JPH01256869A - 画像拡大装置及び方法 - Google Patents
画像拡大装置及び方法Info
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- JPH01256869A JPH01256869A JP63084055A JP8405588A JPH01256869A JP H01256869 A JPH01256869 A JP H01256869A JP 63084055 A JP63084055 A JP 63084055A JP 8405588 A JP8405588 A JP 8405588A JP H01256869 A JPH01256869 A JP H01256869A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔目次〕
概要
産業上の利用分野
技術の背景（第１５．１６図）
従来の技術（第２４図）
発明が解決しようとする課題（第１８図）課題を解決す
るための手段（第１．２，３゜４図） 作用（第１．２，３．４図） 実施例 第一の実施例（第５〜１４．１７図） 第二の実施例（第１９図〜第２３図） 発明の効果 〔概要〕 被変換画素が配列された平面上に、希望する変換倍率に
応じて投影法により定まる分割領域を設定し、当該平面
上に投影された変換画素が位置する分割領域に対応する
論理式に従って近傍被変換画素の濃度から変換画素の濃
度を求める画像拡大装置及び方法に関し、 画像の拡大により生じる斜線の階段状を目立たせないよ
うにする画像拡大装置及び方法を提供することを目的と
し、 変換画素の近傍に位置する所定の被変換画素群の濃度デ
ータを順次入力する被変換画素入力手段と、当該濃度デ
ータにより形成される所定の斜線パターン及び該傾斜角
度を検知する斜線パターン検知手段と、該パターン及び
該角度に基づいて対応する分割領域に分割し前記変換倍
率に基づいて前記変換画素が位置する分割領域を判定す
る領域分割判定手段と、判定された分割領域及び前記濃
度データに基づいて変換画素の濃度を算出する変換画素
濃度算出手段とを有する構成である。
るための手段（第１．２，３゜４図） 作用（第１．２，３．４図） 実施例 第一の実施例（第５〜１４．１７図） 第二の実施例（第１９図〜第２３図） 発明の効果 〔概要〕 被変換画素が配列された平面上に、希望する変換倍率に
応じて投影法により定まる分割領域を設定し、当該平面
上に投影された変換画素が位置する分割領域に対応する
論理式に従って近傍被変換画素の濃度から変換画素の濃
度を求める画像拡大装置及び方法に関し、 画像の拡大により生じる斜線の階段状を目立たせないよ
うにする画像拡大装置及び方法を提供することを目的と
し、 変換画素の近傍に位置する所定の被変換画素群の濃度デ
ータを順次入力する被変換画素入力手段と、当該濃度デ
ータにより形成される所定の斜線パターン及び該傾斜角
度を検知する斜線パターン検知手段と、該パターン及び
該角度に基づいて対応する分割領域に分割し前記変換倍
率に基づいて前記変換画素が位置する分割領域を判定す
る領域分割判定手段と、判定された分割領域及び前記濃
度データに基づいて変換画素の濃度を算出する変換画素
濃度算出手段とを有する構成である。
本発明はＧ３から６４フアクシミリ等の低密度から高密
度への画素密度変換または画像編集における画像拡大装
置及び方法に係り、 特に被変換画素が配列された平面上に、希望する変換倍
率に応じて投影法により定まる分割領域を設定し、当該
平面上に投影された変換画素が位置する分割領域に対応
する論理式に従って近傍被変換画素の濃度から変換画素
の濃度を求める画像拡大装置及び方法に関する。
度への画素密度変換または画像編集における画像拡大装
置及び方法に係り、 特に被変換画素が配列された平面上に、希望する変換倍
率に応じて投影法により定まる分割領域を設定し、当該
平面上に投影された変換画素が位置する分割領域に対応
する論理式に従って近傍被変換画素の濃度から変換画素
の濃度を求める画像拡大装置及び方法に関する。
従来、画像の拡大を行う場合にＳＰＣ（Ｓｅｌｅｃｔｉ
ｖｅＰｒｏｃｅｓｓｉｎｇ Ｃｏｎｖｅｒｓｉｏｎ）法
、論理和法、九分割法、高速投影法（特開３５８−９７
９５８画像電子学界誌 第１１巻、第２号、７２−８３
（１９８２） ）等が提案されており、いずれも最近管
の４画素及び隣接被変換画素から変換画素の濃度を決め
る方法である。
ｖｅＰｒｏｃｅｓｓｉｎｇ Ｃｏｎｖｅｒｓｉｏｎ）法
、論理和法、九分割法、高速投影法（特開３５８−９７
９５８画像電子学界誌 第１１巻、第２号、７２−８３
（１９８２） ）等が提案されており、いずれも最近管
の４画素及び隣接被変換画素から変換画素の濃度を決め
る方法である。
ＳＰＣ法では、拡大倍率が大きい程斜線の凹凸が目立つ
傾向がある。
傾向がある。
また論理和法、九分割法では逆に画像が太り、黒画像に
よる漬れが増える欠点を持っている。
よる漬れが増える欠点を持っている。
一方、高速投影法は拡大時の潰れが少なく、斜線の適応
平滑化を行う事で斜線の凹凸も少ない。
・１高速投影法とは変換画素
の濃度を決定するｉパの算術演算を論理演算に替えて高
速処理を実現したものである。高速投影法は第１６図に
示すように、被変換画像の平面内に変換倍率に応じた分
割領域を設定し、当該分割領域内に被変換画素から変換
画素の濃度を決定するための論理式を予め用意し、当該
変換画素が位置する前記分割領域に割り当てられた論理
式に基づいて変換画素の濃度を決定するものである。
平滑化を行う事で斜線の凹凸も少ない。
・１高速投影法とは変換画素
の濃度を決定するｉパの算術演算を論理演算に替えて高
速処理を実現したものである。高速投影法は第１６図に
示すように、被変換画像の平面内に変換倍率に応じた分
割領域を設定し、当該分割領域内に被変換画素から変換
画素の濃度を決定するための論理式を予め用意し、当該
変換画素が位置する前記分割領域に割り当てられた論理
式に基づいて変換画素の濃度を決定するものである。
第１５図に一般的な投影法の原理、表１に高速投影法の
分割領域及び論理式を示す。
分割領域及び論理式を示す。
第１５図に示すように、先ず近傍４画素Ａ。
Ｂ、Ｃ，Ｄを含む被変換画像面を４等分する。近傍４画
素の画素濃度をＩＡ、ＩＢ、ＩＣ，ＩＱとし、変換画素
Ｒを被変換画素面に投影した際に前記４等分した各分割
領域に投影される面積比率なｗＡ。
素の画素濃度をＩＡ、ＩＢ、ＩＣ，ＩＱとし、変換画素
Ｒを被変換画素面に投影した際に前記４等分した各分割
領域に投影される面積比率なｗＡ。
Ｗ、、Ｗｏ、ＷＤとする。
投影法では変換画素Ｒの濃度を１、−ΣＩｉ＊ Ｗｉ（
ｉ＝Ａ、Ｂ、Ｃ，Ｄ）としてする二値化するので、■Ｒ
≧０．５ →１．−１ （黒） 、 ＩＲ＜０．５−＋
ＩＲ−０（白）のようになる。
ｉ＝Ａ、Ｂ、Ｃ，Ｄ）としてする二値化するので、■Ｒ
≧０．５ →１．−１ （黒） 、 ＩＲ＜０．５−＋
ＩＲ−０（白）のようになる。
尚、第１５図中のｐ、ｑはＸ軸、Ｙ軸方向の変換縮小倍
率である。
率である。
しかし、一般に投影法では変換画素Ｒの濃度を求めるの
に算術演算が必要なため、高速処理ができない。高速投
影法は、その算術演算を論理演算に置き換えて高速化を
図ったものである。
に算術演算が必要なため、高速処理ができない。高速投
影法は、その算術演算を論理演算に置き換えて高速化を
図ったものである。
第１６図中の直線は４画素の中の１画素のみで変換画素
Ｒの濃度が決定できる境界を示している。
Ｒの濃度が決定できる境界を示している。
例えば、Ｇ３と０７とを分ける曲線は次式で与えられる
。
。
ｐｘ＋ｑｙ士０．５
尚、この直線は拡大時の斜線平滑化を行う為の式で、前
記直線式でのｐ、ｑは共に１で一定とする。ｐ、ｑ＝１
にする理由は、変換倍率に応じて前記直線式を決めた場
