JPH01263647A - 感光性組成物、感光性複写材料及びネガチブレリーフ複写の製法 - Google Patents
感光性組成物、感光性複写材料及びネガチブレリーフ複写の製法Info
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/022—Quinonediazides
- G03F7/0226—Quinonediazides characterised by the non-macromolecular additives
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- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
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- Y10S430/1053—Imaging affecting physical property or radiation sensitive material, or producing nonplanar or printing surface - process, composition, or product: radiation sensitive composition or product or process of making binder containing
- Y10S430/1055—Radiation sensitive composition or product or process of making
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Landscapes
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- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は、本質的に、水に不溶でありかつアルカリ性水
溶液に可溶であるバインダー、感光性1.2−キノンジ
アジド又は露光時に酸を離脱する化合物及び酸分解可能
な少なくとも1個のC−0−C基を有する化合物よりな
る感光性混合物、及び熱硬化を促進する物質よりなる感
光性組成物に関する。また本発明は、層支持体及び前記
の4IIFN物よりなる感光性層から製造される複写材
料及び露光、加熱、全面露光、現像及び印刷数を増加す
るために複写材料を任意に熱的に後硬化することKよる
ネガチブレリーフタ写(negative relie
f coples)の製造に関する。
溶液に可溶であるバインダー、感光性1.2−キノンジ
アジド又は露光時に酸を離脱する化合物及び酸分解可能
な少なくとも1個のC−0−C基を有する化合物よりな
る感光性混合物、及び熱硬化を促進する物質よりなる感
光性組成物に関する。また本発明は、層支持体及び前記
の4IIFN物よりなる感光性層から製造される複写材
料及び露光、加熱、全面露光、現像及び印刷数を増加す
るために複写材料を任意に熱的に後硬化することKよる
ネガチブレリーフタ写(negative relie
f coples)の製造に関する。
従来の技術
応
画像に痩じて露光されたその部分は現像溶液に可溶でか
つその非露光部分は不溶でそのまま残る感光性組成物は
長い間公知であった。そのような材料の製造には、感光
性化合物として〇−キノンジアジドを含有し、かつ付加
的にアルカリ可溶性を与える基を有する樹脂、例えばフ
ェノール樹脂を含有する層が主に実際に使用される。酸
分解可能な化合物を基礎とする感光性組成物も公知であ
る。それらは酸分解可能な化合物として、オルトカルゲ
ン酸誘導体、モノマー又はポリマーアセタール、エノー
ルエーテル又はアシルイミノカルボネートを含有する。
つその非露光部分は不溶でそのまま残る感光性組成物は
長い間公知であった。そのような材料の製造には、感光
性化合物として〇−キノンジアジドを含有し、かつ付加
的にアルカリ可溶性を与える基を有する樹脂、例えばフ
ェノール樹脂を含有する層が主に実際に使用される。酸
分解可能な化合物を基礎とする感光性組成物も公知であ
る。それらは酸分解可能な化合物として、オルトカルゲ
ン酸誘導体、モノマー又はポリマーアセタール、エノー
ルエーテル又はアシルイミノカルボネートを含有する。
それらの組成物中に含有される、酸を離脱する放リアジ
ンを含有する。同様に使用されるバインダーはアルカリ
可溶性を与える基を有する樹脂よりなる。
ンを含有する。同様に使用されるバインダーはアルカリ
可溶性を与える基を有する樹脂よりなる。
また、O−キノンジアジドを基礎とする通例ポジチプ作
用の複写材料は適当な添加剤の存在かつ特別な処理順序
によりネガチブ処理に使用することができることは公知
である。英国特許用Qh (Br1tish Pat
ent Application)第2082339
号明細書は、その種の反転法を記載し、その中で0−キ
ノンジアジド及び少なくとも1種のレゾールよりなる感
光性混合物をネガチブ作用の記録材料として使用するこ
とができる。西ドイツ特許公開公報(GermanOf
fenlegungsschr iff )第2529
054号明細書(米山特許(U、 S、 Patent
)第4104070号明a書に相応する)は反転法で使
ロキシエチルイミダゾリンを添加剤として含有する。S
−又はt−アミノを含有する同様の材Patent
Application)第0133216号明細′4
#(米国特許鉛牛581321号明細書に相応する)は
、0−キノンノアシトを含有する複写層がポリマー反応
中で架橋剤として有利に使用されるヘキサメチロールメ
ラミンエーテルよりなる添加剤を含有する反転法を記載
し、−方欧州特許機構出願第0131238号明細書(
米国特許第4576QO1号明細書に相応する)は、感
光性材料が前記の塩基性又はアルカリ性の添加剤のいか
なるものも必要としない反転法を記載している。
用の複写材料は適当な添加剤の存在かつ特別な処理順序
によりネガチブ処理に使用することができることは公知
である。英国特許用Qh (Br1tish Pat
ent Application)第2082339
号明細書は、その種の反転法を記載し、その中で0−キ
ノンジアジド及び少なくとも1種のレゾールよりなる感
光性混合物をネガチブ作用の記録材料として使用するこ
とができる。西ドイツ特許公開公報(GermanOf
fenlegungsschr iff )第2529
054号明細書(米山特許(U、 S、 Patent
)第4104070号明a書に相応する)は反転法で使
ロキシエチルイミダゾリンを添加剤として含有する。S
−又はt−アミノを含有する同様の材Patent
Application)第0133216号明細′4
#(米国特許鉛牛581321号明細書に相応する)は
、0−キノンノアシトを含有する複写層がポリマー反応
中で架橋剤として有利に使用されるヘキサメチロールメ
ラミンエーテルよりなる添加剤を含有する反転法を記載
し、−方欧州特許機構出願第0131238号明細書(
米国特許第4576QO1号明細書に相応する)は、感
光性材料が前記の塩基性又はアルカリ性の添加剤のいか
なるものも必要としない反転法を記載している。
また公知技術は、欧州特許機構出願第0082463号
明細書(米国特許第4506006号明細誓に相応する
)に記載されているように11.2−キノンジアジドの
代りに酸分解可能な化合物を基礎とするポジチプーネガ
チブ反転法を公表した。
明細書(米国特許第4506006号明細誓に相応する
)に記載されているように11.2−キノンジアジドの
代りに酸分解可能な化合物を基礎とするポジチプーネガ
チブ反転法を公表した。
前記の反転法は基本的には、画像に応じた露光後に印刷
板を加熱すること、冷却した板を原画なしに再露光する
ことかつ次いで水性−アルカリ性現像液を用いて現像す
ることを包含する同じl1jl序の方法段階よりなる。
板を加熱すること、冷却した板を原画なしに再露光する
ことかつ次いで水性−アルカリ性現像液を用いて現像す
ることを包含する同じl1jl序の方法段階よりなる。
公知技術の反転法は、!7!遺される光分解生成物はそ
れらが加熱される際に不溶性の反応生成物を形成すると
いう事実に基づく。この熱硬化は複写層中に特殊の塩基
性又は酸性添加剤の存在で又は多官能的反応性の基を含
有する特殊の架橋剤の存在で有利に起こる。しかしなが
らこの種の添加剤は通例抱写材料の貯蔵寿命に、かつ捨
