JPH01262405A - パターン検査装置 - Google Patents
パターン検査装置Info
- Publication number
- JPH01262405A JPH01262405A JP63090316A JP9031688A JPH01262405A JP H01262405 A JPH01262405 A JP H01262405A JP 63090316 A JP63090316 A JP 63090316A JP 9031688 A JP9031688 A JP 9031688A JP H01262405 A JPH01262405 A JP H01262405A
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- Japan
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- pattern
- inspected
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- Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
- Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)
- Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔概要〕
半導体装置、その半製品、または、半導体装ぽの製造方
法に使用されるレチクル、マスク等のパターン、特にそ
の配置精度を検査する装置の改良に関し、 パターン寸法、パターンの配置精度を短時間に検査する
パターン検査装置を提供することを目的とし、 被検査体が載置され、連続的に送られるＸ−Ｙステージ
と、該Ｘ −Ｙステージに向がって光ビームを照射する
光ビーム照射手段と、前記被検査体の真正なパターンを
記憶する真正パターン記憶手段と、前記光ビームの反射
光ビームを検出して前記被検査体のパターンを判読する
パターン判読手段と、該パターン判読手段が判読したパ
ターンと前記真正パターン記憶手段の記憶する真正パタ
ーンとを比較して、前記被検査体のパターンの正否を判
断する正否判定手段とを有するパターン検査装置におい
て、前記被検査体が前記Ｘ−Ｙステージによって送られ
る経路にそって存在するパターン検査位置を記憶するパ
ターン検査位置記憶手段を付加し、該パターン検査位置
記憶手段に記憶されているパターン検査位置に対応して
検出された前記パターンのみを選択的に判読して、前記
真正パターンと比較して、前記被検査体のパターンの正
否を判断するように構成する。
法に使用されるレチクル、マスク等のパターン、特にそ
の配置精度を検査する装置の改良に関し、 パターン寸法、パターンの配置精度を短時間に検査する
パターン検査装置を提供することを目的とし、 被検査体が載置され、連続的に送られるＸ−Ｙステージ
と、該Ｘ −Ｙステージに向がって光ビームを照射する
光ビーム照射手段と、前記被検査体の真正なパターンを
記憶する真正パターン記憶手段と、前記光ビームの反射
光ビームを検出して前記被検査体のパターンを判読する
パターン判読手段と、該パターン判読手段が判読したパ
ターンと前記真正パターン記憶手段の記憶する真正パタ
ーンとを比較して、前記被検査体のパターンの正否を判
断する正否判定手段とを有するパターン検査装置におい
て、前記被検査体が前記Ｘ−Ｙステージによって送られ
る経路にそって存在するパターン検査位置を記憶するパ
ターン検査位置記憶手段を付加し、該パターン検査位置
記憶手段に記憶されているパターン検査位置に対応して
検出された前記パターンのみを選択的に判読して、前記
真正パターンと比較して、前記被検査体のパターンの正
否を判断するように構成する。
〔産業上の利用分野］
本発明は、半導体装置、その半製品、または、半導体装
置の製造方法に使用されるレチクル、マスク等のパター
ン、特にその配置精度を検査する装置の改良に関する。
置の製造方法に使用されるレチクル、マスク等のパター
ン、特にその配置精度を検査する装置の改良に関する。
（従来の技ｉネｉ〕
従来技術に係るパターン検査装置について、図を参照し