合、１画素で変換画素の濃度を決める領域が増え、結果
的にはＳＦ６法と変らず、斜線の平滑化にならない為で
ある。
記直線式でのｐ、ｑは共に１で一定とする。ｐ、ｑ＝１
にする理由は、変換倍率に応じて前記直線式を決めた場
合、１画素で変換画素の濃度を決める領域が増え、結果
的にはＳＦ６法と変らず、斜線の平滑化にならない為で
ある。
従来、以上の投影法を用いて画像の拡大を行う場合には
、第２４図に示すように投影により変換画素の近傍に位
置する被変換画素群Ａ−Ｌの各濃度データを順次入力す
る被変換画素入力手段２４１と、希望する変換倍率に基
づいて変換画素がどの分割領域に属するかを判定する分
割領域判定手段２４３と、被変換画素入力手段２４１が
入力した前記被変換画素群の濃度データ及び各変換画素
が属する分割領域に基づいて変換画素の濃度を算出する
変換画素濃度算出手段２４４とを有する画像拡大装置を
用いて画像の拡大を行っていた。
、第２４図に示すように投影により変換画素の近傍に位
置する被変換画素群Ａ−Ｌの各濃度データを順次入力す
る被変換画素入力手段２４１と、希望する変換倍率に基
づいて変換画素がどの分割領域に属するかを判定する分
割領域判定手段２４３と、被変換画素入力手段２４１が
入力した前記被変換画素群の濃度データ及び各変換画素
が属する分割領域に基づいて変換画素の濃度を算出する
変換画素濃度算出手段２４４とを有する画像拡大装置を
用いて画像の拡大を行っていた。
投影法の論理式は、前述した表２に示すように領域Ｇ工
〜Ｇ４では１画素のみ、領域０５〜Ｇ８では他の３画素
との結合及びその周辺２画素から斜線と直角部分を区別
する適応平滑化を考慮した論理式となっている。
〜Ｇ４では１画素のみ、領域０５〜Ｇ８では他の３画素
との結合及びその周辺２画素から斜線と直角部分を区別
する適応平滑化を考慮した論理式となっている。
ところで、従来の画像拡大装置にあっては、拡大時にお
いて、被変換画像中の斜線パターンの角度が４５度の場
合のみ良好であって、パターンの角度が他の場合、斜線
平滑化が不自然な形となる。
いて、被変換画像中の斜線パターンの角度が４５度の場
合のみ良好であって、パターンの角度が他の場合、斜線
平滑化が不自然な形となる。
例えば、第１８図に示したような３つの斜線パターンを
従来の高速投影法で３倍に拡大した場合を考える。
従来の高速投影法で３倍に拡大した場合を考える。
第１８図の斜線パターン（ａ）では角度が４５度なので
全体に斜線平滑化が行われている。
全体に斜線平滑化が行われている。
しかし、斜線パターン（ｂ）、（ｃ）では階段状の部分
のみ斜線平滑化が行われ、全体的に平滑化が行われない
という問題点を有していた。
のみ斜線平滑化が行われ、全体的に平滑化が行われない
という問題点を有していた。
また、変換倍率が大きくなる程、斜線の階段状が目立つ
傾向があるという問題点があった。
傾向があるという問題点があった。
そこで、本発明は以上の問題点を解決することを技術的
課題とするものであり、斜線の階段状を目立たせないよ
う自然な斜線平滑化がなされるように拡大を行うことが
できる画像拡大装置及び方法を提供することを目的とし
てなされたものである。
課題とするものであり、斜線の階段状を目立たせないよ
う自然な斜線平滑化がなされるように拡大を行うことが
できる画像拡大装置及び方法を提供することを目的とし
てなされたものである。
（課題を解決するための手段）
以上の技術的課題を解決するため第一の発明は第１図に
示すように被変換画素が配列された平面上に、希望する
変換倍率に応じて投影法により定まる分割領域を設定し
、当該平面上に投影された変換画素が位置する分割領域
に対応する論理式に従って近傍被変換画素の濃度から各
変換画素の濃度を決定する画像拡大装置において、変換
画素の近傍に位置する所定の被変換画素群の濃度データ
を順次入力する被変換画素入力手段１−と、当該被変換
画素群の濃度データにより形成される所定の傾斜角度を
有する斜線パターン及び該傾斜角度を検知する斜線パタ
ーン検知手段２と、少なくとも当該斜線パターン及び傾
斜角度に基づいて対応する分割領域に分割するとともに
、前記変換倍率に基づいて前記変換画素が位置する分割
領域を判定する領域分割判定手段３と、判定された分割
領域及び前記被変換画素の濃度データに基づいて変換画
素の濃度を算出する変換画素濃度算出手段４とを有する
ものである。
示すように被変換画素が配列された平面上に、希望する
変換倍率に応じて投影法により定まる分割領域を設定し
、当該平面上に投影された変換画素が位置する分割領域
に対応する論理式に従って近傍被変換画素の濃度から各
変換画素の濃度を決定する画像拡大装置において、変換
画素の近傍に位置する所定の被変換画素群の濃度データ
を順次入力する被変換画素入力手段１−と、当該被変換
画素群の濃度データにより形成される所定の傾斜角度を
有する斜線パターン及び該傾斜角度を検知する斜線パタ
ーン検知手段２と、少なくとも当該斜線パターン及び傾
斜角度に基づいて対応する分割領域に分割するとともに
、前記変換倍率に基づいて前記変換画素が位置する分割
領域を判定する領域分割判定手段３と、判定された分割
領域及び前記被変換画素の濃度データに基づいて変換画
素の濃度を算出する変換画素濃度算出手段４とを有する
ものである。
一方、第二の発明は第２図に示すように被変換画素が配
列された平面上に、希望する変換倍率に応じて投影法に
より定まる分割領域を設定し、当該平面上に投影された
変換画素が位置する分割領域に対応する論理式に従って
近傍被変換画素の濃度から変換画素の濃度を決定する画
像拡大方法において、前記変換画素の近傍に位置する所
定の被変換画素群の濃度データを順次入力する過程（Ｓ
１）と、当該被変換画素群の濃度データにより形成され
る所定の傾遍角度を有する斜線パターン及び傾斜角度を
検知する過程（Ｓ２）と、少なくとも当該斜線パターン
及び傾斜角度に基づいて分割領域に分割するとともに、
前記変換倍率に基づいて前記変換画素が位置する当該分
割領域の判定を行う過程（Ｓ３）と、判定された分割領
域及び前記被変換画素の濃度データに基づいて前記変換
画素の濃度を算出する過程（Ｓ４）とを有するものであ
る。
列された平面上に、希望する変換倍率に応じて投影法に
より定まる分割領域を設定し、当該平面上に投影された
変換画素が位置する分割領域に対応する論理式に従って
近傍被変換画素の濃度から変換画素の濃度を決定する画
像拡大方法において、前記変換画素の近傍に位置する所
定の被変換画素群の濃度データを順次入力する過程（Ｓ
１）と、当該被変換画素群の濃度データにより形成され
る所定の傾遍角度を有する斜線パターン及び傾斜角度を
検知する過程（Ｓ２）と、少なくとも当該斜線パターン
及び傾斜角度に基づいて分割領域に分割するとともに、
前記変換倍率に基づいて前記変換画素が位置する当該分
割領域の判定を行う過程（Ｓ３）と、判定された分割領
域及び前記被変換画素の濃度データに基づいて前記変換
画素の濃度を算出する過程（Ｓ４）とを有するものであ
る。
また、第三の発明は第３図に示すように被変換画素が配
列された平面上に、希望する変換倍率に応じて投影法に
より定まる分割領域を設定し、当該平面上に投影された
変換画素が位置する分割領域に対応する論理式に従って
近傍被変換画素の濃度から各変換画素の濃度を決定する
画像拡大装置において、変換画素の近傍に位置する所定
の被変換画素群の濃度データを順次入力する被変換画素
入力手段１と、前記変換倍率に基づいて定まる前記平面
上における前記変換画素が位置する所定の区分領域を指
定する区分領域指定手段３５と、指定された当該領域に
基づいて前記被変換画素群の濃度データにより形成され
る所定の傾斜角度を有する斜線パターン及びその傾斜角
度を検知する斜線パターン検知手段３２と、少なくとも
当該斜線パターン及び傾斜角度に基づいて対応する分割