耳技術に関する個々の特性、例えば感光性及び露光後の
画像コントラストに悪影響を有する。更に、多くの適用
には、画像反転に必要な温度が高すぎ゛る、又は比較的
に低い温度での加熱時間が長すぎる、又は反転節回が狭
すぎるのである。
れらが加熱される際に不溶性の反応生成物を形成すると
いう事実に基づく。この熱硬化は複写層中に特殊の塩基
性又は酸性添加剤の存在で又は多官能的反応性の基を含
有する特殊の架橋剤の存在で有利に起こる。しかしなが
らこの種の添加剤は通例抱写材料の貯蔵寿命に、かつ捨
耳技術に関する個々の特性、例えば感光性及び露光後の
画像コントラストに悪影響を有する。更に、多くの適用
には、画像反転に必要な温度が高すぎ゛る、又は比較的
に低い温度での加熱時間が長すぎる、又は反転節回が狭
すぎるのである。
欧州特許機構出願第0133216号明細書に記載され
た反転法では、複写層は1.2−キノンジアジドに加え
て、前記の様にヘキサメチロールメラミンのエーテルを
基本的成分として含有する。このようなメラミンエーテ
ルは露光画像部分において熱処理中に通例ボジチプ作用
の感光性材料の画像反転を有利に促進するが、それにも
かかわらずヘキサメチロールメラミンエーテルは反転範
囲の温度耐性が比較的狭く、それが捨耳結果の変化をひ
きおこしうるという不利な点を有する。また、付加的な
化合物の反応性の−CH2−0−R−基に基因する、特
に高めた温度で印刷板が短かい貯蔵寿命を有し、それが
早計の架橋を洒びきかつ従って板を役に立たなくするこ
とは著しい欠点である。
た反転法では、複写層は1.2−キノンジアジドに加え
て、前記の様にヘキサメチロールメラミンのエーテルを
基本的成分として含有する。このようなメラミンエーテ
ルは露光画像部分において熱処理中に通例ボジチプ作用
の感光性材料の画像反転を有利に促進するが、それにも
かかわらずヘキサメチロールメラミンエーテルは反転範
囲の温度耐性が比較的狭く、それが捨耳結果の変化をひ
きおこしうるという不利な点を有する。また、付加的な
化合物の反応性の−CH2−0−R−基に基因する、特
に高めた温度で印刷板が短かい貯蔵寿命を有し、それが
早計の架橋を洒びきかつ従って板を役に立たなくするこ
とは著しい欠点である。
発明が解決しようとする課題
従って、前記の欠点を示さず、しかし高めた温度でさえ
も良好な貯蔵寿命を有しかつ比較的広い熱処理範囲を示
す、感光性組成物、この組成物から製造される複写材料
及びそうして製造した材料を用いて行なわれる反転法を
得ることが本発明の目的である。
も良好な貯蔵寿命を有しかつ比較的広い熱処理範囲を示
す、感光性組成物、この組成物から製造される複写材料
及びそうして製造した材料を用いて行なわれる反転法を
得ることが本発明の目的である。
課題を解決するための手段
本発明は、本質的に、水に不溶性でありかつアルカリ性
水溶液に可溶であるバインダー、感光性の1.2−キノ
ンジアジド又は露光時に酸を離脱する化合物及び酸分解
可能な少なくとも1個のC−0−C基を有する化合物よ
りなる感光性混合物及び熱硬化を促進する物質よりなる
感光性組成物を提供し、この際一般式I:〔式中R7は
アルキル基又はアリール基であってよく、かつR2はア
ルコキシ基又はアリールオキシ基又は1個又は2個のア
ルキル置換基、シクロアルキル置換基又はアリール置換
基を有するアミノ基であってよい〕の化合物が熱硬化を
促進する物質として存在する。熱硬化を促進する物質は
有利に一般式I〔式中R4は(C1〜C4)−アルキル
基又はフェニル基であってよくかつRハ(C,〜C4)
−アルコキシ基又はフェノキシ基又は1個又は2個の(
C,〜C4)−アルキル置換基又は(C4〜C3)−シ
クロアルキル置換基を有するアミノ基であってよい〕の
化合物よりなるO 2−ジアルキルアミノ−4,6−ジアルコキシ−5−ト
リアジンを使用することが特に有利であると実証された
。
水溶液に可溶であるバインダー、感光性の1.2−キノ
ンジアジド又は露光時に酸を離脱する化合物及び酸分解
可能な少なくとも1個のC−0−C基を有する化合物よ
りなる感光性混合物及び熱硬化を促進する物質よりなる
感光性組成物を提供し、この際一般式I:〔式中R7は
アルキル基又はアリール基であってよく、かつR2はア
ルコキシ基又はアリールオキシ基又は1個又は2個のア
ルキル置換基、シクロアルキル置換基又はアリール置換
基を有するアミノ基であってよい〕の化合物が熱硬化を
促進する物質として存在する。熱硬化を促進する物質は
有利に一般式I〔式中R4は(C1〜C4)−アルキル
基又はフェニル基であってよくかつRハ(C,〜C4)
−アルコキシ基又はフェノキシ基又は1個又は2個の(
C,〜C4)−アルキル置換基又は(C4〜C3)−シ
クロアルキル置換基を有するアミノ基であってよい〕の
化合物よりなるO 2−ジアルキルアミノ−4,6−ジアルコキシ−5−ト
リアジンを使用することが特に有利であると実証された
。
本発明により使用されるS −) IJアジンの製造は
、倒えば“デ・ジャナール・オプ・デ・アメリカン・ケ
ミカル・ソサエティー(TheJournal of
the Amerlcan ChemicalSoci
ety)” 73巻、(1951年)、2986〜29
92頁に記載されている。
、倒えば“デ・ジャナール・オプ・デ・アメリカン・ケ
ミカル・ソサエティー(TheJournal of
the Amerlcan ChemicalSoci
ety)” 73巻、(1951年)、2986〜29
92頁に記載されている。
感光性組成物中で使用されるS −) IJアソンの濃
度は比較的広い範囲内で変化してよい。これは一般に、
感光性組成物の非揮発性成分の重1%−に基づき0.5
〜30重量%、有利に1〜15重量−の割合で存在する
。?ジチプーネガチブ反転段階の間に本発明釦よシ使用
されるS−トリアゾンが、感光性組成物及びそれから製
造される複写材料に、不所望の温度影響に対する高い安
定性を与えることは大きな利点である。これは、反転段
階における温度変化の場合ですら、色p4表現を害する
ことなく熱処理中の比較的に広い反転範囲となる。従っ
て印刷版の製造における後続の過程は著しく容易である
。
度は比較的広い範囲内で変化してよい。これは一般に、
感光性組成物の非揮発性成分の重1%−に基づき0.5
〜30重量%、有利に1〜15重量−の割合で存在する
。?ジチプーネガチブ反転段階の間に本発明釦よシ使用
されるS−トリアゾンが、感光性組成物及びそれから製
造される複写材料に、不所望の温度影響に対する高い安
定性を与えることは大きな利点である。これは、反転段
階における温度変化の場合ですら、色p4表現を害する
ことなく熱処理中の比較的に広い反転範囲となる。従っ
て印刷版の製造における後続の過程は著しく容易である
。
本発明の組成物及びそれから製造される初耳材料中で使
用するために適当である感光剤(Sensitizer
)は、化学放射線の露光によってアルカリ性水溶液中で
可溶にされる任意の1.2−キノンジアジド−スルホン
酸エステル、1゜2−キノンジアソドースルホン酸アミ
ド、1゜2−キノンノアジドカルゲン酸エステル及びア
ミドよりなる。これらは1.2−ベンゾキノン又は1.
2−ナフトキノンジアジド−4−又は−5−スルホン酸
又はその酸クロリドと、フェノール−アルデヒド/アセ
トン縮合生成物との、又はp−ヒドロキシスチレン、p
−アミノスチレンのポリマー又はこれらの2種の化合物
のコポリマーとの反応生成物を包含する。1.2−キノ
ンジアジド−スルホン酸−4−エステルが%に有用な感
光剤である。1.2−キノンジアジド島導体の適当なエ
ステルは、酸又はそのハロゲン化物とフェノール、特に
多価フェノールとの、例えば2.3.4−トリヒドロキ
シ−ベンゾフェノン、2.4−ジヒドロキシ−ベンゾフ
ェノン、↓−デカノイルーレゾルシノール、!−(2−
フェニルゾロ17”−2−イル)−フェノール、没食子
酸オクチルエステル、lt4゜4−ビス−(4−ヒドロ
キシフェニル)−吉草酸ブチルエステルとの周知の反応
生成物を包含スル。4−−(2−フェニルゾロフ−2−
(ル)−フェノール1モル及び1.2−ナフトキノン−
2−ジアジド−キースルホン酸クロリド1モルとのエス
テル化生成物が本発明により使用するために特に有利で
あると実証された。
用するために適当である感光剤(Sensitizer
)は、化学放射線の露光によってアルカリ性水溶液中で
可溶にされる任意の1.2−キノンジアジド−スルホン
酸エステル、1゜2−キノンジアソドースルホン酸アミ
ド、1゜2−キノンノアジドカルゲン酸エステル及びア
ミドよりなる。これらは1.2−ベンゾキノン又は1.
