に対する技術の開発に力を注いでいる。

現在、再利用の技術とし又は単蒸留操作を利用した方法
があるが、単蒸留ではフロン１１３より低沸点、および
沸点に近い成分の分離が困難である。しかし、洗浄に用
いたフロン１１３中の高沸点成分を除去する場合には、
経済性の低いｌｉｔ蒸留を必要とし、現実には実用に供
される回収は行なわれておらず、定期的にフロン１１３
を産業廃棄物として処理しているのが現状である。

〔発明が解決しようとする課題〕

ところで、フロン１１３の用途は多岐にわたっているた
め、これに含まれる不純物もかなりの種類にのぼり、現
在の技術では対応出来ない。特に水不溶性の、例えば油
などの不純物と、例えばイソプロピルアルコール等のア
ルコール類、或は、Ｆ−、ＣＪ−等のイオン類など、多
量の水溶性不純物が混入してくる場合が多く、これらの
不純物を吸着剤によって吸着除去することも考えられる
が、経済的に極めて不利である。

本発明前らは、上記の問題を解決すべく鋭意研究した結
果、水のフロン１１３に対する溶解度が極めて小さく、
水と接触させることによってフロン１１３中の水溶性不
純物のほとんどが除去され、残留する不純物の鏝が極め
て少なくなる。また、フロン１１３のみならず、常温で
液状のフロン系溶剤も同様にして含有する水溶性不純物
が除去できることを知見した。

本発明は上記の知見に基づいてなされたもので、使用ず
みの、不純物を含有する室温で液状のフロン系溶剤を経
済的に再生するフロン系溶剤の精製方法を提供すること
を目的とする。

〔課題を解決するための手段〕

上記の目的を達成するために、本発明の精製方法におい
ては、常温で液体状のフロン系溶剤を水と接触させて、
溶剤中の水溶性不純物を水側に移行させ、次いで溶剤中
に残存する不純物を吸着剤を用いて吸着除去する。

〔作　用〕

本発明のフロン系溶剤のＭ製方法は上記の構成となって
いるので、水と接触することによって、含有量の多い水
溶性成分が除去され、残留する水不溶成分を含有するフ
ロン系溶剤が（７られるが、その不純物の間は微量であ
り、吸着剤によって経済的に除去される。

〔実施例〕

以下フロン１１３を代表例として説明する。

ハードディスク等の洗浄に使用されたフロン１１３中に
含まれる水溶性不純物としては、イソプロピルアルコー
ル等のアルコール類　Ｆ−９ＣＪ−等のイオン類等でそ
の量は比較的多く、再生使用しない場合には、これ等の
濃度が数ｗｔ％（以下％という）に達すると金波を交換
している。

この時、油分等の水不溶不純物は１００ｗｔｐｐｎ＋　
　＜以下Ｄｐ■という）程度である。

本発明の方法においては、この全發交換したフロン１１
３を再生処理しても、或は、洗浄工程に本発明の方法を
行なう装置を付加してもよい。

したがって、＊？ｊにおいては主として回分抽出が行な
われ、後者においては連続抽出が行なわれる。

また、吸着は、水抽出した後、静置して二層分離したフ
ロン１１３を、吸着剤を充填した吸着向に通すことによ
って行なわれる。使用される吸着剤としては、例えば活
性炭、合成ゼオライト、天然ゼオライト、活性アルミナ
、マグネシア−アルミナ、マグネシャーシリカ等があげ
られるが、これらに限定されるものでなく、また、一種
、或は２種以上を組合わせて用いてもよい。