て説明する。
て説明する。
第３図参照
ｌはＸ−Ｙステージであり、２は被検査体であり、３１
は光ビームであり、３２は反射光ビームであり、４は光
ビーム照射手段であり、５１は正否判定手段であり、６
はパターン判読手段であり、Ｍｌは真正パターン記憶手
段であり、Ｍ３はＸ−Ｙステージｌを決められた距離づ
＼移動させる手段である。
は光ビームであり、３２は反射光ビームであり、４は光
ビーム照射手段であり、５１は正否判定手段であり、６
はパターン判読手段であり、Ｍｌは真正パターン記憶手
段であり、Ｍ３はＸ−Ｙステージｌを決められた距離づ
＼移動させる手段である。
被検査体２をＸ−Ｙステージ上に載置し、移動手段Ｍ３
を使用して、Ｘ−Ｙステージ１を、決められたパターン
検査位置に対応する位置に移動して停止する。その検査
位置において、光ビーム照射手段４の発射する光ビーム
３１を被検査体２上に照射し、その反射光ビーム３２を
パターン判読手段６によって検出してパターンを判読す
る０判読されたパターンと真正パターン記憶手段Ｍ１力
゛ら読み出された真正パターンとを正否判定手段５１に
おいて比較し、パターン寸法や配置精度の正否を判定す
る０判定が終れば、次のパターン検査位置に対応する位
置までＸ−Ｙステージｌを移動し、同様の方法を用いて
パターンの正否の判定を行う。
を使用して、Ｘ−Ｙステージ１を、決められたパターン
検査位置に対応する位置に移動して停止する。その検査
位置において、光ビーム照射手段４の発射する光ビーム
３１を被検査体２上に照射し、その反射光ビーム３２を
パターン判読手段６によって検出してパターンを判読す
る０判読されたパターンと真正パターン記憶手段Ｍ１力
゛ら読み出された真正パターンとを正否判定手段５１に
おいて比較し、パターン寸法や配置精度の正否を判定す
る０判定が終れば、次のパターン検査位置に対応する位
置までＸ−Ｙステージｌを移動し、同様の方法を用いて
パターンの正否の判定を行う。
上記した従来技術に係るパターン検査装置においては、
Ｘ−Ｙステージ１をパターン検査位置に対応する位置に
移動して停止し光ビーム照射を行ってパターンの判読を
する操作を、被検査体２のパターン検査位置の数だけ繰
り返さねばならず、膨大な測定時間を必要とする。
Ｘ−Ｙステージ１をパターン検査位置に対応する位置に
移動して停止し光ビーム照射を行ってパターンの判読を
する操作を、被検査体２のパターン検査位置の数だけ繰
り返さねばならず、膨大な測定時間を必要とする。
本発明の目的は、この欠点を解消することにあり、パタ
ーン寸法、パターンの配置精度を短時間に検査するパタ
ーン検査装置を提供することにある。
ーン寸法、パターンの配置精度を短時間に検査するパタ
ーン検査装置を提供することにある。
（！ｌｉｔ！を解決するための手段］
上記の目的は、被検査体（２）が載置され１、連続的に
送られるＸ−Ｙステージ（１）と、ＶｉＸ−Ｙステージ
（１）に向かって光ビーム（３１）を照射する光ビーム
照射手段（４）と、前記被検査体（２）の真正なパター
ンを記憶する真正パターン記憶手段（Ｍ１）と、前記光
ビーム（３１）の反射光ビーム（３２）を検出して前記
被検査体（２）のパターンを判読するパターン判読手段
（６）と、該パターン判読手段（６）が判読したパター
ンと前記真正パターン記憶手段（Ｍ１）の記憶する真正
パターンとを比較して、前記被検査体（２）のパターン
の正否を判断する正否判定手段（５）とを存するパター
ン検査装置において、前記被検査体（２）が前記Ｘ−Ｙ
ステージ（１）によって送られる経路にそって存在する
パターン検査位置を記憶するパターン検査位置記憶手段
（Ｍ２）を付加し、該パターン検査位置記憶手段（Ｍ２
）に記憶されているパターン検査位置に対応して検出さ
れた前記パターンのみを選択的に判読して、前記真正パ
ターンと比較して、前記被検査体（２）のパターンの正
否を判断することによって達成され〔作用〕 本発明に係るパターン検査Ｗｍにあっては、ステンブア
ンドリピート方式に代えて、次のようにするものである
。すなわち、Ｘ−Ｙステージｌを一定速度をもって連続
に移動させながら、被検査体２に光ビーム３１を照射し
、その反射光ビーム３２をパターン判読手段６をもって
検出するが、そのすべてのパターンを真正パターンと比
