JPH01258733A - スラリーの気液接触処理装置 - Google Patents

スラリーの気液接触処理装置

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JPH01258733A
JPH01258733A JP63085324A JP8532488A JPH01258733A JP H01258733 A JPH01258733 A JP H01258733A JP 63085324 A JP63085324 A JP 63085324A JP 8532488 A JP8532488 A JP 8532488A JP H01258733 A JPH01258733 A JP H01258733A
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、スラリー中に気体を噴出して処理する気液接
触処理装置に関し、例えば湿式石灰石貴注排煙脱硫装置
における亜硫酸塩の酸化処理工程に適用できる処理装置
に関する。
〔従来の技術〕
従来、湿式排煙脱硫装置における生成亜硫酸塩の酸化処
理装置としては、吸収液の液溜め槽の底部に多数の噴射
孔を有する空気供給管を配設し、その上方に回転攪拌翼
を設けることにより気液接触を促進し、酸化を行なう方
式と、回転攪拌翼を中心となし多数の気体噴射孔を開け
ることにより、気体の噴出と気泡の細分化を促進し、酸
化処理を行なう方式とがある。
前者の方式では、噴射孔から噴出させる気体の大半が比
較的大径の気泡を形成し1回転攪拌翼による気泡の細分
化も十分に期待できないために気体の噴射孔の孔径を小
さくし、且つ、孔の数を多数設ける必要があった。
これに対し、後者の方式は気体吹き込み手段を攪拌機に
付設することにより気体の液中への巻き込みを均一に行
なうもので、前者の方式に比して、装置構造が簡単で、
且つ、気液接触効率も優れたものである。
第4図は後者の方式による装置の概念図である(実開昭
61−15007号公報参照)。液溜槽6には被処理液
10が貯留されており、一方、中空回転軸3には多数の
気体噴出孔Iを開けた中空撹拌棒1′が取付けられであ
る。該撹拌棒1′は電動機9により回転され、気体11
は中空回転軸3及び中空回転棒1′を介して気体噴出孔
入より噴出される。この装置は、回転撹拌棒の後方に形
成する気相域に気体を供給し、該領域の終縁部における
気体の千切れ現象により気泡を十分微細化させることが
できる。
〔発明が解決しようとする課題〕
上記したように、従来の第4図に示す装置は回転撹拌棒
後方に形成する気相域の終縁部での気体の千切れ現象に
より気泡を細分化することができ気液接触効率を向上さ
せることができた。
しかし、この装置をスラリーの気液接触処理に適用する
ときには、気体噴射孔から中空攪拌棒内にスラリーのス
プラッシiが飛来することが避けられず、中空攪拌棒内
や気体噴射孔の周囲にスケールが発生し気体噴射孔を閉
塞するという問題があった。
また、気体の供給を停止するときにはスラリーが攪拌棒
内に流入して固形分が沈積しスケールを発生させるおそ
れもあった。このようなスケールの発生は、撹拌棒を介
して噴出される気体の流量を撹拌棒ごとに異ならせるこ
ととなり、撹拌棒に振動を発生させ、ついには回転不能
とする。第5図は攪拌棒内のスケールの発生状況の例を
示したものである。気体噴射孔入に対向する撹拌棒1の
上部内壁に硬質のスケールが発生する。このスケールは
非常に硬く水洗では取り除くことができない。気体噴射
孔mと気体噴射孔入の間の撹拌棒下部内壁や撹拌棒の端
部には軟質スクールと硬質スケールの混合物が付着し、
気体噴射孔の一部を硬質スケールで閉塞する。
本発明は、上記装置の欠点を解消し、攪拌棒内のスケー
ル発生に起因したトラブルを回避し、安定してスラリー
を長期間に互って効率良く気液接触処理できる装置を提
供しようとするものである。
〔課題を解決するだめの手段〕
本発明は、中空回転軸の下端に取付けた撹拌棒と、該撹
拌棒の回転によってその背面に生ずる負圧領域に気体を
供給する気体供給管とを有するスラリーの気液接触処理
装置において、該気体供給管を前記撹拌棒の背面部へ取
付けると共に、前記撹拌棒の上面に撹拌棒の回転方向の
背面方向に延びる負圧域安定板を取付けた。
また、本発明は前記のスラリーの気液接触装置において
、気体供給管の下方にスプラッシュ防止板を設けた。
〔作 用〕
本発明は、撹拌棒の上面に撹拌棒の回転方向の背面方向
に延びる負圧安定板を設けたことによって、撹拌棒の回
転によりてその背面に生ずる負圧領域が安定して形成さ
れ、この部分に気体を供給することによって気体が分散
し、これが負圧領域の終縁部で微細な気泡に千切れてス
ラリー中に充分に分散され、気液接触効率が向上する。
しかも、本発明は閉塞しやすい中空の撹拌棒や多数の噴
出孔が設けられていないために、長期間安定したスラリ
ーの接触処理が可能である。
また、気体を噴出する気体供給管の下方にスプラッシュ
防止板を設けたことによって、噴出された気体の噴出力
によるスラリーのスプラッシュの発生が防止され、スケ
ールの発生が防止される。
〔実施例〕
本発明の一実施例であるスラリーの気液接触処理装置を
第1図ないし第3図によって説明する。
スラリーを収容した液溜槽6のスラリー7中に下方に垂
下され上部の気体供給口から気体が供給される中空回転
軸3の下端に回転方向に凸の半円状の水平撹拌棒1が複
数本取付けられており、該撹拌棒1の上面には該撹拌棒
の回転方向の背面方向に延びると共に撹拌棒1の先端か
ら中心方向に延びる負圧域安定板13が取付けられてい
る。上端が中空回転軸3から分岐し下方に傾斜した連結
管4に接続され下方に伸び下端が開口する気体供給管2
が安定板13を貫通して設けられており、該気体供給管
2の下端開口部2から気体供給口8より送り込まれる気
体11が中空回転軸3及び連結管4を経て噴出されるよ
うになっている。一方、撹拌棒1は液溜槽6の上方に設
けられた電動機9によって中空回転軸3を介して回転す
るようになっている。また、撹拌棒1の下面の上記気体
供給管2の開口部2′の下方には同攪拌棒1の回転方向
の背面方向に延びるスプラッシユ防止板14が取付けら
れている。なお5は液溜槽6の上部圧設けられた補給液
10の給液ノズルである。
本実施例では、撹拌棒1は、回転により背部が負圧化し
、該背面負圧領域・に前記気体供給管2の開口部2′よ
り噴出された気体11によって空洞が形成され、該空洞
の終縁部で気体供給管8より噴出された気体11は微細
な気泡に千切れてスラリー中に分散される。また、気体
供給管2の開口部2の下方に設けられたスプラッシユ防
止板14は、気体供給管2の開口2から下方に気体11
を噴出する際に噴出した気体11の噴出力によってスラ
リーのスプラッシユの発生を防止する。
上記気泡の発生状況は、第2図及び第3図に示されてい
る。気体供給管2の下端の開口部2′より気体11を噴
出しつつ、撹拌棒lを矢印aの方向に、例えば50〜1
50 rpmの回転速度で回転させると、撹拌棒1の後
方背面のほぼ全域に互って負圧領域としての空洞15が
形成され、該空洞15は攪拌棒上面に設けられた安定板
13によって安定板13と撹拌棒1の下端との間に安定
した状態で形成され、その端部は終縁部16に至ってい
る。該終縁部16で気体供給管2から噴出され空洞15
の中を経由してきた気体11が微細な気泡17に千切れ
スラリー中に分散される。該終縁部16は回転中心に近
ずくにつれ短かくなり撹拌棒1に近くなる。従って回転
中心に近ずくにつれて第2図の断面A−Aにおける空洞
15の大きさは小さくなる。このことから安定板13を
貫通して取付ける気体供給管2の取付けは回転軸近傍は
避けることが望ましい。
撹拌棒1が回転している処理操作中は、気体供給管2の
開口部2から噴出した気体11はスプラソシェ防止板1
4に衝突して空洞15内に分散するためスプラッシ瓢が
気体供給管2内に逆流することが解消される。また、処
理操作の停止中はスラリーが気体供給管2の開口部2′
より逆流し連結管4や回転中空軸3内に侵入するため、
連結管4を下方に傾斜させること和よってスラリーの逆
流が防がれている。この連結管4の傾斜角度αは1f程
度とするのが望ましい。また、再運転時には気体11に
洗浄水12を同伴させると回転中空軸3及び連結管4内
に残留する固形分の排出が円滑に行なわれる。
なお、空洞15を円滑に形成せしめるため撹拌棒1の上
面に該棒1の先端から中心方向に向けて取付けた安定板
13は、中空回転軸3近傍は加工上取付けが難かしくな
り、かつ同回転軸3近傍では上述したように撹拌棒1の
背面の空洞150大きさも小さく安定板13自体の効果
が期待できないので、同安定板13は中空回転軸3の近
傍の中心部に設けなくても良い。
本実施例は、前記のように回転する撹拌棒1の上面に撹
拌棒1の回転方向の背面方向に延びる負圧域安定板13
を設けることによって、撹拌棒1の長さ方向に沿って撹
拌棒1の背面に安定した空洞15が形成され、気体供給
管2から気体をこの空洞15に供給することによって、
気体を撹拌棒1の長さ方向に分散させた上空洞の終縁部
16で微細な気泡17とすることによって、気体をスラ
リー中に分散させることができる。
また、気体供給管2の下方に撹拌棒1に取付けられたス
プラッシユ防止板14を設けることによって、気体供給
管2から噴出された気体によってスラリー中にスプラッ
シユが発生することが防止される。
なお、上記実施例では、第3図に示すように撹拌棒1の
断面を回転方向前面に凸な半円形状のものが用いられて
いるが、基本的には該撹拌棒1は該棒が回転されるとき
該棒1の背面後方に空洞15を形成させ該空洞15の終
縁部より気泡を発生せしめることを目的とするものであ
り、本発明における撹拌棒は第3図の断面形状の撹拌棒
1の形状に限定するものではない。
(実験例) 第1図の態様をなす装置を用い、湿式脱硫装置で生成す
る亜硫酸カルシウム含有する吸収液に空気を吹き込んで
酸化し石膏となす試験を行なった。
液溜槽6は巾が69n、奥行き4情で液位は4mとした
。撹拌棒1は長さ1150mm、外径60.5mmφの
、Jイブを半分に切断し切断面及び先端は平板で塞いで
該棒1内ヘスラリ−が入らぬようにし、この撹拌棒1を
太さ150m+nφの中空回転軸3の下端へ4本取付け
た。安定板13は撹拌棒1の先端から中心に向って長さ
1000 rrrmとし、巾120mm、厚さ3咽のも
のを各撹拌棒に取付けた。気体供給管2は各撹拌棒1に
ついて1ケづつ設は内径2Z7 rranφのものを用
いた。また該気体供給管2の安定板13X通部は、安定
板13に溶接し、該気体供給管2の先端の開口部2は安
定板の下面から10圏下とした。スプラッシエ防止板1
4は、気体供給管2の直下部に厚さが3間で80調正方
形のものを撹拌棒1の背面下部に取付けた。
処理条件は、スラリーの温度約50’C,スラリー濃度
17w′tチ(石膏としてへスラリー温度北〜父℃の吸
収液に毎時3.5 kg molの亜硫酸塩を補給し、
撹拌棒を60rpmで回転し、空気を400m’N/H
供給して処理し約1ケ月間運転を継続した。
この間の亜硫酸の酸化率は100チであり、約1ケ月後
液溜め槽を空として開放点検の結果気体噴射管内にはス
ケールの発生は全(なかった。
(比較例) 第4図の態様をなす装置を用いて実施例と同様の処理条
件で試験を行なった。第1図との構造上の相違は撹拌棒
な中空となし、該棒に直径8mmφの気体噴射孔を下方
に向けて撹拌棒1木尚り8ケ開孔した。また撹拌棒とし
ては外径60.5mmφ内径5Z7 rtrmφの円管
を用い長さは前記実験例と同じにした。
約I時間運転後に機器本体に振動を発生し、運転を停止
した。この間の亜硫酸塩の酸化率は1o。
チであった。液溜槽内のスラリーを排出して開放点検し
たところ第4図のように軟質スケールと硬質スケールが
攪拌棒内にみられ、噴射孔の2〜4個は硬質スケールで
閉塞をきたしており、噴射孔の直上部の攪拌棒内壁には
硬質スケールがみられた。これは気体噴射時のスプラッ
シュに起因したものと考えられる。
以上の実験例と比較例とによって、本発明のものではス
ケールの発生が防止され、スラリーを長期間安定して気
液接触させることができることが判明した。
〔発明の効果〕
以上述べたように、本発明では、負圧域安定板によって
撹拌棒の後方に形成される負圧領域である空洞を円滑に
形成せしめて供給される気体をスラリー中に分散させる
と共に、スプラッシュ防止板によって気体供給管から噴
出した空気によってスプラッシュを発生させることを防
止することができ、これによって高い効率で気液接触処
理を長期に亘って安定して行なうことが可能となった。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の一実施例であるスラリーの気液接触処
理装置の概念図であり、第2図は上記実施例の装部の斜
視図、第3図は第2図A〜A断面図、第4図は従来の気
液接触装置の一例の概念図であり、第5図は第4図の装
置を用いたときの中空攪拌棒内でのスケール発生状況を
示す説明図である。 1・・・撹拌棒、      2・・・気体供給管。 2・・・気体供給管の開口、3・・・中空回転軸。 4・・・連結管、      6・・・液溜槽。 7・・・スラリー、11・・・気体。 13・・・負圧域安定板、14・・・スプラッシュ防止
板。

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)中空回転軸の下端に取付けた撹拌棒と、該撹拌棒
    の回転によってその背面に生ずる負圧領域に気体を供給
    する気体供給管とを有するスラリーの気液接触処理装置
    において、該気体供給管を前記撹拌棒の背面部へ取付け
    るとともに、前記撹拌棒の上面に撹拌棒の回転方向の背
    面方向に延びる負圧域安定板を取付けたことを特徴とす
    るスラリーの気液接触処理装置。
  2. (2)気体供給管の下方にスプラッシュ防止板を設けた
    ことを特徴とする請求項(1)に記載のスラリーの気液
    接触処理装置。
JP8532488A 1988-04-08 1988-04-08 スラリ―の気液接触処理装置 Expired - Fee Related JP2505525B2 (ja)

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