2−ナフトキノンジアジド−4−又は−5−スルホン酸
又はその酸クロリドと、フェノール−アルデヒド/アセ
トン縮合生成物との、又はp−ヒドロキシスチレン、p
−アミノスチレンのポリマー又はこれらの2種の化合物
のコポリマーとの反応生成物を包含する。1.2−キノ
ンジアジド−スルホン酸−4−エステルが%に有用な感
光剤である。1.2−キノンジアジド島導体の適当なエ
ステルは、酸又はそのハロゲン化物とフェノール、特に
多価フェノールとの、例えば2.3.4−トリヒドロキ
シ−ベンゾフェノン、2.4−ジヒドロキシ−ベンゾフ
ェノン、↓−デカノイルーレゾルシノール、!−(2−
フェニルゾロ17”−2−イル)−フェノール、没食子
酸オクチルエステル、lt4゜4−ビス−(4−ヒドロ
キシフェニル)−吉草酸ブチルエステルとの周知の反応
生成物を包含スル。4−−(2−フェニルゾロフ−2−
(ル)−フェノール1モル及び1.2−ナフトキノン−
2−ジアジド−キースルホン酸クロリド1モルとのエス
テル化生成物が本発明により使用するために特に有利で
あると実証された。
0−キノンジアジド化合物の量は一般に徐写層の非揮発
性成分の重量に基づき3〜.50重数チ、有利に7〜3
5重量−の範囲にある。
性成分の重量に基づき3〜.50重数チ、有利に7〜3
5重量−の範囲にある。
多数の公知化合物及び混合物、例えばホスホニウム、ス
ルホニウム及ヒヨードニウム塩、ハロゲン化合物及び有
機金属/有機ハロゲン組合せ物(combinatio
n)が露光時に強酸を生成する感光性成分としての使用
に適当である。
ルホニウム及ヒヨードニウム塩、ハロゲン化合物及び有
機金属/有機ハロゲン組合せ物(combinatio
n)が露光時に強酸を生成する感光性成分としての使用
に適当である。
一般に前記のホスホニウム、スルホニウム及びヨードニ
ウム化合物は、有機溶剤に可溶であるその塩の形で、通
例鉛酸、例えばテトラフルオロ硼酸、ヘキサフルオロ燐
酸、ヘキサフルオロアンチモン酸及びヘキサフルオロ砒
酸トの沈殿として使用される。ハロゲン化水素識を生成
するハロゲン原子含有の感光性化合物として、光化学遊
離基開始剤としても公知である有機ハロゲン化合物、例
えば1個以上のハロダン原子を炭素原子上に又は芳香族
環上に有するものを基本的に使用することができる。例
は米国特許第3515552号明細書;卯3536+8
9号明細書及び第3779778号明細書、西ドイツ特
許(German Patent)第2610842号
明細番及び西ドイツ特許公開公報第2243621号明
細書;同第2718259号明細書及び同第33370
24号明細書に記載されている。これらの化合物のうち
、西ドイツ特許公開公報第2718259号明細書及び
同第3337024号明細書(C記載されたような、2
個のメチルハライド基、特にトリクロロメチル基及び芳
香族又は不飽和置換基を各々トリアジンか中に含有する
S −) IJアジン誘導体が有利である。西ドイツ特
許公開公報第2851471号及び同第2849396
号明細書に記載された2−トリクロロメチル−1,3,
4−オキサジアゾールが同様に好適である。ハロゲン原
子含有のこれらの化合物の作用を、公知の感光剤によっ
てスペクトル的に影響しかつ高めることもできる。
ウム化合物は、有機溶剤に可溶であるその塩の形で、通
例鉛酸、例えばテトラフルオロ硼酸、ヘキサフルオロ燐
酸、ヘキサフルオロアンチモン酸及びヘキサフルオロ砒
酸トの沈殿として使用される。ハロゲン化水素識を生成
するハロゲン原子含有の感光性化合物として、光化学遊
離基開始剤としても公知である有機ハロゲン化合物、例
えば1個以上のハロダン原子を炭素原子上に又は芳香族
環上に有するものを基本的に使用することができる。例
は米国特許第3515552号明細書;卯3536+8
9号明細書及び第3779778号明細書、西ドイツ特
許(German Patent)第2610842号
明細番及び西ドイツ特許公開公報第2243621号明
細書;同第2718259号明細書及び同第33370
24号明細書に記載されている。これらの化合物のうち
、西ドイツ特許公開公報第2718259号明細書及び
同第3337024号明細書(C記載されたような、2
個のメチルハライド基、特にトリクロロメチル基及び芳
香族又は不飽和置換基を各々トリアジンか中に含有する
S −) IJアジン誘導体が有利である。西ドイツ特
許公開公報第2851471号及び同第2849396
号明細書に記載された2−トリクロロメチル−1,3,
4−オキサジアゾールが同様に好適である。ハロゲン原
子含有のこれらの化合物の作用を、公知の感光剤によっ
てスペクトル的に影響しかつ高めることもできる。
適当な開始剤の例は次のものである:
4−メチルー6−ドリクロロメチルー2−ピロン、キー
(3,+、5−)リメトキシスチリル) −6−トIJ
クロロメチルー2−ピロン、4−(4−メトキシスチリ
ル)−6−(3,3゜3− ) ’J 90ロプロペニ
ル)−2−ピロン、2−トリクロロメチルベンズイミダ
ゾール、2−トリブロモメチルキノリン、2.4−ジメ
チル−1−トIJブロモアセチルベンゼン、3−ニトロ
−1−)リプロモアセチルベンゼン、4−ノプロモアセ
チルー安息香酸、1.4−ビス−ジブロモメチルベンゼ
ン、トリス−ジブロモメチル−5−トリアジン、2−(
6−メトキシ−ナフチー2−イル)−12−(ナフチ−
1−イル)−12−(ナフチ−2−イル)−12−(4
−エトキシエチル−ナフチ−1−イル)−12−(ベン
ゾビラン−3−イル)−12−(4−メトキシアントラ
シーl−イル)−12−(+−スチリルフェニル)−1
2−(フエナントリー9−イル)−4,6−ビス−トリ
クロロメチル−S −) IJアノン、及び実施例中に
詳説した化合物。
(3,+、5−)リメトキシスチリル) −6−トIJ
クロロメチルー2−ピロン、4−(4−メトキシスチリ
ル)−6−(3,3゜3− ) ’J 90ロプロペニ
ル)−2−ピロン、2−トリクロロメチルベンズイミダ
ゾール、2−トリブロモメチルキノリン、2.4−ジメ
チル−1−トIJブロモアセチルベンゼン、3−ニトロ
−1−)リプロモアセチルベンゼン、4−ノプロモアセ
チルー安息香酸、1.4−ビス−ジブロモメチルベンゼ
ン、トリス−ジブロモメチル−5−トリアジン、2−(
6−メトキシ−ナフチー2−イル)−12−(ナフチ−
1−イル)−12−(ナフチ−2−イル)−12−(4
−エトキシエチル−ナフチ−1−イル)−12−(ベン
ゾビラン−3−イル)−12−(4−メトキシアントラ
シーl−イル)−12−(+−スチリルフェニル)−1
2−(フエナントリー9−イル)−4,6−ビス−トリ
クロロメチル−S −) IJアノン、及び実施例中に
詳説した化合物。
使用される開始剤の量は、その化学的性質及び層の組成
に依す広汎に変えて良い。有利な結果は総固体に対して
約0.5〜20重量%、有利に1.0〜12重量%を用
いて得られる。特に厚さ0.01朋以上を有する感光層
において、比較的に少量の酸供与体を使用することが有
利である。
に依す広汎に変えて良い。有利な結果は総固体に対して
約0.5〜20重量%、有利に1.0〜12重量%を用
いて得られる。特に厚さ0.01朋以上を有する感光層
において、比較的に少量の酸供与体を使用することが有
利である。
第1に挙げられる酸分解可能な化合物は次のものを包含
する: A)少なくとも1個のオルトカルボン酸エステル及び/
又はカルボン酸アミド9アセタール部分(moiety
)を有する化合物;この化合物はポリマー特性を有する
こともできかつ前記の部分は主鎖中で結合具として又は
01lIf換基として存在してよい。
する: A)少なくとも1個のオルトカルボン酸エステル及び/
又はカルボン酸アミド9アセタール部分(moiety
)を有する化合物;この化合物はポリマー特性を有する
こともできかつ前記の部分は主鎖中で結合具として又は
01lIf換基として存在してよい。
B)主鎖中で回帰性のアセタール及び/又はケタール部
分を有するオリゴマー又はポリマー化合物。
分を有するオリゴマー又はポリマー化合物。
C)少なくとも1個のエノールエーテル又ij N−ア
シルイミノカルゲネート部分を有する化合物。
シルイミノカルゲネート部分を有する化合物。