較上ず、限定されたパターンのみを真正なパターンと比
較して、パターン全体の正否を判読する０本発明のパタ
ーン検査装置においては、判読されたパターンのうち、
パターン検査位置記憶手段Ｍ２に記憶されている予め決
められたパターン検査位置に対応して判読されたパター
ンのみが選択的に正否判定手段５に送られ、そこで、予
め真正パターン記憶手段Ｍ１に記憶されている真正パタ
ーンと比較され、パターン寸法、配置精度の正否が判定
されるので、Ｘ−Ｙステージｌを各パターン毎にパター
ン検査位置に停止する必要がなく、検査時間が大幅に短
縮される。
送られるＸ−Ｙステージ（１）と、ＶｉＸ−Ｙステージ
（１）に向かって光ビーム（３１）を照射する光ビーム
照射手段（４）と、前記被検査体（２）の真正なパター
ンを記憶する真正パターン記憶手段（Ｍ１）と、前記光
ビーム（３１）の反射光ビーム（３２）を検出して前記
被検査体（２）のパターンを判読するパターン判読手段
（６）と、該パターン判読手段（６）が判読したパター
ンと前記真正パターン記憶手段（Ｍ１）の記憶する真正
パターンとを比較して、前記被検査体（２）のパターン
の正否を判断する正否判定手段（５）とを存するパター
ン検査装置において、前記被検査体（２）が前記Ｘ−Ｙ
ステージ（１）によって送られる経路にそって存在する
パターン検査位置を記憶するパターン検査位置記憶手段
（Ｍ２）を付加し、該パターン検査位置記憶手段（Ｍ２
）に記憶されているパターン検査位置に対応して検出さ
れた前記パターンのみを選択的に判読して、前記真正パ
ターンと比較して、前記被検査体（２）のパターンの正
否を判断することによって達成され〔作用〕 本発明に係るパターン検査Ｗｍにあっては、ステンブア
ンドリピート方式に代えて、次のようにするものである
。すなわち、Ｘ−Ｙステージｌを一定速度をもって連続
に移動させながら、被検査体２に光ビーム３１を照射し
、その反射光ビーム３２をパターン判読手段６をもって
検出するが、そのすべてのパターンを真正パターンと比
較上ず、限定されたパターンのみを真正なパターンと比
較して、パターン全体の正否を判読する０本発明のパタ
ーン検査装置においては、判読されたパターンのうち、
パターン検査位置記憶手段Ｍ２に記憶されている予め決
められたパターン検査位置に対応して判読されたパター
ンのみが選択的に正否判定手段５に送られ、そこで、予
め真正パターン記憶手段Ｍ１に記憶されている真正パタ
ーンと比較され、パターン寸法、配置精度の正否が判定
されるので、Ｘ−Ｙステージｌを各パターン毎にパター
ン検査位置に停止する必要がなく、検査時間が大幅に短
縮される。
以下、図面を参照しつ−、本発明の一実施例に係るパタ
ーン検査装置について説明する。
ーン検査装置について説明する。
第１図、第２図参照
第１図はパターン検査装置の構成図である。
１は連続的に送られるＸ−Ｙステージであり、２はｘ−
Ｙステージに乗せられる被検査体である。
Ｙステージに乗せられる被検査体である。
３１は光ビーム照射手段４によって照射される光ビーム
であり、３２は光ビーム３１が被検査体で反射した反射
光ビームである。６は反射ビーム３２を受けてそのパタ
ーンを判読するパターン判読手段である０Ｍｌは真正パ
ターン記憶手段であり、Ｍ２はパターン検査位置記憶手
段である。５が本発明の要旨に係る正否判定手段であり
、パターン検査位置記憶手段Ｍ２に対応するパターンの
みについて正否判断をする。
であり、３２は光ビーム３１が被検査体で反射した反射
光ビームである。６は反射ビーム３２を受けてそのパタ
ーンを判読するパターン判読手段である０Ｍｌは真正パ
ターン記憶手段であり、Ｍ２はパターン検査位置記憶手
段である。５が本発明の要旨に係る正否判定手段であり
、パターン検査位置記憶手段Ｍ２に対応するパターンの
みについて正否判断をする。
第２図は、パターン検査装置の検査手順を示すフローチ
ャートである。
ャートである。
先づ、パターン検査位置記憶手段Ｍ２に記憶されている
パターン検査位置を読み込み、Ｘ−Ｙステージｌは連続
に移動しながら、光ビーム３１を被検査体２に照射し、
その反射光ビーム３２をパターン判読手段６を使用して
検出してパターンを判読する０判読されたパターンのう
ち、前記のパターン検査位置記憶手段Ｍ２から読み込ま
