JPH01261377A - 置換されたピリミジン - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は置換されたピリミジン、その製造に対する中間
体、その製造及び薬剤としてのその用途に関する。

菌・カビ培養物（ｆｕｎｇａｌ　ｃｕｌｔｕｒｅ）から
単離したラクトン誘導体は３−ヒドロキシ−３−メチル
−グルタリル補酵素Ａ還元酵素（ＨＭＧ−ＣｏＡ還元酵
素）の阻害剤であることが開示されている［メビノリン
（ｍｅｖｉｎｏｌｉｎ）　、ヨーロッパ特許第２２．４
７８号；米国特許第４．２３１．９３８号１゜更に、ま
たあるインドール誘導体またはピラゾール誘導体はＨＭ
Ｇ−ＣｏＡ還元酵素の阻害剤として開示されている【ヨ
ーロッパ特許出願公開第１゜１１４．０２７号；米国特
許第４．６１３．６１０号ｌ。

一般式（Ｉ） は アルキルを表わし、数基はハロゲン、シアノ、アルコキ
シ、アルキルチオ、アルキルスルホニル、トリフルオロ
メチル、トリフルオロメトキシ、トリフルオロメチルチ
オ、トリフルオロメチルスルホニル、アルコキシカルボ
ニルもしくはアシルで、または式−ＮＲ’Ｒ’、但し、
Ｒ４及びＲ５は同一もしくは相異なるものであり、アル
キル、アリール、アラルキル、アシル、アルキルスルホ
ニルまたはアリールスルホニルを表わす、 の基で、またはカルバモイル、ジアルキルカルバモイル
、スルファモイル、ジアルキルスルファモイル、ヘテロ
アリール、アリール、アリールオキシ、アリールチオ、
アリールスルホニル、アラルコキシ、アラルキルチオも
しくはアラルキルスルホニルで置換されていてもよく、
最後に述べた置換基のへテロアリール及びアリール基ハ
ハロゲン、シアノ、トリフルオロメチル、トリフルオロ
メトキシ、アルキル、アルコキシ、アルキルチオまたは
アルキルスルホニルからなる同一もしくは相異なる置換
基で一置換、二置換または三置換されていてもよく、 Ｒ２はへテロアリールを表わし、数基はハロゲン、アル
キル、アルコキシ、アルキルチオ、アルキルスルホニル
、アリール、アリールオキシ、アリールチオ、アリール
スルホニル、トリフルオロメチル、トリフルオロメトキ
シ、トリフルオロメチルチオもしくはアルコキシカルボ
ニルまｔ；は式−ＮＲ’Ｒ’、但し、 Ｒ４及びＲ６は上記の意味を有する、 の基からなる同一もしくは相異なる基で一置換、二置換
または三置換されていてもよく或いはＲ２はアリールを
表わし、数基はアルキル、アルコキシ、アルキルチオ、
アルキルスルホニル、アリール、アリールオキシ、アリ
ールチオ、アリールスルホニル、アラルキル、アラルコ
キシ、アラルキルチオ、アラルキルスルホニル、ハロゲ
ン、シアノ、ニトロ、トリフルオロメチル、トリフルオ
ロメトキシ、トリフルオロメチルチオ、アルコキシカル
ボニル、スルファモイルジアルキルスルファモイル、カ
ルバモイルもしくはジアルキルカルバモイル、または式
−ＮＲ４ＲＳ，但し、 Ｒ４及びＲＳは上記の意味を有する、 の基からなる同一もしくは相異なる基で一置換乃至三置
換されていてもよく、 Ｒ１は水素を表わすか、 シクロアルキルを表わすか、 アルキルを表わし、数基はハロゲン、シアノ、ル、トリ
フルオロメチル、トリフルオロメトキシ、トリフルオロ
メチルチオ、トリフルオロメチルスルホニル、アルコキ
シカルボニルモジくはアシルで、式−ＮＲ’Ｒ″、但し
、 Ｒ１及びＲｓは上記の意味を有する、 の基で、またはカルバモイル バモイル、スルファモイル、ジアルキルスルファモイル
、ヘテロアリール、アリール、アリールオキシ、アリー
ルチオ、アリールスルホニル、アラルコキシ、アラルキ
ルチオもしくはアラルキルスルホニルで置換されていて
もよく、最後に述べｔ；置換基のへテロアリール及びア
リール基はハロゲン、シアノ、トリフルオロメチル、ト
リフルオロメトキシ、アルキル、アルコキシ、アルキル
チオまたはアルキルスルホニルからなる同一もしくは相
異なる基で一置換、二置換または三置換されていてもよ
く、または Ｒ３はヘテロアリールを表わし、数基はハロゲン、アル
キル、アルコキシ、アルキルチオ、アアリールチオ、ア
リールスルホニル、トリフルオロメチル、トリフルオロ
メトキシ、トリフルオロメチルチオもしはアルコキシで
、または式％式％ Ｒ４及びＲ５は上記の意味を有する、 の基からなる同一もしくは相異なる基で一置換、二置換
または三置換されていてもよく、或いはＲ３はアリール
を表わし、数基はアルキル、アルコキシ、アルキルチオ
、アルキルスルホニル、アリール、アリールオキシ、ア
リールチオ、アリールスルホニル、アラルキル、アラル
コキシ、アラルキルチオ、アラルキルスルホニル、ハロ
ゲン、シアノ、ニトロ、トリフルオロメチル、トリフル
オロメトキシ、トリフルオロメチルチオ、アルコキシカ
ルボニル、スルファモイル、ジアルキルスルファモイル
、カルバモイルもしくはジアルキルカルボニルで、また
は式−ＮＲ’Ｒ’、但し、 Ｒ４及びＲ５は上記の意味を有する、 の基からなる同一もしくは相異なる基で一置換乃至三置
換されていてもよく、或いは Ｒ３はアルコキシ、アリールオキシ、アラルコキシ、ア
ルキルチす、アリールチオもしくはアラルキルチオを表
わすか、または式−ＮＲ’Ｒ５、但し、 Ｒ１及びＲ５は上記の意味を有する、 の基を表わし、 Ｘは式−ＣＨ，−ＣＨ，−または−ＣＨ＝ＣＨ−の基を
表わし、そして Ａは式 ％式％ Ｒ６は水素またはアルキルを表わし、そしてＲ７は水素
を表わすか、 メチル、アラルキルまたはアリール基を表わすか、或い
はカチオンを表わす、 の置換されたピリミジンが見い出された。

驚くべきことに、本発明における置換されたピリミジン
はＨＭＧ−ＣｏＡ還元酵素（３−ヒドロキシ−３−メチ
ル−グルタリル補酵素Ａ還元酵素）において良好な阻害
作用を示す。

シクロアルキルは一般に、炭素原子３〜８個を有する環
式炭化水素基を表わす。シクロプロピル、シクロペンチ
ル及びシクロヘキシル環が好ましい。

挙げ得る例はシクロプロピル、シクロペンチル、シクロ
ヘキシル、シクロへブチル及びンクロオクチルである。

アルキルは一般に、炭素原子１〜１２個を有する直鎖状
または分枝鎖状炭化水素基を表わす。炭素原子１〜約６
個を有する低級アルキルが好ましい。

挙げ得る例はメチル、エチル、プロピル、イソプロピル
、ブチル、イソブチル、ペンチル、インペンチル、ヘキ
シル、イソヘキシル、ヘプチル、イソヘプチル、オクチ
ル及びインオクチルである。

アルコキシは一般に、酸素原子を介して結合する炭素原
子１−１２個を有する直鎖状または分枝鎖状炭化水素基
を表わす。炭素原子１〜約６個を有する低級アルコキシ
が好ましい。炭素原子１〜４個を有するアルコキシ基が
殊に好ましい。挙げ得る例はメトキシ、エトキシ、プロ
ポキシ、イソプロポキシ、ブトキシ、イソブトキシ、ペ
ントキン、イソペントキシ、ヘキソキシ、インヘキソキ
シ、ヘプトキシ、イソへブトキシ、オクトキシまたはイ
ンオクトキシである。

アルキルチオは一般に、硫黄原子を介して結合する炭素
原子１〜１２個を有する直鎖状または分枝鎖状炭化水素
基を表わす。炭素原子１〜約６個を有する低級アルキル
チオが好ましい。炭素原子１〜４個を有するアルキルチ
オ基が殊に好ましい。

挙げ得る例はメチルチオ、エチルチオ、プロピルチオ、
イソプロピルチオ、ブチルチオ、イソブチルチオ、ペン
チルチす、イソブチルチオチルチオ、イソへキシルチオ
、ヘプチルチオ、イソへブチルチオ、オクチルチオまた
はインオクチルチオである。

アルキルスルホニルは一般に、ＳＯ□基を介して結合す
る炭素原子１〜１２個を有する直鎖状または分校鎖状炭
化水素基を表わす。炭素原子１〜約６個を有する低級ア
ルキルスルホニルが好ましい。

挙げ得る例は次のものである：メチルスルホニル、エチ
ルスルホニル、プロピルスルホニル、イソプロピルスル
ホニル、ブチルスルホニル、インブチルスルホニル、ペ
ンチルスルホニル、イソペンチルスルホニル、ヘキシル
スルホニル、イソへキシルスルホ、ニル。

アリールは一般に、炭素原子６〜約１２個を有する芳香
族基を表わす。好ましいアリール基はフェニル、ナフチ
ル及びビフェニルである。

アリ−ノーオキシは一般に、酸素原子を介して結合する
炭素原子６〜約１２個を有する芳香族基を表わす。好ま
しいアリールオキシ基はフェノキシまたはナフチルオキ
シである。

アリールチオは一般に、硫黄原子を介して結合する炭素
原子６〜約１２個を有する芳香族基を表わす。好ましい
アリールチオ基はフェニルチオまたはナフチルチオであ
る。

アリールスルホニルは一般に、Ｓ０２基を介して結合す
る炭素原子６〜約１２個を有する芳香族基を表わす。挙
げ得る例は次のものである：フェニルスルホニル、ナフ
チルスルホニル及ヒヒフェニルスルホニル。

アラルキルは一般に、アルキレン鎖を介して結合する炭
素原子７〜１４個を有するアリール基な表わす。脂肪族
部分に炭素原子１〜６個及び芳香族部分に炭素原子６〜
１２個を有するアラルキル基が好ましい。挙げ得る例は
次の基である：ベンジル、ナフチルメチル、フェネチル
及びフェニルプロピル。

アラルコキシは一般に、アルキレン鎖が酸素原子を介し
て結合している炭素原子７〜１４個を有するアラルキル
基を表わす。脂肪族部分に炭素原子１〜６個及び芳香族
部分に炭素原子６〜１２個を有するアラルコキシ基が好
ましい。挙げ得る例は次のアラルコキシ基である：ペン
ジルオキシ、ナフチルメトキシ、フエネトキシ及びフェ
ニルグロポキシ。

アラルキルチオは一般に、アルキル鎖が硫黄原子を介し
て結合している炭素原子７〜約１４個を有するアラルキ
ル基を表わす。脂肪族部に炭素原子１〜６個及び芳香族
部分に炭素原子６〜１２個を有するアラルキルチオ基が
好ましい。挙げ得る例は次のアラルキル基である：ベン
ジルチオ、ナフチルメチルチオ、７エネチルチオ及びフ
ェニルプロピルチオ。

アラルキルスルホニルは一般に、アルキル基がＳＯ２結
合を介して結合している炭素原子７〜約１４個を有する
アラルキル基を表わす。脂肪族部分に炭素原子１〜６個
及び芳香族部分に炭素原子６〜１２個を有するアラルキ
ルスルホニル基が好ましい。挙げ得る例は次のアラルキ
ルスルホニル基である：ベンジルスルホニル、ナフチル
メチルスルホニル ピルスルホニル。

アルコキシカルボニルは例えば式 ％式％ によって表わすことができる。この式において、アルキ
ルは炭素原子１−１２個を有する直鎖状または分枝鎖状
炭化水素基を表わす。アルキル部分に炭素原子１〜約６
個を有する低級アルコキシカルボニルが好ましい。アル
キル部分に炭素原子１〜４個を有するアルコキシカルボ
ニルが殊に好マしい。挙げ得る例は次のアルコキシカル
ボニル基である：エトキシカルボニル、エトキシカルボ
ニル、プロポキシカルボニル、インプロポキシカルボニ
ル、ブトキシカルボニルまたはインブトキシカルボニル
。

アシルは一般に、カルボニル基を介して結合するフェニ
ルまたは炭素原子１〜約６個を有する直鎖状または分枝
鎖状低級アルキルを表わす。７エ二ル及び炭素原子４個
までを有するアルキル基が好ましい。挙げ得る例は次の
ものである：ベンゾイル、アセチル、エチルカルボニル
、プロピルカルボニル、イソプロピルカルボニル、ブチ
ルカルボニル及びイソブチルカルボニル。

ハロゲンは一般に、フッ素、塩素、臭素またはヨウ素、
好ましくはフッ素、塩素または臭素である。

殊に好ましくは、ハロゲンはフッ素または塩素である。

ヘテロアリールは一般に、上記定義の範囲内で、ヘテロ
原子として酸素、硫黄及び／または窒素を含むことがで
き且つこれに更に芳香族環が融合していてもよい５−乃
至６−員の芳香族環を表わす。

酸素１個、硫黄１個及び／または窒素原子２個までを含
み且つ随時ベンゼンに融合していてもよい５−乃至６−
員の芳香族環が好ましい。殊に好ましいものとして挙げ
得るヘテロアリール基は次のものである：チェニル、フ
リル、ピロリル、ヒラゾリル、ピリジル、ピリミジル、
ピラジニル、ピリダジニル、キノリル、イソキノリル、
キナゾリル、キノキサリル、フタラジニル、シンノリル
、チアゾリル、ベンゾチアゾリル、イソチアゾリル、オ
キサシリル、ベンズオキサシリル、インキサゾリル、イ
ミダゾリル、ベンズイミダゾリル、ピラゾリル、インド
リル及びイソインドリル。

Ｒ７がアルキル、アリールまたはアラルキル基を表わす
場合、これはエステル基を形成する。

生体内で容易に遊離カルボキシル基に加水分解される生
理学的に許容し得るエステル及び対応する生理学的に許
容し得るアルコールが好ましい。

これらのものには例えばアルキルエステル（Ｃｔ〜Ｃ，
）及びアラルキルエステル（ｃｉ〜１０）、好ましくは
低級アルキルエステル及びベンジルエステルが含まれる
。メチルエステル、エチルエステル、プロピルエステル
及びベンジルエステルが殊に好ましい。

Ｒ７がカチオンを表わす場合、好ましくは生理学的に許
容し得る金属カチオンまたはアンモニウムカチオンを意
味する。これに関して、アルカリ金属またはアルカリ土
類金属カチオン、例えばナトリウムカチオン、カリウム
カチオン、マグネシウムカチオンまたはカルシウムカチ
オン、及びまたアルミニウムカチオンまたはアンモニウ
ムカチオン、並びにまたアミン、例えばジ低級アルキル
アミン（Ｃ，〜約Ｃ６）、トリ低級アルキルアミン（Ｃ
ｔ〜約ｃｉ）、ジベンジルアミン、Ｎ、Ｎ’　−ジベン
ジルエチレンジアミン、Ｎ−ベンジル−β−フェニルエ
チルアミン、Ｎ−メチルモルホリン、Ｎ−エチルモルホ
リン、ジヒドロアビエチルアミン、Ｎ、Ｎ’　−ビス−
ジヒドロアビエチルエチレンジアミン、Ｎ−低級アルキ
ルピペリジン及び塩の生成に使用し得る他のアミンによ
る無毒性の置換されたアンモニウムカチオンが好ましい
。