感光性組成物の成分として使用される(A)型の酸分解
可能な化合物は米国特許第4101323号明細書及び
欧州特許機構出願第0022571号明細iiK詳説さ
れている:(B)型の化合物を含有する組成物は西ドイ
ツ国特許第2306248号明細曹及び同第27182
54号明細書及び米国特許第3779778号明細苔に
記載されている;及び(C)型の化合物は欧州特許楼構
出!i第0006626号明細曹及び同第000672
7号明細書に記載されている。
可能な化合物は米国特許第4101323号明細書及び
欧州特許機構出願第0022571号明細iiK詳説さ
れている:(B)型の化合物を含有する組成物は西ドイ
ツ国特許第2306248号明細曹及び同第27182
54号明細書及び米国特許第3779778号明細苔に
記載されている;及び(C)型の化合物は欧州特許楼構
出!i第0006626号明細曹及び同第000672
7号明細書に記載されている。
使用される分解可能な化合物の割合は、Φ〜50重tチ
の間で変化してよく、5〜30重量%の量が有利である
。
の間で変化してよく、5〜30重量%の量が有利である
。
また感光性組成物は有利に、組成物のために使用される
溶剤中に可溶でかつ水性アルカリに同様に可溶又は少な
くとも膨潤可能である水に不溶な樹脂バインダーポリマ
ーを含有する。
溶剤中に可溶でかつ水性アルカリに同様に可溶又は少な
くとも膨潤可能である水に不溶な樹脂バインダーポリマ
ーを含有する。
またす7トキノンジアジドを基礎とする多くのポノチプ
複写材料で広汎に使用されるノボラック縮合樹脂は、本
発明におけるバインダーとしての使用に有利であると実
証された。ノボラックを公知方法で、そのヒドロキシ基
部分と例えばクロロ酢酸、イソシアネート、エポキシド
、又は無水カルゲン酸との反応によって変性することも
できる。更にアルカリに可溶又は膨潤可能である廟利な
バインダーはフェノールとアルデヒド又はケトン、スチ
レン及び無水マレイン酸のコポリマー、ポリビニルフェ
ノール、又はアクリル酸又はメタクリル酸と特にアクリ
ル又はメタクリル酸フェノールエステルとのコポリマー
との縮合によって製造されるポリヒドロキシフェノール
樹脂を包含する。使用されるバインダーの型及び量は意
図される適用に依り変化して良い;総固体に基づき90
〜3o重f%、特に85〜555〜55重量%ある量が
有利である。
複写材料で広汎に使用されるノボラック縮合樹脂は、本
発明におけるバインダーとしての使用に有利であると実
証された。ノボラックを公知方法で、そのヒドロキシ基
部分と例えばクロロ酢酸、イソシアネート、エポキシド
、又は無水カルゲン酸との反応によって変性することも
できる。更にアルカリに可溶又は膨潤可能である廟利な
バインダーはフェノールとアルデヒド又はケトン、スチ
レン及び無水マレイン酸のコポリマー、ポリビニルフェ
ノール、又はアクリル酸又はメタクリル酸と特にアクリ
ル又はメタクリル酸フェノールエステルとのコポリマー
との縮合によって製造されるポリヒドロキシフェノール
樹脂を包含する。使用されるバインダーの型及び量は意
図される適用に依り変化して良い;総固体に基づき90
〜3o重f%、特に85〜555〜55重量%ある量が
有利である。
多数の他の樹脂、有利にエポキシ樹脂及びビニルポリマ
ー、側光ばポリビニルアセテート、ポリアクリレート、
ポリビニルアセタール、ポリビニルエーテル、ポリビニ
ルピロリドン、及びこれらの樹脂の基礎であるモノマー
及び同様に水素添加された又は部分的に水素添加された
ロジン誘導体のコポリマーを付加的に使用することがで
きる。これらの樹脂の最も有利な割合は、要求に関する
適用に及び現像条件へのその影響に依存し、一般にバイ
ンダーの50tf%を越えず、有利に約2〜35重t%
である。特別な要求、例えば可撓性、接着性、光沢及び
着色に応じるために感光性組成物は、ポリグリコール、
セルo−x誘4体、例えばエチルセルロース、湿潤剤、
染料、接着促進剤及び微粉細顔料及び所望の場合には、
Uv吸収剤のような物質を含有することもできる。
ー、側光ばポリビニルアセテート、ポリアクリレート、
ポリビニルアセタール、ポリビニルエーテル、ポリビニ
ルピロリドン、及びこれらの樹脂の基礎であるモノマー
及び同様に水素添加された又は部分的に水素添加された
ロジン誘導体のコポリマーを付加的に使用することがで
きる。これらの樹脂の最も有利な割合は、要求に関する
適用に及び現像条件へのその影響に依存し、一般にバイ
ンダーの50tf%を越えず、有利に約2〜35重t%
である。特別な要求、例えば可撓性、接着性、光沢及び
着色に応じるために感光性組成物は、ポリグリコール、
セルo−x誘4体、例えばエチルセルロース、湿潤剤、
染料、接着促進剤及び微粉細顔料及び所望の場合には、
Uv吸収剤のような物質を含有することもできる。
露光後め色変化を果すために、感光性組成物を、有利に
露光時に強酸を生成又は分解しかつ次の反応で適尚な染
料で色変化を惹起させる放射線感能性成分少量と混合す
ることもできる。。
露光時に強酸を生成又は分解しかつ次の反応で適尚な染
料で色変化を惹起させる放射線感能性成分少量と混合す
ることもできる。。
このような放射性感能性成分は、例えば1.2−ナフト
キノン−ジアジド−4−スルホン酸クロリド、発色性置
換基を有するビス−又はトリスハロゲノメチル−5−ト
リアジン、鉛酸、例、tば?)ラフルオロ硼酸又はヘキ
サフルオロ燐酸とのそれらの塩の形のジアゾニウム化合
物又はキージアルコキシアミノアゾベンゼンヲ包含する
。
キノン−ジアジド−4−スルホン酸クロリド、発色性置
換基を有するビス−又はトリスハロゲノメチル−5−ト
リアジン、鉛酸、例、tば?)ラフルオロ硼酸又はヘキ
サフルオロ燐酸とのそれらの塩の形のジアゾニウム化合
物又はキージアルコキシアミノアゾベンゼンヲ包含する
。
特に有利な感光性組成物は、2−ジアルキルアミノ−4
,6−ジアルコキシ−s−トリアジン、1.2−す7ト
キノンー2−ジアジド−4−スルホン酸エステル、養−
ジアルキルアミノアゾベンゼン又は2.4−ビス−トリ
ハロゲノメチル−5−トリアジン及びトリフェニルメタ
ン染料を含有する。
,6−ジアルコキシ−s−トリアジン、1.2−す7ト
キノンー2−ジアジド−4−スルホン酸エステル、養−
ジアルキルアミノアゾベンゼン又は2.4−ビス−トリ
ハロゲノメチル−5−トリアジン及びトリフェニルメタ
ン染料を含有する。
また本発明は、層支持体及び本質的に水に不溶で、かつ
アルカリ水溶液に可溶であるバインダー、感光性1.2
−キノンジアジド又は露光時に酸を離脱する化合物及び
酸分解可能な少なくとも1個のC−0−C基を有する化
合物よりなる感光性混合物、及び熱硬化を促進する物質
よりなる感光性層よりなる感光性複写材料を提供する。
アルカリ水溶液に可溶であるバインダー、感光性1.2
−キノンジアジド又は露光時に酸を離脱する化合物及び
酸分解可能な少なくとも1個のC−0−C基を有する化
合物よりなる感光性混合物、及び熱硬化を促進する物質
よりなる感光性層よりなる感光性複写材料を提供する。
複写材料は、熱硬化を促進する物質として特許請求項1
〜3に依る化合物を含有することを特徴とする。
〜3に依る化合物を含有することを特徴とする。
適当な層支持体を被覆するために1紹成物を通例溶剤中
に溶かす。溶剤の選択は意図さnるコーティング法、層
厚及び乾燥条件に依存、する。
に溶かす。溶剤の選択は意図さnるコーティング法、層
厚及び乾燥条件に依存、する。
本発明の組成物のための適箔な溶剤はケトン、例えばメ
チルエチルケトン;1.A素化された炭化水素、例えば
トリクロロエチレン及び1.1゜1−トリクロロエタン
;アルコール、%ltばn−プロパツール;エーテル、
例えばテトラヒドロフラン;アルコールエーテル、f!
l、tハエチレンダリコールモノエチルエーテル;及ヒ
エステル、例えば酢酸ブチルを包含する。特別な目的の
ために付加的に溶剤、例えばアセトニ) IJル、ジオ
キサン又はジメチルホルムアミドを含有することができ
る混合物を使用することもできる。
チルエチルケトン;1.A素化された炭化水素、例えば
トリクロロエチレン及び1.1゜1−トリクロロエタン
;アルコール、%ltばn−プロパツール;エーテル、
例えばテトラヒドロフラン;アルコールエーテル、f!