れたパターン検査位置に対応するパターンのみを正否Ｉ
ＪＩ定手投手段送り、その他のパターンデータを捨てる
。
パターン検査位置を読み込み、Ｘ−Ｙステージｌは連続
に移動しながら、光ビーム３１を被検査体２に照射し、
その反射光ビーム３２をパターン判読手段６を使用して
検出してパターンを判読する０判読されたパターンのう
ち、前記のパターン検査位置記憶手段Ｍ２から読み込ま
れたパターン検査位置に対応するパターンのみを正否Ｉ
ＪＩ定手投手段送り、その他のパターンデータを捨てる
。
正否判定手段５において、前記のパターン検査位置に対
応するパターンと真正パターン記憶手段Ｍｌに記憶され
ている真正パターンとを比較して、一致していれば正常
と判断して、次の検査位置で同様に正否の判定を行い、
全検査位置での判定が終了するまでこの動作を繰り返す
、真正パターンと比較して不一致と判定された場合には
エラー表示される。
応するパターンと真正パターン記憶手段Ｍｌに記憶され
ている真正パターンとを比較して、一致していれば正常
と判断して、次の検査位置で同様に正否の判定を行い、
全検査位置での判定が終了するまでこの動作を繰り返す
、真正パターンと比較して不一致と判定された場合には
エラー表示される。
各検査位置でＸ−Ｙステージｌを停止する必要がないの
で、検査時間が大幅に短縮される。
で、検査時間が大幅に短縮される。
なお、パターンの判読手段としては、レーザ光のパター
ンエツジにおける散乱光を検出して判読する方法、ＣＣ
Ｄ等イメージセンサ−を利用して判読する方法等がある
。
ンエツジにおける散乱光を検出して判読する方法、ＣＣ
Ｄ等イメージセンサ−を利用して判読する方法等がある
。
以上説明せるとおり、本発明に係るパターン検査装置に
おいては、Ｘ−Ｙステージを各パターン毎に停止するこ
となく、連続的に移動しながらパターンを判読し、その
中から予め定められたパターン検査位置に対応するパタ
ーンのみを選択して、これと対応する真正パターンと比
較して、パターン寸法、配置精度の正否を判定するので
、検査時間が著しく短縮される。ＣＣＤラインセンサを
検査する場合を例にとれば、従来４〜８時間要していた
ものが、本発明に係るパターン検査装置を使用すれば、
数秒〜数十秒で完了する。
おいては、Ｘ−Ｙステージを各パターン毎に停止するこ
となく、連続的に移動しながらパターンを判読し、その
中から予め定められたパターン検査位置に対応するパタ
ーンのみを選択して、これと対応する真正パターンと比
較して、パターン寸法、配置精度の正否を判定するので
、検査時間が著しく短縮される。ＣＣＤラインセンサを
検査する場合を例にとれば、従来４〜８時間要していた
ものが、本発明に係るパターン検査装置を使用すれば、
数秒〜数十秒で完了する。
第１図は、本発明の一実施例に係るパターン検査装置の
構成図である。 第２図は、本発明の一実施例に係るパターン検査装置の
検査手順を示すフローチャートである。 第３図は、従来技術に係るパターン検査装置の構成図で
ある。 ｌ・・・Ｘ−Ｙステージ、 ２・・・被検査体、 ３１・・・光ビーム、 ３２・・・反射光ビーム、 ４・・・光ビーム照射手段、 ５・・・本発明の要旨に係る正否判定手段、５１・・・
従来技術に係る正否判定手段、６・・・パターン判読手
段、 Ｍｌ・・・真正パターン記憶手段、 Ｍ２・・・パターン検査位置記憶手段、Ｍ３・・・Ｘ−
Ｙステージを決められた距離づ＼移動させる手段。
構成図である。 第２図は、本発明の一実施例に係るパターン検査装置の
検査手順を示すフローチャートである。 第３図は、従来技術に係るパターン検査装置の構成図で
ある。 ｌ・・・Ｘ−Ｙステージ、 ２・・・被検査体、 ３１・・・光ビーム、 ３２・・・反射光ビーム、 ４・・・光ビーム照射手段、 ５・・・本発明の要旨に係る正否判定手段、５１・・・
従来技術に係る正否判定手段、６・・・パターン判読手
段、 Ｍｌ・・・真正パターン記憶手段、 Ｍ２・・・パターン検査位置記憶手段、Ｍ３・・・Ｘ−
Ｙステージを決められた距離づ＼移動させる手段。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 被検査体（２）が載置され、連続的に送られるＸ−Ｙ