領域に分割するとともに、前記変換倍率に基づいて前記
変換画素が位置する当該分割領域を判定する領域分割判
定手段３３と、判定された当該分割領域及び前記被変換
画素の濃度データに基づいて変換画素の濃度を算出する
変換画素濃度算出手段４とを有するものである。
列された平面上に、希望する変換倍率に応じて投影法に
より定まる分割領域を設定し、当該平面上に投影された
変換画素が位置する分割領域に対応する論理式に従って
近傍被変換画素の濃度から各変換画素の濃度を決定する
画像拡大装置において、変換画素の近傍に位置する所定
の被変換画素群の濃度データを順次入力する被変換画素
入力手段１と、前記変換倍率に基づいて定まる前記平面
上における前記変換画素が位置する所定の区分領域を指
定する区分領域指定手段３５と、指定された当該領域に
基づいて前記被変換画素群の濃度データにより形成され
る所定の傾斜角度を有する斜線パターン及びその傾斜角
度を検知する斜線パターン検知手段３２と、少なくとも
当該斜線パターン及び傾斜角度に基づいて対応する分割
領域に分割するとともに、前記変換倍率に基づいて前記
変換画素が位置する当該分割領域を判定する領域分割判
定手段３３と、判定された当該分割領域及び前記被変換
画素の濃度データに基づいて変換画素の濃度を算出する
変換画素濃度算出手段４とを有するものである。
さらに第四の発明は第４図に示すように被変換画素が配
列された平面上に、希望する変換倍率に応じて投影法に
より定まる分割領域を設定し、当該平面上に投影された
変換画素が位置する分割領域に対応する論理式に従って
近傍被変換画素の濃度から変換画素の濃度を決定する画
像拡大方法において、前記変換画素の近傍に位置する所
定の被変換画素群の濃度データを順次入力する過程（Ｓ
１）と、前記変換倍率に基づいて定まる前記平面上にお
ける前記変換画素が位置する所定の区分領域を指定する
過程（Ｓ３２）と、当該区分領域に基づいて当該被変換
画素群の濃度データにより形成される所定の傾斜角度を
有する斜線パターン及びその傾斜角度を検知する過程（
Ｓ３３）と、少なくとも当該斜線パターン及び傾斜角度
に基づいて分割領域に分割するとともに、前記変換倍率
に基づいて前記変換画素が位置する当該分割領域の判定
を行う過程（Ｓ３４）と、判定された当該分割領域及び
前記被変換画素の濃度データに基づいて前記変換画素の
濃度を算出する過程（Ｓ４）とを有するものである。
列された平面上に、希望する変換倍率に応じて投影法に
より定まる分割領域を設定し、当該平面上に投影された
変換画素が位置する分割領域に対応する論理式に従って
近傍被変換画素の濃度から変換画素の濃度を決定する画
像拡大方法において、前記変換画素の近傍に位置する所
定の被変換画素群の濃度データを順次入力する過程（Ｓ
１）と、前記変換倍率に基づいて定まる前記平面上にお
ける前記変換画素が位置する所定の区分領域を指定する
過程（Ｓ３２）と、当該区分領域に基づいて当該被変換
画素群の濃度データにより形成される所定の傾斜角度を
有する斜線パターン及びその傾斜角度を検知する過程（
Ｓ３３）と、少なくとも当該斜線パターン及び傾斜角度
に基づいて分割領域に分割するとともに、前記変換倍率
に基づいて前記変換画素が位置する当該分割領域の判定
を行う過程（Ｓ３４）と、判定された当該分割領域及び
前記被変換画素の濃度データに基づいて前記変換画素の
濃度を算出する過程（Ｓ４）とを有するものである。
本発明（第−及び第二の発明の詳細な説明する。
本発明により画像の拡大を行う場合には、現時点で濃度
を定めようとする対象である変換画素に対して、ステッ
プＳ１において投影により当該変換画素の近傍に位置す
る所定の被変換画素群の濃度データを順次被変換画素入
力手段１により入力する。
を定めようとする対象である変換画素に対して、ステッ
プＳ１において投影により当該変換画素の近傍に位置す
る所定の被変換画素群の濃度データを順次被変換画素入
力手段１により入力する。
ここで、「所定の」とは当該変換画素の濃度を定める際
に影響を与える被変換画素群であって、例えば被変換画
素平面上に投影した場合に当該変換画素から一定の距離
内にある被変換画素である。
に影響を与える被変換画素群であって、例えば被変換画
素平面上に投影した場合に当該変換画素から一定の距離
内にある被変換画素である。
ステップＳ２において、斜線パターン検知手段２は前記
被変換画素の濃度データに基づいて所定の傾斜角度を有
する斜線パターン及び該傾斜角度を検知する。
被変換画素の濃度データに基づいて所定の傾斜角度を有
する斜線パターン及び該傾斜角度を検知する。
ここで、斜線パターンを検知するためには予め定めた斜
線パターンと一致した画像を斜線パターンとして認識区
別することにより行い、傾斜角度も同時に検知すること
ができることになる。
線パターンと一致した画像を斜線パターンとして認識区
別することにより行い、傾斜角度も同時に検知すること
ができることになる。
ステップＳ３において、前記領域分割判定手段３は前記
斜線パターン検知手段２が検知した斜線パターン及び傾
斜角度に基づいて変換画素の濃度を算出するために必要
な分割領域自体を決定する。
斜線パターン検知手段２が検知した斜線パターン及び傾
斜角度に基づいて変換画素の濃度を算出するために必要
な分割領域自体を決定する。
ここで、分割領域自体を被変換画素の斜線パターン及び
傾斜角度に基づいて決定するのは拡大された変換画素の
斜線の形状は各分割領域を隔てる境界線の形状に大きく
依存するからであり、被変換画素の斜線パターン及び傾
斜角度に基づいて各分割領域を決定することにより斜線
の平滑化を行うためである。
傾斜角度に基づいて決定するのは拡大された変換画素の
斜線の形状は各分割領域を隔てる境界線の形状に大きく
依存するからであり、被変換画素の斜線パターン及び傾
斜角度に基づいて各分割領域を決定することにより斜線
の平滑化を行うためである。
また当該領域分割判定手段３は前記変換倍率に基づいて
投影された変換画素が位置する分割領域を判定する。
投影された変換画素が位置する分割領域を判定する。
ステップＳ４において前記変換画素算出手段４は当該分
割領域及び変換画素の近傍に位置する被変換画素群の濃
度データに基づいて対応する論理式により現時点の変換
画素の濃度の算出を行う。
割領域及び変換画素の近傍に位置する被変換画素群の濃
度データに基づいて対応する論理式により現時点の変換
画素の濃度の算出を行う。
以上の手順は各変換画素毎に順次繰り返される。
また、第三及び第四の発明は第−及び第二の発明と異な
り、ステップＳ３２で斜線パターン及び傾斜角度を検知
する際に前記変換倍率に基づいて前記区分領域指定手段
３５が前記平面上における前記変換画素が位置する所定
の区分領域を指定し、ステップＳ３３で前記斜線パター
ン検知手段３２により指定された当該領域に基づいて前
記被変換画素群の濃度データにより形成される所定の傾
斜角度を有する斜線パターン及びその傾斜角度を検知し
、ステップＳ３４で当該斜線パターン及び傾斜角度に基
づいて前記領域分割判定手段３３は分割領域への分割及
び変換画素が位置する分割領域の判定を行っている。
り、ステップＳ３２で斜線パターン及び傾斜角度を検知
する際に前記変換倍率に基づいて前記区分領域指定手段
３５が前記平面上における前記変換画素が位置する所定
の区分領域を指定し、ステップＳ３３で前記斜線パター
ン検知手段３２により指定された当該領域に基づいて前
記被変換画素群の濃度データにより形成される所定の傾
斜角度を有する斜線パターン及びその傾斜角度を検知し
、ステップＳ３４で当該斜線パターン及び傾斜角度に基
づいて前記領域分割判定手段３３は分割領域への分割及
び変換画素が位置する分割領域の判定を行っている。
これは指定により限定された前記区分領域について斜線
パターンを検知する方が広い領域内から斜線パターンを