式（Ｉ）の好ましい置換されたピリミジンは、Ｒ１が・
シクロプロピノし、シクロペンチルまｊこけシクロヘキ
シルを表わすか、或いは 低級アルキルを表わし、数基はフッ素、塩素、臭素、シ
アノ、低級アルコキシ、低級アルキルチオ、低級アルキ
ルスルホニル、トリフルオロメチル、トリフルオロメト
キシ、トリフルオロメチルスルホニル、低級アルコキシ
カルボニル、ベンゾイル、低級アルキルカルボニルで、
式−ＮＲ’Ｒ’、但し、Ｒ４及びＲ５は同一もしくは相
異なるものであり、低級アルキル、フェニル、ベンジル
、アセチル、ベンゾイル、フェニルスルホニルまたは低
級アルキルスルホニルを表わす、 の基で、またはピリジル、ピリミジル、ピラジニル、ピ
リダジニル、キリル、イソキノリル、ピリル、インドリ
ル、チエニル、フリル、イミダゾリル、オキサシリル、
チアゾリル、フェニル、フェノキシ、フェニルチオ、フ
ェニルスルホニル、ベンジルオキシ、ベンジルチオ、ベ
ンジルスルホニル、フェニルエトキシ、フェニルエチル
チオまたはフェニルエチルスルホニルで置換されていて
もよく、上記のへテロアリール及びアリール基はフッ素
、塩素、臭素、低級アルキル、低級アルコキシ、トリフ
ルオロメチルまたはトリフルオロメトキシからなる同一
もしくは相異なる基で一置換または二置換されていても
よく、 Ｒ２がチエニル、フリル、チアゾリル、インチアゾリル
、オキサシリル、インキサゾリル、ピリジル、ピリミジ
ル、ピラジニル、ピリダジニル、インドリル、イソイン
ドリル、キノリル、イソキノリル、フタラジニル、キノ
キサリニル、キナゾリニル、シンノリニル、ベンゾチア
ゾリル、ベンズオキサシリルまたはベンズイミダゾリル
を表わし、これらの基はフッ素、塩素、臭素、低級アル
キル、低級アルコキシ、フェニル、フェノキシ、トリフ
ルオロメチル、トリフルオロメトキシまたは低級アルコ
キシカルボニルからなる同一もしくは相異なる基で一置
換または二置換されていてもよく、或いは Ｒ２がフェニルまｊ；はナフチルを表わし、これらの基
は低級アルキル、低級アルコキシ、低級アルキルチオ、
低級アルキルスルホニル、フェニル、フェニルオキシ、
フェニルチオ、フェニルスルホニル、ベンジル、ベンジ
ルオキシ、ベンジルチオ、ベンジルスルホニル、７エネ
チル、フェニルエトキシ、フェニルエチルチオ、フェニ
ルエチルスルホニル、フッ素、塩素、臭素、シアノ、ト
リフルオロメチル、トリフルオロメトキシ、トリフルオ
ロメチルチオもしくは低級アルコキシカルボニル、また
は式−ＮＲ’Ｒ″、但し、 Ｒ４及びＲｓは上記の意味を有する、 の基からなる同一もしくは相異なる基で一置換乃至四置
換されていてもよく、 Ｒ３が水素を表わすか、 シクロプロピル、シクロペンチルまたはシクロヘキシル
を表わすか、低級アルキルを表わし、数基はフッ素、塩
素、臭素、シアノ、低級アルコキシ、低級アルキルチオ
、低級アルキルスルホニル、トリフルオロメチル、トリ
フルオロメトキシ、トリフルオロメチルスルホニル、低
級アルコキシカルボニル、ベンゾイル、低級アルキルカ
ルボニルで、式−ＮＲ’Ｒ’、但し、 Ｒ６及びＲ５は上記の意味を有する、 の基で、またはピリジル、ピリミジル、ピラジニル、ピ
リダジニル、キノリル、イソキノリル、ピロリル、イン
ドリル、チエニル、フリル、イミダゾリル、オキサシリ
ル、チアゾリル、フェニノ呟フェノキシ、フェニルチオ
、フェニルスルホニル、ベンジルオキシ、ベンジルスル
ホニル、フェニルエトキシ、フェニルエチルチオもしく
はフェニルエチルスルホニルで置換されていてもよく、
上記のへテロアリール及びアリール基はフッ素、塩素、
臭素、低級アルキル、低級アルコキシ、トリフルオロメ
チルまたはトリフルオロメトキシからなる同一もしくは
相異なる基で一置換または二置換されていてもよく、ま
たは Ｒ３がチエニル、フリル、チアゾリル、インチアゾリル
、オキサシリル、イソキサゾリル、ピリジル、ピリミジ
ル、ピラジニル、ピリダジニル、インドリル、イソイン
ドリル、キノリル、イソキノリル、フタラジニル、キノ
キサリニル、キナゾリニル、シンノリニル、ベンゾチア
ゾリル、ベンズオキサシリルまたはベンズイミダゾリル
を表わし、数基の各々はフッ素、塩素、臭素、低級アル
キル、低級アルコキシ、フェニル、フェノキシ、トリフ
ルオロメチル、トリフルオロメトキシまたは低級アルコ
キシカルボニルからなる同一もしくは相異なる基で一置
換または二置換されていてもよく、或いは Ｒ３がフェニルまたはナフチルを表わし、数基は低級ア
ルキル、低級アルコキシ、低級アルキルチオ、低級アル
キルスルホニル、フェニル、フェニルオキシ、フェニル
チオ、フェニルスルホニル、ベンジル、ベンジルオキシ
、ベンジルチオ、ベンジルスルホニル、フェネチル、フ
ェニルエトキシ、フェニルエチルチオ、フェニルエチル
スルホニル、フッ素、塩素、臭素、シアノ、トリフルオ
ロメチル、トリフルオロメトキシ、トリフルオロメチル
チオもしくは低級アルコキシカルボニル、または式−Ｎ
Ｒ’Ｒ’、但し、 Ｒ４及びＲ５は上記の意味を有する、 の基からなる同一もしくは相異なる基で一置換乃至四置
換されていてもよく、或いは Ｒ１がアルコキシ、アリールオキシ、アラルコキシ、ア
ルキルチオ、アリールチオもしくはアラルキルチオを表
わすか、または式−ＮＲ’Ｒ’、但し、Ｒ４及びＲ８は
上記の意味を有する、 の基を表わし、 Ｘが式−ＣＨ！−ＣＨ，−または−ＣＨ−ＣＨ−の基を
表わし、そして 八が式　　　　　　Ｒ６ の基を表わし、ここに、 Ｒ６は水素または低級アルキルを表わし、そして Ｒ７はアルキル（Ｃ＋〜Ｃ５）、アリール（Ｃａ−Ｃｌ
２）またはアラルキル（ｃｙ〜Ｃ１゜）を表わすか、或
いは 生理学的に許容し得るカチオンを表わす、の化合物であ
る。

一般式（Ｉ）の殊に好ましい化合物は、Ｒ１がシクロプ
ロピル、シクロペンチルまたはシクロヘキシルを表わす
か、或いはメチル、エチル、プロピル、イソプロピル、
ブチル、５ｅｃ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチルを表わし、
その各々は７ノ素、塩素、臭素、シアノ、メトキシ、エ
トキシ、プロポキシ、インプロポキシ、ブトキシ、５ｅ
ｃ−ブトキシ、ｔｅｒｔ−ブトキシ、メチルチオ、エチ
ルチオ、プロピルチオ、イソプロピルチオ、メチルスル
ホニル、エチルスルホニル、プロピルスルホニル、イソ
プロピルスルホニル、トリフルオロメチル、トリフルオ
ロメトキシ、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル
、ブトキシカルボニル、インブトキシカルボニル、ｔｅ
ｒｔ−ブトキシカルボニル、ベンゾイル、アセチル、ピ
リジル、ピリミジル、チエニル、フリル、フェニル、フ
ェノキシ、フェニルチオ、フェニルスルホニル、ベンジ
ルオキシ、ベンジルチオまたはベンジルスルホニルで置
換されていてもよく、 Ｒ２がピリジル、ピリミジル、キノリルまたはイソキノ
リルを表わし、数基はフッ素、塩素、メチル、メトキシ
またはトリフルオロメチルで置換されていてもよく、或
いは Ｒ２がフェニルを表わし、数基はメチル、エチル、プロ
ピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、ｔｅｒｔ−
ブチル、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、インプロポ
キシ、ブトキシ、イソブトキシ、ｔｅｒｔ−ブトキシ、
メチルチオ、エチルチオ、プロピルチオ、イソプロピル
チオ、メチルスルホニル、エチルスルホニル、プロピル
スルホニル、イソプロピルスルホニル、フェニル、フェ
ノキシ、ベンジル、ベンジルオキシ、フッ素、塩素、臭
素、シアノ、トリフルオロメチル、トリフルオロメトキ
シ、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、プロポ
キシカルボニル、インプロポキシカルボニル、ブトキシ
カルボニル、インブトキシカルボニルまたはｔｅｒｔ−
ブトキシカルボニルからなる同一もしくは相異なる基で
一置換、二置換または三置換されていてもよく、 Ｒ３が水素、シクロプロピル、シクロペンチルまたはシ
クロヘキシルを表わすか、メチル、エチル、プロピル、
イソプロピル、ブチル、イソブチル、ｔｅｒｔ−ブチル
、ペンチル、インペンチル、ヘキシルまたはイソヘキシ
ルを表わし、これらの基はフッ素、塩素、臭素、シアノ
、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、イソプロポキシ、
ブトキシ、イソブトキシ、ｔｅｒｔ−ブトキシ、メチル
チオ、エチルチオ、プロピルチオ、イソプロピルチオ、
ブチルチオ、イソブチルチオ、ｔｅｒｔ−ブチルチオ、
メチルスルホニル、エチルスルホニル、プロピルスルホ
ニル、イソプロピルスルホニル、ブチルスルホニル、イ
ソブチルスルホニル、ｔｅｒｔ−ブチルスルホニル、ト
リフルオロメチル、トリフルオロメトキシ、メトキシカ
ルボニルし、エトキシカルボニルプロポキシカルボニル
、インプロポキシカルボニル、ブトキシカルボニル、イ
ソブトキシカルボニル、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル
、ベンゾイル、アセチルもしくはエチルカルボニルで、
式−ＮＲ’Ｒ’％　但し、 Ｒも及びＲうは同一もしくは相異なるものであり、メチ
ル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブ
チル、ｔｅｒｔ−ブチル、フェニル、ベンジノ呟アセチ
ル、メチルスルホニル、エチルスルホニル、フロビルス
ルホニル、イソプロピルスルホニルまたはフェニルスル
ホニルヲ表わす、の基で、またはピリジル、ピリミジル
、ピラジニル、ピリダジニル、キノリン、イソキノリン
、チエニル、フリル、フェニル、フェノキシ、フェニル
チオ、フェニルスルホニル、ベンジルオキシ、ベンジル
チオもしくはベンジルスルホニルで置換されていてもよ
く、上記のへテロアリール及びアリール基はフッ素、塩
素、メチル、エチル、プロピル、インプロピル、イソブ
チル、ｔｅｒｔ−ブチル、メトキシ、エトキシ、プロポ
キシ、インプロポキシ、ブトキシ、インブトキシ、ｔｅ
ｒｔ−ブトキシ、トリフルオロメチルまｔ；はトリフル
オロメトキシで置換されていてもよく、或いは Ｒ３がチエニル、フリル、ピリジル、ピリミジル、ピラ
ジニル、ピリダジニル、オキサシリル、インキサゾリル
、イミダゾリル、ピラゾリル、チアゾリル、インチアゾ
リル、キノリル、イソキノリル、ベンズオキサシリル、
ベンズイミダゾリルまたはベンズチアゾリルを表わし、
これらの基はフッ素、塩素、メチル、エチル、プロピル
、イソプロピル、ブチル、イソブチル、ｔｅｒｔ−ブチ
ル、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、インプロポキシ
、ブトキシ、イソブトキシ、ｔｅｒｔ−ブトキシ、フェ
ニル、フェノキシ、トリフルオロメチル、トリフルオロ
メトキシ、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、
イソプロポキシカルボニル、プロポキシカルボニル、ブ
トキシカルボニル、インブトキンカルボニルまたはｔｅ
ｒｔ−ブトキシカルボニルで置換されていてもよく、或
いは Ｒ３がフェニルを表わし、数基はメチル、エチル、プロ
ピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、ｔｅｒｔ−
ブチル、ペンチル、インペンチル、ヘキシル、イソヘキ
シル、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、インプロポキ
シ、ブトキシ、イソブトキシ、ｔｅｒｔ−ブトキシ、メ
チルチオ、エチルチオ、プロピルチす、イソプロピルチ
オ、ブチルチオ、イソブチルチオ、ｔｅｒｔ−ブチルチ
オ、メチルスルホニル、エチルスルホニル、プロピルス
ルホニル、イソプロピルスルホニル、ブチルスルホニル
、インブチルスルホニル、　ｔｅｒｔ−ブチルスルホニ
ル、フェニル、フェノキシ、フェニルチオ、フェニルス
ルホニル、ベンジル、ベンジルオキシ、ベンジルチオ、
ベンジルスルホニル、フッ素、塩素、臭素、シアン、ト
リフルオロメチル、トリフルオロメトキシ、トリフルオ
ロメチルチオ、メトキシカルボニル、エトキシカルボニ
ル、プロポキシカルボニル、インプロポキシカルボニル
、ブトキシカルボニル、インブトキンカルボニル トキシカルボニルまたは基−ＮＲ’Ｒ’、但し、Ｒ４及
びＲ３は上記の意味を有する、 からなる同一もしくは相異なる基で一置換、二置換また
は三置換されていてもよく、或いはＲ３がアルコキシ、
アリールオキシ、アラルコキシ、アルキルチオ、アリー
ルチオ、アラルキルチオまたは式−ＮＲ’Ｒ’、但し、
Ｒ４及びＲ５は上記の意味を有する、 の基を表わし、 Ｘが式−ＣＨ，−ＣＨ，−または−ＣＨ＝ＣＨ−の基を
表わし、そして Ａが式 ％式％ Ｒ１は水素、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル
、ブチル、イソブチルまたはｔｅｒｔ−ブチルを表わし
、そして Ｒ７は水素、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル
、ブチル、イソブチル、ｔｅｒｔ−ブチルまたはベンジ
ルを表わすか、或いはナトリウム、カリウム、カルシウ
ム、マグネシウムまたはアンモニウムイオンを表わす、 化合物である。

本発明における一般式（Ｉ）の置換されたピリミジンは
数個の不斉炭素原子を有し、従って、種々な立体化学的
型で存在することができる。本発明は個々の異性体及び
その混合物の双方に関する。

基Ｘまたは基Ａの意味に応じて、異なる立体異性体を生
じ、これを次に更に詳細に説明する：ａ）基−Ｘ−が式
−ＣＨ−ＣＨ−の基を表わす場合、本発明における化合
物は二重結合においてＥ立体配置（ＩＩ）またはＺ立体
配置ｔ（ＩＩＩ）を有し得る２種の立体異性体型で存在
することができる：：　　　へ　　／Ａ （″）“−ゝ　　ｖ（１− Ｒコ　Ｎ”−ＲＩ 式中、Ｒ１、Ｒ２，Ｒ３及びＡは上記の意味を有する。

Ｅ立体配置（Ｉｔ）を有する一般式（Ｉ）の化合物が好
ましい。

ｂ）基−Ａ−が式 ％式％ の基を表わす場合、−数式（Ｉ）の化合物は少なくとも
２個の不斉炭素原子即ちヒドロキシル基が結合した２個
の炭素原子を有する。これらのヒドロキシル基相互の相
対位置に応じて、本発明における化合物はエリスロ立体
配置（ＴＶ）またはスレオ立体配置（”ｉ７）で存在す
ることができる。

またエリスロ及びスレオ立体配置における化合物の双方
の場合に２種のエナンチオマー、即ち３Ｒ１５Ｓ−異性
体または３５，５Ｒ−異性体（エリスロ型）並びに３Ｒ
，５Ｒ−異性体及び３Ｓ。

５Ｓ−異性体（スレオ型）が存在する。

これに関して、エリスロ立体配置を有する異性体が好ま
しく、３Ｒ，５Ｓ−異性体及び３Ｒ１５Ｓ−３５，５Ｒ
−ラセミ体が殊に好ましい。

Ｃ）基−Ａｍが式 の基を表わす場合、置換されたピリミジンは少なくとも
２個の不斉炭素原子、即ち、ヒドロキシル基が結合する
炭素原子及び式 の基が結合する炭素原子を有する。ラクトン環における
遊離原子に関するヒドロキシル基の位置に応じて、置換
されたピリミジンはシス−ラクトン（Ｖｌ）またはトラ
ンスラクトン（■）として存在することができる： またシス−ラクトン及びトランス−ラクトンの双方に２
種の異性体、即ち、４Ｒ１６Ｒ−異性体まｔ；は４Ｓ、
６Ｓ−異性体（シス−ラクトン）及び４Ｒ，６Ｓ−異性
体または４Ｓ、６Ｒ−異性体（トランス−ラクトン）が
存在する。トランス−ラクトンが好ましい異性体である
。これに関して、４Ｒ，６Ｓ−異性体（トランス）及び
４Ｒ，６Ｓ−４３，６Ｒ−ラセミ体が好ましい。

例えば、置換されｔ；次の異性体型を挙げることができ
る： −数式（Ｉａ）及び（Ｉｂ）の殊に極めて好ましい化合
物は、 Ｒ１がシクロプロピル、メチル、エチル、プロピル、イ
ソプロピル、ブチル、イソブチルまたはｔｅｒｔ、−ブ
チルを表わし、 Ｒ２がメチル、メトキシ、フェノキシ、フッ素、塩素ま
たはトリフルオロメチルからなる同一もしくは相異なる
基で一置換または二置換されていてもよいフェニルを表
わし、 Ｒ３がメチル、イソプロピル％　ｔｅｒｔ、−ブチルを
表わすか、或いはメチル、メトキシ、フッ素または塩素
からなる同一もしくは相異なる基で一置換まｔ；は二置
換されていてもよいフェニルを表わし、Ｘが式 ％式％） Ａが式　　　　　　　Ｒ・ ０）１　　　　　０Ｈ または 式中　Ｈａは水素を表わし、そして Ｒ７は水素、メチルまたはエチルを表わすか、或いはナ
トリウムまたはカリウムカチオンを表わす、 の基を表わす、 化合物である。

加えて、−数式（■） 式中、Ｒ１，Ｒ２及びＲ３は上記の意味を有し、そして Ｒ７／はアルキル、アリールまたはアラルキルを表わす
、 のケトンを還元し、 銀酸を製造する場合には、該エステルを加水分解し、 該ラクトンを製造する場合には、該カルボン酸を環形成
させ、 数基を製造する場合には、該エステルまｔ；はラクトン
を加水分解し、 該エチレン化合物（Ｘ＝−ＣＨｚ　　ＣＨ２）を製造す
る場合には、エテン化合物（Ｘ＝−ＣＨ＝ＣＨ−）を普
通の方法で水素添加し、そして適当ならば、異性体を分
割する ことを特徴とする一般式（１） 式中、Ｒ’、Ｒ”、Ｒ３、Ａ及びｘは上記の意味を有す
る、 の置換されたピリミジンの製造方法が見い出された。

本発明における方法を次の反応式によって説明すること
ができる： 還元は普通の還元剤を用いて、好ましくはケトンのヒド
ロキシ化合物への還元に対して適する還元剤を用いて行
うことができる。これに関して、望ましいならば、トリ
アルキルポランの存在下において、不活性溶媒中の金属
水素化物または複合金属水素化物を用いる還元が殊に適
当である。好ましくは還元を複合金属水素化物、例えば
水素化ホウ素リチウム、水素化ホウ素ナトリウム、水素
化ホウ素カリウム、水素化ホウ素亜鉛、トリアルキル水
素化ホウ素リチウム、トリアルキル水素化ホウ素ナトリ
ウム、シアノ水素化ホウ素ナトリウムまたは水素化リチ
ウムアルミニウムを用いて行われる。殊に極めて好まし
くは還元はトリエチルポランの存在下において水素化ホ
ウ素ナトリウムを用いて行われる。

これに関して、適当な溶媒は反応条件下で変化せぬ普通
の有機溶媒である。これらの溶媒には好ましくはエーテ
ル、例えばジエチルエーテル、ジオキサン、テトラヒド
ロフランまたはジメトキシエタン、ハロゲン化された炭
化水素、例えばジクロロメタン、トリクロロメタン、テ
トラクロロメタン、ｌ、２−ジクロロエタン、或いは炭
化水素、例えばベンゼン、トルエンまたはキシレンが含
まれる。また上記溶媒の混合物を用いることもできる。

ケト基のヒドロキシル基への還元は殊に好ましくは、他
の官能基、例えばアルコキシカルボニル基が変化せぬ条
件下で行われる。このために、不活性溶媒、例えば好ま
しくはエーテル中でトリエチルポランの存在下において
、還元剤として水素化ホウ素ナトリウムを用いることが
殊に適当である。

一般に、還元を一８０°Ｃ乃至室温（約＋３０℃）、好
ましくは一７８℃乃至０℃の温度範囲で行う。

本発明における方法は一般に、大気圧下で行われる。し
かしながら、また減圧下または昇圧下（例えば０．５〜
５バール範囲）で行うこともできる。

一般に、還元剤をケト化合物１モル当り１〜２、モル、
好ましくは１−１．５モルの量で用いる。

上記の反応条件下で、一般にカルボニル基が、二重結合
の単結合への還元を起こすことなく、ヒドロキシル基に
還元される。

Ｘがエチレン基を表わす一般式ＣＩ）の化合物を製造す
るために、ケトン（ＩＩＩ）の還元をカルボニル基及び
二重結合の双方が還元される条件下で行うことができる
。

更に、また２つの別個の工程において、カルボニル基の
還元及び二重結合の還元を行うこともできる。

一般式（Ｉ）の関連するカルボン酸は式（Ｉｃ）（Ｉ　
ｃ） 式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ６及びＸは上記の意味を有
する、 に対応する。

一般式（Ｉ）の関連するカルボン酸エステルは式（Ｉｄ
） 式中、Ｒ１，Ｒ２、Ｒ３、Ｒ６及びＸは上記の意味を有
し、そして Ｒ７／はアルキル、アラルキルまたはアリールを表わす
、 に対応する。

一般式（１）の関連する本発明の化合物の塩は式（Ｉｅ
） （Ｉｓ） 式中、Ｒ１、Ｒ１、Ｒ３、Ｒ６及びｘは上記の意味を有
し、そして Ｍ“は、ｎが１または２を表わす場合、ｎ−価のカチオ
ンを表わす、 に対応する。

一般式（１）の関連するラクトンは一般式（Ｉｆ）ＨＯ
Ｒ’ 式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ６及びＸは上記の意味を有
する、 に対応する。

本発明における一般式（Ｉｃ）のカルボン酸を製造する
ために、一般に、−数式（Ｉｄ）のカルボン酸エステル
まｔ：は−数式（Ｉ　ｆ）のラクトンを普通の方法で加
水分解する。一般に、加水分解は該エステルまたはラク
トンを不活性溶媒中にて普通の塩基で処理し、一般に、
−数式（Ｉ　ｅ）の塩をまず生成させ、次にこのものを
第二工程において酸で処理して一般式（Ｉｃ）の遊離酸
に転化することができる。

加水分解に対する適当な塩基は普通の無機塩基である。

これらの塩基には好ましくはアルカリ金属水酸化物また
はアルカリ土類金属水酸化物、例えば水酸化ナトリウム
、水酸化カリウムまたは水酸化バリウム、アルカリ金属
炭酸塩、例えば炭酸ナトリウムまたは炭酸カリウム、ま
たは炭酸水素ナトリウム、或いはアルカリ金属アルコレ
ート、例えばナトリウムメチレート、ナトリウムメチレ
ート、カリウムメチレート、カリウムメチレートまたは
カリウムｔｅｒｔ、−ブチレートが含まれる。

殊に好ましくは水酸化ナトリウムまｌ；は水酸化カリウ
ムを用いる。

加水分解に対する適当な溶媒は水または加水分解に対す
る普通の有機溶媒である。これらの溶媒には好ましくは
アルコール、例えばメタノール、エタノール、プロパツ
ール、イソプロパツールまたはブタノール、エーテル、
例えばテトラヒドロフランまたはジオキサン、或いはジ
メチルホルムアミドまにはジメチルスルホキシド 殊に好ましくは、アルコール、例えばメタノール、エタ
ノール、フロパノールまたはインプロパツールを用いる
。また上記の溶媒の混合物を用いることもできる。

一般に、加水分解を０°Ｃ乃至＋１００　’Ｃ！、好ま
しくは＋２０℃乃至＋８０℃の温度範囲で行う。

一般に、加水分解を大気圧下で行う。しかしながら、ま
た減圧下または昇圧下（例えば０．５〜５バール）で行
うことができる。

加水分解を行う際に、一般に、エステルまたはラクトン
１モル当り塩基１〜３モル、好ましくは１−１．５モル
の量を用いる。殊に好ましくは、反応体の等モル量を用
いる。

反応を行う際に、本発明における化合物（Ｉｅ）の塩が
第一工程で中間体として得られ、このものを単離するこ
とができる。本発明における酸（ＩＣ）は塩（Ｉｅ）を
普通の無機酸で処理して得られる。これらの酸には好ま
しくは鉱酸、例えば塩化水素酸、臭化水素酸、硫酸また
はリン酸が含まれる。これに関して、カルボン酸（Ｉｃ
）の製造に際して、加水分解による塩基性反応混合物を
、塩を単離せずに、第二工程において酸性にすることが
有利であることがわかった。次に酸を普通の方法で単離
することができる。

本発明における式（Ｉ　ｆ）のラクトンを製造すルタメ
に、一般に本発明におけるカルボン酸（ＩＣ）を普通の
方法によって、例えば対応する厳を不活性有機溶媒中で
、望ましい場合には、分子ふるいの存在下において加熱
することによって環形成させる。

これに関する適当な溶媒は炭化水素、例えばベンゼン、
トルエン、キシレン、鉱油フラクション、或いはテトラ
リン、ジグリムまたはトリグリムである。好ましくはベ
ンゼン、トルエンまたはキシレンを用いる。また上記溶
媒の混合物を用いることができる。殊に好ましくは、分
子ふるいの存在下における炭化水素、殊にトルエンを用
いる。

一般に、環形成を一４０°Ｃ乃至＋２００’０．好まし
くは一２５℃乃至＋５０°Ｃの温度範囲で行う。

一般に、環形成を大気圧下で行うが、しかし、また減圧
下または昇圧下（例えば０．５〜５バールの範囲）で行
うことができる。

更に、また環形成を不活性有機溶媒中で、環形成剤また
は脱水剤を用いて行う。これに関して、脱水剤として好
ましくはカルボジイミドを用いる。

好ましくはカルボジイミドとして、Ｎ、Ｎ’−ジシクロ
ヘキシルカルボジイミドパラトルエンスルホ不一ト、Ｎ
−シクロヘキシル−Ｎ’−［２−（Ｎ“−メチルモルホ
リニウム）エチル１カルボジイミドまたはＮ−（３−ジ
メチルアミノプロピル）−Ｎ’−エチル力シルポジイミ
ド塩酸塩用いる。

これに関する適当な溶媒は普通の有機溶媒である。これ
らの溶媒には好ましくはエーテル、例えばジエチルエー
テル、テトラヒドロフランまたはジオキサン、ハロゲン
化炭化水素、例えば塩化メチレン、クロロホルムまたは
四塩化炭素、炭化水素、例えばベンゼン、トルエン、キ
シレンまたは鉱油留分が含まれる。塩素化された炭化水
素、例えば塩化メチレン、クロロホルムまたは四塩化炭
素、炭化水素、例えばベンゼン、トルエンまたはキシレ
ン、或いは鉱留分が殊に好ましい。殊に好ましくは、塩
素化された炭化水素、例えば塩化メチレン、クロロホル
ムまたは四塩化炭素を用いる。

一般に、反応を０℃乃至＋８０℃、好ましくは＋１０℃
乃至＋５０℃の温度範囲で行う。

環形成を行う際に、脱水剤としてカルボジイミドによる
環形成法を用いることが有利であることがわかった。

一般に、異性体の個々の立体異性体成分への分割は普通
の方法、例えばエリエル（Ｅ　、Ｌ　、Ｅ　ｆｉｅｆ）
、炭素化合物の立体化学（Ｓ　ｔｅｒｅｏｃｈｅｍｉｓ
ｔｒｙ　ｏｆｃａｒｂｏｎ　ｃｏｍｐｏｕｎｄｓ）、マ
ツフグローヒル（ＭｃＧｒａｗＨｉｌ＋）、ｌ　９６２
、に記載された方法によって行われる。これに関して、
ラセミ性ラクトン工程からの異性体の分割が好ましい。

これに関して、殊に好ましくは、トランス−ラクトン（
■）のラセミ性異性体を、普通の方法によってＤ−（＋
）−ｔ　ｔ：はＬ−（−）−α−メチルベンジルアミン
で処理してジアステレオマー性ジヒドロキシアミド（Ｉ
ｇ） 式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＸは上記の意味を有する、 に転化し、次にこのものを通常の如くクロマトグラフィ
ーまたは結晶化によって個々のジアステレオマーに分割
することができる。次に、純粋なジアステレオマー性ア
ミドを普通の方法によって、例えばジアステレオマー性
アミドを水及び／または有機溶媒、例えばアルコール、
例えばメタノール、エタノール、プロパツールまたはイ
ソプロパツール中の無機塩基、例えば水酸化ナトリウム
または水酸化カリウムで加水分解し、対応する純粋なエ
ナンチオマー性ジヒドロキシ酸（Ｉｃ）を生成させ、こ
のものを上記の如く環形成によって純粋なエナンチオマ
ー性ラクトンに転化することができる。一般に、純粋な
エナンチオマー型における本発明による一般式（Ｉ）の
化合物を製造するために、上記方法における最終生成物
の立体配置が出発物質の立体配置に依存することを利用
する。

異性体の分割を例として次の反応式によって説明するも
のとする。

ジアステレオマーの混合物 出発物質として用いるケトン（■）は新規なも　、ので
ある。

一般式（ＩＩ） （ＩＩ） 式中、Ｒ１，Ｒｆｆｉ及びＲ３は上記の意味を有する、 のアルデヒドを塩基の存在下において不活性溶媒中で一
般式（Ｘ） 〇 Ｈ３Ｃ−Ｃ−ＣＨ２−ＣＯＯＲ”　　　　　　　　（Ｘ
）式中、Ｒ７′は上記の意味を有する、 のアセトアセテートと反応させることからなる本発明に
おける一般式（■） 式中、Ｒ１％Ｒ２、Ｒ３及びＲ７／は上記の意味を有す
る、 のケトンの製造方法が見い出された。

本発明における方法は、例えば次の反応式によって説明
することができる： これに関する適当な塩基は普通の強塩基性化合物である
。これらの塩基には好ましくは有機リチウム化合物、例
えばＮ−ブチルリチウム、ｓｅｃ、　−ブチルリチウム
、ｔｅｒｔ、−ブチルリチウムまたはフェニルリチウム
、アミド、例えばリチウムジイソプロピルアミド、ナト
リウムアミドもしくはカリウムアミド、またはリチウム
へキサメチルジシリルアミド、或いはアルカリ金属水素
化物、例えば水素化ナトリウムまたは水素化カリウムが
含まれる。また上記塩基の混合物を用いることもできる
。殊に好ましくは、Ｎ−ブチルリチウムまたは水素化ナ
トリウム或いはその混合物を用いる。

これに関する適当な溶媒は反応条件下で変化せぬ普通の
有機溶媒である。これらの溶媒には好ましくはエーテル
、例えばジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオ
キサンまたはジメトキシエタン、或いは炭化水素、例え
ばベンゼン、トルエン、キシレン、シクロヘキサン、ヘ
キサンまｔ二は鉱油留分が含まれる。また上記溶媒の混
合物を用いることもできる。殊に好ましくはエーテル、
例えばジエチルエーテル を用いる。

一般に、反応を−８０°Ｃ乃至＋５０°Ｃ１好ましくは
−２０°Ｃ乃至室温の温度範囲で行う。

一般に、この方法を大気圧下で行うが、しかし、また減
圧下または昇圧下で、例えば０．５〜５バール範囲で行
うこともできる。

この方法を行う際に、アルデヒド１モル当り、一般にア
セトアセテ−１１〜２モル、好ましくは１−１．５モル
量を用いる。

出発物質として用いる式（Ｘ）のアセトアセテートは公
知のものであるか、或いは公知の方法によって製造する
ことができる（バイルシュタインズ・ハンドブッフ◆デ
ア・オルガニッシエン・ヘミ　イ　−　（　　Ｂｅｉｌ
ｓｔｅｉｎ’ｓ　　Ｈａｎｄｂｕｃｈ　　ｄｅｒ　　ｏ
ｒｇａｎｉｓｃｈｅｎＣｈｅｍｉｅ）、ｍ，６３２；４
３８］　。

本発明における方法に対して挙げ得るアセトアセテート
は例えばアセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル、アセト
酢酸プロピル及びアセト酢酸イソプロピルである。

出発物質として用いる一般式（ＩＮ）のアルデヒドは新
規なものである。

加えて、−数式（ＸＩ）のピリミジンを一７０℃乃至＋
１００°Ｃの温度範囲で式（ＸＩ）のヒドロキシメチル
化合物に還元し、次に対応するアルデヒド（Ｘｌｌ＋）
に酸化し、そしてこのものを水素化ナトリウムの存在下
において、不活性溶媒、例えばエーテル、例えばジエチ
ルエーテル、テトラヒドロフランまたはジオキサン、好
ましくはテトラヒドロフラン中にて−２０°Ｃ乃至＋４
０°Ｃ１好ましくは一５°Ｃ乃至室温の温度範囲でジア
ルキル（Ｃ＋〜Ｃ４）−アミノビニルホスホネトと反応
させることからなる一般式（ｆｆ） （［） 式中、Ｒ１、Ｒ２及びＲ３は上記の意味を有する、 のアルデヒドの製造方法が見い出された。

例として次のタイプ（Ｉ）の化合物に対する後者の製造
を説明するためのものである。

（Ａ） （ＸＩ）　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　（
ＸＩ）（Ｘ１ｍ　　　　　　　　　　　　　（ｒＸ）こ
れに関連して、反応式Ａに従って、式（Ｉ［）、但し、 Ｒ８は炭素原子６個までを有するアルキル、アリール（
ＣＳ−Ｃ１，）またはアラルキル（Ｃ７〜Ｃ１６）を表
わし、そして Ｒ１、Ｒ２及びＲ３は上記の意味を有する、のピリミジ
ンを第一工程（１）において、不活性溶媒、例えばエー
テル、例えばジエチルエーテル、テトラヒドロフランま
たはジオキサン、好ましくはテトラヒドロ７ランまｔ；
はジオキサン、好ましくはテトラヒドロ７ラン中で、還
元剤として金属水素化物、例えば水素化リチウムアルミ
ニウム、シアノ水素化ホウ素ナトリウム、水素化ナトリ
ウムアルミニウム、水素化ジイソブチルアルミニウムま
たはナトリウムビス−（２−メトキシエトキシ）−ジヒ
ドロアルミネートを用いて、用いる還元剤に応じて−７
０°Ｃ乃至＋１００°Ｃ１好ましくは−７０°Ｃ乃至室
温または室温乃至７０°Ｃの温度範囲で還元し、ヒドロ
キシメチル化合物（Ｘｌｌ）を生成させる。この還元は
好ましくはテトラヒドロフラン中の水素化リチウムアル
ミニウムを用いて室温乃至８０°Ｃの温度範囲で行われ
る。ヒドロキシメチル化合物（ＸＩ［）を第二工程（２
）において普通の方法で酸化し、アルデヒド（Ｘｌｌｌ
）を生成させる。この酸化を例えばピリジニウムクロロ
クロメ−トラ用いて、望ましいならば、酸化アルミニウ
ムの存在下において、不活性溶媒、例えば塩素化された
炭化水素、好ましくは塩化メチレン中にて０°Ｃ乃至６
０°Ｃの温度範囲で、好ましくは室温で、或いはスワー
ン（Ｓ　ｗｅｒｎ）酸化の普通の方法によってトリフル
オロ酢酸／ジメチルスルホキシドを用いて行うことがで
きる。アルデヒド（Ｘｌｌｌ）を好ましくは第三工程（
３）において、水素化ナトリウムの存在下において、不
活性溶媒、例えばエーテル、例えばジエチルエーテル、
テトラヒドロ７ランまたはジオキサン、好ましくはテト
ラヒドロフラン中にて一２０℃乃至＋４０℃、好ましく
は一５°Ｃ乃至室温の温度範囲でジエチル２−（シクロ
へキシルアミノ）−ビニルホスホネートと反応させ、ア
ルデヒド（ＩＩ）を生成させる。

これに関連して出発物質として用いる式（ｎ）のピリミ
ジンは一般にジヒドロピリミジン（Ｘｍの酸化による反
応式Ｂに従って得られる。これに関連して出発物質とし
て用いるジヒドロピリミジンは文献から公知の方法によ
って製造される（ドイツ国特許出願公開第１０３，７９
６号）。ジヒドロピリミジン（ＸＩＶ）の酸化によるピ
リミジン（ＸＩ）の生成は例えば氷酢酸中で酸化クロム
を用いて一２０°Ｃ乃至＋１５０℃の温度範囲で、好ま
しくは還流温度で、或いは不活性溶媒、例えば塩素化さ
れた炭化水素、好ましくは塩化メチレン中で酸化剤とし
て２．３−ジクロロ−５，６−ジシアノ−ｐ−ベンゾキ
ノンを用いて、０°Ｃ乃至＋１００°Ｃの温度範囲で、
好ましくは室温で行うことができる。

（Ｂ） 本発明における一般式（１）の化合物は有用な薬理学的
特性を有し、薬剤における活性化合物として用いること
ができる。殊に、本化合物は３−ヒドロキシ−３−メチ
ル−グルタル補酵素Ａ（ＨＭＧ−ＣｏＡ）還元酵素の阻
害剤であり、その結果として、コレステロール生合成の
阻害剤である。

従って、本化合物を過脂肪蛋白質症［ｈｙｐｅｒ　　ｌ
ｉｐｏｐｒｏｔｅｉｎａｅｍｉａｌ　、脂肪蛋白質症ま
たは動脈硬化症の処置に用いることができる。

新規活性化合物を公知の方法において、不活性な無毒性
の製薬学的に適する賦形剤または溶媒を用いて、普通の
調製物例えば錠剤、糖衣丸、大割、粒剤、エアロゾル、
シロ７プ、乳液、懸濁液及び溶液に変えることができる
。これに関して、各々の場合に治療的活性物質は全混合
物の約０．５〜９８重量％、好ましくは１〜９０重量％
の濃度で、即ち、指示された投薬量範囲を達成するため
に十分な量で存在すべきである。

調製物は、例えば溶媒及び／または賦形剤を用いて、必
要に応じて、乳化剤及び／または分散剤を用いて、活性
化合物を伸展することによって製造され、例えば希釈剤
として水を用いる場合、必要に応じて、補助溶媒として
有機溶媒を用いることができる。

挙げ得る補助剤は例えば次のものである：水、無毒性の
有機溶媒、例えばパラフィン（例えば鉱油留分）、植物
油（ｆＩＩえば落花生／ゴマ油）、アルコール（例えば
エチルアルコール、グリセリン）、賦形剤、例えば粉砕
した天然鉱物（例えばカオリン、白陶土、タルク、チョ
ーク）、粉砕した合成鉱物（例えば高分散性シリカ、シ
リケート）、糖（例えばスクロース、ラクトース及びデ
キストロース）、乳化剤（例えばポリエチレン脂肪酸エ
ステル、ポリニチレン脂肪族アルコールエーテル、アル
キルスルホネート及びアリールスルホネート）、分散剤
（例えばリグニン−スルファイト廃液、メチルセルロー
ス、殿粉及びポリビニルピロリドン）並びに潤滑剤（例
えばステアリン酸マグネシウム、タルク、ステアリン酸
及びラウリル硫酸ナトリウム）。

投与を普通の方法で、好ましくは経口的、非経口的、舌
下的または静脈内に行う。経口投与の場合、勿論、また
錠剤には上記の賦形剤に加えて、種々な添加物、例えば
殿粉、好ましくはポテト殿粉、ゼラチン等と共に、添加
物、例えばクエン酸ナトリウム、炭酸カルシウム及びリ
ン酸二カルシウムを含ませることができる。更に、錠剤
を製造する際に、潤滑剤、例えばステアリン酸マグネシ
ウム、ラウリル硫酸ナトリウム及びタルクを追加的に用
いることができる。水性懸濁液の場合、上記の補助剤に
加えて、種々な風味改善剤または着色剤を活性化合物に
加えることができる。

非経口投与の場合、適当な液体賦形剤を用いて活性化合
物の溶液を使用することができる。

一般に、効果的な成果を得るｔ；めに、静脈内投与にお
いて約０．００１”１ｍｇ／に９体重、好ましくは約０
．０１〜０．５ｍｇ／ｋｇ体重の量を投与すること、そ
して経口投与において、投薬量は約０．０１〜２０ｍｇ
／に９体重、好ましくは０．１−１０ｍｇ／ｋｇ体重で
あることが有利であることがわかった。

それにもかかわらず、体重または投与径路のタイプ、薬
剤に対する個々の反応、その調製物の種類及び投与を行
う時期または間隔に応じて、上記量からはずれる必要が
ある。かくして、ある場合には、上記の最少量よりも少
ない量を投与する必要があり、一方、他の場合には、上
記の上限を越えなければならない。多量に投与する場合
、１日に数回に分けて投与することが望ましい。

実施例１ （Ｅ／Ｚ）−３−エトキシカルボニル−４−（４−フル
オロフェニル）−ブドー３−エン−２−オン４−フルオ
ロベンズアルデヒド６２ｇ（０，５モル）及びアセト酢
酸エチル５３．９　ｍＱ＜０．５モル）をまずイソプロ
パツール３００ｍＱに導入し、インプロパツール４０ｍ
Ｑ中のピペリジン２．８１ｍ１２（２８ミリモル）及び
酢酸１．６６ｍＱ（２９ミリモル）の混合物を加え、こ
の混合物を室温で４８時間撹拌した。混合物を真空下で
濃縮し、残渣を高真空下で蒸留した。

沸点：１３８°Ｃ１０，５ｍｍ０ 収量：５０．５ｇ（理論量の４５．５％）。

実施例　２ １．４−ジヒドロ−２，６−シメチルー４−（４−フル
オロフェニル）ピリミジン−５−カルボン酸エチル′　
実施例１の生成物２３．６ｇ（０，１モル）、アセトア
ミジン塩酸塩１０．５ｇ（０，１１モル）及び酢酸ナト
リウム９．８５ｇ（０，１２モル）をエタノール２３０
ｍｆｆ中にて還流下で一夜加熱し、溶媒を真空下で除去
し、残渣に酢酸エチル及びｌＮ塩酸１８０ｎ＋１２を加
え、有機相をＩＮ塩酸１００ｍｆｆを用いて２回洗浄し
、合液した水相をエーテルで洗浄し、濃水酸化ナトリウ
ム溶液でアルカリ性にし、酢酸エチルで３回抽出した。

酢酸エチル相を水で洗浄し、乾燥しくＮ　ａ　２Ｓ　Ｏ
４）、真空下で濃縮した。

収量：１２．４９、理論量の４４．９％。

’Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣＪ）：δ＝　Ｌ−１５（ｔｒ、３
Ｈ，ＣＨｚ）；ｌ。

９（ｓ　、　３Ｈ，ＣＨ２）　；２．３（Ｓ　、３Ｈ，
ＣＨ３）　；４．０５（Ｉｌｌ　、　２Ｈ，ＣＨ２）　
；５．３．５．５（２ｓ、　ＩＨ，ＣＨ）；６．９−７
．４（ｍ、４Ｈ，芳香族Ｈ）ｐｐｍ。

実施例　３ ２．６−シメチルー４−（４−フルオロフェニル）−ピ
リジン−５−カルボン酸エチル 実施例２の生成物１２．４ｇ（４５，１モル）を酢酸７
０ｍＱ中で沸点に加熱し、三酸化クロム４．６ｇ（４，
６ミリモル）を一部ずつ加えた。１時間後、混合物を２
５℃に冷却し、氷／２５％アンモニア水溶液に注ぎ、ア
ンモニア溶液を用いてアルカリ性にし、ジクロロメタン
で抽出し、有機相を水で洗浄し、乾燥しくＮａ２５Ｏ４
）、真空下で濃縮し、シリカゲル上で濾過（ジクロロメ
タン／メタノールｌｏ：ｌ）した後、生成物７．１４ｇ
を得た。

収率：理論量の５７．７％。

凰Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣＱ３）：　δ　−１，２（ｔｒ、
３Ｈ，ＣＨｓ）；２．６５（ｓ　、　３Ｈ，ＣＨｓ）　
；２−８５（ｓ　、３Ｈ、ＣＨ３）　；４．３（Ｑ　、
　２８　、ＣＨ２）　；　７　、１−７．８（ｍ、４Ｈ
，芳香族Ｈ）ｐｐｍ。

実施例　４ ２．６−シメチルー４−　（４−フルオロフェニル）−
５−ヒドロキシメチル−ピリミジン 水素化ジイソブチルアルミニウム（トルエン中１．５　
Ｍ）２７　ｍ（２（４０ミリモル）を窒素雰囲気下にて
一７８°Ｃで、トルエンｌｏＯｍｔｌ中の実施例３の生
成物５．６６ｇ（２０，６ミリモル）に滴下した。

２５°Ｃに加温した後、混合物を２０％水酸化カリウム
水溶液を用いて加水分解し、水相を酢酸エチルで洗浄し
、合液した有機相を乾燥しくＮａ。

ＳＯ，）、溶媒を真空下で除去した。

収率：４．１ｇ１理論量の８５．９％。

’Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣＬ）：δ＝　１．８（ｔｒ、ＩＨ
，０）Ｉ）；２．７（２ｓ、６Ｈ，ＣＨｓ）；４．６５
（ｄ、２Ｈ，ＣＨｚ）；７．ｌ−７，７（ｍ、４Ｈ１芳
香族Ｈ）ｐｐｍ。

実施例　５ ２．６−シメチルー４−（４−フルオロフェニル）−ピ
リミジン−５−カルボアルデヒド Ｃ）１２ ピリミジニウムクロロクロメ−）６．０６ｇ（２８，１
ミリモル）をジクロロメタン１００ｍ１２中の実施例４
の生成物４．１ｇ（１７，７ミリモル）の溶液に室温で
一部ずつ加え、混合物を２時間撹拌した。溶媒を真空下
で除去し、残渣をシリカゲル上で濾過した（ジクロロメ
タン／メタノール３：ｌ）。

収率：３．８ｇ、理論量の９３．４％。

’Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣ１３）：δ−２，８（２ｓ、６Ｈ
，ＣＨａ）；７．１−７．７（ｍ、４Ｈ，芳香族Ｈ）；
１０．０（ｓ、ＬＨ，ＣＨＯ）ｐｐｍ。

実施例６ （Ｅ）−３−［２，６−シメチルー４−（４−フルオロ
フェニル）−ピリミド−５−イル−５−イル］−プロプ
−２−エナール Ｎ％　、Ｎ ■ ＣＨ。

ＴＨＦ２０ｍｆ２中のジエチル［２−（シクロへキシル
アミノ）ビニル］−ホスホネート０．８１ｇの溶液をＴ
ＨＦ２Ｏｍｆｆ中の水素化ナトリウム０．５ｇ（２０，
８ミリモル）の懸濁液に０°Ｃで滴下し、混合物を１５
分間撹拌し、次にＴＨＦ１５ｍ１２中の実施例５の生成
物０．６３ｇ（２，７２ミリモル）の溶液を滴下し、混
合物を０°Ｃで１時間、２５℃で１時間撹拌し、水２０
ｍ１２を用いて加水分解し、ジエチルエーテルで洗浄し
、溶媒を真空下で除去し、残渣ヲトルエン４０ｍＱに採
り入れ、この溶液をシュウ酸２ｇ及び水４０ｍＱと共に
６０℃に１時間加熱し、混合物をジエチルエーテルで洗
浄し、乾燥しく　Ｎａ　２　Ｓ　Ｏ４）、溶媒を除去し
た後、生成物０．５ｇが得られた。

収率：理論量の７１．７％。

’Ｈ−Ｎ　Ｍ　Ｒ（ＣＤ　ＣＩ２．）：δ＝　２．７（
ｓ　、３Ｈ，ＣＨ３）；２−８（ｓ　、３Ｈ，ＣＨ３）
　；６．４（ｄｄ、　１８．ＣＨＣＨＯ））；７．２（
ｄ、　ｌ）ｌ　、ＣＨ）　；７　。

１−７．７（ｍ、４Ｈ，芳香族Ｈ）；９．６（ｄ、　Ｉ
Ｈ，ＣＨＯ）ｐｐｍ０実施例　７ メチル（Ｅ）　−７−［２，６−シメチルー４−（４−
フルオロフェニル）−ピリミド−５−イル］−５−ヒド
ロキシー３−オキソ−ヘプト−６−エノエートＣｆ（ｓ アセト酢酸メチル１．１１＋ｎＱ（１０，３ミリモル）
をＴＨＦ２５ｍｉ２中の水素化ナトリウム２５６ｍｇ（
１０，７ミリモル）の懸濁液に０°Ｃで滴下した。

１５分後、ｎ−ブチルリチウム（ヘキサン中１．５１’
Ｊ）７．３ｍ１２（１０，７ミリモル）を１０分間にわ
ｔ；って滴下し、この混合物を０°Ｃで１５分間撹拌し
、ＴＨＦ１０ｍ１２中の実施例６の生成物２．４ｇ　（
３，８ミリモル）の溶液を滴下し、混合物をＯ′Ｃで１
５分間撹拌し、飽和塩化アンモニウム水溶液３０ｍ１２
を用いて加水分解し、ジクロロメタンで３回洗浄し、乾
燥（Ｎａ２ＳＯ，）、溶媒を真空下で除去し、シリカゲ
ル上でクロマトグラフィー（酢酸エチル）にかけた後、
油２．４７ｇが得られた。

収率：理論量の７３．５％。

’　Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ　ＣＱｓ）：δ−２，５５（Ｓ、
３Ｈ，ＣＨ３）；２．７（ｄ　、　２Ｈ，Ｃ１２−ＣＨ
ｏＨ）　；２．７５（ｓ　、　３Ｈ，ＣＨＩ）　；３．
１（ｂｒ　、　ｓ、　１８　。

ＯＨ）　；３．５（ｓ　、２Ｈ，ＣＨｚ）　；３．７５
（ｓ　、３Ｈ，０ＣＨａ）　Ｉ１４−６５（、ＬＨ。

ＣＨＯＨ）；５．６（ｄｄ、ｌＨ，訓Ｃ，ＨＯＨ）　；
６．６（ｄ、　ＩＨ，Ｃ）り　；７．００−７−６（，
４Ｈ，芳香族Ｈ）ｐｐｍ。

実施例　８ メチルエリスロー（Ｅ）−３，５−ジヒドロキシ−７−
［２，６−シメチルー４−（４−フルオロフェニル）−
ヒリミトー５−イル〕−ヘプト−６−エノエート ＴＨＦ４５ｍＱ中の実施例７の生成物１．６９ｇ（４，
５５ミリモル）及びトリエチルポラン（ＩＭ。

ＴＨＥ）５．７ｍ（２（５−７ミリモル）の溶液中に空
気を５分間吹き込み、溶液を一３０°Ｃに冷却し、水素
化ホウ素ナトリウム２１５ｍｇ（５，７ミリモル）及び
徐々にメタノール３．８ｍＣを加え、混合物を一３０°
Ｃで３０分間撹拌し、水３３．４ｍＱ中の過酸化水素（
３０％）１５．２ミリの溶液を０°Ｃ以下で徐々に加え
、混合物を０℃で３０分間撹拌し、酢酸エチルに採り入
れ、水、ＩＮ塩酸、炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄し
、乾燥しくＮａ２５ｏ、）、溶媒を真空下で除去し、シ
リカゲル上でクロマトグラフィー（酢酸エチル）にかけ
た後、生成物１゜０８ｇが得られた。

収率：理論量の６３％。

’Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ（１３）：δ−１，８（ｂｒ、ｓ、
２Ｈ，ＯＨ）；２．５（ｍ、　２Ｈ，ＣＨｚ）　；２．
５５（ｓ　、　３Ｈ，ＣＨ３）　；２．７（ｓ　、　３
Ｈ，ＣＨｓ）　；３．７（ｓ、３Ｈ，０ＣＨ３）；４−
４−２（］、ＨＳＣＨＯＨ）；４．４５（ｍ、　ＬＨｌ
ＣＨＯＨ）；５．６（ｄｄ、　ＩＨ，訓、ＣＨＯＨ）；
６．５（ｄ、ＬＨ，ＣＨ）；７．０−７゜６（ｍ、４Ｈ
，芳香族）１）　ｐｐｍ。

実施例　９ １．４−ジヒドロ−４−（４−フルオロフェニル）−６
−メチル−２−フェニル−ピリミジン−５−カルボン酸
エチル 実施例２と同様にして、ベンズアミジン塩酸塩１０３．
６ｇ（０，５６モル）、実施例１の生成物１２１．５ｇ
（０，５モル）及び酢酸ナトリウム４９，２（０，６モ
ル）から、生成物８７．５ｇが得られた。