ステージ（１）と、該Ｘ−Ｙステージ（１）に向かって
光ビーム（３１）を照射する光ビーム照射手段（４）と
、前記被検査体（２）の真正なパターンを記憶する真正
パターン記憶手段（Ｍ１）と、前記光ビーム（３１）の
反射光ビーム（３２）を検出して前記被検査体（２）の
パターンを判読するパターン判読手段（６）と、該パタ
ーン判読手段（６）が判読したパターンと前記真正パタ
ーン記憶手段（Ｍ１）の記憶する真正パターンとを比較
して、前記被検査体（２）のパターンの正否を判断する
正否判定手段（５）とを有するパターン検査装置におい
て、 前記被検査体（２）が前記Ｘ−Ｙステージ（１）によっ
て送られる経路にそって存在するパターン検査位置を記
憶するパターン検査位置記憶手段（Ｍ２）が付加されて
おり、 該パターン検査位置記憶手段（Ｍ２）に記憶されている
パターン検査位置に対応して検出された前記パターンの
みを選択的に判読して、前記真正パターンと比較して、
前記被検査体（２）のパターンの正否を判断する ことを特徴とするパターン検査装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63090316A JP2622714B2 (ja) | 1988-04-14 | 1988-04-14 | パターン検査装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63090316A JP2622714B2 (ja) | 1988-04-14 | 1988-04-14 | パターン検査装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01262405A true JPH01262405A (ja) | 1989-10-19 |
| JP2622714B2 JP2622714B2 (ja) | 1997-06-18 |
Family
ID=13995124
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63090316A Expired - Fee Related JP2622714B2 (ja) | 1988-04-14 | 1988-04-14 | パターン検査装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2622714B2 (ja) |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS58157148A (ja) * | 1982-03-15 | 1983-09-19 | Hitachi Ltd | パタ−ン検査装置 |
| JPS6199845A (ja) * | 1984-10-22 | 1986-05-17 | インタ−ナショナル ビジネス マシ−ンズ コ−ポレ−ション | 光学的欠陥検出装置 |
| JPS61243378A (ja) * | 1985-04-22 | 1986-10-29 | Hitachi Ltd | 電子回路装置の検査のための不良解析支援装置及びその使用方法 |
-
1988
- 1988-04-14 JP JP63090316A patent/JP2622714B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS58157148A (ja) * | 1982-03-15 | 1983-09-19 | Hitachi Ltd | パタ−ン検査装置 |
| JPS6199845A (ja) * | 1984-10-22 | 1986-05-17 | インタ−ナショナル ビジネス マシ−ンズ コ−ポレ−ション | 光学的欠陥検出装置 |
| JPS61243378A (ja) * | 1985-04-22 | 1986-10-29 | Hitachi Ltd | 電子回路装置の検査のための不良解析支援装置及びその使用方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2622714B2 (ja) | 1997-06-18 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |