JPH01258732A - 気液接触装置 - Google Patents
気液接触装置Info
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- JPH01258732A JPH01258732A JP63084880A JP8488088A JPH01258732A JP H01258732 A JPH01258732 A JP H01258732A JP 63084880 A JP63084880 A JP 63084880A JP 8488088 A JP8488088 A JP 8488088A JP H01258732 A JPH01258732 A JP H01258732A
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- B01F23/20—Mixing gases with liquids
- B01F23/23—Mixing gases with liquids by introducing gases into liquid media, e.g. for producing aerated liquids
- B01F23/233—Mixing gases with liquids by introducing gases into liquid media, e.g. for producing aerated liquids using driven stirrers with completely immersed stirring elements
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- B01F35/00—Accessories for mixers; Auxiliary operations or auxiliary devices; Parts or details of general application
- B01F35/30—Driving arrangements; Transmissions; Couplings; Brakes
- B01F35/32—Driving arrangements
- B01F35/321—Disposition of the drive
- B01F35/3213—Disposition of the drive at the lower side of the axis, e.g. driving the stirrer from the bottom of a receptacle
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- B01F35/00—Accessories for mixers; Auxiliary operations or auxiliary devices; Parts or details of general application
- B01F35/50—Mixing receptacles
- B01F35/53—Mixing receptacles characterised by the configuration of the interior, e.g. baffles for facilitating the mixing of components
- B01F35/532—Mixing receptacles characterised by the configuration of the interior, e.g. baffles for facilitating the mixing of components with guide tubes on the wall or the bottom
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、多量の気体を液体中にて微細に気泡化して、
効果的に気体と液体とを接触させることのできる気液接
触装置に係り、特に気体と液体との接触によって固体の
反応生成物が析出する系において用いられる気液接触装
置に関する。
効果的に気体と液体とを接触させることのできる気液接
触装置に係り、特に気体と液体との接触によって固体の
反応生成物が析出する系において用いられる気液接触装
置に関する。
従来、気液接触装置は、液体中で気体を微細に気泡化し
て噴出させて、気体と液体との接触面積を高めることに
より接触効率を向上させている。
て噴出させて、気体と液体との接触面積を高めることに
より接触効率を向上させている。
そのような気液接触装置の一つとして特公昭４３−１３
１２１号公報などにより、駆動源によって高速回転する
と共にガス貯溜空間を有する倒立有底円筒回転体と、こ
の倒立有底円筒回転体におけるガス貯溜空間に臨むよう
にガス供給口とを配設したロータリーアトマイザ−を筒
状気液接触槽の底部に備えた気液接触装置が、知られて
いる。
１２１号公報などにより、駆動源によって高速回転する
と共にガス貯溜空間を有する倒立有底円筒回転体と、こ
の倒立有底円筒回転体におけるガス貯溜空間に臨むよう
にガス供給口とを配設したロータリーアトマイザ−を筒
状気液接触槽の底部に備えた気液接触装置が、知られて
いる。
このような気液接触装置は、接触させる液体中て倒立有
底円筒回転体を高速で回転させることによって、その倒
立有底円筒回転内に送入された気体を捕捉し、該倒立有
底円筒回転体の表面に気体膜を形成させ、それを回転の
剪断力によって液体中て微細な気泡とするもので、最も
接触効率の高められた気液接触装置の一つであることか
知られている。
底円筒回転体を高速で回転させることによって、その倒
立有底円筒回転内に送入された気体を捕捉し、該倒立有
底円筒回転体の表面に気体膜を形成させ、それを回転の
剪断力によって液体中て微細な気泡とするもので、最も
接触効率の高められた気液接触装置の一つであることか
知られている。
しかしながら、このような気液接触装置を、気液の接触
により固体の反応生成物が析出してくる反応系において
使用すると、倒立有底円筒回転体上に固体生成物かＨ着
、堆積して気液接触装置の接触効率な著るしく低下させ
て、該装置の艮期の運転を妨げている。
により固体の反応生成物が析出してくる反応系において
使用すると、倒立有底円筒回転体上に固体生成物かＨ着
、堆積して気液接触装置の接触効率な著るしく低下させ
て、該装置の艮期の運転を妨げている。
それ故、このような倒立有底円筒回転体にスリットや羽
根を取り付けて、強制循環流を生じさせることにより、
回転体に付着、堆積した固体生成物を取り除く、気液接
触装置が特開昭５０−１４６５６８号及び特開昭５０−
２：１０７１号各公報に記載されている。
根を取り付けて、強制循環流を生じさせることにより、
回転体に付着、堆積した固体生成物を取り除く、気液接
触装置が特開昭５０−１４６５６８号及び特開昭５０−
２：１０７１号各公報に記載されている。
しかし、このような気液接触装置は該倒立有底円筒回転
体にスリットや羽根か取り付けられるために回転体を回
転させるための所要動力か増大したり、また１羽根の部
分に生成固体が付着、堆積し易く、それによって強制循
環流の速度を低下させるので、長期間の運転か困難にな
る。
体にスリットや羽根か取り付けられるために回転体を回
転させるための所要動力か増大したり、また１羽根の部
分に生成固体が付着、堆積し易く、それによって強制循
環流の速度を低下させるので、長期間の運転か困難にな
る。
一方、倒立有底円筒回転体に付着、堆積したベニ成固体
に、生成固体を溶解させることができる洗浄液を吹き付
けて、生成固体の付着、堆積を防止したり、あるいは−
度付前した生成固体を洗浄液により吹き飛ばして取り除
く気液接触装こが特開！Ｍ（５５−４１８０２号公報に
記載されている。
に、生成固体を溶解させることができる洗浄液を吹き付
けて、生成固体の付着、堆積を防止したり、あるいは−
度付前した生成固体を洗浄液により吹き飛ばして取り除
く気液接触装こが特開！Ｍ（５５−４１８０２号公報に
記載されている。
しかし、このような気液接触装置は洗浄液の供給によっ
てスラリー濃度か低下するために接触効率が低下したり
、洗浄液を分離精製して再度利用しなければならないた
めに後処理に多大な費用か必要とされたり、あるいは、
この気液接触装置を反応速度の大きい反応系に適用した
場合、生成固体の生成速度が大きすぎるために堆積した
生成固体を十分に取り除くことかできず、生成固体が堆
積すると言った問題点がある。
てスラリー濃度か低下するために接触効率が低下したり
、洗浄液を分離精製して再度利用しなければならないた
めに後処理に多大な費用か必要とされたり、あるいは、
この気液接触装置を反応速度の大きい反応系に適用した
場合、生成固体の生成速度が大きすぎるために堆積した
生成固体を十分に取り除くことかできず、生成固体が堆
積すると言った問題点がある。
本発明は前記課題に鑑みて、本発明者らか鋭意研究した
結果、噴出された気泡の上昇によって強制循環流れを生
じさせ、この強制循環流によって生成固体のガス分散器
への付着、堆積を防止し得ることを見出し本発明に到達
した。
結果、噴出された気泡の上昇によって強制循環流れを生
じさせ、この強制循環流によって生成固体のガス分散器
への付着、堆積を防止し得ることを見出し本発明に到達
した。
すなわち、本発明は、筒状の気液接触槽と、該気液接触
槽内の底部に配置されたロータリーアトマイザ−とから
構成される気液接触装置において、前記ロータリーアト
マイザ−の上方に錐状傘と内筒とを一列に配設したこと
を特徴とする気液接触装置である。
槽内の底部に配置されたロータリーアトマイザ−とから
構成される気液接触装置において、前記ロータリーアト
マイザ−の上方に錐状傘と内筒とを一列に配設したこと
を特徴とする気液接触装置である。
以下、本発明について具体的に説明する。
λ攻１員盈Ｉ
本発明の気液接触装置１は、第１図に示す如き、基本的
に、密閉された筒状気液接触槽２と、該筒状気液接触槽
２内に設けられたロータリーアトマイザ−３、錐状傘４
及び内筒５とから構成されている。
に、密閉された筒状気液接触槽２と、該筒状気液接触槽
２内に設けられたロータリーアトマイザ−３、錐状傘４
及び内筒５とから構成されている。
これら筒状気液接触槽２内に配設された内筒５、錐状傘
４及びロータリーアトマイザ−３は、該筒状気液接触槽
２内にその底部から上方に向ってロータリーアトマイザ
−３、錐状傘４、内筒５の順序で一列に配設されている
。
４及びロータリーアトマイザ−３は、該筒状気液接触槽
２内にその底部から上方に向ってロータリーアトマイザ
−３、錐状傘４、内筒５の順序で一列に配設されている
。
１駅λ亘韮上１
前記筒状気液接触槽２は、密閉された筒状の形状をして
おり、その内部に反応液６を収容して、上部に気液分離
帯域７を形成している。
おり、その内部に反応液６を収容して、上部に気液分離
帯域７を形成している。
ロータリーアトマイ゛−
前記ロータリーアトマイザ−３としては、上端か封ぜら
れてガス貯溜空間１２が形成されると共に、下端が開放
されて高速回転させられることによってガスを分散せし
める中空筒状回転体１３と、先端の開口部１１ａがこの
貯溜空間に臨むように配ｔされたガス供給管１１とから
なる構造を有しており、前記筒状気液接触槽７の底部７
ａで反応液６中に設けられているものであれば特別に制
限か無く、公知のロータリーアトマイザ−（ガス分散器
）のいずれのものをも使用回旋である。
れてガス貯溜空間１２が形成されると共に、下端が開放
されて高速回転させられることによってガスを分散せし
める中空筒状回転体１３と、先端の開口部１１ａがこの
貯溜空間に臨むように配ｔされたガス供給管１１とから
なる構造を有しており、前記筒状気液接触槽７の底部７
ａで反応液６中に設けられているものであれば特別に制
限か無く、公知のロータリーアトマイザ−（ガス分散器
）のいずれのものをも使用回旋である。
このようなロータリーアトマイザ−３の中空筒状回転体
１３としては第２図の（１）〜（５）に示すような上面
が閉塞された円筒体１３ａ、円錐体１３ｂ、砲弾状体１
３ｃ、流線状円錐体１３ｄ、逆円錐体１３ｅなどの形状
のものかある。
１３としては第２図の（１）〜（５）に示すような上面
が閉塞された円筒体１３ａ、円錐体１３ｂ、砲弾状体１
３ｃ、流線状円錐体１３ｄ、逆円錐体１３ｅなどの形状
のものかある。
該中空筒状回転体１３は、その外径が前記気液接触槽２
の内径の１０〜４０％、高さが外径の１０〜２００％で
あるのが望ましい。
の内径の１０〜４０％、高さが外径の１０〜２００％で
あるのが望ましい。
維」（ネ
前記錐状中４はロータリーアトマイザ−３の中空筒状回
転体１３の上部に配置されるが、その外径は一般に該回
転体１３の２０〜２００％、特に５０〜１５０％の大き
さのもので、生成物固体粒子が堆積しないよう該回転体
１３上部を覆うのに十分な広さを有していることが望ま
しい。
転体１３の上部に配置されるが、その外径は一般に該回
転体１３の２０〜２００％、特に５０〜１５０％の大き
さのもので、生成物固体粒子が堆積しないよう該回転体
１３上部を覆うのに十分な広さを有していることが望ま
しい。
このような錐状中４は、その形状が第３図の（１）〜（
３）に示すように角錐、円錐又は、外側あるいは内側に
反った円錐状の曲面とすることも可能である。該円錐等
の先端部の内角θは任意に設定することもできるが、一
般に３０〜１８０ ’ 、好ましくは６０〜９０″であ
る。
３）に示すように角錐、円錐又は、外側あるいは内側に
反った円錐状の曲面とすることも可能である。該円錐等
の先端部の内角θは任意に設定することもできるが、一
般に３０〜１８０ ’ 、好ましくは６０〜９０″であ
る。
この錐状中４はその頂部４ａを上方に向けて、また広が
った部分を筒状回転体１３側に向けて配置することによ
り、生成固体が筒状回転体１３上に堆積するのを防止し
ていると共に後記、内筒５の内側部分５ａを降下して来
る強制循環流れを内筒の外側部分５ｂを上昇する強制循
環流れに変換するためのガイド板の役割をも兼ねている
ので、錐状中４の上面はやや内側に反った曲面あるいは
平板状の円錐形であることか望ましい。
った部分を筒状回転体１３側に向けて配置することによ
り、生成固体が筒状回転体１３上に堆積するのを防止し
ていると共に後記、内筒５の内側部分５ａを降下して来
る強制循環流れを内筒の外側部分５ｂを上昇する強制循
環流れに変換するためのガイド板の役割をも兼ねている
ので、錐状中４の上面はやや内側に反った曲面あるいは
平板状の円錐形であることか望ましい。
このような形状とすることにより中空筒状回転体１３に
強制循環波れか直接衝突することを阻止して中空筒状回
転体１３に生成物固体粒子か付着、堆積することを防止
している。
強制循環波れか直接衝突することを阻止して中空筒状回
転体１３に生成物固体粒子か付着、堆積することを防止
している。
四−犯
前記内筒５は円筒あるいは角筒なと任意の形状のもので
も良いか、一般には装置の簡便さから円筒形とする。し
かし、ガス吸収に伴い析出する固体の形状操作や、装置
内のガスと液との接触時間の操作を容易にするため、異
径円筒を滑らかなレデューサ−にて結んだ形状や円錐状
にすることも可能である。
も良いか、一般には装置の簡便さから円筒形とする。し
かし、ガス吸収に伴い析出する固体の形状操作や、装置
内のガスと液との接触時間の操作を容易にするため、異
径円筒を滑らかなレデューサ−にて結んだ形状や円錐状
にすることも可能である。
しかしながら、該内筒５の内側部分５ａと外側部分５ｂ
との強制循環流れに乱れを生じさせないために、内筒５
は前記筒状気液接触ＪｆＪ２の内壁２ａ面と平行な垂直
の面であることが望ましい。
との強制循環流れに乱れを生じさせないために、内筒５
は前記筒状気液接触ＪｆＪ２の内壁２ａ面と平行な垂直
の面であることが望ましい。
該内筒５はその径を一般に前記筒状気液接触槽２の内径
の２０〜８０％、好ましくは３０〜６０％の範囲内の大
きさとし、また、目的とするガスの吸収速度に応じて目
標の吸収率が得られる長さに、前記筒状気液接触槽２の
高さを任意に設定することができる。
の２０〜８０％、好ましくは３０〜６０％の範囲内の大
きさとし、また、目的とするガスの吸収速度に応じて目
標の吸収率が得られる長さに、前記筒状気液接触槽２の
高さを任意に設定することができる。
このような形状とすることにより、環状の外側部分５ｂ
の液は気泡の上昇と共に上向流となる。
の液は気泡の上昇と共に上向流となる。
また、内筒の内側部分５ａは上記環状の外側部分５ｂの
液の流れが液面に達した時点で液は下向流れに変化して
内筒の内側部分５ａを降下する。降下した液の流れはや
がて錐状中４の上部に衝突してその向きが変えられた後
、ロータリーアトマイザ−３の中空筒状回転体（ガス分
散器）１３により発生した微細な気泡粒子の上昇に伴な
う強制上昇流れによって再度内筒５によって仕切られた
環状の外側部分５ｂを上向流れとなって強制循環させら
れる。
液の流れが液面に達した時点で液は下向流れに変化して
内筒の内側部分５ａを降下する。降下した液の流れはや
がて錐状中４の上部に衝突してその向きが変えられた後
、ロータリーアトマイザ−３の中空筒状回転体（ガス分
散器）１３により発生した微細な気泡粒子の上昇に伴な
う強制上昇流れによって再度内筒５によって仕切られた
環状の外側部分５ｂを上向流れとなって強制循環させら
れる。
（実施例）
本発明の気液接触装置について、以下にその一実施例で
ある鉄塩水溶液と硫化水素含有ガスによる硫黄の回収方
法の例を挙げて具体的に説明する。
ある鉄塩水溶液と硫化水素含有ガスによる硫黄の回収方
法の例を挙げて具体的に説明する。
（実施例１）
ａ −’
内径２００■■φおよび高さ１．０ＯＯｓ−の円筒形気
液接触装置内に内部底面から１７０ ｔｍ層の高さの位
置に円筒下辺が来るように、内径１２０ｍｍφ、外径１
２６■φおよび高さ６００■の内円筒を固定し、該内円
筒の下端より垂直方向に５０１＠離れた場所に、円錐形
傘部（頂部の内角θ９０°、外径８０■鵬φ）を設け、
更にその下の５ ａｓ離れた場所に、直径６０１■φお
よび高さ９０ｍｍの寸法を有する上端を閉じた円筒をガ
ス貯溜空間として有し、この円筒をモーターにより回転
可能な回転体ガス分散器とし、該ガス貯溜空間に臨むよ
うにガス供給口を配設することによって気液接触装置と
した。
液接触装置内に内部底面から１７０ ｔｍ層の高さの位
置に円筒下辺が来るように、内径１２０ｍｍφ、外径１
２６■φおよび高さ６００■の内円筒を固定し、該内円
筒の下端より垂直方向に５０１＠離れた場所に、円錐形
傘部（頂部の内角θ９０°、外径８０■鵬φ）を設け、
更にその下の５ ａｓ離れた場所に、直径６０１■φお
よび高さ９０ｍｍの寸法を有する上端を閉じた円筒をガ
ス貯溜空間として有し、この円筒をモーターにより回転
可能な回転体ガス分散器とし、該ガス貯溜空間に臨むよ
うにガス供給口を配設することによって気液接触装置と
した。
斐放返り
この気液接触装置に、塩化第一鉄１ｉｓｏｌ／文、塩化
第２鉄１ｍｏｌ／４、および塩酸５ｍｏ１１５Ｌの濃度
になる３成分系の混合水溶液２５．１１をガス吸収液と
して装入し、その水溶液の温度を７０°Ｃとした。
第２鉄１ｍｏｌ／４、および塩酸５ｍｏ１１５Ｌの濃度
になる３成分系の混合水溶液２５．１１をガス吸収液と
して装入し、その水溶液の温度を７０°Ｃとした。
次に、この混合水溶液に、前記ガス供給口より窒素ガス
で希釈した硫化水素ガス５０体植％を、５１ ／ｓｉｎ
で６０分間かけて通気し、この通気期間中、前記ガス分
散器中の回転体を４．ＯＯＯｒｐｍにて回転し続けた。
で希釈した硫化水素ガス５０体植％を、５１ ／ｓｉｎ
で６０分間かけて通気し、この通気期間中、前記ガス分
散器中の回転体を４．ＯＯＯｒｐｍにて回転し続けた。
これにより硫化水素と塩化第２鉄との反応により、液中
に固体硫黄か析出した。
に固体硫黄か析出した。
通気終了後、ガス分散器への硫黄の付着は、０．２ｇ未
満であり、肉眼においても観察されなかった。
満であり、肉眼においても観察されなかった。
（比較例１）
実施例１において用いた気液接触装置において、固定さ
れた傘を取り除き、実施例１と同じ条件で通気な行った
。この場合、ガス分散器への硫黄の付着１ｉは８１．：
Ｉｇであった。
れた傘を取り除き、実施例１と同じ条件で通気な行った
。この場合、ガス分散器への硫黄の付着１ｉは８１．：
Ｉｇであった。
（比較例２）
実施例１において用いた気液接触装置において、固定さ
れた内円筒を取り除き、実施例１と同じ条件で通気を行
なった。この場合、ガス分散器への硫黄の付着量は６４
．５ｇであった。
れた内円筒を取り除き、実施例１と同じ条件で通気を行
なった。この場合、ガス分散器への硫黄の付着量は６４
．５ｇであった。
（実施例２）
３ ″ 閏１ ゛（−
内径２００ｍ＊φおよび高さ１．０００ｍｍの円筒形気
液接触槽内に内部底面から１７０ ａｍの高さの位置に
円筒下辺か来るように、内径１２０■φ、外径１２６ｍ
ｍφおよび高さ６００１の内円筒を固定し、該内円筒の
下端より垂直方向に５０ｍｍ離れた場所に円錐形傘部（
頂部の内角０９０°、外径８０ｍｍφ）を設け、更にそ
の下の５１離れた場所に直径６０ｓｕ＋φおよび高さ９
０ｍｍの上端を前記円錐形傘部の形状に合わせて円椎形
状として閉じた円筒をガス貯溜室１１■とじて有し、こ
の円筒をモータにより回転可能な回転体ガス分散器とし
、該ガス貯溜空間に臨むようにしてガス供給口を配設す
ることによって気液接触装置とした。
液接触槽内に内部底面から１７０ ａｍの高さの位置に
円筒下辺か来るように、内径１２０■φ、外径１２６ｍ
ｍφおよび高さ６００１の内円筒を固定し、該内円筒の
下端より垂直方向に５０ｍｍ離れた場所に円錐形傘部（
頂部の内角０９０°、外径８０ｍｍφ）を設け、更にそ
の下の５１離れた場所に直径６０ｓｕ＋φおよび高さ９
０ｍｍの上端を前記円錐形傘部の形状に合わせて円椎形
状として閉じた円筒をガス貯溜室１１■とじて有し、こ
の円筒をモータにより回転可能な回転体ガス分散器とし
、該ガス貯溜空間に臨むようにしてガス供給口を配設す
ることによって気液接触装置とした。
皮放反尤
この気液接触装置にガス吸収液として塩化第１鉄１ｓｏ
ｌ／Ｒ１塩化第２鉄１ ｍｏｌ／文、塩酸５＋ｍｏｌ／
Ｊｌの濃度である３成分の混合水溶液２５文を装入し、
その温度を６０℃とした。
ｌ／Ｒ１塩化第２鉄１ ｍｏｌ／文、塩酸５＋ｍｏｌ／
Ｊｌの濃度である３成分の混合水溶液２５文を装入し、
その温度を６０℃とした。
次に、この混合水溶液に前記ガス供給口より窒素ガスで
希釈した硫化水素ガス１６体積％を１０１／＊ｉｎて３
０時間かけて供給した。
希釈した硫化水素ガス１６体積％を１０１／＊ｉｎて３
０時間かけて供給した。
このガスを３０時間かけて供給した時、前記ガス分散器
中の回転体を２，５ＯＯｒ、ｐ、＋ｓ、にて回転し続け
ると共に、気液接触装δ本体に上述したガス吸収液であ
る３成分の混合水溶液を１５１．／■ｉｎの割合で供給
しなから、同時に、硫化水素と塩化第２鉄との反応によ
り析出した固体硫黄の懸濁する装置内の液を１旦／ｍｇ
ｉｎで連続的に抜き出し、装置内で滞留する液量な２５
９．て一定となるよう操作した。
中の回転体を２，５ＯＯｒ、ｐ、＋ｓ、にて回転し続け
ると共に、気液接触装δ本体に上述したガス吸収液であ
る３成分の混合水溶液を１５１．／■ｉｎの割合で供給
しなから、同時に、硫化水素と塩化第２鉄との反応によ
り析出した固体硫黄の懸濁する装置内の液を１旦／ｍｇ
ｉｎで連続的に抜き出し、装置内で滞留する液量な２５
９．て一定となるよう操作した。
３０時間のガス供給後、ガス分散器へのｆＥ黄の付Ｒ量
は１，８ｇてあった。
は１，８ｇてあった。
（比較例３）
実施例２において用いた気液接触装置において、固定さ
れた円錐形傘を取り除き、実施例２と同じ条件で通気を
行った。
れた円錐形傘を取り除き、実施例２と同じ条件で通気を
行った。
この場合、ガス分散器への硫黄の付着量は１４２ｇであ
った。
った。
（比較例４）
実施例２において用いた気液接触袋ｄに３いて、固定さ
れた内円筒を取り除き、実施例２と同じ条件で通気を行
った。
れた内円筒を取り除き、実施例２と同じ条件で通気を行
った。
この場合反応物固体である硫黄が気液界面に集合、固着
し、装置内の懸濁硫黄の均一な分散が形成されなかった
。また、ガス分散器への硫黄の付Ｘｉ量は４８ｇであっ
た。
し、装置内の懸濁硫黄の均一な分散が形成されなかった
。また、ガス分散器への硫黄の付Ｘｉ量は４８ｇであっ
た。
（発明の効果）
本発明の気液接触装置は、筒状気液接触槽内にロータリ
ーアトマイザ−５錐状傘及び円筒を配設して、装を内の
液を強制的に循環させるので、以下に示す如き効果かあ
る。
ーアトマイザ−５錐状傘及び円筒を配設して、装を内の