検知する場合に比較してより少ない被変換画素数を参照
すれば足りるからである。
パターンを検知する方が広い領域内から斜線パターンを
検知する場合に比較してより少ない被変換画素数を参照
すれば足りるからである。
（実施例）
続いて、本発明の第−及び第二の実施例について説明す
る。
る。
〈第一の実施例〉
第−及び第二の発明に係る第一の実施例の画像拡大装置
として第５図に示すものがある。
として第５図に示すものがある。
本装置は被変換画素子面内に現時点の変換画素を投影さ
せた場合に当該変換画素の近傍に位置する被変換画素群
の濃度データを順次入力する被変換画素入力手段１とし
てのシフトレジスタ１１ａ、ｌｌｂ、ｌｌｃ、ｌｉｄと
、斜線パターン及び当該傾斜角度を検知するための斜線
パターン検知手段２としての斜線パターン検知用論理回
路１２と、前記斜線パターン検知用論理回路１２から出
力された斜線パターン及び傾斜角度に基づいて分割領域
を決定し、かつ希望する変換倍率（Ｘ軸変換倍率ｐ、ｙ
軸変換倍率ｑ）に基づいて前記変換画素が位置する分割
領域の判定を行うとともに前記被変換画素入力手段１１
に対する制御を行う制御部１３と、前記被変換画素入力
手段１１から入力した被変換画素群としての濃度データ
及び前記制御部１３により判定された分割領域に基づい
て変換画素の濃度を算出する変換画素濃度算出手段４と
しての変換画素濃度決定用論理回路１４とを有する。
せた場合に当該変換画素の近傍に位置する被変換画素群
の濃度データを順次入力する被変換画素入力手段１とし
てのシフトレジスタ１１ａ、ｌｌｂ、ｌｌｃ、ｌｉｄと
、斜線パターン及び当該傾斜角度を検知するための斜線
パターン検知手段２としての斜線パターン検知用論理回
路１２と、前記斜線パターン検知用論理回路１２から出
力された斜線パターン及び傾斜角度に基づいて分割領域
を決定し、かつ希望する変換倍率（Ｘ軸変換倍率ｐ、ｙ
軸変換倍率ｑ）に基づいて前記変換画素が位置する分割
領域の判定を行うとともに前記被変換画素入力手段１１
に対する制御を行う制御部１３と、前記被変換画素入力
手段１１から入力した被変換画素群としての濃度データ
及び前記制御部１３により判定された分割領域に基づい
て変換画素の濃度を算出する変換画素濃度算出手段４と
しての変換画素濃度決定用論理回路１４とを有する。
前記シフトレジスタｌｌａ、ｌｌｂ、ｌｌｃ。
ｌｉｄは各々１，２，３．４ライン目毎に現時点の変換
画素の近傍に位置する被変換画素を入力保持及び移動す
るものであり、第１３図に示すように参照する各格子点
に位置する被変換画素Ａ〜Ｐの１６画素を各ライン毎に
（Ｍ、Ｌ、に、Ｐ）、（Ｅ、Ａ、Ｄ、Ｊ）、 （Ｆ、Ｂ
、Ｃ，Ｉ）、（Ｎ、Ｃ，Ｈ，Ｏ）の被変換画素を入力保
持する。
画素の近傍に位置する被変換画素を入力保持及び移動す
るものであり、第１３図に示すように参照する各格子点
に位置する被変換画素Ａ〜Ｐの１６画素を各ライン毎に
（Ｍ、Ｌ、に、Ｐ）、（Ｅ、Ａ、Ｄ、Ｊ）、 （Ｆ、Ｂ
、Ｃ，Ｉ）、（Ｎ、Ｃ，Ｈ，Ｏ）の被変換画素を入力保
持する。
前記斜線パターン検知用論理回路１２は現時点の変換画
素の近傍に位置する被変換画素群Ａ〜Ｐの１６個の濃度
データの配列のパターンが第１２図に示したＰ１〜Ｐ８
（Ｎｏ、 １〜Ｎシ、 Ｑ ）のどの斜線パターンで
あるかを判定して当該斜線パターンを前記制御部１３に
通知するものである。
素の近傍に位置する被変換画素群Ａ〜Ｐの１６個の濃度
データの配列のパターンが第１２図に示したＰ１〜Ｐ８
（Ｎｏ、 １〜Ｎシ、 Ｑ ）のどの斜線パターンで
あるかを判定して当該斜線パターンを前記制御部１３に
通知するものである。
ここで、第１２図は傾斜角度がｔａｎθ＝２゜ｔａｎθ
＝１．ｔａｎθ＝０．５の傾斜角度に対応した斜線パタ
ーンについて示したものであり、参照する被変換画素側
にＰ１〜Ｐ８に分けられており、Ｐ１〜Ｐ４は階段状の
部分であり、Ｐ５〜Ｐ８は斜線の延長線上とみなされる
直線部分のパターンであり、Ｐ１〜Ｐ８の各パターンめ
内訳は以下の通りである。
＝１．ｔａｎθ＝０．５の傾斜角度に対応した斜線パタ
ーンについて示したものであり、参照する被変換画素側
にＰ１〜Ｐ８に分けられており、Ｐ１〜Ｐ４は階段状の
部分であり、Ｐ５〜Ｐ８は斜線の延長線上とみなされる
直線部分のパターンであり、Ｐ１〜Ｐ８の各パターンめ
内訳は以下の通りである。
Ｐｉ〜Ｐ４： Ｎｏ、１，５ ： ｔａｎθ＝１の斜線
パターンＮｏ、２，６ ： ｔａｎθ＝２の斜線パター
ンＮｏ、３，７ ： ｔａｎθ＝０．５の斜線パターン
Ｎｏ、４，８ ：直角部分の斜線パターンＰ５．Ｐ６
： Ｎｏ、１〜４： ｔａｎθ＝２の斜線延長線上の直
線パターン Ｐ７．Ｐ８ ： Ｎｏ、１〜４： ｔａｎθ＝０．５の
斜線延長線上の直線パターン 前記制御部１３は当該斜線パターン及び当該斜線パター
ンに対応する傾斜角度に基づいて対応する分割領域を分
割する境界線を演算して確定し、前記変換倍率に基づい
て定められる各変換画素が位置する分割領域０１〜Ｇ工
２を特定して前記変換画素濃度決定用論理回路１４に送
出するものである。
パターンＮｏ、２，６ ： ｔａｎθ＝２の斜線パター
ンＮｏ、３，７ ： ｔａｎθ＝０．５の斜線パターン
Ｎｏ、４，８ ：直角部分の斜線パターンＰ５．Ｐ６
： Ｎｏ、１〜４： ｔａｎθ＝２の斜線延長線上の直
線パターン Ｐ７．Ｐ８ ： Ｎｏ、１〜４： ｔａｎθ＝０．５の
斜線延長線上の直線パターン 前記制御部１３は当該斜線パターン及び当該斜線パター
ンに対応する傾斜角度に基づいて対応する分割領域を分
割する境界線を演算して確定し、前記変換倍率に基づい
て定められる各変換画素が位置する分割領域０１〜Ｇ工
２を特定して前記変換画素濃度決定用論理回路１４に送
出するものである。
ここで、傾斜角度をθとした場合の分割領域を定める境
界線は以下のように定める。
界線は以下のように定める。
■ｔａｎθ＞１ ：ｔａｎθ＊ｘ＋ｙ＝ｔａｎθ／２（
ｘ＞０ 、ｙ＞０の場合） ■ｔａｎθ≦１ ： ｘ＋ｙ／ ｔａｎθ＝１ ／２ｔ
ａｎθ（ｘ＞０ 、ｙ＞０の場合） 他の象限についても同様にして決定される。
ｘ＞０ 、ｙ＞０の場合） ■ｔａｎθ≦１ ： ｘ＋ｙ／ ｔａｎθ＝１ ／２ｔ
ａｎθ（ｘ＞０ 、ｙ＞０の場合） 他の象限についても同様にして決定される。
第６，７図に■、■の境界線により決定される分割領域
の例を示す。第８図にはｔａｎθ＝１即ち、θ＝４５°
及び斜線以外のパターンに対する分割領域を示すもので
従来の分割領域の場合と同一である。
の例を示す。第８図にはｔａｎθ＝１即ち、θ＝４５°
及び斜線以外のパターンに対する分割領域を示すもので
従来の分割領域の場合と同一である。
尚、第６，７図の（ａ）には斜線の階段状になっている
部分での分割領域、同図（ｂ）は階段状における当該斜
線の延長線上にある直線パターンに対する分割領域であ
る。尚、分割領域（ｂ）の０９〜Ｇ１□については斜線
パターン−つに対して領域−つが対応し、他の領域は無
視される。例えば第６図（ｂ）において斜線パターンと
領域Ｇ９の分割領域だけが有効で、他のＧ１ｏ〜Ｇ１□
の分割領域は各々０２〜Ｇ４の分割領域と同じとする。
部分での分割領域、同図（ｂ）は階段状における当該斜
線の延長線上にある直線パターンに対する分割領域であ
る。尚、分割領域（ｂ）の０９〜Ｇ１□については斜線
パターン−つに対して領域−つが対応し、他の領域は無
視される。例えば第６図（ｂ）において斜線パターンと
領域Ｇ９の分割領域だけが有効で、他のＧ１ｏ〜Ｇ１□
の分割領域は各々０２〜Ｇ４の分割領域と同じとする。
また、本制御部１３は前記変換倍率に基づいて定まる各
変換画素の位置に基づいて、現時点の変換画素が位置す
る当該分割領域の特定を行い前記変換画素濃度決定論理
回路１４に送出するものである。
変換画素の位置に基づいて、現時点の変換画素が位置す
る当該分割領域の特定を行い前記変換画素濃度決定論理
回路１４に送出するものである。
以下、本実施例の動作について説明する。
当該装置により原画像の３倍の像の拡大を行う場合には
、所定の変換画素に対して、投影により当該変換画素の
近傍に属する被変換画素群、すなわち、当該変換画素を
囲む被変換画素群を順次前記被変換画素入力手段１１に
入力させる。
、所定の変換画素に対して、投影により当該変換画素の
近傍に属する被変換画素群、すなわち、当該変換画素を
囲む被変換画素群を順次前記被変換画素入力手段１１に
入力させる。
当該入力手段１１が有する各シフトレジスタ１１ａ、ｂ
、ｃ、ｄには各々、第１３図に示した当該変換画素（Ｘ
印で表示）の近傍にある被変換画素Ａ〜Ｐが各ライン毎
に順次入力して、当該レジスタ１１ａ、ｂ、ｃ、ｄに前
記制御部１３からの指令により移動する。
、ｃ、ｄには各々、第１３図に示した当該変換画素（Ｘ
印で表示）の近傍にある被変換画素Ａ〜Ｐが各ライン毎
に順次入力して、当該レジスタ１１ａ、ｂ、ｃ、ｄに前
記制御部１３からの指令により移動する。
当該各画素は前記斜線パターン検知用論理回路１２に入
力し、当該被変換画素について前記斜線パターンとの対
応がとられることになる。
力し、当該被変換画素について前記斜線パターンとの対
応がとられることになる。
例えば第１７図（Ｃ）の左側に示すような被変換画素の
配列があった場合に、３倍に拡大をする場合を考える。
配列があった場合に、３倍に拡大をする場合を考える。
第１４図に示すように被変換画像上に投影された変換画
素（α）を囲む４個の被変換画素Ａ。
素（α）を囲む４個の被変換画素Ａ。
Ｂ、Ｃ，Ｄについては濃度について階段状であるので第
１２図に示した斜線パターンＰ１〜Ｐ８のうちＰ４のＮ
ｏ、３に対応する。
１２図に示した斜線パターンＰ１〜Ｐ８のうちＰ４のＮ
ｏ、３に対応する。
ところで、Ｐ４のＮｏ、３は前述したように傾斜角度θ
はｔａｎ θ＝０．５に対応する。
はｔａｎ θ＝０．５に対応する。
当該情報は７ビツトの信号により前記制御部１３に送出
される。
される。
また、第１４図に示すように変換画素（β）については
同様にして当該画素を囲む４個の被変換画素Ａ、Ｂ、Ｃ
，Ｄについては濃度について階段状であるので第１２図
に示した斜線パターンＰ１〜Ｐ８のうちＰ２のＮｏ、７
に対応し、傾斜角度は前述したようにθはｔａｎθ＝０
．５に対応する。
同様にして当該画素を囲む４個の被変換画素Ａ、Ｂ、Ｃ
，Ｄについては濃度について階段状であるので第１２図
に示した斜線パターンＰ１〜Ｐ８のうちＰ２のＮｏ、７
に対応し、傾斜角度は前述したようにθはｔａｎθ＝０
．５に対応する。
当該情報は７ビツトの信号により前記制御部１３に送出
されることになる。
されることになる。
制御部１３は当該信号を受けると前述した式■■に基づ
いて定まる境界線により分割することになる。
いて定まる境界線により分割することになる。
尚、第９．１０．１１図に各傾斜角度θが各々ｔａｎθ
＝２の場合、ｔａｎθ＝０．５の場合、ｔａｎθ＝１の
場合に相当する分割領域を示す。
＝２の場合、ｔａｎθ＝０．５の場合、ｔａｎθ＝１の
場合に相当する分割領域を示す。
尚、各図に表わされた分割領域の境界となる直線は次の
通りである。
通りである。
第９図（ａ）の場合：２ｘ＋ｙ＝１ （ｘ）Ｏ，ｙ〉
０ ：Ｇ３．Ｇ７の境界） 第９図（ｂ）の場合：２ｘ−ｙ＝０ （Ｘ）０，３／）
Ｏ：Ｇ３．Ｇｌｌの境界） 第１０図（ａ）の場合： ｘ＋２ｙ＝１ （Ｘ）０，３
／）０：Ｇ３．Ｇ７の境界） 第１０図（ｂ）の場合： ｘ−２ｙ＝Ｏ（Ｘ）０，３／
）０：Ｇ３．Ｇ１１の境界） 第１１図の場合： ｘ＋ｙ＝０．５ （ｘ）Ｏ，ｙ）
０：Ｇ３．Ｇ７の境界） 制御部１３はこうして得られた分割領域の中から前記変
換画素が位置する分割領域が領域判定される。例えば第
１４図に示した変換画素αに対しては前記斜線パターン
検知用論理回路１２により傾斜角度はｔａｎθ＝０．５
であり第１０図の分割領域が対応することになり、当該
変換画素αは階段状の部分に相当する斜線パターンを有
するから第１０図の（ａ）に相当する分割領域が対応す
ることになる。
０ ：Ｇ３．Ｇ７の境界） 第９図（ｂ）の場合：２ｘ−ｙ＝０ （Ｘ）０，３／）
Ｏ：Ｇ３．Ｇｌｌの境界） 第１０図（ａ）の場合： ｘ＋２ｙ＝１ （Ｘ）０，３
／）０：Ｇ３．Ｇ７の境界） 第１０図（ｂ）の場合： ｘ−２ｙ＝Ｏ（Ｘ）０，３／
）０：Ｇ３．Ｇ１１の境界） 第１１図の場合： ｘ＋ｙ＝０．５ （ｘ）Ｏ，ｙ）
０：Ｇ３．Ｇ７の境界） 制御部１３はこうして得られた分割領域の中から前記変
換画素が位置する分割領域が領域判定される。例えば第
１４図に示した変換画素αに対しては前記斜線パターン
検知用論理回路１２により傾斜角度はｔａｎθ＝０．５
であり第１０図の分割領域が対応することになり、当該
変換画素αは階段状の部分に相当する斜線パターンを有
するから第１０図の（ａ）に相当する分割領域が対応す
ることになる。
こうして、各変換画素に対して分割領域が対応付けられ
制御部１３から前記変換画素濃度決定用論理回路１４に
送出されることになる。
制御部１３から前記変換画素濃度決定用論理回路１４に
送出されることになる。
当該変換画素濃度決定用論理回路１４は判定された当該
分割領域及び前記被変換画素入力手段１１より入力した
前記被変換画素の濃度データに基づいて対応する論理式
により変換画素の濃度が決定されることになる。
分割領域及び前記被変換画素入力手段１１より入力した
前記被変換画素の濃度データに基づいて対応する論理式
により変換画素の濃度が決定されることになる。
ここで、対応する論理式は表１に各分割領域毎に記載さ
れている。
れている。
表２０本発明による論理式
同様にして次の変換画素について前述した手順を繰り返
すことになる。
すことになる。
本実施例に係る装置を使用することにより、例えば、第
１７図に示すように左側に示した被変換画素は右側に示
した変換画素を得ることができる。
１７図に示すように左側に示した被変換画素は右側に示
した変換画素を得ることができる。
〈第二の実施例〉
続いて、第三及び第四の発明に係る第二の実施例につい
て説明する。
て説明する。
本実施例は第一の実施例と異なり、斜線パターン及び傾
斜角度の検知を行う際に、現時点の変換画素の近傍に位
置する４個の被変換画素で形成される格子上を４等分し
た四等区分領域に区分し、変換画素が位置する当該四等
区分領域を指定して前記被変換画素群より斜線パターン
及び傾斜角度を検知し、当該角度に応じて分割領域を定
め（または複数種類用意した分割領域から１つを選択し
）、当該分割領域に予め対応させた論理式に従って変換
画素の濃度を決定するようにしたものである。
斜角度の検知を行う際に、現時点の変換画素の近傍に位
置する４個の被変換画素で形成される格子上を４等分し
た四等区分領域に区分し、変換画素が位置する当該四等
区分領域を指定して前記被変換画素群より斜線パターン
及び傾斜角度を検知し、当該角度に応じて分割領域を定
め（または複数種類用意した分割領域から１つを選択し
）、当該分割領域に予め対応させた論理式に従って変換
画素の濃度を決定するようにしたものである。
四等区分領域に区分することによって、各区分領域毎に
参照する被変換画素数を各々９個の被変換画素に限定し
て変換画素の濃度を決定する際に必要となる被変換画素
の個数の減少を図ることができる。
参照する被変換画素数を各々９個の被変換画素に限定し
て変換画素の濃度を決定する際に必要となる被変換画素
の個数の減少を図ることができる。
第２０図に変換画素α近傍に位置する被変換画素群Ａ−
Ｐの中から当該変換画素に最近例の４伊の被変換画素Ａ
−Ｄにより定められる格子内の領域を四等分した四等区
分領域Ｒ１，Ｒ２，Ｒ３，Ｒ４を示す。
Ｐの中から当該変換画素に最近例の４伊の被変換画素Ａ
−Ｄにより定められる格子内の領域を四等分した四等区
分領域Ｒ１，Ｒ２，Ｒ３，Ｒ４を示す。
第１９図に本実施例に係る画像拡大装置のブロック図を
示す。
示す。
本装置は被変換画素からなる原画像を格納している二次
元画像メモリ１１０と、被変換画素群の濃度データを順
次入力する被変換画素入力手段１１１と、当該入力手段
１１１が入力した被変換画素の濃度データにより形成さ
れる所定の傾斜角度を有する斜線パターン及び該傾斜角
度を有する斜線パターン及び該傾斜角度を後述する指定
された領域に基づいて検知する斜線パターン検知手段３
２としての斜線パターン検知用論理回路１１２と、少な
くとも当該斜線パターン及び傾斜角度に基づいて対応す
る分割領域に分割し、かつ前記変換倍率に基づいて前記
変換倍率が位置する分割領域の判定する前記領域分割判
定手段３３及び当該変換画素が位置する前記四等区分領
域の指定を行う区分領域指定手段３５として、並びに前
記変換画素入力手段１１１及び前記二次元画像メモリ１
１０に対するアクセス指令等の制御を行う制御部１１３
と、判定された前記分割領域及び入力した前記被変換画
素群に基づいて変換画素の濃度を算出する変換画素濃度
算出手段４としての変換画素濃度決定用論理回路１１４
とを有する。
元画像メモリ１１０と、被変換画素群の濃度データを順
次入力する被変換画素入力手段１１１と、当該入力手段
１１１が入力した被変換画素の濃度データにより形成さ
れる所定の傾斜角度を有する斜線パターン及び該傾斜角
度を有する斜線パターン及び該傾斜角度を後述する指定
された領域に基づいて検知する斜線パターン検知手段３
２としての斜線パターン検知用論理回路１１２と、少な
くとも当該斜線パターン及び傾斜角度に基づいて対応す
る分割領域に分割し、かつ前記変換倍率に基づいて前記
変換倍率が位置する分割領域の判定する前記領域分割判
定手段３３及び当該変換画素が位置する前記四等区分領
域の指定を行う区分領域指定手段３５として、並びに前
記変換画素入力手段１１１及び前記二次元画像メモリ１
１０に対するアクセス指令等の制御を行う制御部１１３
と、判定された前記分割領域及び入力した前記被変換画
素群に基づいて変換画素の濃度を算出する変換画素濃度
算出手段４としての変換画素濃度決定用論理回路１１４
とを有する。
前記被変換画素入力手段１１１は第１９図に示すように
、６個のシフトレジスタ１１１ａ〜１１１ｆを有してい
る。
、６個のシフトレジスタ１１１ａ〜１１１ｆを有してい
る。
シフトレジスタ１ｌｌａ、ｂは第１の画像ライン上にあ
る被変換画素を保持するものである。
る被変換画素を保持するものである。
同様にシフトレジスタ１ｌｌｃ、ｄは第２のライン上、
シフトレジスタｔｉｌｅ、ｆは第３のライン上にある被
変換画素を順次移動保持するものである。
シフトレジスタｔｉｌｅ、ｆは第３のライン上にある被
変換画素を順次移動保持するものである。
前記斜線パターン検知用論理回路１１２は前記制御部１
１３により指定された前記四等区分領域Ｒ１〜Ｒ４基づ
いて斜線パターンを検知するものであって、第２１図に
示すように各区分領域Ｒ１−Ｒ４毎に現時点の変換画素
の所定の近傍に位置する９個の被変換画素について各々
Ｐｉ−Ｎｏ、１〜８゜Ｐ２−Ｎｏ、１．２ 、 Ｐ３−
１．２の斜線パターンを対応させている。
１３により指定された前記四等区分領域Ｒ１〜Ｒ４基づ
いて斜線パターンを検知するものであって、第２１図に
示すように各区分領域Ｒ１−Ｒ４毎に現時点の変換画素
の所定の近傍に位置する９個の被変換画素について各々
Ｐｉ−Ｎｏ、１〜８゜Ｐ２−Ｎｏ、１．２ 、 Ｐ３−
１．２の斜線パターンを対応させている。
ここで、斜線パターンの種類は斜線パターンＰｉ−Ｎｏ
、１，２ ：傾斜角度ｔａｎθ−１（θ−４５°）斜線
パターンＰｉ−Ｎｏ、３，４：直角部分に相当する斜線
パターン 斜線パターンＰｉ−Ｎｏ、５，６ ：傾斜角度ｔａｎθ
＝２の斜線パターン（斜線の中心部分） 斜線ノ（ターンＰＬ−Ｎｏ、７，８ ：傾斜角度ｔａｎ
θ−０，５の斜線パターン（斜線の中心部分） 斜線パターンＰ２−Ｎｏ、１，２：傾斜角度ｔａｎθ−
２の斜線パターン（斜線の末端部分） 斜線パターンＰ３−Ｎｏ、１，２：傾斜角度ｔａｎθ＝
０．５の斜線パターン（斜線の末端部分）を意味する。
、１，２ ：傾斜角度ｔａｎθ−１（θ−４５°）斜線
パターンＰｉ−Ｎｏ、３，４：直角部分に相当する斜線
パターン 斜線パターンＰｉ−Ｎｏ、５，６ ：傾斜角度ｔａｎθ
＝２の斜線パターン（斜線の中心部分） 斜線ノ（ターンＰＬ−Ｎｏ、７，８ ：傾斜角度ｔａｎ
θ−０，５の斜線パターン（斜線の中心部分） 斜線パターンＰ２−Ｎｏ、１，２：傾斜角度ｔａｎθ−
２の斜線パターン（斜線の末端部分） 斜線パターンＰ３−Ｎｏ、１，２：傾斜角度ｔａｎθ＝
０．５の斜線パターン（斜線の末端部分）を意味する。
制御部１１３は第２２図及び第２３図に示すように、前
記斜線パターン検知用論理回路１１２から出力された各
区分領域毎の斜線パターン及び傾斜角度に基づいて各分
割領域の境界が前述した■、■の直線方程式により定め
られる各分割領域に分割し、現時点の変換画素が位置す
る当該分割領域Ｇ□〜Ｇ１□を判定するものである。
記斜線パターン検知用論理回路１１２から出力された各
区分領域毎の斜線パターン及び傾斜角度に基づいて各分
割領域の境界が前述した■、■の直線方程式により定め
られる各分割領域に分割し、現時点の変換画素が位置す
る当該分割領域Ｇ□〜Ｇ１□を判定するものである。
また、前記変換画素濃度決定用論理回路１１４は当該各
分割領域に対応する表３に記載した論理式に基づいて当
該変換画素の濃度の算出を行うものである。
分割領域に対応する表３に記載した論理式に基づいて当
該変換画素の濃度の算出を行うものである。
以下に本実施例に係る画像拡大装置の動作を説明する。
本装置により画像の拡大対象となる原画像が格納されて
いる前記二次元メモリ１１０に対して前記制御部１１３
は一定語長単位（例えば４ビツト）毎にアクセス指令を
行う。
いる前記二次元メモリ１１０に対して前記制御部１１３
は一定語長単位（例えば４ビツト）毎にアクセス指令を
行う。
現時点の変換画素の近傍に位置する読み出された３ライ
ン分の被変換画素群は順次シリアルに１画素ずつライン
毎に前記被変換画素入力手段１１１としてのシフトレジ
スタ１ｌｌａ、ｃ。
ン分の被変換画素群は順次シリアルに１画素ずつライン
毎に前記被変換画素入力手段１１１としてのシフトレジ
スタ１ｌｌａ、ｃ。
ｅに順次入力させ、前記制御部１１３は所定のタイミン
グで各画素をシフトレジスタｌｌｂ、ｄ。
グで各画素をシフトレジスタｌｌｂ、ｄ。
ｆに移動させパラレルに前記斜線パターン検知用論理回
路１１２に入力させる。
路１１２に入力させる。
一方、前記制御部１１３は前記変換倍率ｐ、ｑに基づい
て現時点の変換画素が位置する前記四等区分領域旧〜Ｒ
４を指定するとともに、２ビツトの信号により前記斜線
パターン検知用論理回路１１２に送出する。
て現時点の変換画素が位置する前記四等区分領域旧〜Ｒ
４を指定するとともに、２ビツトの信号により前記斜線
パターン検知用論理回路１１２に送出する。
すなわち、例えば第２０図に示すように希望する変換倍
率ｐ、ｑより定まる現時点の変換画素γは前記四等区分
領域Ｒ１に位置するので、当該制御部１１３は前記斜線
パターン検知用論理回路１１２に対して２ビツトの信号
でＲ１を表示する信号を送出する。
率ｐ、ｑより定まる現時点の変換画素γは前記四等区分
領域Ｒ１に位置するので、当該制御部１１３は前記斜線
パターン検知用論理回路１１２に対して２ビツトの信号
でＲ１を表示する信号を送出する。
すると、斜線パターン検知用論理回路１１２は当該変換
画素が位置する当該四等区分領域毎の斜線パターンに対
応させて第２２．２３図に示すような境界線で各分割領
域に分割して、当該変換画素が位置する分割領域を０１
〜Ｇ１□を判定して変換画素濃度決定用論理回路１１４
に４ビツトの信号で出力する。
画素が位置する当該四等区分領域毎の斜線パターンに対
応させて第２２．２３図に示すような境界線で各分割領
域に分割して、当該変換画素が位置する分割領域を０１
〜Ｇ１□を判定して変換画素濃度決定用論理回路１１４
に４ビツトの信号で出力する。
当該変換画素濃度決定用論理回路１１４は当該分割に応
じて表３から変換画素の濃度を算出して出力する。
じて表３から変換画素の濃度を算出して出力する。
こうして、本実施例によると、最初に四等区分領域の指
定を行うことにより９個の被変換画素に限定して斜線パ
ターンを検知することができることになる。
定を行うことにより９個の被変換画素に限定して斜線パ
ターンを検知することができることになる。
各分割領域の境界線を一義的に定めることができるため
、領域に分割及び判定を高速に行うことができる。
、領域に分割及び判定を高速に行うことができる。
尚、従来では１２画素または１６６画素４ライン分のデ
ータ）の被変換画素を参照する必要があった。
ータ）の被変換画素を参照する必要があった。
以上説明したように本発明では原画像の拡大については
、予め定めた斜線パターン及び傾斜角度を検知すること
により、当該斜線パターン及び傾斜角度に基づいて各分
割領域の境界線を定めるようにしている。
、予め定めた斜線パターン及び傾斜角度を検知すること
により、当該斜線パターン及び傾斜角度に基づいて各分
割領域の境界線を定めるようにしている。
したがって、当該境界線の形状により大きく影響される
斜線を、当該境界線を斜線の傾斜に合わせて設定するこ
とにより自然に平滑化された斜線を有する変換画像を高
速に得ることができるので、信頼性の高い画像拡大装置
及び方法を提供することができる。
斜線を、当該境界線を斜線の傾斜に合わせて設定するこ
とにより自然に平滑化された斜線を有する変換画像を高
速に得ることができるので、信頼性の高い画像拡大装置
及び方法を提供することができる。
第１図は第一の発明の原理ブロック図、第２図は第二の
発明の原理流れ図、第３図は第三の発明の原理ブロック
図、第４図は第四の発明の原理流れ図、第５図は第一の
実施例に係る画像拡大装置を示す回路図、第６図は第一
の実施例に係る分割領域（２＞ ｔａｎθ〉１の斜線パ
ターン）を示す図、第７図は第一の実施例に係る分割領
域（１＞ ｔａｎθ〉０．５の斜線パターン）を示す図
、第８図は第一の実施例に係る分割領域（ｔａｎθ−１
の斜線パターン及び他のパターン）を示す図、第９図は
第一の実施例に係る分割領域（ｔａｎθ−２の斜線パタ
ーン）を示す図、第１０図は第一の実施例に係る分割領
域（ｔａｎθ＝０．５の斜線パターン）を示す図、第１
１図は第一の実施例に係る分割領域（ｔａｎθ−１の斜
線パターン）を示す図、第１２図は第一の実施例に係る
斜線パターンを示す図、第１３図は第一の実施例におい
て参照する１６の被変換画素を示す図、第１４図は１７
図（Ｃ）の場合の判定結果（３倍拡大）を示す図、第１
５図は投影法の原理を示す説明図、第１６図は高速投影
法の分割領域を示す図、第１７図は第一の実施例に係る
斜線パターンの３倍拡大例を示す図、第１８図は従来例
に係る斜線パターンの３倍拡大例を示す図、第１９図は
第二の実施例に係る画像拡大装置を示す回路図、第２０
図は第二の実施例において参照する１６の被変換画素と
口答区分領域を示す図、第２１図は第二の実施例に係る
斜線パターンを示す図、第２２図は第二の実施例に係る
斜線パターンに対応する分割領域の境界線を示す図（１
）、第２３図は第二の実施例に係る斜線パターンに対応
する分割領域の境界線を示す図（２）、第２４図は従来
例に係るブロック図である。 １・・・被変換画素入力手段 ２．３２・・・斜線パターン検知手段 ３．３３・・・領域分割判定手段 ４・・・変換画素濃度算出手段 ３５・・・区分領域指定手段 第一の発明の原理ブロック図 第 １！！１ 第二の発明の原理流れ図 第２図 第四の発明の原理流れ図 第４図 第−の実施例において参照する１６の被変換画素を示す
図第１３図 第１７図（Ｃ）の場合の領域判定結果（３倍拡大）を示
す１第１４図 投影法の原理を示す説明図 第１５１！１ 高速投影法の分割領域を示す図 第１６ ｍ （ａｌ ｊａｎθ冒ｌの斜線パターン （ｂ）ｔａｎθ■２の斜線パターン 第一の実施例に係る斜線パターンの３倍拡大例を示す２
第１７図 （ａｌｔａｎｉｌ雪１の斜線パターン （ｂ）ｔａｎθ震２の斜線パターン 従来例に係る斜線パターンの３倍拡大例を示す区第１８
図 第二の実施例において参照する１６の被変換画素と口答
区分領域を示す７第２０図 第二の実施例に係る斜線パターンに対応する分割領域の
境界線を示す口（１）第二の実施例に係る斜線パターン
に対応する分割領域の境界線を示す図（２）従来例に係
るブロック図 第２４図
発明の原理流れ図、第３図は第三の発明の原理ブロック
図、第４図は第四の発明の原理流れ図、第５図は第一の
実施例に係る画像拡大装置を示す回路図、第６図は第一
の実施例に係る分割領域（２＞ ｔａｎθ〉１の斜線パ
ターン）を示す図、第７図は第一の実施例に係る分割領
域（１＞ ｔａｎθ〉０．５の斜線パターン）を示す図
、第８図は第一の実施例に係る分割領域（ｔａｎθ−１
の斜線パターン及び他のパターン）を示す図、第９図は
第一の実施例に係る分割領域（ｔａｎθ−２の斜線パタ
ーン）を示す図、第１０図は第一の実施例に係る分割領
域（ｔａｎθ＝０．５の斜線パターン）を示す図、第１
１図は第一の実施例に係る分割領域（ｔａｎθ−１の斜
線パターン）を示す図、第１２図は第一の実施例に係る
斜線パターンを示す図、第１３図は第一の実施例におい
て参照する１６の被変換画素を示す図、第１４図は１７
図（Ｃ）の場合の判定結果（３倍拡大）を示す図、第１
５図は投影法の原理を示す説明図、第１６図は高速投影
法の分割領域を示す図、第１７図は第一の実施例に係る
斜線パターンの３倍拡大例を示す図、第１８図は従来例
に係る斜線パターンの３倍拡大例を示す図、第１９図は
第二の実施例に係る画像拡大装置を示す回路図、第２０
図は第二の実施例において参照する１６の被変換画素と
口答区分領域を示す図、第２１図は第二の実施例に係る
斜線パターンを示す図、第２２図は第二の実施例に係る
斜線パターンに対応する分割領域の境界線を示す図（１
）、第２３図は第二の実施例に係る斜線パターンに対応
する分割領域の境界線を示す図（２）、第２４図は従来
例に係るブロック図である。 １・・・被変換画素入力手段 ２．３２・・・斜線パターン検知手段 ３．３３・・・領域分割判定手段 ４・・・変換画素濃度算出手段 ３５・・・区分領域指定手段 第一の発明の原理ブロック図 第 １！！１ 第二の発明の原理流れ図 第２図 第四の発明の原理流れ図 第４図 第−の実施例において参照する１６の被変換画素を示す
図第１３図 第１７図（Ｃ）の場合の領域判定結果（３倍拡大）を示
す１第１４図 投影法の原理を示す説明図 第１５１！１ 高速投影法の分割領域を示す図 第１６ ｍ （ａｌ ｊａｎθ冒ｌの斜線パターン （ｂ）ｔａｎθ■２の斜線パターン 第一の実施例に係る斜線パターンの３倍拡大例を示す２
第１７図 （ａｌｔａｎｉｌ雪１の斜線パターン （ｂ）ｔａｎθ震２の斜線パターン 従来例に係る斜線パターンの３倍拡大例を示す区第１８
図 第二の実施例において参照する１６の被変換画素と口答
区分領域を示す７第２０図 第二の実施例に係る斜線パターンに対応する分割領域の
境界線を示す口（１）第二の実施例に係る斜線パターン
に対応する分割領域の境界線を示す図（２）従来例に係
るブロック図 第２４図
Claims (4)
- （１）被変換画素が配列された平面上に、希望する変換
倍率に応じて投影法により定まる分割領域を設定し、当
該平面上に投影された変換画素が位置する分割領域に対
応する論理式に従って近傍被変換画素の濃度から各変換
画素の濃度を決定する画像拡大装置において、 変換画素の近傍に位置する所定の被変換画素群の濃度デ
ータを順次入力する被変換画素入力手段（１）と、 当該被変換画素群の濃度データにより形成される所定の
傾斜角度を有する斜線パターン及びその傾斜角度を検知
する斜線パターン検知手段（２）と、 少なくとも当該斜線パターン及び傾斜角度に基づいて対
応する分割領域に分割するとともに、前記変換倍率に基
づいて前記変換画素が位置する当該分割領域を判定する
領域分割判定手段（３）と、 判定された当該分割領域及び前記被変換画素の濃度デー
タに基づいて変換画素の濃度を算出する変換画素濃度算
出手段（４）とを有することを特徴とする画像拡大装置
。 - （２）被変換画素が配列された平面上に、希望する変換
倍率に応じて投影法により定まる分割領域を設定し、当
該平面上に投影された変換画素が位置する分割領域に対
応する論理式に従って近傍被変換画素の濃度から変換画
素の濃度を決定する画像拡大方法において、 前記変換画素の近傍に位置する所定の被変 換画素群の濃度データを順次入力する過程 （Ｓ１）と、 当該被変換画素群の濃度データにより形成される所定の
傾斜角度を有する斜線パターン及びその傾斜角度を検知
する過程（Ｓ２）と、 少なくとも当該斜線パターン及び傾斜角度に基づいて分
割領域に分割するとともに、前記変換倍率に基づいて前
記変換画素が位置する当該分割領域の判定を行う過程（
Ｓ３）と、 判定された当該分割領域及び前記被変換画素の濃度デー
タに基づいて前記変換画素の濃度を算出する過程（Ｓ４
）とを有することを特徴とする画像拡大方法。 - （３）被変換画素が配列された平面上に、希望する変換
倍率に応じて投影法により定まる分割領域を設定し、当
該平面上に投影された変換画素が位置する分割領域に対
応する論理式に従って近傍被変換画素の濃度から各変換
画素の濃度を決定する画像拡大装置において、 変換画素の近傍に位置する所定の被変換画素群の濃度デ
ータを順次入力する被変換画素入力手段（１）と、 前記変換倍率に基づいて定まる前記平面上における前記
変換画素が位置する所定の区分領域を指定する区分領域
指定手段（３５）と、 指定された当該領域に基づいて前記被変換画素群の濃度
データにより形成される所定の傾斜角度を有する斜線パ
ターン及びその傾斜角度を検知する斜線パターン検知手
段（３２）と、少なくとも当該斜線パターン及び傾斜角
度に基づいて対応する分割領域に分割するとともに、前
記変換倍率に基づいて前記変換画素が位置する当該分割
領域を判定する領域分割判定手段（３３）と、 判定された当該分割領域及び前記被変換画素の濃度デー
タに基づいて変換画素の濃度を算出する変換画素濃度算
出手段（４）とを有することを特徴とする画像拡大装置
。 - （４）被変換画素が配列された平面上に、希望する変換
倍率に応じて投影法により定まる分割領域を設定し、当
該平面上に投影された変換画素が位置する分割領域に対
応する論理式に従って近傍被変換画素の濃度から変換画
素の濃度を決定する画像拡大方法において、 前記変換画素の近傍に位置する所定の被変 換画素群の濃度データを順次入力する過程 （Ｓ１）と、 前記変換倍率に基づいて定まる前記平面上における前記
変換画素が位置する所定の区分領域を指定する過程（Ｓ
３２）と、 当該区分領域に基づいて当該被変換画素群の濃度データ
により形成される所定の傾斜角度を有する斜線パターン
及びその傾斜角度を検知する過程（Ｓ３３）と、 少なくとも当該斜線パターン及び傾斜角度に基づいて分
割領域に分割するとともに、前記変換倍率に基づいて前
記変換画素が位置する当該分割領域の判定を行う過程（
Ｓ３４）と、 判定された当該分割領域及び前記被変換画素の濃度デー
タに基づいて前記変換画素の濃度を算出する過程（Ｓ４
）とを有する構成である。
Priority Applications (6)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63084055A JP2613080B2 (ja) | 1988-04-07 | 1988-04-07 | 画像拡大装置及び方法 |
| CA000595654A CA1335794C (en) | 1988-04-07 | 1989-04-04 | Process and apparatus for image magnification |
| KR1019890004581A KR920001801B1 (ko) | 1988-04-07 | 1989-04-07 | 화상확대방법 및 장치 |
| DE68926890T DE68926890T2 (de) | 1988-04-07 | 1989-04-07 | Bildvergrösserung |
| EP89303461A EP0336776B1 (en) | 1988-04-07 | 1989-04-07 | Image magnification |
| US08/332,442 US5511137A (en) | 1988-04-07 | 1994-10-31 | Process and apparatus for image magnification |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63084055A JP2613080B2 (ja) | 1988-04-07 | 1988-04-07 | 画像拡大装置及び方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01256869A true JPH01256869A (ja) | 1989-10-13 |
| JP2613080B2 JP2613080B2 (ja) | 1997-05-21 |
Family
ID=13819812
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63084055A Expired - Lifetime JP2613080B2 (ja) | 1988-04-07 | 1988-04-07 | 画像拡大装置及び方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2613080B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0263267A (ja) * | 1988-08-30 | 1990-03-02 | Fujitsu Ltd | 画像拡大装置及び方法 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6138981A (ja) * | 1984-07-31 | 1986-02-25 | キヤノン株式会社 | パタ−ン変倍方法 |
-
1988
- 1988-04-07 JP JP63084055A patent/JP2613080B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6138981A (ja) * | 1984-07-31 | 1986-02-25 | キヤノン株式会社 | パタ−ン変倍方法 |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0263267A (ja) * | 1988-08-30 | 1990-03-02 | Fujitsu Ltd | 画像拡大装置及び方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2613080B2 (ja) | 1997-05-21 |
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