上記二層分離した水溶性不純物を含む水層は、後出され
、産業廃棄物として処理されたり、燃焼設備で焼却処理
される。

第１図は、本発明の方法を連続的に実施する装置の一例
を示すもので、図中符号１は、洗浄槽である。洗浄槽１
からポンプ２によって一定速度で抜出された不純物を金
石したフ［］ン１１３は、連続抽出槽３に送られ、一定
速度で導入される純水４と混合される。混合された液は
分離槽５に導かれ、静置されて二層に分離される。この
分離された二層は、その境界面６の位置が一定となるよ
うに水層７、およびフロン１１３層８から抜出され、水
層は、燃焼設備等の処理装置９に送られ、フロン１１３
層は、所定量の吸着剤の充填されている吸着１ｒｉ１０
に送られる。この吸着筒１０を通過したフロン１１３は
、洗浄槽に循環される。この際、水に溶解するなどして
減少した樋に相当するフｌ、１ン１１３は、新フロン１
１３補給路１１を介して洗浄槽１に補給され、洗浄槽１
内の洗浄液の（４は一定に保持される。

このように、洗浄槽１に精製系を付加することによって
、洗浄槽１内のフロン１１３の不純物温度は安定した低
い濃度に保持されるので、極めて優れた洗浄が可能とな
る。

上記説明はフロン１１３について行なったが、常温で液
体のフロン系溶剤で、５Ｉ溶性不純物の蓄積が多く、水
不溶性の不純物が少ない場合には、いずれも本発明の使
用が可能である。

しかし、水抽出を行なった後、吸着剤層を通過さＵるた
め、フロン溶剤に対する水の溶解度が高いと、含有する
水によって吸着剤の劣化が早く進むので好ましくない。

吸着剤の経済性を考慮すれば、水の溶解度が１ｏｏｏｐ
ｐｍ以下であることが好ましい。

したがっ゛Ｃ１本発明の生成方法は、例えば第１表に示
すフロン系溶剤等に好適に使用される。

以　　下　　余　　白実施例１２００Ｊの洗浄槽において洗浄液としてフロン１１３を
用いてハードディスクを洗浄している。

この洗浄液にはハードディスクに付着したイソプロピル
アルコールおよび油分が持込まれて蓄積するため、イソ
プロピルアルコールが１０％となった時点で洗浄槽のフ
ロン１１３を全清新しい液と交換していた。

そこで、この洗浄槽に撹拌機付５０１の水抽出槽、１０
０Ｊの相分離器、および内径４０＃Ｉで５〜　１２０メ
ツシユの活性炭を高さ６００＃Ｉｍに充填した吸　　１
４箇を直列に設置し、その出口は０．２μｍのフイ　　
“ルタを経て洗浄槽に戻すように配管した。

この装置を用い、洗浄槽よりイソプロピルアルコール二
〇、５％、油分：　　０．ｌｐｐｍを含むフロン　　　
）１１３を、ポンプで１０４／ｓｉｎの速度で扱出し、
水抽出槽に供給し、１ｊ／ｎ＋ｉｎの速度で供給された
純水と撹拌機によって連続的に混合し、これを相分離槽
で二槽分離し、水層は排水タンクに、７　　名Ｏン１１
３の層は吸着筒に導入した。上記水抽出槽より出るフロ
ン１１３中には、インプロピルアルコール：　　５００
ｐｐｍ　、油分：　　０．ｌｐｐｍを含んでおり、また
吸着筒を通過したフロン１１３はイソプロピルアルコー
ル：　３　ｐｐｍ　、油分：　　０．０１１）ｌ）Ｉｔ
以下であった。

この吸着筒を通過し、フィルタを通った液を洗浄槽に循
環した。その結果、洗浄槽中のフロン１１３中のイソプ
ロピルアルコールは０．５％、油分は０．１ｐｐａ＋前
後に保持され、ハードディスクの精密洗浄が可能となり
、洗浄後のハードディスクの品質も高品質で安定したの
みならず、洗浄液の交換も不要となった。

実施例２洗浄工程よりアセトン：　１２．９％、ジメチルフォｊ
レムアミド：　　１．０７％、油分：５０Ｄｌ）ｌのフ
ロン１１３が産業廃棄物として排出処理されていた。

この廃液を再利用するため、廃液１００ノを、２００４
の撹拌槽に移し、）７Ｉ過水７０４を加えて室−で１０
分間撹拌して１回目の水抽出操作を行な）た。静置後、
２相に分離した上部水層の水は排水タンクに送った。こ
の場合、下部層のフロン１１３中のアセトンは４，４２
％、ジメチルフォルムアミドは０．０１９％、油分は５
５　ｐｐＩであった。

続いて、同様な手順によって、上記フロン１１３の水抽
出を３回繰返し、計４回の抽出を行なった。

その結果、フロン１１３中のアセトン、ジメチルフォル
ムアミド、油分の濃度は第２表のようになった。

第　　　　２　　　　表第１表より明らかなように２回目の水抽出によってジメ
チルフォルムアミドは５０１１１３１１１以下となる。

４回水抽出を行なったフロン１１３を、内径４０調、１
．６Ｍベレット状の天然ゼオライトを＾ざ３００ｍ、お
よび５〜２０メツシユの活性炭を＾さ３００＃にそれぞ
れ層状に充填した吸着筒に２１／１ｎの速度で通したと
ころ、出口フロン１１３中の７セトンは５１）ｉｌｌ以
１ｚ１ジメチルフォルムアミドは５　ａｐｌ以下、油分
は１１）Ｈ以下であった。

実施例３洗浄工程より、メタノール：３．８％、油分：４３ＤＤ
Ｉのフロ１ン１１４Ｂ２　（ＣＢｒ　Ｆ２−ＣＢｒＦ２
）が廃液として排出されていた。

このフロン１１４Ｂ２を再利用するため、廃液１００Ｊ
を３００４の撹拌槽に移し、純水を　１００１住込み、
室温で１５分間撹拌して水抽出を行なった。

静置後、２相分離した上部水層の水を排水タンクに送っ
た。この場合、下部フロン１１４Ｂ２中のメタノールは
、０．１２％油分は４５ｐｌ）ＩＩであった。

続いて、抽出操作後のフロン１１４１３２を、内径４０
０＃ｌ、５〜２０メツシユの活性炭を３００１の高さ、
１．６請のモレキュラーシーブス１３Ｘを３００囚の高
さに層状にそれぞれ充填した吸着筒に２１／ｓｉｎで通
したところ、出口液中のメタノール濃度は５１）Ｉ）１
ｍ以下、油分は１１）Ｉ）Ｉ以下であった。

（発明の効果〕以上述べたように、本発明の精製方法は、常温で液体の
フロン系溶剤を水抽出し、残存する徴にの不純物を吸着
剤を用いて吸着除去するので、経済的再生が可能となり
、廃液処理しなければならないフロンｍが格段に少なく
なり、オゾン層破壊等の公害防止上、或は経演的効宋は
極めて大きい。

特に現在人量に使用されているフロン１１３にこの方法
を使用Ｊれば、従来、産業廃東物としての処理をよぎな
くされていたフ【］ン１１３が有効に利用され、また、
洗浄工程に、この精製工程を付加ずれば、洗浄に使用さ
れるフロン１１３の不純物濃度が低く保持され、洗浄さ
れる物品は安定して高品質なものが得られるので、半導
体産業、その他精密洗浄を必要とする分野に奇５するこ
とが極めて大きい。

【図面の簡単な説明】第１図は、本発明の方法を実施する装置の一例を示す図
である。１・・・・・・洗浄槽、２・・・・・・ポンプ、３・・・・・・連続抽出槽（水抽出槽）、４・・・・・
・純水、５・・・・・・分離槽、６・・・・・・境界面、７・・・・・・水層、８・・・・・・フロン１１３層、９・・・・・・処理装置、１０・・・・・・吸着筒、１１・・・・・・補給路。

Claims

【特許請求の範囲】

常温で液体状のフロン系溶剤を水と接触させて、溶剤中
の水溶性不純物を水側に移行させ、次いで、溶剤中に残
存する不純物を吸着剤を用いて吸着除去することを特徴
とするフロン系溶剤の精製方法。