JPH0263268A - 画像縮小装置及び方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （目次） 概要 産業上の利用分野 技術の背景（第１２．１３．１４図） 従来の技術（第１１．１４図） 発明が解決しようとする課題（第１，２図）課題を解決
するための手段（第１，２図）作用（第１，２図） 実施例（第３〜１０図） 発明の効果 〔概要〕 被変換画素が配列された平面上に、縮小率に応じて分割
領域を設定し、当該平面上に投影された変換画素が位置
する分割領域に対応する論理式に従い近傍被変換画素の
濃度から各変換画素の濃度を決定する画素縮小装置及び
方法に関し、細線の消失をしないように変換を行う画像
縮小装置及び方法を提供することを目的とし、前記平面
上に設定され、縮小率に基づいて定められる区分領域の
うち前記変換画素が位置する区分領域を順次指定し、区
分領域に基づいて変換画素の近傍に位置する所定の被変
換画素群の濃度データを順次入力し、区分領域及び縮小
率に基づいて被変換画素群の中から縮小により間引かれ
る細線上の間引き対象画素を検知する為に必要な間引き
データを発生し、縮小率に基づいて変換画素が位置する
分割領域を判定し、間引きデータ、分割領域、被変換画
素の濃度データ及び区分領域に基づいて間引き対象か否
かを検知して変換画素の濃度を算出する構成である。

〔産業上の利用分野〕

本発明は、Ｇ４ファクシミリから０３フアクシミリへの
変換にみられるような高密度から低密度への画素解像度
変換、又は画像編集処理における画像縮小装置及び方法
に係り、特に被変換画素が配列された平面上に、希望す
る縮小率に応じて分割領域を設定し、当該平面上に投影
された変換画素が位置する分割領域に対応する論理式に
従い近傍被変換画素の濃度から各変換画素の濃度を決定
する画素縮小装置及び方法に関する。

〔技術の背景〕

従来、画像の縮小を行う場合にＳ　Ｐ　Ｃ（Ｓｅｌｅｃ
ｔｉｖｅ　Ｐｒｏｃｅｓｓｉｎｇ　Ｃｏｎｖｅｒｓｉｏ
ｎ）法、論理和法、九分割法、高速投影法（特開昭５８
−９７９５８）等が提案されており、いずれも変換画素
の近傍の被変換画素４画素から変換画素の濃度を求める
方法である。

Ｓ２Ｏ法では、縮小時に画像が細る傾向にあり、白、黒
画素の抜け（欠落）が目立つ。

また、論理和法、九分割法では画像が太り、黒画素によ
る潰れが増える欠点を持っている。

一方、高速投影法は白、黒画素の抜けや潰れが少ない方
法として知られている。高速投影法とは、変換画素の濃
度を決定する際の算術演算を論理演算に替えて高速処理
を実現したものである。

高速投影法は、第１４図に示すように被変換画素の平面
内に変換倍率に応じた分割領域を設定し、当該分割領域
内に被変換画素から変換画素の濃度を決定する為の論理
式を予め用意し、当該変換が位置する前記分割領域に割
り当てられた論理式に基づいて変換画素の濃度を求めよ
うとしていた。

第１２図に投影法の原理を示す。同図に示すように先ず
所定の変換画素の近傍４画素Ａ、Ｂ。

Ｃ，Ｄを含む被変換画素を４等分する。近傍４画素の画
素濃度をＩ、、１．、ＩＣ，Ｉ。とじ、変換画素Ｒを被
変換画素面に投影した際に前記４等分領域に投影される
面積比率をＷＡ、Ｗａ、Ｗｃ、Ｗｎとする。

投影法では、変換画素Ｒの濃度をＩＲ＝Σｉｆ＊　ｗ。

ｉ＊Ａ、Ｂ、Ｃ，Ｄとして二値化するのでＩＲ≧０．５
　→　ＩＲ−１（黒’）　、　　１．＜０．５→　ＩＲ
＝０（白） のようになる。尚、第１２図中のｐ、ｑはＸ軸、Ｙ軸方
向の変換縮小倍率である。

更に当該投影法では変換画素Ｒの濃度を求めるのに算術
が必要な為、高速処理が出来ない。そこで、高速投影法
では、その算術演算を論理演算に置き変えて高速化を図
っている。第１３図の曲線は４画素中の１画素のみで変
換画素Ｒの濃度が決定できる境界を示している。例えば
、Ｇ３と０７を分ける曲線は次式で与えられる。