収率：理論量の２５．９％。

’Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ３ＣＮ）：δ＝　１．１５（ｔｒ、
２）１．ｃ）ｉ３）；２、１５（ｂｒ、ｓ、ＮＨ）　；
２．６（Ｓ　、３８．ＣＨ３）　；４．１（Ｑ、２Ｈ，
ＣＨ２）　；５゜８（ｓ、　ＬＨ，ｃＨ）；７．１−８
．０（９Ｈ１芳香族Ｈ）ｐｐｍ。

実施例　１０ ４−（４−フルオロフェニル）−６−メチル−２−フェ
ニル−ピリミジン−５−カルボン酸エチルＦ。

実施例３と同様にして、実施例９の生成物４０ｇ（０，
１２モル）及び三酸化クロム１１．８ｇ（０，１２モル
）から、生成物３４．９ｇが得られた。

収率：理論量の８７．９％。

’　Ｈ−Ｎ　Ｍ　Ｒ（ＣＤ　Ｃ１２３）：δ＝　Ｌ、Ｌ
５（ｔｒ、３８．ＣＨｓ）；２．７（Ｓ、３Ｈ，ＣＨ３
）　；４．２５（ｑ、２ｔ（、ＣＪ）；７．１−８．６
（９Ｈ，芳香族１（）　ｐｐｍ０ 実施例　１１ ４−（４−フルオロフェニル）−５−とドロキシメチル
−６−メチル−２−フェニル−ピリミジン実施例４と同
様にして、実施例ＩＯの生成物３０ｇ（０，０９モル）
から生成物２３．１９が得られ　Ｉこ　。

収率：理論量の８７．３％。

’Ｈ−Ｎ　Ｍ　Ｒ（ＣＤ　ＣＱ、）：δ＝　２−８（Ｓ
、３Ｈ，ＣＨ３）；４．５（ｂｒ、ＯＨ）；４．６５（
ｓ、２Ｈ，ＣＨ２）；７．１−８．５（９Ｈ，芳香族Ｈ
）ｐｐｍ。

実施例　１２ ４−（４−フルオロフェニル）−６−メチル−２−フェ
ニル−ピリミジン−５−カルボアルデヒド実施例５と同
様にして、実施例１１の生成物１２、９９　（４４ミリ
モル）及びピリジニウムクロロクロメ−　ト１　４．２
ｇ（６　６ミリモル）から生成物１１、９ｇが得られた
。

収率：理論量の９３％。

’　Ｈ　−Ｎ　Ｍ　Ｒ　（Ｃ　Ｄ　Ｃ　Ｑｓ）：δ＝　
２．９（Ｓ．３Ｈ．ＣＨ３）；７．２−８、７（９Ｈ，
芳香族Ｈ）；１０．１（ｓ．ｌＨ，ＣＨＯ）ｐｐｍ。

実施例　１３ （Ｅ）　−３−　［４−　（４−フルオロフェニル）−
６−メチル−２−フェニル−ピリミド−５−イルコープ
ログ−２−エナール ＣＨＯ 実施例６と同様にして、実施例１２の生成物８−Ｏｇ　
（２７ミリモル）、水素化ナトリウム０。

８ｇ（３３．６ミリモル）及びジエチル［２−（シクロ
へキシルアミノ）ビニル］ホスホネート８．Ｏｇ（３２
、４ミリモル）から、生成物５．９９が得られた。

収率：理論量の６８．７％。

’Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ（１３）：δ＝　２．８（Ｓ．３Ｈ
，ＣＨ．）；６．４５（ｄｄ．　ＩＨ，ＣＨＣＨｏ）；
７．１−８．６（ｍ，ＩＯＨ．芳香族Ｈ，ＣＨ）；９．
６５（ｄ、ＩＨ，ＣＨＯ）ｐｐｍ６ 実施例　１４ メチル（Ｅ）−７−［４−（４−フルオロフェニル）−
６−メチル−２−フェニル−ピリド−５−イル１−５−
ヒドロキシ−３−オキソ−ヘプト−６−エノエート 実施例７と同様にして、実施例１３の生成物から、粗製
の生成物５．１８９が得られｔ；。

粗製の収率：理論量の１００％。

’Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣ１２ｍ）：δ＝　２．６５（ｓ、
３Ｈ，ＣＨａ）；２−７（ｄ、２Ｈ，Ｃｌ２Ｇ）　；２
．９（ｂｒ　、　ＬＨ、ＯＨ）　＋３．５（ｓ　、　３
Ｂ　、ＣＨｓ）　；３．７５（ｓ　、　３Ｈ，０ＣＨｓ
）　：４．７（ｍ、　ＩＨ、ＣＨＯＨ）　；５．６５（
ｄｄ　、　ＩＨ、ＣＨ−ＣＨＯＨ）；６．６５（ｄ、ｌ
Ｈ，ＣＨＡｒ）；７．１−８．６（ｍ、９Ｈ，芳香族Ｈ
）ｐｐｍ。

実施例　１５ メチルエリスロ（Ｅ）−３，５−ジヒドロキシ−７−［
４−（４−フルオロフェニル）−６−メチル−２−フェ
ニル−ピリミド−５−イル］−ヘプト−６−エノエート し 実施例８と同様にして、実施例１４の生成物８゜２６９
　（１６ミリモル）から、生成物４．０３ｇが得られた
。

収率：理論量の５７．７％。

’Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣ（＋３）：δ−１，６（ｍ、２Ｈ
，ＣＨｚ）；２．５（ｍ、２Ｈ％ＣＩ　、Ｃ＝０）　；
　２．７（ｓ　、　３Ｈ％Ｃｌ　３　’）　；　３．７
（ｓ　！　３Ｈ，ＣＨ、Ｏ）　。

４．２（ｍ％ＩＨ，ＣＨＯＨ）　；４．５（ｍ、　ＩＨ
，ＣＨＯＨ）　；５　、７（ｄｄ、　ＩＨ，ＣＨＣＨＯ
Ｈ）；６．６（ｄＳＩＨ，ＣＨ−Ａｒ）；７．０−８．
６（ｍ、９Ｈ，芳香族Ｈ）ｐｐｍ。

実施例　１６ （Ｅ／Ｚ）−４−エトキシカルボニル−５−（４−フル
オロフェニル）−２−メチル−ペント−４−’ＣＨｓ ４−フルオロフェニルデヒＦ６２ｇ（０，５モル）及び
エチルイソブチリルアセテート７９ｇ（０，５モル）を
まず乾燥イソプロパツール３００ｍ（ｌに導入し、イン
プロパツール４Ｑ＋ｎＱ中のピペリジン２゜８１ｍＣ（
２８ミリモル）及び酢酸１．６６　＋ｎ（２（２９ミリ
モル）の混合物を加えた。混合物を室温で４８時間撹拌
し、真空下で濃縮し、残渣を高真空下で蒸留した。

沸点：１２７°Ｃ１０，５ｍｍ。

収率：１０８．７ｇ（理論量の８２．３％）。

実施例　１７ １．４−ジヒドロ−４−（４−フルオロフェニル）−６
−イソプロビル−２−フェニル−ピリミジン−５−カル
ボン酸エチル 実施例２と同様にして、アセトン５００ｍｆ２中のベン
ズアミジン塩酸塩５９．５ｇ（０，３モル）、実施例１
６の生成物７９．２ｇ（０，３モル）及び酢酸ナトリウ
ム２８．７ｇ（０，３５モル）から、生成物３９ｇが得
られた。

収率：理論量の３５．５％。

’Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣＬ）：δ＝　１．２（ｍ、９Ｈ，
Ｃｌ５）；２．８（ｍ、１８．ＣＨ）；４．１（ｑ、２
Ｈ，ＣＨｚ）；４．２（ｂｒ、１８．ＮＨ）；　５．７
５（ｓ、１８．ＣＨＡｒ）；６．９−８．１（ｍｓ９Ｈ
１芳香族Ｈ）ｐｐｍ０実施例１８ ４−（４−フルオロフェニル）−６−イツブロビルー２
−フェニルーピリミジン−５−カルボン酸エチル実施例
３と同様にして、実施例１７の生成物３９．０９　　（
０，１１モル）から、生成物２０．６！？が得られた。

収率：理論量の５６．６％。

’Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣ１３）：δ＝　１．１５（ｔｒ、
３Ｈ，ＣＬ）；１．４（ｄ、６Ｈ，ＣＨｘ）　；３．３
（ｍ、　ＩＨ，ＣＨ）　；４．２（ｑ、２Ｈ，ＣＨ２）
　；７　、０−８゜６（ｍ、９Ｈ１芳香族Ｈ）ｐｐｍ。

実施例　１９ ４−（４−フルオロフェニル）−５−ヒドロキンメチル
−６−イツブロビルー２−フェニルーピリミジン 実施例４と同様にして、実施例１８の生成物２０．０ｇ
　（５５ミリモル）から、表題の化合物１６．７ｇが得
られた。

収率：理論量の９４％。

’Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣＱ３）；δ＝　１−４（ｄ、６Ｈ
ＳＣＨ３）；　１．７（ｂｒ　、　ＬＨｌＯＨ）　；３
．５５（ｍ、　ＩＨ，ＣＨ）　；４．７（ｓ　、２Ｈ，
Ｃ）Ｉｓ）　；７．１−８．７（ｍ、９Ｈ，芳香族Ｈ）
ｐｐｍ。

実施例　２０ ４−（４−フルオロフェニル）−６１ソプロピル−２−
フェニル−ピリミ・シン−５−カルボアルデヒド 実施例５と同様にして、実施例１９の生成物１６−３ｇ
（５０ミリモル）から、表題の化合物７．９ｇが得られ
た。

収率：理論量の４９．４％。

’Ｈ−ＮＭＲ（Ｃ　Ｄ　Ｃ（１３）：８　＝　１．４（
ｄ．６Ｈ，ＣＨ３）；４．０（ｍ，　ＩＨ，ＣＨ）；７
．２−８．７（ｍ，９Ｈ，芳香族Ｈ）；１０．１（ｓ，
　ＩＨ。

ＣＩ（Ｏ）ｐｐｍ。

実施例　２１ （Ｅ）−３−　［４−（４−フルオロフェニル）−６−
イソプロビル−２−フェニル−ビリミド−５−イル］ー
プロプー２ーエナール 実施例６と同様にして、実施例２０の生成物７。

９ｇ（２５ミリモル）から、本実施例の生成物６．９ｇ
が得られた。

収率：理論量の８０％。

’Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣＱ３）：δ＝　１．４（ｄ，６Ｈ
，ＣＨ３）；３．４（ｍ．　ｌＨ，ＣＨ）；６．３（ｄ
ｄ，　ＩＨＳＣＨＣＨＯ）；７．１−８．７（ｍ，９Ｈ
、芳香族Ｈ）；７．６（ｄＳＩＨＳＣＨＡｒ）ｐｐｍ。

実施例　２２ メチル（Ｅ）−７−　［４−　（４−フルオロフェニル
）−６−イソプロビル−２−フェニル−ピリミド−５−
イル］ー５ーヒドロキシー３ーオキソーヘプト−６−エ
ノエート 実施例７と同様にして、実施例２１の生成物１゜９ｇ（
５，５ミリモル）から、本実施例の生成物０゜８ｇが得
られた。

収率：３０．２％。

’　Ｈ−Ｎ　Ｍ　Ｒ（ＣＤ　ＣＱ３）：　ａ　＝　１．
３５（ｄ、６Ｈ，ＣＨ３）；２．６５（ｄ　、　２１Ｌ
　ＣＨ２）　；３．４（ｍ、　ＩＨ，ＣＨ）　；３．５
（ｓ、　２ＨＳＣＨ２）　；３．７５（ｓ。

３ＨＳＣＨｓＯ）；４４−６５（、ＩＨ，ＣＨＯＨ）；
５．５（ｄｄ、ＩＨ，ＣＨＣＨＯＨ）；６．７５（ｄ、
　ＩＨ，ＣＨＡｒ）；７．ｌ−８，６（ｍ、９Ｈ，芳香
族Ｈ）ｐｐｍ。

実施例　２３ メチルエリスロー（Ｅ）−３，５−ジヒドロキシ−７−
［４−（４−フルオロフェニル）−６−イツブロビルー
２−フェニルーピリミド−５−イル１−ヘプト−６−エ
ノエート 実施例８と同様にして、実施例２２の生成物０゜８ｇ（
１，７５ミＩＪモル）から、本実施例の生成物０゜５ｇ
が得られた。

収率：６２％。

’Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣＱ３）：δ＝　１．３（ｄ、６Ｈ
１（、Ｈ３）；１．６（ｍ、２Ｈ，ＣＨ２）；２．５（
ｍ、２Ｈ，ＣＨ２Ｃ＝Ｏ）；３．４５（ｍ、ＩＨ，ＣＨ
）；３゜７（ｓ、　３Ｈ，ＣＨｓＯ）　；４．２（ｍ、
　ＩＨ，ＣＨＯＨ）　；　４．５（ｍ、　ＩＨＳＣＨＯ
Ｈ）　；５．５（ｄｄ％ＩＨ１ＣＨＣＨＯＨ）　；　６
．７（ｄ、　ＩＨ，ＣＨＡｒ）　；７．　ｌ−８，６（
ｍ　、　９Ｈ１芳香族Ｈ）ｐｐｍ０ 使用実施例 実施例　２４ 酵素活性の測定を、ホス（Ｇ、　Ｃ，Ｎｅ５ｓ）等、ア
ルカイプス・オブ・バイオケミストリイー・アンド・バ
イオフイズイクス（Ａ　ｒｃｈｉｖｅｓ　ｏｆＢ　ｉｏ
ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ　ａｎｄ　ｂｉｏｐｈｙｓｉｃｓ）
　１９７．４９３〜４９９　（１９７９）による変法の
如くして行った。雄すコ（Ｒ１ｃｏ）ラット（体重３０
０〜４００ｇ）を、飼料ＩＫｇ当リコリコレスチルアミ
ンりを加えたアルトロミン（ａ＋ｔｒｏｍｉｎ）粉末飼
料で１１日間処置した。断頭後、肝臓を動物から除去し
、氷の上に置いた。肝を細かく砕き、ボッター・エルベ
ジェム・ホモジナイザー（Ｐ　ｏｔｔｅｒ−Ｅ　ｌｖｅ
ｊｅｍ　ｈｏｍｏｇｅｎｉｚｅｒ）中で、０．１Ｍサッ
カロース、０゜０５Ｍ　　ＫＣｌ２０．０４Ｍ　　Ｋ、
Ｈ，リン酸塩、０．０３Ｍエチレンジアミンテトラ酢酸
、０．００２Ｍジチオスレイトール（Ｓ　Ｐ　Ｅ）緩衝
剤ｐ　Ｈ７，２の３倍容量中で３回均等化した。次に混
合物を１５　、ＯＯＯＸ９で１５分間遠心分離し、沈渣
はすてた。上澄液を１００．１００ｇで７５分間沈渣さ
せた。ペレットをＳＰＥ緩衝剤の１／４容量に採り入れ
、再び均等化し、次に１００．０００９で６０分間遠心
分離した。ペレットをＳＰＥ緩衝剤のその容量の５倍量
を用いて採り入れ、均等化し、凍結し、−７８°Ｃで保
存した（−酵素溶液）。

試験するために、試験物質［または対照物質としてのメ
ビノリン（ｍｅｖｉｎｏｌｉｎ）　］　をジメチルホル
ムアミドにＩＮ　　ＮａＯＨ５容量％の添加によって溶
解し、１０μＱを用いて、酵素試験において種々な濃度
で用いた。酵素と共に化合物を３７°Ｃで２０分間予備
培養した後、試験を開始した。

試験バッチは０．３８０ｍ＋２であり、グルコース−６
−ホスフェート４マイクロモル、ウシ血清アルフミン１
．１ｍｇ、ジチオスレイトール２．１マイクロモル、Ｎ
ＡＤＰ　　０．３５マイクロモル、グルコース−６−ホ
スフェート脱水素酵素１単位、Ｋ、Ｈ，リン酸塩ｐＨ７
，２，３５マイクロモル、酵素調製物２０μＱ及び３−
ヒドロキシ−３−メチル−グルタリル補酵素Ａ（グルタ
リル−３−目Ｃ）１００　０００ｄｐｍ５６ナノモルを
含んでいた。

混合物を３７°Ｃで６０分間培養し、反応を０゜２４Ｍ
　　ＨＣＱ３００μａの添加によって止めた。

３７°Ｃで６０分間後−培養した後、バッチを遠心分離
し、上澄液６００μＱを、ビオレックス０（Ｂ　１ｏｒ
ｅｘ＠）　５−クロライド１００−２００メツシユ（ア
ニオン交換体）で充填したＱ、７Ｘ４ｃｍのカラムに加
えた。カラムを蒸留水２ｍＱで洗浄し、溶出技士洗液に
アクアゾル（Ａ　ｑｕａｓｏＱ）　３　ｍＱを加ｔ、Ｌ
ＫＢシンチレーション・カウンターで計数した。ＩＣ５
゜値を、試験化合物の濃度に対する百分率抑制をプロッ
トすることにより、外挿法によって測定した。相対抑制
能力を測定するために、対照物質メビノリンのＩＣ，。

値を１とし、同時に測定した試験化合物のＩＣ，。値と
比較した。

実施例１〜２３の活性化合物はメビノリンと比較して高
い作用を示した。

実施例　２５ イヌの血中コレステロールにおける二置換されたピリジ
ンの亜慢性作用を数週間にわたる飼育実験において試験
した。このために、試験物質を健康なピーグル犬に飼料
と共にカプセル剤として１日１回経口約に数週間にわた
って与えた。加えて、全実験期間中、即ち、試験物質の
投与期間前、中及び後、コレスチルアミン（４ｇ／１０
０ｇ飼料）を没食子酸を分離剤として飼料と混合した。

週２回、静脈血をイヌから採血し、血清コレステロール
を酵素的に測定した。投与期間中の血清コレステロール
値を投与期間前の血清コレステロール値（対照）と比較
した。

本発明の主なる特徴及び態様は以下のとおりである。

１、−数式 式中　Ｒ１はシクロアルキルを表わすか、或いはアルキ
ルを表わし、数基はハロゲン、シアノ、アルコキシ、ア
ルキルチオ、アルキルスルホニル、トリフルオロメチル
、トリフルオロメトキシ、トリフルオロメチルチオ、ト
リフルオロメチルスルホニル はアシルで、まｔ；は式−ＮＲ’Ｒ’、但し、Ｒ４及び
ＲＳは同一もしくは相異なるものであり、アルキル、ア
リール、アラルキル、アシル、アルキルスルホニルまた
はアリールスルホニルを表わす、 の基で、またはカルバモイル、ジアルキルカルバモイル
、スルファモイル、ジアルキルスルファモイル、ヘテロ
アリール、アリール、アリールオキシ、アリールチオ、
アリールスルホニル、アラルコキシ、アラルキルチオも
しくはアラルキルスルホニルで置換されていてもよく、
最後に述べた置換基のへテロアリール及びアリール基は
ハロゲン、シアノ、トリフルオロメチル、トリフルオロ
メトキシ、アルキル、アルコキシ、アルキルチオまたは
アルキルスルホニルからなる同一もしくは相異なる置換
基で一置換、二置換または三置換されていてもよく、 Ｒ２はへテロアリールを表わし、数基はハロゲン、アル
キル、アルコキシ、アルキルチオ、アルキルスルホニル
、アリール、アリールオキシ、アリールチオ、アリール
スルホニル、トリフルオロメチル、トリフルオロメトキ
ン、トリフルオロメチルチオもしくはアルコキシカルボ
ニルまたは式−ＮＲ’Ｒ’、但し、 Ｒ４及びＲ５は上記の意味を有する、 の基からなる同一もしくは相異なる基で一置換、二置換
または三置換されていてもよく或いはＲ２はアリールを
表わし、数基はアルキル、アルコキシ、アルキルチオ、
アルキルスルホニル、アリール、アリールオキシ、アリ
：ルチす、アリールスルホニル、アラルキル、アラルコ
キシ、アラルキルチオ、アラルキルスルホニル、ハロゲ
ン、シアノ、ニトロ、トリフルオロメチル、トリフルオ
ロメトキシ、トリフルオロメチルチオ、アルコキシカル
ボニル、スルファモイル、ジアルキルスルファモイル、
カルバモイルもしくはジアルキルカルバモイル、または
式−ＮＲ’Ｒ’，但し、 Ｒ′及びＲ５は上記の意味を有する、 の基からなる同一もしくは相異なる基で一置換乃至三置
換されていてもよく、 Ｒ３は水素を表わすか、 シクロアルキルを表わすか、 アルキルを表わし、数基はハロゲン、シアン、アルコキ
シ、アルキルチオ、アルキルスルホニル、トリフルオロ
メチル、トリフルオロメトキシ、トリフルオロメチルチ
オ、トリフルオロメチルスルホニル、アルコキシカルボ
ニルもしくはアシルで、式−ＮＲ’Ｒ’、但し、 Ｒ４及びＲ５は上記の意味を有する、 の基で、またはカルバモイル、ジアルキルカルバモイル
、スルファモイル、ジアルキルスルファモイル、ヘテロ
アリール、アリール、アリールオキシ、アリールチオ、
アリールスルホニル、アラルコキシ、アラルキルチオも
しくはアラルキルスルホニルで置換されていてもよく、
最後に述べた置換基のへテロアリール及びアリール基は
ハロゲン、シアノ、トリフルオロメチルトリフルオロメ
トキシ、アルキル、アルコキシ、アルキルチオまたはア
ルキルスルホニルからなる同一もしくは相異なる基で一
置換、二置換または三置換されていてもよく、または Ｒ３はへテロアリールを表わし、数基はハロゲン、アル
キル、アルコキシ、アルキルチオ、アルキルスルホニル
、アリール、アリールオキシ、アリールチす、アリール
スルホニル、トリフルオロメチル、トリフルオロメトキ
ン、トリフルオロメチルチオもしはアルコキシで、また
は式％式％ Ｒ４及びＲＳは上記の意味を有する、 の基からなる同一もしくは相異なる基で一置換、二置換
または三置換されていてもよく、或いはＲ３はアリール
を表わし、数基はアルキル、アルコキン、アルキルチオ
、アルキルスルホニル、アリール、アリールオキシ、ア
リールチオ、アリールスルホニル、アラルキル、アラル
コキシ、アラルキルチオ、アラルキルスルホニル、ハロ
ゲン、シアノ、ニトロ、トリフルオロメチル、トリフル
オロメトキシ、トリフルオロメチルチオ、アルコキシカ
ルボニル、スルファモイル、ジアルキルスルファモイル
、カルバモイルもしくはジアルキルカルボニルで、また
は式−ＮＲ　４　Ｒ　５、但し、 Ｒ４及びＲ５は上記の意味を有する、 の基からなる同一もしくは相異なる基で一置換乃至三置
換されていてもよく、或いは Ｒ３はアルコキシ、アリールオキシ、アラルコキシ、ア
ルキルチオ、アリールチオもしくはアラルキルチオを表
わすか、または式−ＮＲ’Ｒ’。

但し、 Ｒ４及びＲＳは上記の意味を有する、 の基を表わし、 Ｘは式−ＣＨ，−ＣＨ，−または−ＣＩ（＝Ｃ）（−の
基を表わし、そして Ａは式 ％式％ Ｒ６は水素または′アルキルを表わし、そしてＲ１は水
素を表わすか、 メチル、アラルキルまたはアリール基を表わすか、或い
はカチオンを表わす、 の置換されたピリミジン。

２、Ｒ１力（シクロプロピル、シクロペンチルまｔ二は
シクロヘキシルを表わすか、或いは 低級アルキルを表わし、数基はフッ素、塩素、臭素、シ
アノ、低級アルコキシ、低級アルキルチオ、低級アルキ
ルスルホニル、トリフルオロメチル、トリフルオロメト
キシ、トリフルオロメチルスルホニル、低級アルコキシ
カルボニル、ベンゾイル、低級アルキルカルボニルで、
式−ＮＲ’Ｒ’，但し、Ｒ４及びＲ５は同一もしくは相
異なるものであり、低級アルキル、フェニル、ベンジル
、アセチル、ペンソイル、フェニルスルホニルまたは低
級アルキルスルホニルを表わす、 の基で、またはピリジル、ピリミジル、ピラジニル、ピ
リダジニル、キリル、イソキノリル、ピリル、インドリ
ル、チエニル、フリル、イミダゾリル、オキサシリル、
チアゾリル、フェニル、フェノキシ、フェニルチオ、フ
ェニルスルホニル、べフリルオキシ、ベンジルチオ、ベ
ンジルスルホニル、フェニルエトキシ、フェニルエチル
チオマタはフェニルエチルスルホニルで置換されていて
もよく、上記のヘテロアリール及びアリール基はフッ素
、塩素、臭素、低級アルキル、低級アルコキシ、トリフ
ルオロメチルまたはトリフルオロメトキシからなる同一
もしくは相異なる基で一置換または二置換されていても
よく、 Ｒ２がチエニル、フリル、チアゾリル、イソチアゾリル
、オキサシリル、イソキサゾリル、ピリジル、ピリミジ
ル、ピラジニル、ピリダジニル、インドリル、イソイン
ドリル、キノリル、イソキノリル、フタラジニル、キノ
キサリニル、キナゾリニル、シンノリニル、ペンゾチア
ゾリノ呟ベンズオキサシリルまたはペンスイミダゾリル
を表わし、これらの基はフッ素、塩素、臭素、低級アル
キル、低級アルコキシ、フェニル、フェノキシ、トリフ
ルオロメチル、トリフルオロメトキシまたは低級アルコ
キシカルボニルからなる同一もしくは相異なる基で一置
換または二置換されていてもよく、或いは Ｒ２がフェニルまたはナフチルを表わし、これらの基は
低級アルキル、低級アルコキシ、低級アルキルチオ、低
級アルキルスルホニル、フェニル、フェニルオキシ、フ
ェニルチオ、フェニルスルホニル、ベンジル、ベンジル
オキシ、ベンジルチオ、ベンジルスルホニル、７エネチ
ル、フェニルエトキシ、フェニルエチルチオ、フェニル
エチルスルホニル、フッ素、塩素、臭素、シアノ、トリ
フルオロメチル、トリフルオロメトキシ、トリフルオロ
メチルチオもしくは低級アルコキシカルボニル、または
式−ＮＲ’Ｒ’、但し、 Ｒ４及びＲ％は上記の意味を有する、 の基からなる同一もしくは相異なる基で一置換乃至四置
換されていてもよく、 Ｒコが水素を表わすか、 シクロプロピル、シクロペンチルまたはシクロヘキシル
を表わすか、低級アルキルを表わし、数基はフッ素、塩
素、臭素、シアノ、低級アルコキシ、低級アルキルチオ
、低級アルキルスルホニル、トリフルオロメチル、トリ
フルオロメトキシ、トリフルオロメチルスルホニル、低
級アルコキシカルボニル、ベンゾイル、低級アルキルカ
ルボニルで、式−ＮＲ’Ｒ’、但し、 Ｒ４及びＲ５は上記の意味を有する、 の基で、またはピリジル、ピリミジル、ピラジニル、ピ
リダジニル、キノリノペイツキノリル、ピロリル、イン
ドリル、チエニル、フリル、イミダゾリル、オキサシリ
ル、チアゾリル、フェニル、フェノキシ、フェニルチオ
、フェニルスルホニル、ベンジルオキシ、ベンジルチオ
、ベンジルスルホニル、フェニルエトキシ、フェニルエ
チルチオもしくはフェニルエチルスルホニルで置換され
ていてもよく、上記のへテロアリール及びアリール基は
フッ素、塩素、臭素、低級アルキル、低級アルコキシ、
トリフルオロメチルまたはトリフルオロメトキシからな
る同一もしくは相異なる基で一置換または二置換されて
いてもよく、またはＲ１がチエニル、フリル、チアゾリ
ル、インチアゾリル、オキサシリル、インキサゾリル、
ピリジル、ピリミジル、ピラジニル、ピリダジニル、イ
ンドリル、イソインドリル、キノリル、イソキノリル、
フタラジニル、キノキサリニル、キナゾリニル、シンノ
リニル、ベンゾチアシリＪＬ＝、ベンズオキサシリルま
たはベンズイミダゾリルを表わし、数基の各々はフッ素
、塩素、臭素、低級アルキル、低級アルコキシ、フェニ
ル、フェノキシ、トリフルオロメチル、トリフルオロメ
トキシまたは低級アルコキシカルボニルからなる同一も
しくは相異なる基で一置換または二置換されていてもよ
く、或いは Ｒ３がフェニルまたはナフチルを表わし、数基は低級ア
ルキル、低級アルコキシ、低級アルキルチオ、低級アル
キルスルホニル、フェニル、フェニルオキシ、フェニル
チオ、フェニルスルホニル、ベンジル、ベンジルオキシ
、ベンジルチオ、ベンジルスルホニル、７エネチル、フ
ェニルエトキシ、フェニルエトキシす、フェニルエチル
スルホニル、フッ素、塩素、臭素、シアノ、トリフルオ
ロメチル、トリフルオロメトキシ、トリフルオロメチル
チオもしくは低級アルコキシカルボニル、または式−Ｎ
Ｒ’Ｒ’、但し、 Ｒ４及びＲ５は上記の意味を有する、 の基からなる同一もしくは相異なる基で一置換乃至四置
換されていてもよく、或いは Ｒ３かアルコキシ、アリールオキシ、アラルコキシ、ア
ルキルチオ、アリールチオもしくはアラルキルチオを表
わすか、または式−ＮＲ’Ｒ’、但し、Ｒ４及びＲ５は
上記の意味を有する、 の基を表わし、 Ｘが式−ＣＨ２−ＣＨ，−または−ＣＨ＝ＣＨ−７７）
基を表わし、そして Ａが式 ％式％ Ｒ６は水素または低級アルキルを表わし、そしてＲ７は
アルキル（Ｃ＋〜Ｃ６）、アリール（Ｃ，〜Ｃ１□）ま
たはアラルキル（Ｃ７〜Ｃｏｏ）を表わすか、或いは 生理学的に許容し得るカチオンを表わす、の上記ｌに記
載の置換されたピリミジン。

３、Ｒ１がシクロプロピル、シクロペンチルまたはシク
ロヘキシルを表わすか、或いはメチル、エチル、プロピ
ル、イソプロピル、ブチル、ｓｅｃ、　−ブチル、ｔｅ
ｒｔ、−ブチルを表わし、その各々はフッ素、塩素、臭
素、シアノ、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、インプ
ロポキシ、ブトキシ、ｓｅｃ、　−ブトキシ、ｔｅｒｔ
、−ブトキシ、メチルチオ、エチルチオ、プロピルチす
、イソプロピルチオ、メチルスルホニル、エチルスルホ
ニル、プロピルスルホニル、イソプロピルスルホニル、
トリフルオロメチル、トリフルオロメトキシ、メトキシ
カルボニル、エトキシカルボニル、ブトキシカルボニル
、イソブトキシカルボニル、ｔｅｒｔ、−ブトキシカル
ボニル、ベンゾイル、アセチル、ピリジル、ピリミジル
、チエニル、フリル、フェニル、フェノキシ、フェニル
チオ、フェニルスルホニル、ベンジルオキシ、ベンジル
チオまたはベンジルスルホニルで置換されていてもよく
、 Ｒ２がピリジル、ピリミジル、キノリルまたはイソキノ
リルを表わし、数基はフッ素、塩素、メチル、メトキシ
またはトリフルオロメチルで置換されていてもよく、或
いは Ｒ２がフェニルを表わし、数基はメチル、エチル、プロ
ピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、ｔｅｒｔ、
−ブチル、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、インプロ
ポキシ、ブトキシ、イソブトキシ、ｔｅｒｔ、−ブトキ
シ、メチルチオ、エチルチオ、プロピルチオ、イソプロ
ピルチオ、メチルスルホニル、エチルスルホニル、プロ
ピルスルホニル、イソプロピルスルホニル、フェニル、
フェノキシ、ベンジル、ベンジルオキシ、７ツ素、塩素
、臭素、シアン、トリフルオロメチル、トリフルオロメ
トキシ、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、プ
ロポキシカルボニル、イソプロポキシカルボニル、ブト
キシカルボニル、インブトキシカルボニルまたはｔａｒ
ｔ、−ブトキシカルボニルからなる同一もしくは相異な
る基で一置換、二置換または三置換されていてもよく、 Ｒ３カ水素、シクロプロピル、シクロペンチルまたはシ
クロヘキシルを表わすか、メチル、エチル、プロピル、
イソプロピル、ブチル、イソブチル、ｔｅｒｔ、−ブチ
ル、ペンチル、インペンチル、ヘキシルまたはイソヘキ
シルを表わし、これらの基はフッ素、塩素、臭素、シア
ノ、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、インプロポキシ
、ブトキシ、イソブトキシ、ｔｅｒｔ　、−ブトキシ、
メチルチオ、エチルチオ、プロピルチオ、イソプロピル
チオ、ブチルチオ、インブチルチオ、ｔｅｒｔ、−ブチ
ルチオ、メチルスルホニル、エチルスルホニル、プロピ
ルスルホニル、イソプロピルスルホニル、ブチルスルホ
ニル、イソブチルスルホニル、ｔｅｒｔ、−ブチルスル
ホニル、トリフルオロメチル、トリフルオロメトキシ、
メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、プロポキシ
カルボニル、イソプロポキシカルボニル、ブトキシカル
ボニル、イソブトギシカルボニル、ｔｅｒｔ、−ブトキ
シカルボニル、ベンゾイル、アセチルもしくはエチルカ
ルボニルで、式−ＮＲ’Ｒ５、但し、 Ｒ′及びＲ５は同一もしくは相異なるものであり、メチ
ル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブ
チル、ｔｅｒｔ、−ブチル、フェニル、ベンジル、アセ
チル、メチルスルホニル、エチルスルホニル、プロピル
スルホニル、イソプロピルスルホニルまたはフェニルス
ルホニルを表わす、の基で、またはピリジル、ピリミジ
ル、ピラジニル、ピリダジニル、キノリン、イソキノリ
ン、チエニル、フリル、フェニル、フェノキシ、フェニ
ルチオ、フェニルスルホニル、ベンジルオキシ、ベンジ
ルチオもしくはベンジルスルホニルで置換されていても
よく、上記のへテロアリール及びアリール基はフッ素、
塩素、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、イソ
ブチル、ｔｅｒｔ、−ブチル、メトキシ、エトキシ、プ
ロポキシ、イソプロポキシ、ブトキシ、イソブトキシ、
ｔｅｒｍ、−ブトキシ、トリフルオロメチルまたはトリ
フルオロメトキシで置換されていてもよく、或いはＲ３
がチエニル、フリル、ピリジル、ピリミジノ呟ピラジニ
ル、ピリダジニル、オキサシリル、インキサゾリル、イ
ミダゾリル、ピラゾリル、チアゾリル、イソチアゾリル
、キノリル、イソキノリル、ベンズオキサシリル、ベン
ズイミダゾリルまたはベンズチアゾリルを表わし、これ
らの基はフッ素、塩素、メチル、エチル、プロピＪペイ
ソブロピル、ブチル、イソブチル、ｔｅｒｔ、−ブチル
、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、インプロポキシ、
ブトキシ、インブトキシ、ｔｅｒｔ、−ブトキシ、フェ
ニル、フェノキシ、トリフルオロメチル、トリフルオロ
メトキシ、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、
インプロポキシカルボニル、プロポキシカルボニル ルポニルまたはｔｅｒｔ．−ブトキシカルボニルで置換
されていてもよく、或いは Ｒ３がフェニルを表わし、銀基はメチル、エチル、プロ
ピル、インプロピＪｕ，ブチル、イソブチル、ｔｅｒｔ
．−ブチル、ペンチル、イソペンチル、ヘキシル、イソ
ヘキシル、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、インプロ
ポキシ、ブトキシ、インブトキシ、ｔｅｒｔ　、−ブト
キシ、メチルチオ、エチルチオ、プロピルチオ、イソプ
ロピルチオ、ブチルチオ、イソブチルチオ、ｔｅｒｔ．
−ブチルチオ、メチルスルホニル、エチルスルホニル、
プロピルスルホニル、イソプロピルスルホニル、ブチル
スルホニル、インブチルスルホニル、ｔｅｒｔ．−ブチ
ルスルホニル、フェニル、フェノキシ、フェニルチオ、
フェニルスルホニル、ベンジル、ベンジルオキシ、ベン
ジルチオ、ベンジルスルホニル、フッ素、塩素、臭素、
シアノ、トリフルオロメチル、トリフルオロメトキシ、
トリフルオロメチルチオ、メトキシカルボニル ルボニル、イソプロポキシカルボニル、ブトキシカルボ
ニル、インブトキシカルボニルもしくはｔｅｒｔ　、−
ブトキシカルボニルまたは基−ＮＲ’Ｒ’、但し、 Ｒ４及びＲ５は上記の意味を有する、 からなる同一もしくは相異なる基で一置換、二置換また
は三置換されていてもよく、或いはＲ３がアルコキシ、
アリールオキシ、アラルコキシ、アルキルチオ、アリー
ルチオもしくはアラルキルチオまたは式−ＮＲ’Ｒ５、
但し、Ｒ４及びＲ’は上記の意味を有する、 の基を表わし、 Ｘが式−ＣＨ．−ＣＨ．−または−ＣＨ＝ＣＨ−の基を
表わし、そして Ａが式 ％式％ Ｒ６は水素、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル
、ブチル、イソブチルまたはｔｅｒｔ．−ブチルを表わ
し、そして Ｒ７は水素、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル
、ブチル、イソブチル、ｔｅｒｔ−ブチルまたはベンジ
ルを表わすか、或いはナトリウム、カリウム、カルシウ
ム、マグネシウムまたはアンモニウムイオンを表わす、 上記ｌ及び２に記載の置換されたピリミジン。

４、治療処置に対する上記ｌに記載の置換されたピリミ
ジン。

５、−数式 アルキルを表わし、銀基はハロゲン、シアノ、アルコキ
シ、アルキルチオ、アルキルスルホニル、トリフルオロ
メチル、トリフルオロメトキシ、トリフルオロメチルチ
オ、トリフルオロメチルスルホニル、アルコキシカルボ
ニルもしくはアシルで、または式−ＮＲ’Ｒ’、但し、
Ｒ６及びＲ１は同一もしくは相異なるものであり、アル
キル、アリール、アラルキル、アシル、アルキルスルホ
ニルまたはアリールスルホニルを表わす、 の基で、またはカルバモイル、ジアルキルカルバモイル
、スルファモイル、ジアルキルスルファモイル、ヘテロ
アリール、アリール、アリールオキシ、アリールチオ、
アリールスルホニル、アラルコキシ、アラルキルチオも
しくはアラルキルスルホニルで置換されていてもよく、
最後に述べた置換基のへテロアリール及びアリール基は
ハロゲン、シアノ、トリフルオロメチル、トリフルオロ
メトキシ、アルキル、アルコキシ、アルキルチオまたは
アルキルスルホニルからなる同一もしくは相異なる置換
基で一置換、二置換または三置換されていてもよく、 Ｒ２はへテロアリールを表わし、銀基はハロゲン、アル
キル、アルコキシ、アルキルチオ、アルキルスルホニル
、アリール、アリールオキシ、アリールチオ、アリール
スルホニル、トリフルオロメチル、トリフルオロメトキ
シ、トリフルオロメチルチオもしくはアルコキシカルボ
ニルまたは式−ＮＲ’Ｒ’、但し、 Ｒ４及びＲ５は上記の意味を有する、 の基からなる同一もしくは相異なる基で一置換、二置換
または三置換されていてもよく或いはＲ２はアリールを
表わし、銀基はアルキル、アルコキシ、アルキルチオ、
アルキルスルホニル、アリール、アリールオキシ、アリ
ールチオ、アリールスルホニル、アラルキル、アラルコ
キシ、アラルキルチオ、アラルキルスルホニル、ハロゲ
ン、シアノ、ニトロ、トリフルオロメチル、トリフルオ
ロメトキシ、トリフルオロメチルチオ、アルコキシカル
ボニル、スルファモイル、ジアルキルスルファモイル、
カルバモイルもしくはジアルキルカルバモイル、または
式−ＮＲ４Ｒ５、但し、 Ｒ４及びＲ５は上記の意味を有する、 の基からなる同一もしくは相異なる基で一置換乃至三置
換されていてもよく、 Ｒ３は水素を表わすか、 シクロアルキルを表わすか、 アルキルを表わし、銀基はハロゲン、シアノ、アルコキ
シ、アルキルチオ、アルキルスルホニル、トリフルオロ
メチル、トリフルオロメトキシ、トリフルオロメチルチ
オ、トリフルオロメチルスルホニル、アルコキシカルボ
ニルもしくはアシルで、式−ＮＲ’Ｒ’、但し、 Ｒ′及びＲ５は上記の意味を有する、 の基で、またはカルバモイル、ジアルキルカルバモイル
、スルファモイル、ジアルキルスルファモイル、ヘテロ
アリール、アリール、アリールオキシ、アリールチオ、
アリールスルホニル、アラルコキシ、アラルキルチオも
しくはアラルキルスルホニルで置換されていてもよく、
最後に述べた置換基のへテロアリール及びアリール基は
ハロゲン、ンアノ、トリフルオロメチル、トリフルオロ
メトキシ、アルキル、アルコキシ、アルキルチオまたは
アルキルスルホニルからなる同一もしくは相異なる基で
一置換、二置換または三置換されていてもよく、または Ｒ３はへテロアリールを表わし、銀基はハロゲン、アル
キル ルキルスルホニル、アリール、アラルコキシ、アリール
チオ、アリールスルホニル、トリフルオロメチル、トリ
フルオロメトキシ、トリフルオロメチルチオもしはアル
コキシで、または式％式％ Ｒ４及びＲ６は上記の意味を有する、 の基からなる同一もしくは相異なる基で一置換、二置換
まｔ；は三置換されていてもよく、或いはＲ３はアリー
ルを表わし、銀基はアルキル、アルコキシ、アルキルチ
オ、アルキルスルホニル、アリール、アリールオキシ、
アリールチオ、アリールスルホニル、アラルキル、アラ
ルコキシ、アラルキルチオ、アラルキルスルホニル、ハ
ロゲン、シアノ、ニトロ、トリフルオロメチル、トリフ
ルオロメトキシ、トリフルオロメチルチオ、アルコキシ
カルボニル、スルファモイル、ジアルキルスルファモイ
ル くはジアルキルカルボニルで、または式−ＮＲ　４　Ｒ
　５、但し、 Ｒ′及びＲ５は上記の意味を有する、 の基からなる同一もしくは相異なる基で一置換乃至三置
換されていてもよく、或いは Ｒ３はアルコキシ、アリールオキシ、アラルコキシ、ア
ルキルチオ、アリールチオもしくはアラルキルチオを表
わすか、または式−ＮＲ’Ｒ’。

但し、 Ｒ４及びＲ５は上記の意味を有する、 の基を表わし、 Ｘは式−〇Ｈ．−ＣＨ２−または一ＣＨ−ＣＨ−の基を
表わし、そして Ａは式 ％式％ Ｒ６は水素またはアルキルを表わし、そしてＲ７は水素
を表わすか、 メチル、アラルキルまたはアリール基を表わすか、或い
はカチオンを表わす、 の置換されたピリミジンを製造する方法にあたり、−数
式（■） 式中、Ｒ１、Ｒ２及びＲ３は上記の意味を有し、そして Ｒ７／はアルキル、アリールまたはアラルキルを表わす
、 のケトンを還元し、 核酸を製造する場合には、該エステルを加水分解し、 該ラクトンを製造する場合には、該カルボン酸を環形成
させ、 銀塩を製造する場合には、該エステルまたはラクトンを
加水分解し、 該エチレン化合物（Ｘ＝−ＣＨ２−ＣＨ２−）を製造す
る場合には、該エデン化合物（Ｘ−−ＣＨ＝ＣＨ−）を
普通の方法で水素添加し、そして適当ならば、異性体を
分割する ことからなる上記−数式（Ｉ）の置換されたピリミジン
の製造方法。

６、還元を一８０°Ｃ乃至＋３０°Ｃの温度範囲で行う
上記５に記載の方法。

７、上記ｌに記載の置換されたピリミジンを含有するこ
とを特徴とする薬剤。

８、調製物に関して置換されたピリミジン０．５〜９８
重量％を含有する上記７に記載の薬剤。

９、病気の処置における上記ｌに記載の置換されたピリ
ミジンの使用。

ＩＯ．過脂肪蛋白質症（ｈｙｐｅｒｌｉｐｏｐｒｏｔｅ
ｉｎａｅｍｉａ）、脂肪蛋白質症（　ｌｉｐｏｐｒｏｔ
ｅｉｎａｅｍｉａ）または動脈硬化症の処置における上
記９に記載の置換されＩ；ピリミジンの使用。

１１、薬剤の製造における上記１に記載の置換されたピ
リミジンの使用。

１２、−数式 アルキルを表わし、数基はハロゲン、シアノ、アルコキ
シ、アルキルチオ、アルキルスルホニル、トリフルオロ
メチル、トリフルオロメトキシ、トリフルオロメチルチ
オ、トリフルオロメチルスルホニル、アルコキシカルボ
ニルもしくはアシルで、または式−ＮＲ’Ｒ’、但し、
Ｒ４及びＲ８は同一もしくは相異なるものであり、アル
キル、アリール、アラルキル、アシル、アルキルスルホ
ニルまたはアリールスルホニルを表わす、 の基で、またはカルバモイル、ジアルキルカルバモイル
、スルファモイル、ジアルキルスルファモイル、ヘテロ
アリール、アリール、アリールオキシ、アリールチオ、
アリールスルホニル、アラルコキシ、アラルキルチオも
しくはアラルキルスルホニルで置換されていてもよく、
最後に述べた置換基のへテロアリール及びアリール基は
ハロゲン、シアノ、トリフルオロメチル、トリフルオロ
メトキシ、アルキル、アルコキシ、アルキルチオまたは
アルキルスルホニルからなる同一もしくは相異なる置換
基で一置換、二置換または三置換されていてもよく、 Ｒ２はへテロアリールを表わし、数基はハロゲン、アル
キル、アルコキシ、アルキルチオ、アルキルスルホニル
、アリール、アリールオキシ、アリールチオ、アリール
スルホニル、トリフルオロメチル、トリフルオロメトキ
シ、トリフルオロメチルチオもしくはアルコキシカルボ
ニルまたは式−ＮＲ’Ｒ’、但し、 Ｒ１及びＲ％は上記の意味を有する、 の基からなる同一もしくは相異なる基で一置換、二置換
または三置換されていてもよく或いはＲ２はアリールを
表わし、数基はアルキル、アルコキシ、アルキルチオ、
アルキルスルホニル、アリール、アリールオキシ、アリ
ールチオ、アリールスルホニル、アラルキル、アラルコ
キシ、アラルキルチオ、アラルキルスルホニル、ハロゲ
ン、シアノ、ニトロ、トリフルオロメチル、トリフルオ
ロメトキシ、トリフルオロメチルチオ、アルコキシカル
ボニル、スルファモイル、ジアルキルスルファモイル、
カルバモイルもしくはジアルキルカルバモイル、または
式−ＮＲ４Ｒｓ、但し、 Ｒ４及びＲ５は上記の意味を有する、 の基からなる同一もしくは相異なる基で一置換乃至三置
換されていてもよく、 Ｒ３は水素を表わすか、 シクロアルキルを表わすか、 アルキルを表わし、数基はハロゲン、シアノ、アル」キ
シ、アルキルチオ、アルキルスルホニル、トリフルオロ
メチル、トリフルオロメトキシ、トリフルオロメチルチ
オ、トリフルオロメチルスルホニル、アルコキシカルボ
ニルもしくはアシルで、式−ＮＲ’Ｒ’、但し、 Ｒ４及びＲ８は上記の意味を有する、 の基で、またはカルバモイル、ジアルキルカルバモイル
、スルファモイル、ジアルキルスルファモイル、ヘテロ
アリール、アリール、アリールオキシ、アリールチオ、
アリールスルホニル、アラルコキシ、アラルキルチオも
しくはアラルキルスルホニルで置換されていてもよく、
最後に述べた置換基のヘテロアリール及びアリール基ハ
ハロゲン、シアン、トリフルオロメチル、トリフルオロ
メトキシ、アルキル、アルコキシ、アルキルチオまたは
アルキルスルホニルからなる同一もしくは相異なる基で
一置換、二置換または三置換されていてもよく、または Ｒ３はへテロアリールを表わし、数基はハロゲン、アル
キル、アルコキシ、アルキルチオ、アルキルスルホニル
、アリール、アリールオキシ、アリールチオ、アリール
スルホニル、トリフルオロメチル、トリフルオロメトキ
シ、トリフルオロメチルチオもしはアルコキシで、また
は式−ＮＲ’Ｒ’、但し、 Ｒｓ及びＲ８は上記の意味を有する、 の基からなる同一もしくは相異なる基で一置換、二置換
または三置換されていてもよく、或いはＲ１はアリール
を表わし、核晶はアルキル、アルコキシ、アルキルチオ
、アルキルスルホニル、アリール、アリールオキシ、ア
リールチオ、アリールスルホニル、アラルキル、アラル
コキシ、アラルキルチオ、アラルキルスルホニル、／飄
ロゲン、シアノ、ニトロ、トリフルオロメチル、トリフ
ルオロメトキシ、トリフルオロメチルチオ、アルコキシ
カルボニル ジアルキルスルファモイル、カルバモイルもしくはジア
ルキルカルボニルで、または式−ＮＲ’Ｒ″、但し、 Ｒｓ及びＲｓは上記の意味を有する、 の基からなる同一もしくは相異なる基で一置換乃至三置
換されていてもよく、或いは Ｒ１はアルコキシ、アリールオキシ、アラルコキシ、ア
ルキルチす、アリールチオもしくはアラルキルチオを表
わすかまたは式−ＮＲ’Ｒ’、但し、 Ｒ４及びＲｓは上記の意味を有する、 の基を表わす、 のアルデヒド。

１３、−数式 アルキルを表わし、核晶はハロゲン、シアノ、アルコキ
シ、アルキルチオ、アルキルスルホニル、トリフルオロ
メチル、トリフルオロメトキシ、トリフルオロメチルチ
オ、トリ２ルオロメチルスルホニル、アルコキシカルボ
ニルもしくはアシルで、まｔ；は式−ＮＲ’Ｒ’，ＬＢ
Ｌ、Ｒ４及びＲｓは同一もしくは相異なるものであり、
アルキル、アリール、アラルキル、アシル、アルキルス
ルホニルまたはアリールスルホニルを表わす、 の基で、またはカルバモイル、ジアルキルカルバモイル
、スルファモイル、ジアルキルスルファモイル、ヘテロ
アリール、アリール、アリールオキシ、アリールチオ、
アリールスルホニル、アラルコキシ、アラルキルチオも
しくはアラルキルスルホニルで置換されていてもよく、
最後に述べた置換基のへテロアリール及びアリール基は
ハロゲン、シアノ、トリフルオロメチル、トリフルオロ
メトキシ、アルキル、アルコキシ、アルキルチオまたは
アルキルスルホニルからなる同一もしくは相異なる置換
基で一置換、二置換または三置換されていてもよく、 Ｒ２はへテロアリールを表わし、核晶は／％ロゲン、ア
ルキル、アルコキシ、アルキルチオ、アルキルスルホニ
ル、アリール、アリールオキシ、アリールチオ、アリー
ルスルホニル、トリフルオロメチル、トリフルオロメト
キシ、トリフルオロメチルチオもしくはアルコキシカル
ボニルまたは式−ＮＲ’Ｒ’，但し、 Ｒ４及びＲｓは上記の意味を有する、 の基からなる同一もしくは相異なる基で一置換、二置換
または三置換されていてもよく或いはＲ２はアリールを
表わし、核晶はアルキル、アルコキシ、アルキルチオ、
アルキルスルホニル、アリール、アリールオキシ、アリ
ールチオ、アリールスルホニル、アラルキル、アラルコ
キシ、アラルキルチオ、アラルキルスルホニル、ハロゲ
ン、シアノ、ニトロ、トリフルオロメチル、トリフルオ
ロメトキシ、トリフルオロメチルチオ、アルコキシカル
ボニル、スルファモイル、ジアルキルスルファモイル、
カルバモイルもしくはジアルキルカルバモイル、または
式−ＮＲ４ＲＳ，但し、 Ｒ４及びＲＳは上記の意味を有する、 の基からなる同一もしくは相異なる基で一置換乃至三置
換されていてもよく、 Ｒ３は水素を表わすか、 シクロアルキルを表わすか、 アルキルを表わし、銀基はハロゲン、シアノ、アルコキ
シ、アルキルチオ、アルキルスルホニル、トリフルオロ
メチル、トリフルオロメトキシ、トリフルオロメチルチ
オ、トリフルオロメチルスルホニル、アルコキシカルボ
ニルもしくはアシルで、式−ＮＲ’Ｒ’、但し、 Ｒ４及びＲ５は上記の意味を有する、 の基で、またはカルバモイル、ジアルキルカルバモイル
、スルファモイル、ジアルキルスルファモイル、ヘテロ
アリール、アリール、アリールオキシ、アリールチオ、
アリールスルホニル、アラルコキシ、アラルキルチオも
しくはアラルキルスルホニルで置換されていてもよく、
最後に述べｔ；置換基のへテロアリール及びアリール基
はハロゲン、シアノ、トリフルオロメチル、トリフルオ
ロメトキシ、アルキル、アルコキシ、アルキルチオまた
はアルキルスルホニルからなる同一もしくは相異なる基
で一置換、二置換または三置換されていてもよく、また
は Ｒ３はへテロアリールを表わし、銀基はハロゲン、アル
キル、アルコキシ、アルキルチオ、アルキルスルホニル
、アリール、アリールオキシ、アリールチオ、アリール
スルホニル、トリフルオロメチル、トリフルオロメトキ
シ、トリフルオロメチルチオもしはアルコキシで、また
は式％式％ Ｒ４及びＲＳは上記の意味を有する、 の基からなる同一もしくは相異なる基で一置換、二置換
または三置換されていてもよく、或いはＲ３はアリール
を表わし、銀基はアルキル、アルコキシ、アルキルチオ
、アルキルスルホニル、アリール、アリールオキシ、ア
リールチオ、アリールスルホニル、アラルキル、アラル
コキシ、アラルキルチオ、アラルキルスルホニル、ハロ
ゲン、シアノ、ニトロ、トリフルオロメチル、トリフル
オロメトキシ、トリフルオロメチルチオ、アルコキシカ
ルボニル、スルファモイル、ジアルキルスルファモイル くはジアルキルカルボニルで、または式−ＮＲ４Ｒ１１
１但し、 Ｒ４及びＲＳは上記の意味を有する、 の基からなる同一もしくは相異なる基で一置換乃至三置
換されていてもよい、 のアルデヒドを製造するにあｔ；す、−数式％式％（ Ｃ，。）まｔ；はアラルキル（Ｃｔ〜Ｃ＋Ｊを表わす、
のピリミジンを一７０°Ｃ乃至＋１００°Ｃの温度範囲
で式 式中Ｒ１，Ｒ２及びＲ３は上記の意味を有する、のヒド
ロキシメチレン化合物に還元し、次に対応する式 式中、Ｒ１％Ｒ２及びＲ３は上記の意味を有する、のア
ルデヒドに酸化し、そしてこのものを不活性溶媒中で水
素化ナトリウムの存在下において、−２０℃乃至＋４０
°Ｃの温度範囲でジアルキルＣＣｔ〜Ｃ４）−アミノビ
ニルホスホネートと反応させることからなる上記−数式
１）のアルデヒドの製造方法。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ） 式中、Ｒ＾１はシクロアルキルを表わすか、或いは アルキルを表わし、該基はハロゲン、シアノ、アルコキ
   シ、アルキルチオ、アルキルスルホニル、トリフルオロ
   メチル、トリフルオロメトキシ、トリフルオロメチルチ
   オ、トリフルオロメチルスルホニル、アルコキシカルボ
   ニルもしくはアシルで、または式−ＮＲ＾４Ｒ＾５、但
   し、Ｒ＾４及びＲ＾５は同一もしくは相異なるものであ
   り、アルキル、アリール、アラルキル、アシル、アルキ
   ルスルホニルまたはアリールスルホニルを表わす、 の基で、またはカルバモイル、ジアルキルカルバモイル
   、スルファモイル、ジアルキルスルファモイル、ヘテロ
   アリール、アリール、アリールオキシ、アリールチオ、
   アリールスルホニル、アラルコキシ、アラルキルチオも
   しくはアラルキルスルホニルで置換されていてもよく、
   最後に述べた置換基のヘテロアリール及びアリール基は
   ハロゲン、シアノ、トリフルオロメチル、トリフルオロ
   メトキシ、アルキル、アルコキシ、アルキルチオまたは
   アルキルスルホニルからなる同一もしくは相異なる置換
   基で一置換、二置換または三置換されていてもよく、 Ｒ＾２はヘテロアリールを表わし、該基はハロゲン、ア
   ルキル、アルコキシ、アルキルチオ、アルキルスルホニ
   ル、アリール、アリールオキシ、アリールチオ、アリー
   ルスルホニル、トリフルオロメチル、トリフルオロメト
   キシ、トリフルオロメチルチオもしくはアルコキシカル
   ボニルまたは式−ＮＲ＾４Ｒ＾５、但し、 Ｒ＾４及びＲ＾５は上記の意味を有する、 の基からなる同一もしくは相異なる基で一置換、二置換
   または三置換されていてもよく或いはＲ＾２はアリール
   を表わし、該基はアルキル、アルコキシ、アルキルチオ
   、アルキルスルホニル、アリール、アリールオキシ、ア
   リールチオ、アリールスルホニル、アラルキル、アラル
   コキシ、アラルキルチオ、アラルキルスルホニル、ハロ
   ゲン、シアノ、ニトロ、トリフルオロメチル、トリフル
   オロメトキシ、トリフルオロメチルチオ、アルコキシカ
   ルボニル、スルファモイル、ジアルキルスルファモイル
   、カルバモイルもしくはジアルキルカルバモイル、また
   は式 −ＮＲ＾４Ｒ＾５、但し、 Ｒ＾４及びＲ＾５は上記の意味を有する、 の基からなる同一もしくは相異なる基で一置換乃至五置
   換されていてもよく、 Ｒ＾３は水素を表わすか、 シクロアルキルを表わすか、 アルキルを表わし、該基はハロゲン、シアノ、アルコキ
   シ、アルキルチオ、アルキルスルホニル、トリフルオロ
   メチル、トリフルオロメトキシ、トリフルオロメチルチ
   オ、トリフルオロメチルスルホニル、アルコキシカルボ
   ニルもしくはアシルで、或いは式−ＮＲ＾４Ｒ＾５、但
   し、Ｒ＾４及びＲ＾５は上記の意味を有する、 の基で、またはカルバモイル、ジアルキルカルバモイル
   、スルファモイル、ジアルキルスルファモイル、ヘテロ
   アリール、アリール、アリールオキシ、アリールチオ、
   アリールスルホニル、アラルコキシ、アラルキルチオも
   しくはアラルキルスルホニルで置換されていてもよく、
   最後に述べた置換基のヘテロアリール及びアリール基は
   ハロゲン、シアノ、トリフルオロメチル、トリフルオロ
   メトキシ、アルキル、アルコキシ、アルキルチオまたは
   アルキルスルホニルからなる同一もしくは相異なる基で
   一置換、二置換または三置換されていてもよく、または Ｒ＾３はヘテロアリールを表わし、該基はハロゲン、ア
   ルキル、アルコキシ、アルキルチオ、アルキルスルホニ
   ル、アリール、アリールオキシ、アリールチオ、アリー
   ルスルホニル、トリフルオロメチル、トリフルオロメト
   キシ、トリフルオロメチルチオもしはアルコキシで、ま
   たは式−ＮＲ＾４Ｒ＾５、但し、 Ｒ＾４及びＲ＾５は上記の意味を有する、 の基からなる同一もしくは相異なる基で一置換、二置換
   または三置換されていてもよく、或いはＲ＾３はアリー
   ルを表わし、該基はアルキル、アルコキシ、アルキルチ
   オ、アルキルスルホニル、アリール、アリールオキシ、
   アリールチオ、アリールスルホニル、アラルキル、アラ
   ルコキシ、アラルキルチオ、アラルキルスルホニル、ハ
   ロゲン、シアノ、ニトロ、トリフルオロメチル、トリフ
   ルオロメトキシ、トリフルオロメチルチオ、アルコキシ
   カルボニル、スルファモイル、ジアルキルスルファモイ
   ル、カルバモイルもしくはジアルキルカルボニルで、ま
   たは式 −ＮＲ＾４Ｒ＾５、但し、 Ｒ＾４及びＲ＾５は上記の意味を有する、 の基からなる同一もしくは相異なる基で一置換乃至五置
   換されていてもよく、或いは Ｒ＾３はアルコキシ、アリールオキシ、アラルコキシ、
   アルキルチオ、アリールチオもしくはアラルキルチオを
   表わすか、または式−ＮＲ＾４Ｒ＾５、但し、 Ｒ＾４及びＲ＾５は上記の意味を有する、 の基を表わし、 Ｘは式−ＣＨ＿２−ＣＨ＿２−または−ＣＨ＝ＣＨ−の
   基を表わし、そして Ａは式 ▲数式、化学式、表等があります▼または ▲数式、化学式、表等があります▼ の基を表わし、ここに、 Ｒ＾６は水素またはアルキルを表わし、そしてＲ＾７は
   水素を表わすか、 メチル、アラルキルまたはアリール基を表わすか、或い
   はカチオンを表わす、 の置換されたピリミジン。 ２、一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ） 式中、Ｒ＾１はシクロアルキルを表わすか、或いは アルキルを表わし、該基はハロゲン、シアノ、アルコキ
   シ、アルキルチオ、アルキルスルホニル、トリフルオロ
   メチル、トリフルオロメトキシ、トリフルオロメチルチ
   オ、トリフルオロメチルスルホニル、アルコキシカルボ
   ニルもしくはアシルで、または式−ＮＲ＾４Ｒ＾５、但
   し、Ｒ＾４及びＲ＾５は同一もしくは相異なるものであ
   り、アルキル、アリール、アラルキル、アシル、アルキ
   ルスルホニルまたはアリールスルホニルを表わす、 の基で、またはカルバモイル、ジアルキルカルバモイル
   、スルファモイル、ジアルキルスルファモイル、ヘテロ
   アリール、アリール、アリールオキシ、アリールチオ、
   アリールスルホニル、アラルコキシ、アラルキルチオも
   しくはアラルキルスルホニルで置換されていてもよく、
   最後に述べた置換基のヘテロアリール及びアリール基は
   ハロゲン、シアノ、トリフルオロメチル、トリフルオロ
   メトキシ、アルキル、アルコキシ、アルキルチオまたは
   アルキルスルホニルからなる同一もしくは相異なる置換
   基で一置換、二置換または三置換されていてもよく、 Ｒ＾２はヘテロアリールを表わし、該基はハロゲン、ア
   ルキル、アルコキシ、アルキルチオ、アルキルスルホニ
   ル、アリール、アリールオキシ、アリールチオ、アリー
   ルスルホニル、トリフルオロメチル、トリフルオロメト
   キシ、トリフルオロメチルチオもしくはアルコキシカル
   ボニルまたは式−ＮＲ＾４Ｒ＾５、但し、 Ｒ＾４及びＲ＾５は上記の意味を有する、 の基からなる同一もしくは相異なる基で一置換、二置換
   または三置換されていてもよく或いはＲ＾２はアリール
   を表わし、該基はアルキル、アルコキシ、アルキルチオ
   、アルキルスルホニル、アリール、アリールオキシ、ア
   リールチオ、アリールスルホニル、アラルキル、アラル
   コキシ、アラルキルチオ、アラルキルスルホニル、ハロ
   ゲン、シアノ、ニトロ、トリフルオロメチル、トリフル
   オロメトキシ、トリフルオロメチルチオ、アルコキシカ
   ルボニル、スルファモイル、ジアルキルスルファモイル
   、カルバモイルもしくはジアルキルカルバモイル、また
   は式 −ＮＲ＾４Ｒ＾５、但し、 Ｒ＾４及びＲ＾５は上記の意味を有する、 の基からなる同一もしくは相異なる基で一置換乃至五置
   換されていてもよく、 Ｒ＾３は水素を表わすか、 シクロアルキルを表わすか、 アルキルを表わし、該基はハロゲン、シアノ、アルコキ
   シ、アルキルチオ、アルキルスルホニル、トリフルオロ
   メチル、トリフルオロメトキシ、トリフルオロメチルチ
   オ、トリフルオロメチルスルホニル、アルコキシカルボ
   ニルもしくはアシルで、式−ＮＲ＾４Ｒ＾５、但し、 Ｒ＾４及びＲ＾５は上記の意味を有する、 の基で、またはカルバモイル、ジアルキルカルバモイル
   、スルファモイル、ジアルキルスルファモイル、ヘテロ
   アリール、アリール、アリールオキシ、アリールチオ、
   アリールスルホニル、アラルコキシ、アラルキルチオも
   しくはアラルキルスルホニルで置換されていてもよく、
   最後に述べた置換基のヘテロアリール及びアリール基は
   ハロゲン、シアノ、トリフルオロメチル、トリフルオロ
   メトキシ、アルキル、アルコキシ、アルキルチオまたは
   アルキルスルホニルからなる同一もしくは相異なる基で
   一置換、二置換または三置換されていてもよく、または Ｒ＾３はヘテロアリールを表わし、該基はハロゲン、ア
   ルキル、アルコキシ、アルキルチオ、アルキルスルホニ
   ル、アリール、アリールオキシ、アリールチオ、アリー
   ルスルホニル、トリフルオロメチル、トリフルオロメト
   キシ、トリフルオロメチルチオもしくはアルコキシで、
   または式−ＮＲ＾４Ｒ＾５、但し、 Ｒ＾４及びＲ＾５は上記の意味を有する、 の基からなる同一もしくは相異なる基で一置換、二置換
   または三置換されていてもよく、或いはＲ＾３はアリー
   ルを表わし、該基はアルキル、アルコキシ、アルキルチ
   オ、アルキルスルホニル、アリール、アリールオキシ、
   アリールチオ、アリールスルホニル、アラルキル、アラ
   ルコキシ、アラルキルチオ、アラルキルスルホニル、ハ
   ロゲン、シアノ、ニトロ、トリフルオロメチル、トリフ
   ルオロメトキシ、トリフルオロメチルチオ、アルコキシ
   カルボニル、スルファモイル、ジアルキルスルファモイ
   ル、カルバモイルもしくはジアルキルカルボニルで、ま
   たは式 −ＮＲ＾４Ｒ＾５、但し、 Ｒ＾４及びＲ＾５は上記の意味を有する、 の基からなる同一もしくは相異なる基で一置換乃至五置
   換されていてもよく、或いは Ｒ＾３はアルコキシ、アリールオキシ、アラルコキシ、
   アルキルチオ、アリールチオもしくはアラルキルチオを
   表わすか、または式−ＮＲ＾４Ｒ＾５、但し、 Ｒ＾４及びＲ＾５は上記の意味を有する、 の基を表わし、 Ｘは式−ＣＨ＿２−ＣＨ＿２−または−ＣＨ＝ＣＨ−の
   基を表わし、そして Ａは式 ▲数式、化学式、表等があります▼または ▲数式、化学式、表等があります▼ の基を表わし、ここに、 Ｒ＾６は水素またはアルキルを表わし、そしてＲ＾７は
   水素を表わすか、 メチル、アラルキルまたはアリール基を表わすか、或い
   はカチオンを表わす、 の置換されたピリミジンを製造するにあたり、一般式（
   VIII） ▲数式、化学式、表等があります▼（VIII） 式中、Ｒ＾１、Ｒ＾２及びＲ＾３は上記の意味を有し、
   そしてＲ＾７′はアルキル、アリールまたはアラルキル
   を表わす、 のケトンを還元し、 該酸を製造する場合には、該エステルを加水分解し、 該ラクトンを製造する場合には、該カルボン酸を環形成
   させ、 該塩を製造する場合には、該エステルまたはラクトンを
   加水分解し、 該エチレン化合物（Ｘ＝−ＣＨ＿２−ＣＨ＿２−）を製
   造する場合には、該エテン化合物（Ｘ＝−ＣＨ＝ＣＨ−
   ）を普通の方法で水素添加し、そして適当ならば、異性
   体を分割する ことを特徴とする上記一般式（ I ）の置換されたピリ
   ミジンの製造方法。 ３、特許請求の範囲第１項記載の置換されたピリミジン
   を含有することを特徴とする薬剤。 ４、薬剤の製造における特許請求の範囲第１項記載の置
   換されたピリミジンの使用。