l、tハエチレンダリコールモノエチルエーテル;及ヒ
エステル、例えば酢酸ブチルを包含する。特別な目的の
ために付加的に溶剤、例えばアセトニ) IJル、ジオ
キサン又はジメチルホルムアミドを含有することができ
る混合物を使用することもできる。
加削的には、層部分と不可逆的に反応しない任意の溶剤
を使用することができる。グリコールの部分エーテル、
特にエチレングリコールモノメチルエーテル及びプロピ
レングリコールメチルエーテルが特に有利である。
を使用することができる。グリコールの部分エーテル、
特にエチレングリコールモノメチルエーテル及びプロピ
レングリコールメチルエーテルが特に有利である。
殆んどの場合に、約10μm以下の層厚のために使用さ
れる支持体は金属である。次のものはオフセット印刷板
に使用することができる:ミルで仕上げし、機械的又は
電気化学的に粗面化しかつ任意に陽極酸化したアルミニ
ウム(これは付加的に、例えばポリビニルスルホン酸、
シリケート、ホスフェート、ヘキサフルオロ・ソルコネ
ートで、又は加水分解されたテトラエチルオルトシリケ
ートで化学的に前処澄されていてよい)。
れる支持体は金属である。次のものはオフセット印刷板
に使用することができる:ミルで仕上げし、機械的又は
電気化学的に粗面化しかつ任意に陽極酸化したアルミニ
ウム(これは付加的に、例えばポリビニルスルホン酸、
シリケート、ホスフェート、ヘキサフルオロ・ソルコネ
ートで、又は加水分解されたテトラエチルオルトシリケ
ートで化学的に前処澄されていてよい)。
層支持体のコーティングは公知方法でスピン−コーティ
ング、噴霧、浸漬、ローラーコーティング、スロットダ
イでの塗布、ナイフ塗布又はフローコーター塗布に依シ
実施する。
ング、噴霧、浸漬、ローラーコーティング、スロットダ
イでの塗布、ナイフ塗布又はフローコーター塗布に依シ
実施する。
露光には慣用の光源を使用する。
また本発明は、層支持体及び本質的に水に不溶でかつア
ルカリ水溶?に可溶であるバインダー、感光性1.2−
キノンジアジド又は露光時に酸を離脱する化合物及び酸
分解可能な少なくとも1個のC−0−C基を有する化合
物よりなる感光性混合物及び熱硬化を促進する物質より
なる感光性層よりなる感光性複写材料を画像に応じて露
光し、その後に加熱しかつ冷却後に全面的に露光し、次
いで水性アルカリ現像液を用いて現像するネガチブレリ
ーフ複写の製法に関する。この方法は特許請求項1〜3
による化合物を熱硬化を促進する物質として使用するこ
とを特徴とする。
ルカリ水溶?に可溶であるバインダー、感光性1.2−
キノンジアジド又は露光時に酸を離脱する化合物及び酸
分解可能な少なくとも1個のC−0−C基を有する化合
物よりなる感光性混合物及び熱硬化を促進する物質より
なる感光性層よりなる感光性複写材料を画像に応じて露
光し、その後に加熱しかつ冷却後に全面的に露光し、次
いで水性アルカリ現像液を用いて現像するネガチブレリ
ーフ複写の製法に関する。この方法は特許請求項1〜3
による化合物を熱硬化を促進する物質として使用するこ
とを特徴とする。
實法では、この方法はポソチプ画像と同様にネガチブも
複写するレリーフ複写の製造にも適当である。この目的
のためには、複写材料をネガチブ原画下で画像に応じて
露光し、その後に加熱しかつ冷却後、未だ画像に応じて
露光されなかった部分でポゾチプ原画下で露光し、かつ
次いで水性アルカリ現像液で駒像する。
複写するレリーフ複写の製造にも適当である。この目的
のためには、複写材料をネガチブ原画下で画像に応じて
露光し、その後に加熱しかつ冷却後、未だ画像に応じて
露光されなかった部分でポゾチプ原画下で露光し、かつ
次いで水性アルカリ現像液で駒像する。
反転処理のために、画像釦対する放射線照射又はネガチ
ブ原画下での露光後に、いかなるそれ以上の中間処理な
しに、複写材料を加熱する。
ブ原画下での露光後に、いかなるそれ以上の中間処理な
しに、複写材料を加熱する。
加熱は放射線照射、対流、加熱表面、例えばロールとの
接触によって又は不活性液体、例えば水よりなる加熱浴
中での浸漬によって達放しうる。加熱温度は80℃〜1
50”0%特に100℃〜130℃の範囲にある。これ
らの温度は非露光部分の特性に何ら著しい変化なしに本
発明の組成物によって許容される。枚写材料を加熱する
時間は熱の適用のために選択される方法によシ広汎に変
化してよい。熱伝導媒体を使用する場合には、加熱時間
は10秒間〜10分間、特に1〜3分間の範囲にある。
接触によって又は不活性液体、例えば水よりなる加熱浴
中での浸漬によって達放しうる。加熱温度は80℃〜1
50”0%特に100℃〜130℃の範囲にある。これ
らの温度は非露光部分の特性に何ら著しい変化なしに本
発明の組成物によって許容される。枚写材料を加熱する
時間は熱の適用のために選択される方法によシ広汎に変
化してよい。熱伝導媒体を使用する場合には、加熱時間
は10秒間〜10分間、特に1〜3分間の範囲にある。
加熱及び冷却に続いて、まだ感光性の層部分をその光分
解生成物に完全に変換するために、印刷板を全面的に露
光する。再露光のために、画像に対する露光の際に使用
した光源を再び有利に使用することができる。
解生成物に完全に変換するために、印刷板を全面的に露
光する。再露光のために、画像に対する露光の際に使用
した光源を再び有利に使用することができる。
再露光の後に慣用の胡保液での現像が続く。
この工程で最初の画像に対する露光で光によって照射さ
れなかった層部分が洗込おとされる。
れなかった層部分が洗込おとされる。
適当な現像液は有利に、漸変アルカリ度を有するアルカ
リ性物質、例えばアルカリ金属燐酸塩、珪酸塩、炭酸塩
又は水酸化物の水溶液よりなる。
リ性物質、例えばアルカリ金属燐酸塩、珪酸塩、炭酸塩
又は水酸化物の水溶液よりなる。
pH範囲は通例10−14である。現像液は付加的に界
面活性剤又は少量の有機溶剤を含有する。
面活性剤又は少量の有機溶剤を含有する。
特別な場合には、適当な現像液は同様に有機溶剤又は有
機溶剤と水との渭合物よりなる。材料は加熱及び冷却後
直ちにか又は例えば1時間の時間間隔後に、何ら酸化層
部分に侵害発生なしに現像することができる。
機溶剤と水との渭合物よりなる。材料は加熱及び冷却後
直ちにか又は例えば1時間の時間間隔後に、何ら酸化層
部分に侵害発生なしに現像することができる。
印刷数を増すために、慣用の熱的後硬化処理を付加的に
実施することができる。
実施することができる。
本発明の複写材料は高めた温度でさえも良好な貯蔵寿命
を有する。画像に対して露光した層部分は、熱の作用下
に比較的早く硬化される;反転段階のために要求される
加熱温度は公知技術水準の材料におけるよりも低くかつ
高めた温度での滞留時間は著しく短かい。
を有する。画像に対して露光した層部分は、熱の作用下
に比較的早く硬化される;反転段階のために要求される
加熱温度は公知技術水準の材料におけるよりも低くかつ
高めた温度での滞留時間は著しく短かい。
複写層中の本発明によシ使用されるS−)リアジンの存
在で、反転段階中の著しい温度変化の場合でさえも、色
合いの表現は悪影響を及ばされないように1反転範囲の
温度耐性は比較的に大きいことは、同様に本発明方法の
利点である0 すでに前記の様に、本発明の初耳材料を、通例はポソチ
プ作用の複写層からネガチブ妙写を製造するために使用
することができ、更に同一板上で一緒にそれらを露光す
ることによって線及ヒスクリーンフィルムを組合せる種
々の可能性を実現するために、これらを有利に使用する
ことができる(写真植字(photo−compos
ing))。ネガチブ原画下で画像に対して最初の露光
後直ちに、例えば未だ光照射されていない層部分、すな
わち最初の露光中遮蔽物によって被覆された層部分を、
ポジチプ原画を用いて、その他の線又はスクリーン画像
下で続いて露光することができる。こうして露光した印
刷板を次いで何らそれ以上の中間段階なしに現像する。
在で、反転段階中の著しい温度変化の場合でさえも、色
合いの表現は悪影響を及ばされないように1反転範囲の
温度耐性は比較的に大きいことは、同様に本発明方法の
利点である0 すでに前記の様に、本発明の初耳材料を、通例はポソチ
プ作用の複写層からネガチブ妙写を製造するために使用
することができ、更に同一板上で一緒にそれらを露光す
ることによって線及ヒスクリーンフィルムを組合せる種
々の可能性を実現するために、これらを有利に使用する
ことができる(写真植字(photo−compos
ing))。ネガチブ原画下で画像に対して最初の露光
後直ちに、例えば未だ光照射されていない層部分、すな
わち最初の露光中遮蔽物によって被覆された層部分を、
ポジチプ原画を用いて、その他の線又はスクリーン画像