（ｐ　Ｘ　＋０．５　）　　（ｑ　Ｙ　＋０．５　）　
＝　０．５従って、表１に示すように領域Ｇ□〜Ｇうで
は１画素のみ、領域Ｇ、〜Ｇ８では他の３画素との結合
を考慮した論理式となっている。

表１．高速投影法の論理式 〔従来の技術〕 従来以上の高速投影法を用いて画像の縮小を行う場合に
は、第１１図に示すように変換画素の近傍に位置する被
変換画素群の各濃度データを順次入力する被変換画素入
力手段２１と、希望する縮小率に基づいて変換画素がど
の領域に属するかを判定する分割領域判定手段２４と、
被変換画素人古手段２１が入力した前記被変換画素群の
濃度データ及び各変換画素が属する分割領域に基づいて
変換画素の濃度を算出する変換画素濃度算出手段２５と
を有する画像縮小装置を用いて画像の縮小を行っていた
。

〔発明が解決しようとする課題〕

ところで、ｓｐｃ法や高速投影法等の従来方法による画
像縮小装置では、縮小時において、Ｘ軸方向に対して垂
直な線幅１／ｐ　　（ｐはＸ軸方向の縮小率）未満の縦
線、Ｙ軸方向に対して垂直な線幅１／ｑ（ｑはＹ軸方向
の縮小率）未満の横線を消失する問題を有していた。

第１４図にＸ軸、Ｙ軸共に２７３に縮小する場合の被変
換画素と変換画素との位置関係を示す。被変換画素Ｓｉ
ｔ〜Ｓ３３に対して変換画素Ｒ１１゜Ｒ１□、Ｒ２０，
Ｒ２２が位置する領域は各々Ｇ５゜Ｇ６．Ｇ、、Ｇ８と
なる。従って、変換画素Ｒ１１の値は表４の論理式、即
ちＡｔ（Ｂ＋Ｃ＋Ｄ）十Ｂｔ　Ｃ木りから“０″となる
。以下、変換画素Ｒ，２，Ｒ２，、Ｒ２□についても同
様に“０°′となる為、被変換画素Ｓ１□→Ｓ２□→Ｓ
３２又はＳ２１→Ｓ２□→Ｓ２３に線幅１の白黒パター
ンが現れた場合に、変換画素には上記の細線パターンが
表現されずに間引かれた形となるという問題点を有して
いた。

また、高速投影法では、領域分割において四等分割の他
に式■を境界とする分割を行わなければならず、乗算３
回、加算２回、比較１回の演算を必要とし、回路規模が
大きくなる欠点をもっていた。

本発明は以上の問題点を解決することを技術的課題とす
るものであり、領域分割を簡単にするとともに縮小率に
応じて間引きの対象となる（細線消失の可能性のある）
被変換画素を検知して、細線を再現する画像縮小装置及
び方法を提供することを目的としたものである。

（課題を解決するだめの手段） 本発明は以上の技術的課題を解決するため、第一の発明
は第１図に示すように、被変換画素が配列された平面上
に、希望する縮小率に応じて分割領域を設定し、当該平
面上に投影された変換画素か位置する分割領域に対応す
る論理式に従い近傍被変換画素の濃度から各変換画素の
濃度を決定する画素縮小装置において、 前記平面上に設定され、縮小率に基づいて定められる区
分領域のうち前記変換画素が位置する区分領域を順次指
定する区分領域指定手段２と、当該区分領域に基づいて
変換画素の近傍に位置する所定の被変換画素群の濃度デ
ータを順次入力する被変換画素入力手段１と、前記区分
領域及び縮小率に基づいて被変換画素群の中から縮小に
より間引かれる細線上の間引き対象画素を検知する為に
必要な間引きデータの発生を行う間引きデータ発生手段
３と、前記縮小率に基づいて変換画素が位置する分割領
域を判定する分割領域判定手段４と、間引きデータ、分
割領域、被変換画素の濃度データ及び区分領域に基づい
て間引き対象か否かを検知して変換画素の濃度を算出す
る変換画素濃度算出手段５とを有するものである。

第二の発明は第２図に示すように、被変換画素が配列さ
れた平面上に、希望する縮小率に応じて分割領域を設定
し、当該平面上に投影された変換画素が位置する分割領
域に対応する論理式に従い近傍被変換画素の濃度から各
変換画素の濃度を決定する画素縮小方法において、 前記平面上に設定され、縮小率に基づいて定められる区
分領域のうち前記変換画素が位置する区分領域を順次指
定するとともに、当該区分領域に基づいて変換画素の近
傍に位置する所定の被変換画素群の濃度データを順次入
力する過程（Ｓ１）と、前記区分領域及び縮小率に基づ
いて被変換画素群の中から縮小により間引かれる細線上
の間引き対象画素を検知する為に必要な間引きデータを
発生する過程（Ｓ２）と、前記縮小率に基づいて変換画
素が位置する分割領域を判定する過程（Ｓ３）と、間引
きデータ、分割領域、被変換画素の濃度データ及び区分
領域に基づいて間引き対象か否かを検知して変換画素の
濃度を算出する過程（Ｓ４）とを有するものである。

〔作用〕

本発明の詳細な説明する。本発明により画像の縮小を行
なう場合には、現時点で濃度を定めようとする対象であ
る変換画素に対して、ステップＳ１において前記区分領
域指定手段２により縮小率（変換倍率）に基づいて被変
換画素の平面上に設定された区分領域のどれに変換画素
が位置するかを指定するとともに、変換画素の近傍に位
置する所定の被変換画素群の濃度データを順次被変換画
素入力手段１により入力する。

ここで、区分領域の指定を行うのは、後の細線パターン
検出処理に当たって、被変換画素群の中から必要な参照
画素だけを選択して、検出処理を行う際に必要とされる
被変換画素数の減少を図るためである。

ここで、「所定の」とは当該変換画素の濃度を定める際
に影響を与える被変換画素群であって、区分領域の指定
結果を利用することにより当該被変換画素群の個数が制
限され、処理が簡単化されることになる。

尚、ステップＳ１の被変換画素の入力の過程と区分領域
の指定の過程とは必ずしもこの順序に限られるものでは
なく、先に当該被変換画素入力手段１へ入力が行われた
後に、前記区分領域指定手段２により区分領域の指定が
行われ、当該区分領域に基づいて前記入力手段１から限
定された被変換画素が変換画素濃度算出手段５へ送出さ
れるようにしても良い。

ステップＳ２において、間引きデータ発生手段３は前記
区分領域及び縮小率に基づいて前記被変換画素が間引き
対象画素であるか否かを検知する為に必要な間引きデー
タを発生させる。

その際、当該区分領域についても間引きデータの一部と
して含める。

ここで、「間引き対象画素」とは被変換画素が前記縮小
重分の一未満の線幅を持つ細線（黒又は白画素が線状に
連続的に配列されたもの）を形成する場合に、従来のｓ
ｐｃ法や高速投影法によって縮小変換の際に消去されて
しまう被変換画素のことであり、間引きデータとは当該
被変換画素が間引き対象画素であるか否かの判断を行う
為に必要なデータであって、本来前記縮小率に基づいて
定められる。これはある被変換画素が間引かれるか否か
は、隣接する変換画素位置より定められるものであり、
当該変換画素位置は始点の座標を定めた後は、希望する
縮小率によって一義的に定めることができるからである
。

本発明では当該間引きデータを発生させる際に区分領域
を考慮に入れることにより間引きデータの発生を容易に
している。

ステップＳ３ては、分割領域判定手段４は前記縮小率に
基づいて現時点の変換画素がどの分割領域に位置するか
を判断する。

もし、実施例で示すように当該分割領域を前記区分領域
と同一の境界により分割したものとすると、分割領域の
判定が区分領域と同じ条件（論理）で行われることにな
り、判定がより容易なものになる。

さらに、ステップＳ４では、変換画素濃度算出手段５に
より前記間引きデータ、判定された当該変換画素が位置
する分割領域及び前記被変換画素群の濃度データに基づ
いて変換画素の濃度を算出することになり、以上の手順
は各変換画素毎に繰り返される。

すなわち、ステップＳ４では、前記間引きデータにより
前記変換画素内に間引き対象画素が存在すると判断され
た場合であっても、前記被変換画素群の濃度データから
当該間引き対象の画素が細線を形成しない場合には従来
と同様の方法で変換画素の濃度を決定するが、当該被変
換画素群の濃度データから縮小により間引かれることに
なる当該細線を消去させない為に、当該細線パターンを
変換画素の濃度に再現できるようにし、前記被変換画素
が間引き対象でない場合、又は間引き対象であっても細
線を形成しない場合には従来の方法に従って変換画素の
濃度を出力させるようにする。

〔実施例〕

本発明による実施例について説明する。

実施例に係る画像縮小装置を第３図に示す。

本装置はＸ軸及びＹ軸方向に細線消失を防止しながら画
像の縮小を行う装置であって、縮小率として１＜ｐ、ｑ
≦１／２に対応するものである。

尚、ｐはＸ軸方向の縮小率、ｑはＹ軸方向の縮小率であ
る。

本装置は被変換画素平面内に現時点の変換画素を投影さ
せた場合に当該変換画素の近傍に位置する被変換画素群
の各濃度データを順次入力する被変換画素入力手段１１
と、原画像の被変換画素の濃度データが格納されている
二次元画像メモリ１０とを有する。

さらに当該二次元画像メモリ１０に対するアクセス制御
、前記被変換画素入力手段１１に対する制御、前記区分
領域指定手段２、前記分割領域判定手段４及び前記間引
きデータ発生手段３として現時点の変換画素の位置情報
から区分領域の指定、分割領域の判定並びに間引きデー
タを発生させる制御部１２と、前記被変換画素濃度算出
手段５としての変換画素濃度決定用論理回路１５とを有
する。

被変換画素入力手段１１は第３図に示すように、６個の
シフトレジスタｌｌａ〜ｌｌｆを有している。シフトレ
ジスタｌｌａ、ｌｌｂは第１ライン目に存在する被変換
画素を保持するものである。同様に、シフトレジスタｌ
ｌｃ、ｌｉｄは第２ライン目、シフトレジスタ１１ｅ、
シフトレジスタｌｌｆは第３ライン目に存在する被変換
画素を保持するものである。

前記制御部１２は希望するＸ軸方向及びＹ軸方向に関す
る縮小率ｐ、ｑに基づいて現時点での変換画素が属する
前記分割領域の判定を行うと共に、当該変換画素の近傍
に位置する各被変換画素に間引き対象があるか否かを検
出する為に必要な間引きデータ発生及び現時点の変換画
素が位置する前記各区分領域の指定をするものである。

ここで、間引きデータとは第４図に示すように、Ｘ軸方
向に関しては直前の変換画素Ｒ１ｏの被変換画像平面内
での座標位置Ｘ。＞０．０　、現時点の変換画素Ｒ１□
の座標位置Ｘ□＞０．０　、次の変換画素Ｒ□２の座標
位置ｘ２＞０．０という条件を満たしているか否か及び
前記変換画素Ｒ工。からＲ１□に移行する際に通過する
被変換画素の数ｘｓｈｉｆｔｏ、変換画素Ｒ□、からＲ
１□に移行する際に通過する被変換画素の数ｘｓｈｉｆ
ｔｌの値を表示する１ビツト又は２ビツトのデータであ
り、Ｙ軸方向に関しては直前の変換画素Ｒ旧の被変換画
像平面内での座標位置ｙ。〉０．０．現時点の変換画素
Ｒ工、の座標位置ｙ工〉０．０１次の変換画素Ｒ２□の
座標位置ｙ２＞ｏ、ｏという条件を満たしているか否か
及び前記変換画素Ｒｏ工からＲ□１に移行する際に通過
する被変換画素の数ｙｓｉｆｔＯ，変換画素Ｒ１１から
Ｒ２□に移行する際に通過する被変換画素の数ｙｓｉｆ
ｔ０１の値を表示するデータである。

更に、本実施例においては前記区分領域として、現時点
の変換画素を囲む４個の被変換画素が形成する正方形の
領域を４個の正方形に四等分したもの（以下「四区分領
域」という）を使用し、前記変換画素がどの領域に位置
するかのデータをも間引きデータとして使用する。

尚、区分領域の指定を行うようにしたのは参照する被変
換画素の数をあまり増やさずに間引き対象の細線パター
ンを検知する為である。

即ち第５図、第６図に示すように変換画素が領域ｇ工＋
　ｇ　４に位置する場合にはｎ　、ｎ＋１．　ｎ＋２ラ
イン目のデータで足り、変換画素が領域ｇ２．ｇ３に位
置する場合にはｎ−１，ｎ　、ｎ＋１ライン目のデータ
を読み出すことで間引き対象のデータを検知することが
できる。

言い変えれば、変換画素が区分領域ｇ１．ｇｓに位置す
る場合、画素Ａ、Ｂ、Ｃ，Ｄ、Ｅ、Ｆ。

Ｉ、Ｊ、Ｌ、にの１０画素を参照し、変換画素が区分領
域ｇｔ　、ｇ３に位置する場合、画素Ａ。

Ｂ、Ｃ，Ｄ、Ｅ、Ｆ、Ｇ、Ｈ，Ｉ、Ｊの１０画素が参照
される。

以上のように、四区分領域の情報を利用して参照画素を
限定した形での間引き対象となる細線パターンを第７図
に示す。縮小率１＞ｐ、ｑ≧１／２に対応した細線パタ
ーンであり、線幅１のパターンが対象となる。また、第
７図の細線パターンは、表２の間引き検知条件に従って
間引き対象となるか否かを決定する。次に前記条件と被
変換画素の濃度及び前記分割領域に基づいて現時点の変
換画素の濃度を算出する。

表２−１．１＞ｐ、ｑ≧ｌ／ 表２−２．１＞ｐ、Ｑ≧１／２の場合の間引き対象の被
変換画素検知条件本実施例では分割領域を第８図に示す
ように、第４図の区分領域と同じ四区分領域を適用する
。

すなわち、ｇ□→Ｇ１　ｇ２→Ｇｚ、ｇ３→Ｇ３．ｇ＜
→Ｇ４この事により、区分領域指定、分割領域判定、間
引きデータ発生（一部分）が四区分領域の条件で全て実
現でき、大幅な処理の簡略化ができる。

前記変換画素濃度決定用論理回路１５は前記制御部１２
で判定された分割領域及び前記被変換画素入力手段１１
が入力した被変換画素の濃度に基づいて変換画素の濃度
を表３、表４に示すような論理式を使用することにより
算出する。表３は従来のＳｐＣ法に本発明を適用したも
の、表４は高速投影法（表１）の０５〜Ｇ８に対して本
発明を適用したものである。（表４を適用することによ
り、縮小率が１から離れるに従って、処理がより簡単な
形で高速投影法と同じ変換画素が得られる。） 表３１本実施例に係る論理式１ （１＞ｐ、ｑ≧１／２の場合） （ｔ＞ｐ、Ｑ≧１／２の場合） Ｐｌ・Ｙｌ車（パターンＮｏ、Ｉ）：第７図の細線パタ
ーン１に対応Ｐ２−Ｙｌ求（パターンＮｏ、２）　：　
ｆｆｓ　７　Ｕ２の細線パターン２に対応Ｐ３−Ｘ＋喧
パターンＮｏ、３）；第７図の細線パターン３に対応Ｐ
４・×１京（パターンＮｏ、４）；第７図の細線パター
ン４に対応Ｙに表２の条件より、パターンＮｏ、　ｌ　
、　２が対象となる場合＝１．他＝ＯＸ１＋表２の条件
より、パターンＮｏ、３．４が対象となる場合＝１．他
；０さて、本実施例に係る装置の動作について説明する
。

二次元画素メモリ１０に格納されている被変換画素を縮
小率ｐ　、　ｑ　＝　２／３で縮小する場合を例とする
。前記制御部１２は縮小変換の対象となる現画像が格納
されている前記二次元画像メモリ１０に対して、一定語
長単位毎（第３図では４ビツト／ワードとしている。）
に読み出して、各現時点の変換画素の近傍に位置する被
変換画素群の各濃度データを最大順次３ライン分を保持
する前記被変換画素入力手段１１の機能を果たすシフト
レジスタｌｌａ、ｌｌｃ、ｌｉｅに入力させる。

すなわち、第６図、第７図に示すように、現時点の変換
画素を被変換画素平面内の被変換画素Ａ、Ｂ、Ｃ，Ｄで
構成される格子内に投影する場合、各被変換画素Ａ−Ｌ
の各濃度データが各ライン（ｎ−１、ｎ　、　ｎ＋１　
、　ｎ＋２　）毎に前記各シフトレジスタｌｌａ、ｌｌ
ｃ、ｌｉｅにロードされるのである。

制御部１２は所定のタイミングで当該シフトレジスタｌ
ｌａ、ｌｌｃ、ｌｉｅに保持されている各被変換画素の
濃度データを前記シフトレジスタ１１ｂ、ｌｉｄ、ｌｌ
ｆに移動させ、前記論理回路１５に送出する。

その際、当該制御部１２は第５図に示されているように
現時点での変換画素の近傍に位置している４個の被変換
画素群によって形成される格子内を４区分された前記区
分領域としての各四区分領域ｇ□＋　ｇ２　ｒ　ｇ３　
！　ｇ４のいずれかに位置するかを判断して当該領域を
区別する２ビツトのデータを前記論理回路１５に送出す
る。このデータは、同時に分割領域の判定条件にもなる
。また、当該制御部１２では、所望される縮小率に従っ
て間引き対象となる細線を検出、保存する為に作成した
間引きデータ（表２参照）を前記論理演算回路１５に送
出する。尚、間引きデータをそのまま出すと、４ビツト
（ｘｓｈｉｆｔ、ｙｓｈｉｆｔ、ｘ：＞Ｏ，ｙ〉０の区
別）を必要とするので、第３図では、第７図に示した細
線対象パターンを区別する事で２ビツトに凝縮した形で
送出している。次に、論理演算回路１５では、当該制御
部１２により出力された前記四区分領域ｇ工〜ｇ４につ
いての情報、前記間引きデータ及び被変換画素群の濃度
データに基づいて間引き対象か否かを検知し、表３又は
表４の論理式に従って被変換画素の濃度を算出する。

以下、縮小率ｐ、ｑが共に２７３の場合について、 ■Ｘ軸に垂直な細線パターンが存在する場合、■Ｙ軸に
垂直な細線パターンが存在する場合に分けて説明する。

論理式は表４を用いている。

■　Ｘ軸に垂直な細線パターンが存在する場合第９図に
より、被変換画素Ｓ１□→ｓ２□→ｓ３□が１１１１１
　　（黒）で、他の被変換画素が全て０″（白）の場合
を考える。この場合、表２の条件、第７図の細線パター
ン及び表４の論理式が対応する。現時点の変換画素Ｒ１
１に対する周囲４画素Ａ、Ｂ、Ｃ，Ｄは各々５Ｈ２Ｓ□
２．Ｓ２□＋Ｓ２□である。変換画素Ｒ工□の位置は分
割領域Ｇ１に属し、ｘｓｈｉｆｔｌ＝１．ｙｓｈｉｆｔ
ｌ＝１゜Ｘ２）０．０．Ｙ２）０．０．から表２−１の
条件Ｇ□−４に対応する。よって対象となる細線パター
ンは、第７図のｇｌ−Ｎｏ、１−４である。そして上記
例の細線バターンはｇ□−Ｎｏ、３が現れたので表４の
論理式から“１゛′とする。同じく変換画素Ｒ１□では
、表２−２の条件Ｇ４−４より細線パターンｇ４−Ｎｏ
、’）が細線パターンとなる。しかし、Ｓ工２．Ｓ２□
に存在する細線パターンは既に画素Ｒ工、で表現してい
るので、画素Ｒ□□の濃度は対象となる細線とは認めず
“０パとなる。以上の過程は、画素Ｒ２□、Ｒ２２につ
いても同様である。

また、逆に被変換画素Ｓ１２→Ｓ２□→Ｓ３□が“０”
（白）で、他の被変換画素が全て“１゛（黒）の場合、
変換画素Ｒ□□に対しては、条件Ｇ１−４より細線パタ
ーンｇ　１−Ｎｏ、４が該当する。

従って変換画素Ｒ１□の濃度は表４の論理式から“０″
とする。変換画素Ｒ０２の濃度は前例と同様に細線パタ
ーンと見做さず、１゛となる。

以上の過程は、画素Ｒ，，，Ｒ２□についても同様であ
る。

■　Ｙ軸に垂直な細線パターンが存在する場合第９図に
より、被変換画素Ｓ２□→Ｓ２□→５２３ＩＩ　１１１
　　（黒）で、他の被変換画素が全て“０”（白）の場
合を考える。この場合、表２の条件、第７図の細線パタ
ーン及び表４の論理式が対応する。現時点の変換画素Ｒ
１１に対する周囲４画素Ａ、Ｂ、Ｃ，Ｄは各々Ｓ□４．
Ｓ□２゜Ｓ２□＋Ｓ２□である。変換画素Ｒ０□の位置
は分割領域Ｇ、に属し、ｘｓｈｆｆｔｌ＝１．ｙｓｈｉ
ｆｔｌ＝１．Ｘ２）０．０．Ｙ２）０．０．から表２−
１の条件Ｇ４−４に対応する。よって対象となる細線パ
ターンは、第７図のｇ□−Ｎｏ、１−４である。そして
上記例の細線パターンはｇ　１−Ｎｏ、１になる。従っ
て、変換画素Ｒ□１の濃度は細線パターンはｇ、−Ｎｏ
、１が現れたので表４の論理式から“１′′とする。同
じく変換画素Ｒ１２では、表２−２の条件Ｇ４−４に相
当し、第７図のｇ　４−Ｎｏ、１が細線パターンとなる
。しかし、Ｓ１２．Ｓ２２に存在する細線パターンは既
に画素Ｒ１□で表現しているので、画素Ｒ１□の濃度は
対象となる細線とは認めず“０”′となる。以上の過程
は、画素Ｒ２，、Ｒ２□についても同様である。

また、逆に被変換画素Ｓ２１→Ｓ２□→Ｓ２３が“０°
゛で、他の被変換画素が全て“１″（黒）の場合、変換
画素Ｒ工、に対しては、条件Ｇニー４より細線パターン
ｇ　、−Ｎｏ、２が該当する。従って変換画素Ｒ１□の
濃度は表４の論理式から“０”′とする。変換画素Ｒ工
。の濃度は前例と同様に細線パターンと見做さず、“１
゛′となる。以上の過程は、画素Ｒ２，、Ｒ２□につい
ても同様である。

以上本実施例によれば、四区分領域という簡単な領域分
割処理で、且つ白または黒の細線パターンを同じ条件で
然も逆に線巾な太らすこともなく、少ない被変換画素（
８画素）を参照することで変換画像に細線を再現するこ
とができる。

また、第１０図に示すように、所望の縮小率が１＞ｐ　
、ｑ≧１／ｎ　　（ｎ　＝２″Ｉ、ｍ＝ｏ、１，２．・
・・）の場合、縮小率１／２を指定した（　ｍ−１）個
の本実施例に係る回路を直列に多段に接続し、かつ縮小
率２１１１−１＊ｐ、　２ＦＴ１−１＊ｑを指定した本
実施例に係る回路を接続して実現するか、又は同じ回路
でループさせる事により１７２以下の倍率についても同
じ回路構成で実現できる。

さらに、本実施例では分割領域を区分領域と同一の境界
により分割しているため、分割領域の判定が区分領域と
同じ条件（論理）で行われることになり、判定がより容
易なものとなって、処理を高速に行うことができる。

〔発明の効果〕

以上説明したように本発明では現画像の縮小により間引
かれる事になる線巾が縮小重分の一未満の細線パターン
を持つ被変換画素を検知する為に必要な被変換画素群及
び間引きデータを区分領域に基いて入力及び発生させる
とともに、変換画素濃度算出手段で変換画素の算出を行
う場合にも当該区分領域を利用して自動的に変換画素の
細線パターンの再現を行うようにしている。

これによって、細線情報を保存した形で信頼性のある縮
小画像を簡単な回路構成で高速に得る事ができる。

【図面の簡単な説明】

第１図は第一の発明の原理ブロック図、第２図は第二の
発明の原理流れ図、第３図は実施例に係る画像縮小装置
の回路ブロック図、第４図は実施例に係る間引き対象の
被変換画素を検知するために必要な間引きデータの説明
図、第５図は四区分領域を示す図、第６図は実施例に係
る縮小率１〉ｐ、ｑ≧１７２の場合の参照画素を示す図
、第７図は実施例に係る縮小率１）ｐ　Ｉ　ｑ≧１７２
の場合の細線パターンを示す図、第８図は実施例に係る
分割領域を示す図、第９図は実施例に係る縮小率２／３
の場合の変換画素と被変換画素の位置関係を示す図、第
１０図は実施例に係る縮小率１）ｐ　、　ｑ≧１／ｎの
場合のブロック図、第１１図は従来例に係るブロック図
、第１２図は投影法の原理を示す図、第１３図は高速投
影法の分割領域を示す図、第１４図は高速投影法に係る
縮小率２／３の場合の変換画素と被変換画素の位置関係
を示す図である。 １．１１・・・被変換画素入力手段 ２（１２）・・・区分領域指定手段（制御部）３（１２
）・・・間引きデータ発生手段（制御部） ４（１２）・・・分割領域判定手段（制御部）５（１５
）・・・変換画素濃度算出手段（変換画素濃度決定用論
理回路）

Claims (6)