液を強制的に循環させるので、以下に示す如き効果かあ
る。
■ 塔全体の液濃度分布を小さくし、気液接触装置全体
としてのガス吸収速度を増大させることができる。
としてのガス吸収速度を増大させることができる。
■ 気泡を付着させた細かい反応物固体粒子の気液界面
への集合を防止し、反応物固体スラリーの均一な分散を
促進することができる。
への集合を防止し、反応物固体スラリーの均一な分散を
促進することができる。
■ 上向流及び下向流を形成して強制的にこれを循環さ
せることにより、ガス分散器へのランダムな反応物固体
粒子の衝突を抑制し、ガス分散器への反応物固体粒子の
付着・堆積を防止することができる。
せることにより、ガス分散器へのランダムな反応物固体
粒子の衝突を抑制し、ガス分散器への反応物固体粒子の
付着・堆積を防止することができる。
このような効果により気液接触装置は長期間連続して運
転することができるので、工業的に極めて有用なもので
ある。
転することができるので、工業的に極めて有用なもので
ある。
第１図は本発明実施例の気液接触装置の縦断面図を表わ
し、第２図は本発明において用いられる各種形状のロー
タリーアトマイザ−の断面図を表わし、第３図は本発明
において用いられる各種形状の錐状傘の断面図を表わす
。 ｌ・・・気液接触装置、２・・・気液接触槽、２ａ・・
・内壁、３・・・ロータリーアトマイザ−１４・・・錐
状傘、４ａ・・・頂部、５・・・内筒、５ａ・・・内側
部分、５ｂ・・・外側部分、６・・・反応液、７・・・
気液分離帯域、７ａ・・・底部、８−・・ガス排出口、
１１・・・ガス供給管、１１ａ＝開口部、１２−・・ガ
ス貯溜空間、１３・・・中空筒状回転体 第１図
し、第２図は本発明において用いられる各種形状のロー
タリーアトマイザ−の断面図を表わし、第３図は本発明
において用いられる各種形状の錐状傘の断面図を表わす
。 ｌ・・・気液接触装置、２・・・気液接触槽、２ａ・・
・内壁、３・・・ロータリーアトマイザ−１４・・・錐
状傘、４ａ・・・頂部、５・・・内筒、５ａ・・・内側
部分、５ｂ・・・外側部分、６・・・反応液、７・・・
気液分離帯域、７ａ・・・底部、８−・・ガス排出口、
１１・・・ガス供給管、１１ａ＝開口部、１２−・・ガ
ス貯溜空間、１３・・・中空筒状回転体 第１図
Claims (1)
- （１）筒状の気液接触槽と、該気液接触槽内の底部に配
置されたロータリーアトマイザーとから構成される気液
接触装置において、前記ロータリーアトマイザーの上方
に錐状傘と内筒とを一列に配設したことを特徴とする気
液接触装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63084880A JPH01258732A (ja) | 1988-04-06 | 1988-04-06 | 気液接触装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63084880A JPH01258732A (ja) | 1988-04-06 | 1988-04-06 | 気液接触装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01258732A true JPH01258732A (ja) | 1989-10-16 |
Family
ID=13843087
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63084880A Pending JPH01258732A (ja) | 1988-04-06 | 1988-04-06 | 気液接触装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH01258732A (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7455776B2 (en) | 2006-11-21 | 2008-11-25 | Praxair Technology, Inc. | Method for mixing high viscous liquids with gas |