下で続いて露光することができる。こうして露光した印
刷板を次いで何らそれ以上の中間段階なしに現像する。
版
この方法で最終印刷型を得る。
液体を使用する付加的な処理段階又は感光性材料の特別
な組成物を必要としない。唯一の付加的な処理段階、す
なわち加熱を現存の乾燥装置を用いて通例的に容易に実
施することができる。原画なしの最終錐先は画像に対す
る露光に使用した光源で最も簡単に行なう。
な組成物を必要としない。唯一の付加的な処理段階、す
なわち加熱を現存の乾燥装置を用いて通例的に容易に実
施することができる。原画なしの最終錐先は画像に対す
る露光に使用した光源で最も簡単に行なう。
本発明の方法は例えば凸版印刷、凹版印刷及版
び平版印刷のだめの印刷%の製造に、プリント配線板の
サブトラクティブ及びアディティブ作成のためのフォト
レジストステンシルの製造に、電鍍法によって作成され
たニッケルスクリーン印刷シリンダーの製造に、かつマ
イクロ電子工学におけるマスク(masks)の製造に
、リフト−オフ法(lift−off techniq
ue)により使用することができる。
サブトラクティブ及びアディティブ作成のためのフォト
レジストステンシルの製造に、電鍍法によって作成され
たニッケルスクリーン印刷シリンダーの製造に、かつマ
イクロ電子工学におけるマスク(masks)の製造に
、リフト−オフ法(lift−off techniq
ue)により使用することができる。
次の実施例につき本発明による方法の有利な実#i態様
を説明する。パーセント及び情死は、他の記載のない限
り、in単位に依る。
を説明する。パーセント及び情死は、他の記載のない限
り、in単位に依る。
実施例
例1
電解的に粗面化しかつ陽極酸化したアルミニウムシート
を次の溶液で被循した: エチレングリコールモノメチルエーテル 70.OO重
N一部及ヒテトラヒドロフラン 7
0.OOmfig中の2.4−ジヒドロキシベンゾフェ
ノン 0.40重tI4′ff1S、感光性複写層
を塗布する前に、陽極酸化したアルミニラミ支持体を、
西ドイツ国特許第1621468号明細舊(米国!+!
j許第4153牛61号明細′4ITlc相応する)に
Hピ載さnたように、ポリビニルホスホン酵の水浴液で
処理しておいた。
を次の溶液で被循した: エチレングリコールモノメチルエーテル 70.OO重
N一部及ヒテトラヒドロフラン 7
0.OOmfig中の2.4−ジヒドロキシベンゾフェ
ノン 0.40重tI4′ff1S、感光性複写層
を塗布する前に、陽極酸化したアルミニラミ支持体を、
西ドイツ国特許第1621468号明細舊(米国!+!
j許第4153牛61号明細′4ITlc相応する)に
Hピ載さnたように、ポリビニルホスホン酵の水浴液で
処理しておいた。
この方法で製造し、その中の感光性層が乾燥層徂世約2
.3.9/ff!”を有するノリセンジタイズド複写材
料を透明なボジチブ原画下で画像に応じて露光し、次い
で珪酸ナトリウムのΦ%濃度水浴故で現像する。現像工
程中に、光に照射さnた複写H4部分は除去さnかつ非
崩元画像部分は層支持体上に残9、従って原画に相応す
る印刷ヌテンシルを得る。油状印刷インキでのインキ版 付けによシ印刷槃備の督ったポジチプ印桐屋を得る。
.3.9/ff!”を有するノリセンジタイズド複写材
料を透明なボジチブ原画下で画像に応じて露光し、次い
で珪酸ナトリウムのΦ%濃度水浴故で現像する。現像工
程中に、光に照射さnた複写H4部分は除去さnかつ非
崩元画像部分は層支持体上に残9、従って原画に相応す
る印刷ヌテンシルを得る。油状印刷インキでのインキ版 付けによシ印刷槃備の督ったポジチプ印桐屋を得る。
同一のブリセンジタイズド複与材料のもう1つの試料は
ネがチブ印刷叡を得るために処理された。この目的のた
めに、試料をネがチブ原画下に露光し、その後に120
℃で2分間加熱し、次いで画像に対する露光において使
用したような同じμ光時間で、原画なしに再露光した。
ネがチブ印刷叡を得るために処理された。この目的のた
めに、試料をネがチブ原画下に露光し、その後に120
℃で2分間加熱し、次いで画像に対する露光において使
用したような同じμ光時間で、原画なしに再露光した。
前記で使用したような同じ時間で同じ現14!液中で現
像して、原画の反転11!j1iIを得た。
像して、原画の反転11!j1iIを得た。
写真植字法(photo composing met
hod )により、すなわちすでに画像に応じて露光し
た印刷板上で線画又はスクリーン原画下で続すて露光す
ることによって材料を処理することも可能である。この
目的のために、製造さnた印刷板肉 を先ず前記の様にネガチブ原画下で画像に判じて露光し
、その後に120℃で2分間加熱し、次いで未だ光照射
さnていない層部分において透明ポジチプ(dlapo
sltive )下に再び露光する。この方法で繰シ返
し露光さ扛た印刷板を何らそn以上の中間段階なしに現
像し、結果と1−て、最終的印刷版を得る。
hod )により、すなわちすでに画像に応じて露光し
た印刷板上で線画又はスクリーン原画下で続すて露光す
ることによって材料を処理することも可能である。この
目的のために、製造さnた印刷板肉 を先ず前記の様にネガチブ原画下で画像に判じて露光し
、その後に120℃で2分間加熱し、次いで未だ光照射
さnていない層部分において透明ポジチプ(dlapo
sltive )下に再び露光する。この方法で繰シ返
し露光さ扛た印刷板を何らそn以上の中間段階なしに現
像し、結果と1−て、最終的印刷版を得る。
こnまでに公知の反転板及び方法と比較して、本発明は
加熱段階中の比較的に大きな処理範囲の大きな利点を供
する。こnけ、製造さnた通例ポジチプ作用の感光性印
刷板をネがチブ原画下で、オフセット印刷板のIi!i
i像に応じる露光で慣用的に使用さt”bるような試験
楔、例えばUGRA−オフセット−テスト楔(UGRA
−Offset−Test1心 Wedge)1982の存在で、画像に対して露光し、
その後に画像反転に必要な加熱段階を施こす場合に明白
になる。
加熱段階中の比較的に大きな処理範囲の大きな利点を供
する。こnけ、製造さnた通例ポジチプ作用の感光性印
刷板をネがチブ原画下で、オフセット印刷板のIi!i
i像に応じる露光で慣用的に使用さt”bるような試験
楔、例えばUGRA−オフセット−テスト楔(UGRA
−Offset−Test1心 Wedge)1982の存在で、画像に対して露光し、
その後に画像反転に必要な加熱段階を施こす場合に明白
になる。
画像に対して露光した印刷板を例えば2分間加熱する場
合には、その後の全面的再露光及び現像後に得る試験画
像中に何ら可視的変化を引きおこすことなく、温度を8
0℃〜150℃で変えることができる。処理中の実際の
反転段階のこの大きな温度耐性は実際に極めて有利であ
り、そnというのも色調表現のような複写技術に関する
特性は、実際に使用さnる加熱炉又は自動変換装置中で
起こりうる比較的に広汎な温度変化の烏合ですら、不利
に影響されることはないからである。
合には、その後の全面的再露光及び現像後に得る試験画
像中に何ら可視的変化を引きおこすことなく、温度を8
0℃〜150℃で変えることができる。処理中の実際の
反転段階のこの大きな温度耐性は実際に極めて有利であ
り、そnというのも色調表現のような複写技術に関する
特性は、実際に使用さnる加熱炉又は自動変換装置中で
起こりうる比較的に広汎な温度変化の烏合ですら、不利
に影響されることはないからである。
本発明によシ使用する2−ノエチルアミノー生、6−ジ
ニトキシー3〜トリアジンを例えば欧州特許機構出願第
0133216号明細書によるヘキサメチロールメラミ
ンへキサメチルエーテルの同一量に代え、かつ同一の試
験原画下で画像に対する露光後に熱処理段階を同様に2
分間実施する場合には、得らnる温度範囲は約20’C
Kすぎない。
ニトキシー3〜トリアジンを例えば欧州特許機構出願第
0133216号明細書によるヘキサメチロールメラミ
ンへキサメチルエーテルの同一量に代え、かつ同一の試
験原画下で画像に対する露光後に熱処理段階を同様に2
分間実施する場合には、得らnる温度範囲は約20’C
Kすぎない。
本発明による複方材料の優nた貯R寿命は、製造した印
刷板を100℃で貯蔵試験をする場合に明白となる。1
00℃で4時間貯蔵し、次いで画像に応じて露光さnた
本発明の印刷板はなお元金に現像することができ、一方
へキサメチロールメラミンへキサメチルエーテルを含有
し、画像に応じて露光さnた相応する印刷板は、100
℃でたったの45秒間貯蔵した後に、もはや申し分なく
現像することはできない。
刷板を100℃で貯蔵試験をする場合に明白となる。1