【特許請求の範囲】
1. （１）被変換画素が配列された平面上に、希望する縮小
   率に応じて分割領域を設定し、当該平面上に投影された
   変換画素が位置する分割領域に対応する論理式に従い近
   傍被変換画素の濃度から各変換画素の濃度を決定する画
   像縮小装置において、前記平面上に設定され、縮小率に
   基づいて定められる区分領域のうち前記変換画素が位置
   する区分領域を順次指定する区分領域指定手段（２）と
   、 区分領域に基づいて変換画素の近傍に位置する所定の被
   変換画素群の濃度データを順次入力する被変換画素入力
   手段（１）と、 前記区分領域及び縮小率に基づいて被変換画素群の中か
   ら縮小により間引かれる細線上の間引き対象画素を検知
   する為に必要な間引きデータの発生を行う間引きデータ
   発生手段（３）と、 前記縮小率に基づいて変換画素が位置する分割領域を判
   定する分割領域判定手段（４）と、間引きデータ、分割
   領域、被変換画素の濃度データ及び区分領域に基づいて
   間引き対象か否かを検知して変換画素の濃度を算出する
   変換画素濃度算出手段（５）とを有することを特徴とす
   る画像縮小装置。
2. （２）被変換画素が配列された平面上に、希望する縮小
   率に応じて分割領域を設定し、当該平面上に投影された
   変換画素が位置する分割領域に対応する論理式に従い近
   傍被変換画素の濃度から各変換画素の濃度を決定する画
   素縮小方法において、前記平面上に設定され、縮小率に
   基づいて定められる区分領域のうち前記変換画素が位置
   する区分領域を順次指定するとともに、当該区分領域に
   基づいて変換画素の近傍に位置する所定の被変換画素群
   の濃度データを順次入力する過程（Ｓ１）と、 前記区分領域及び縮小率に基づいて被変換画素群の中か
   ら縮小により間引かれる細線上の間引き対象画素を検知
   する為に必要な間引きデータを発生する過程（Ｓ２）と
   、 前記縮小率に基づいて変換画素が位置する分割領域を判
   定する過程（Ｓ３）と、 間引きデータ、分割領域、被変換画素の濃度データ及び
   区分領域に基づいて間引き対象か否かを検知して変換画
   素の濃度を算出する過程（Ｓ４）とを有することを特徴
   とする画像縮小方法。
3. （３）前記間引きデータ発生手段（３）として、変換画
   素を取り囲む被変換画素４画素を基準とする座標面とし
   て横軸をＸ軸、縦軸をＹ軸とした場合に、 Ｘ軸方向について、被変換画素面上での直前の変換画素
   の位置座標ｘ＿０、現時点の変換画素の位置座標ｘ＿１
   、次の変換画素の位置座標ｘ＿２により、ｘ＿０＞座標
   基準値、ｘ＿１＞座標基準値、ｘ＿２＞座標基準値の不
   等式の真偽及び前記直前と現時点での変換画素との間に
   存在する被変換画素数もしくは前記時点での変換画素と
   次の変換画素との間に存在する被変換画素数を間引きデ
   ータとして発生し、 Ｙ軸方向について、被変換画素面上での直前の変換画素
   の位置座標ｙ＿０、現時点の変換画素の位置座標ｙ＿１
   、次の変換画素の位置座標ｙ＿２により、ｙ＿０＞座標
   基準値、ｙ＿１＞座標基準値、ｙ＿２＞座標基準値の不
   等式の真偽及び前記直前と現時点での変換画素との間に
   存在する被変換画素もしくは前記時点での変換画素と次
   の変換画素との間に存在する被変換画素数を間引きデー
   タとして発生することを特徴とする請求項第一項記載の
   画像縮小装置。
4. （４）前記分割領域判定手段（４）として、変換画素を
   取り囲む被変換画素４画素を基準とする座標面として横
   軸をＸ軸、縦軸をＹ軸とした場合に、Ｘ軸方向について
   は、被変換画素面上での現時点の変換画素の位置座標ｘ
   ＿１によるｘ＿１＞座標基準値の不等式の真偽、Ｙ軸方
   向については、被変換画素面上での現時点の変換画素の
   位置座標ｙ＿１＞座標基準値の不等式の真偽を用いるこ
   とを特徴とする請求項第一項記載の画像縮小装置。
5. （５）前記変換画素濃度算出手段（５）として、最近傍
   の被変換画素又は最近傍周辺の画素との結合を考慮した
   論理式に間引きデータに基づいて細線を保存する論理式
   を加味したことを特徴とする請求項第一項記載の画像縮
   小装置。
6. （６）Ｘ軸方向の縮小率をｐ、Ｙ軸方向の縮小率をｑ，
   ｎ＝２＾ｍ（ｍ＝０，１，２、・・・）とした場合希望
   する縮小率が１＞ｐ，ｑ≧１／ｎに対しては、倍率１／
   ２の縮小処理を（ｍ−１）回と倍率２＾ｍ＾−＾１＊ｐ
   ，２＾ｍ＾−＾１＊ｑの縮小処理を１回行う事を特徴と
   する画像縮小方法。