| US7497949B2 (en) | 2006-11-21 | 2009-03-03 | Praxair Technology, Inc. | System and method for oxygenating an aerobic sludge digester |
| US7699980B2 (en) | 2007-08-24 | 2010-04-20 | Praxair Technology, Inc. | System for activated sludge wastewater treatment with high dissolved oxygen levels |
| US8387957B2 (en) | 2009-01-29 | 2013-03-05 | Aqua-Aerobic Systems, Inc. | Downflow mixers with gas injection devices and/or baffles |
| WO2015056547A1 (ja) * | 2013-10-17 | 2015-04-23 | 株式会社 アスプ | 気体含有液生成装置および気体含有液噴射機構 |
| JP2025047241A (ja) * | 2023-09-21 | 2025-04-03 | いすゞ自動車株式会社 | ガス処理装置 |
-
1988
- 1988-04-06 JP JP63084880A patent/JPH01258732A/ja active Pending
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7455776B2 (en) | 2006-11-21 | 2008-11-25 | Praxair Technology, Inc. | Method for mixing high viscous liquids with gas |
| US7497949B2 (en) | 2006-11-21 | 2009-03-03 | Praxair Technology, Inc. | System and method for oxygenating an aerobic sludge digester |
| US7699980B2 (en) | 2007-08-24 | 2010-04-20 | Praxair Technology, Inc. | System for activated sludge wastewater treatment with high dissolved oxygen levels |
| US7699986B2 (en) | 2007-08-24 | 2010-04-20 | Praxair Technology, Inc. | Method for activated sludge wastewater treatment with high dissolved oxygen levels |
| US8387957B2 (en) | 2009-01-29 | 2013-03-05 | Aqua-Aerobic Systems, Inc. | Downflow mixers with gas injection devices and/or baffles |
| WO2015056547A1 (ja) * | 2013-10-17 | 2015-04-23 | 株式会社 アスプ | 気体含有液生成装置および気体含有液噴射機構 |
| US9868092B2 (en) | 2013-10-17 | 2018-01-16 | Asupu Co., Ltd | Gas-containing liquid generating apparatus and gas-containing liquid injecting module |
| JP2025047241A (ja) * | 2023-09-21 | 2025-04-03 | いすゞ自動車株式会社 | ガス処理装置 |
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