00℃で4時間貯蔵し、次いで画像に応じて露光さnた
本発明の印刷板はなお元金に現像することができ、一方
へキサメチロールメラミンへキサメチルエーテルを含有
し、画像に応じて露光さnた相応する印刷板は、100
℃でたったの45秒間貯蔵した後に、もはや申し分なく
現像することはできない。
次の例で、例1に示した結果と同様の結果をもたらすそ
の他のコーティング溶液を詳説する。
の他のコーティング溶液を詳説する。
特に記載のない限り、こnらのコーティング溶液で得る
印刷板の製造及び処理は例1に記載した条件下で実施す
る。露光した印刷板を、各々、メタ珪酸ナトリウムの4
%又Vi5%磯度水溶液で現像する。
印刷板の製造及び処理は例1に記載した条件下で実施す
る。露光した印刷板を、各々、メタ珪酸ナトリウムの4
%又Vi5%磯度水溶液で現像する。
例2
コーティング溶液は次のものよりなる:プロピレングリ
コールモノメチルエーテル60.00重賞部及び テトラヒドロ7ラン ao、ao亜
に部中のクリスタル・バイオレット
0.071jt量部。
コールモノメチルエーテル60.00重賞部及び テトラヒドロ7ラン ao、ao亜
に部中のクリスタル・バイオレット
0.071jt量部。
例3
コーティング溶液は次のものからなる:テトラヒドロフ
ラン 70.00電を部中のヒドノ
d−ラツタ リ、υOM
輩鄭、クリスタル・バイオレット 0
.07&f部。
ラン 70.00電を部中のヒドノ
d−ラツタ リ、υOM
輩鄭、クリスタル・バイオレット 0
.07&f部。
例ヰ
コーティング#戒は次のものよりなる:エチレングリコ
ールモノメチルエーテル ao、oo重*部及びテトラ
ヒドロ7ラン ao、ao車を部中
の2.4−ジヒドロキシベンゾフェノン 0.40
1tfli、クリスタル・バイオレット
0.07fflfjl一部。
ールモノメチルエーテル ao、oo重*部及びテトラ
ヒドロ7ラン ao、ao車を部中
の2.4−ジヒドロキシベンゾフェノン 0.40
1tfli、クリスタル・バイオレット
0.07fflfjl一部。
例5
コーティング溶液は次のものよりなる:エチレングリコ
ールモノメチルエーテル 6o、ooii部及びテトラ
ヒドロフラン a o、o o重
量部中の、2.4.6−ドリメトキシー8−トリアノン
1.20重音部、2.4−ジとドロキシベンゾフェノン
0.301tm、クリスタル・バイオレット
0.07重量部◎例6 コーティングm液は次のものよりなる二プロピレングリ
コールモノメチルエーテル 70.00重量部及びテ
トラヒドロフラン 70.00i&
量部中のクリスタル・バイオレット
0.07車f部。
ールモノメチルエーテル 6o、ooii部及びテトラ
ヒドロフラン a o、o o重
量部中の、2.4.6−ドリメトキシー8−トリアノン
1.20重音部、2.4−ジとドロキシベンゾフェノン
0.301tm、クリスタル・バイオレット
0.07重量部◎例6 コーティングm液は次のものよりなる二プロピレングリ
コールモノメチルエーテル 70.00重量部及びテ
トラヒドロフラン 70.00i&
量部中のクリスタル・バイオレット
0.07車f部。
例7
コーティング溶液は次のものよりなる二N、N−ツメチ
ルホルムアミド 50.00重量部及びエチ
レングリコールモノメチルエーテル 90.00fii
HIS中のクリスタル・バイオレット 0
.07m−1車f部。
ルホルムアミド 50.00重量部及びエチ
レングリコールモノメチルエーテル 90.00fii
HIS中のクリスタル・バイオレット 0
.07m−1車f部。
例8
電気分解的に粗面化しかつ陽極酸化したアルミニウムシ
ートを次の溶液で被覆した:テトラヒドロフラン
45.00TfL量部中の2.4−ビス
−トリクロロメチル−6−p−スチルベ;ルー3−トリ
アジン 0.22重置部、例
1に記載したツメラック Φ、70重景都
、クリスタル・バイオレット塩基 0704重
量部。
ートを次の溶液で被覆した:テトラヒドロフラン
45.00TfL量部中の2.4−ビス
−トリクロロメチル−6−p−スチルベ;ルー3−トリ
アジン 0.22重置部、例
1に記載したツメラック Φ、70重景都
、クリスタル・バイオレット塩基 0704重
量部。
こうして製造し、その中の感光性層が乾燥層it約2.
0 g / m”を有するブリセンヅタイズド複写材料
會、1103tの距離に配置した500光し、次いで珪
酸ナトリウムの4%磯度水溶液で現像した。現像工程中
に、元を照射さnた複写ノ一部分は除去きれ、かつ非露
光画像部分は層支持体上に残り、従って原画に相応した
印刷ステンシルを得た。油性印刷インキでのインキ付け
によジ、印刷準誦のをったポソチプ印刷版を得た。
0 g / m”を有するブリセンヅタイズド複写材料
會、1103tの距離に配置した500光し、次いで珪
酸ナトリウムの4%磯度水溶液で現像した。現像工程中
に、元を照射さnた複写ノ一部分は除去きれ、かつ非露
光画像部分は層支持体上に残り、従って原画に相応した
印刷ステンシルを得た。油性印刷インキでのインキ付け
によジ、印刷準誦のをったポソチプ印刷版を得た。
同様のグリセンジタイズド材料のもう1つの試料全処理
し、ネガチブ印桐板金得た。この目的のために、試料を
ネガチブ原画下で10露光単位間露光し、その後に13
0℃で2分間加熱の し1次いで原画なしで10露光単ビ桐再露光した。前記
で使用したような同じ時間、同じ現像液中で現r象して
、原画の反転−@全書た。
し、ネガチブ印桐板金得た。この目的のために、試料を
ネガチブ原画下で10露光単位間露光し、その後に13
0℃で2分間加熱の し1次いで原画なしで10露光単ビ桐再露光した。前記
で使用したような同じ時間、同じ現像液中で現r象して
、原画の反転−@全書た。
例9
電解的に粗面化しかつ陽極酸化したアルミニウムシート
を次の溶液で被覆した: エチレングリコールモノメチルエーテル 70.00M
量部及Uテトラヒドロフラン 70
.00311fi部中の西ドイツ国將許第162146
8号明細書(米国特許第4153461号明細書に相応
する)に記載されたように、感光性複写層金塗布する前
に、陽極酸化アルミニウム支持体全ポリビニルホスホン
酸の水溶液で処理した。
を次の溶液で被覆した: エチレングリコールモノメチルエーテル 70.00M
量部及Uテトラヒドロフラン 70
.00311fi部中の西ドイツ国將許第162146
8号明細書(米国特許第4153461号明細書に相応
する)に記載されたように、感光性複写層金塗布する前
に、陽極酸化アルミニウム支持体全ポリビニルホスホン
酸の水溶液で処理した。
この方法で製造し、その中の感光性層が乾燥、1−重量
約2.3.9/m2を有するブリセンジタイズド複写材
料を透明ポ・ゾチプ原画下で画1象に応じて露光し、次
いで珪酸す) IJウムの4%濃度水溶液で埃1象した
。現像工程中に、光に照射された複写層部分は除去され
、非露光画像部分は層支持体上に残り、従って原画に相
応する印刷ステンシル全書た。油性印刷インキでのイン
キ付板 げで印刷準僑の整ったポジチブ印刷業を得た。
約2.3.9/m2を有するブリセンジタイズド複写材
料を透明ポ・ゾチプ原画下で画1象に応じて露光し、次
いで珪酸す) IJウムの4%濃度水溶液で埃1象した
。現像工程中に、光に照射された複写層部分は除去され
、非露光画像部分は層支持体上に残り、従って原画に相
応する印刷ステンシル全書た。油性印刷インキでのイン
キ付板 げで印刷準僑の整ったポジチブ印刷業を得た。
同じノリセンノタイズに材料のもう1つの試料全処理し
、ネガチブ印刷板を得た。この目的のために、試料をネ
ガチブ原画下で連続トーン段1vpAの存在で露光し、
その後に120℃で2分間加熱し、次いで画鐵に対する
露光のために使用したような同じ露光時間原画なしで再
露光しだ。前記で使用したような同じ現像液中で同じ時
間現像して、原画の反転1fE11 滓を得た。
、ネガチブ印刷板を得た。この目的のために、試料をネ
ガチブ原画下で連続トーン段1vpAの存在で露光し、
その後に120℃で2分間加熱し、次いで画鐵に対する
露光のために使用したような同じ露光時間原画なしで再
露光しだ。前記で使用したような同じ現像液中で同じ時
間現像して、原画の反転1fE11 滓を得た。
結果として得る比較的に広汎な反転範囲、すな匂ち、熱
処理された層部分が現像液に対して正に耐性にされた下
位温度及び複写技術に関して不利である特性が現われは
じめる上位温度の間の範囲は、画像に対して露光した印
刷板を2分間80℃〜150℃で加熱する段階で温度を
変えることによって説明することができる。その後の全
面的再露光及び現像後に、基本的な変化は試験画像にお
いて又は特に試験画障と一緒に露光された連続トーン段
階撲おいていずれも認められない。反転段階のこの大き
な温度耐性は実除の処理にかんがみて大きな利点である
。
処理された層部分が現像液に対して正に耐性にされた下
位温度及び複写技術に関して不利である特性が現われは
じめる上位温度の間の範囲は、画像に対して露光した印
刷板を2分間80℃〜150℃で加熱する段階で温度を
変えることによって説明することができる。その後の全
面的再露光及び現像後に、基本的な変化は試験画像にお
いて又は特に試験画障と一緒に露光された連続トーン段
階撲おいていずれも認められない。反転段階のこの大き
な温度耐性は実除の処理にかんがみて大きな利点である
。
後記の例10に依り製造した印刷版全相応する方法で処
理する場合に、同様の結果が得られる。
理する場合に、同様の結果が得られる。
例10
エチレングリコールモノメチルエーテル 70.○0N
fa′部及ヒテトラヒドロフラン
70.00重n=t+中の、ジエチルアミノアゾベンゼ
ン 0.04MM tfts、ビクトリア
・ピュアー・ブルーFBOO,15重量部。
fa′部及ヒテトラヒドロフラン
70.00重n=t+中の、ジエチルアミノアゾベンゼ
ン 0.04MM tfts、ビクトリア
・ピュアー・ブルーFBOO,15重量部。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、本質的に、水に不溶でありかつアルカリ性水溶液に
可溶であるバインダー、感光性1、2−キノンジアジド
又は露光時に酸を離脱する化合物及び酸分解可能な少な
くとも1個のC−O−C基を有する化合物よりなる感光
性混合物及び熱硬化を促進する物質よりなる感光性組成
物において、一般式 I : ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中R_1はアルキル基又はアリール基であつてよく
、かつR_2はアルコキシ基又はアリールオキシ基又は
1個又は2個のアルキル置換基、シクロアルキル置換基
又はアリール置換基を有するアミノ基であつてよい〕の
化合物が熱硬化を促進する物質として存在することを特
徴とする、感光性組成物。 2、式中R_1は(C_1〜C_4)−アルキル基又は
フェニル基であつてよくかつR_2は(C_1〜C_4
)−アルコキシ基又はフェノキシ基又は1個又は2個の
(C_1〜C_4)−アルキル置換基又は(C_4〜C
_8)−シクロアルキル置換基を有するアミノ基であつ
てよい一般式の化合物が熱硬化を促進する物質として存
在する請求項1記載の組成物。 3、2−ジアルキルアミノ−4、6−ジアルコキシ−s
−トリアジンが熱硬化を促進する物質として存在する、
請求項1又は2に記載の組成物。 4、2−ジアルキルアミノ−4、6−ジアルコキシ−s
−トリアジン、1、2−ナフトキノン−2−ジアジド−
4−スルホン酸エステル、4−ジアルキルアミノアゾベ
ンゼン及びトリフェニルメタン染料を含有する、請求項
1から3までのいずれか1項記載の組成物。5、2−ジ
アルキルアミノ−4、6−ジアルコキシ−s−トリアジ
ン、1、2−ナフトキノン−2−ジアジド−4−スルホ
ン酸エステル、2、4−ビス−トリハロゲノメチル−s
−トリアジン及びトリフェニルメタン染料を含有する、
請求項1から3までのいずれか1項記載の組成物。 6、層支持体及び本質的に水に不溶でありかつアルカリ
水溶液に可溶であるバインダー、感光性1、2−キノン
ジアジド又は露光時に酸を離脱する化合物及び酸分解可
能な少なくとも1個のC−O−C基を有する化合物より
なる感光性混合物及び熱硬化を促進する物質よりなる感
光性層よりなる感光性複写材料において、請求項1から
5までのいずれか1項に記載の化合物が熱硬化を促進す
る物質として存在することを特徴とする感光性複写材料
。 7、層支持体及び本質的に、水に不溶でありかつアルカ
リ性水溶液に可溶であるバインダー、感光性1、2−キ
ノンジアジド又は露光時に酸を離脱する化合物及び酸を
分解可能な少なくとも1個のC−O−C基を有する化合
物よりなる感光性混合物、及び熱硬化を促進する物質よ
りなる感光性層よりなる感光性複写材料を画像に応じて
露光し、その後加熱し、かつ冷却後に全面的に露光し、
次いで水性アルカリ性現像液を用いて現像し、この際請
求項1から5までのいずれか1項記載の化合物を熱硬化
を促進する物質として使用するネガチブレリーフ複写の
製法。 8、画像に対して露光した材料を80℃〜150℃の範
囲の温度に加熱する請求項7記載の方法。 9、画像に応じて露光した材料を10秒間〜10分間加
熱する請求項7又は8記載の方法。 10、同一複写層上でネガチブ及びポジチブ複写を製造
するために、材料を、冷却後、未だ非露光の、前もつて
被覆された層部分に、付加的な原画を用いて画像に応じ
て露光しかつ次いで水性アルカリ性現像液を用いて現像
する請求項7から9までのいずれか1項記載の方法の変
法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE19873711263 DE3711263A1 (de) | 1987-04-03 | 1987-04-03 | Lichtempfindliches gemisch, daraus hergestelltes lichtempfindliches kopiermaterial und verfahren zur herstellung von druckformen |
| DE3711263.5 | 1987-04-03 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01263647A true JPH01263647A (ja) | 1989-10-20 |
Family
ID=6324790
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63081462A Pending JPH01263647A (ja) | 1987-04-03 | 1988-04-04 | 感光性組成物、感光性複写材料及びネガチブレリーフ複写の製法 |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5017462A (ja) |
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Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2014048517A (ja) * | 2012-08-31 | 2014-03-17 | Asahi Kasei E-Materials Corp | フレキソ印刷版用構成体及びフレキソ印刷版 |
Families Citing this family (13)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5019481A (en) * | 1989-09-25 | 1991-05-28 | International Business Machines Corporation | Aqueous base developable negative resist compositions |
| DE3940911A1 (de) * | 1989-12-12 | 1991-06-13 | Hoechst Ag | Verfahren zur herstellung negativer kopien |
| DE4107390A1 (de) * | 1991-03-08 | 1992-09-10 | Hoechst Ag | Gefaerbtes, positiv arbeitendes, lichtempfindliches aufzeichnungsmaterial und verfahren zur herstellung sowohl positiver als auch negativer farbpruefbilder unter verwendung dieses materials |
| EP0672954B1 (en) * | 1994-03-14 | 1999-09-15 | Kodak Polychrome Graphics LLC | Radiation-sensitive composition containing a resole resin, a novolac resin, an infrared absorber and a triazine and use thereof in lithographic printing plates |
| US5597677A (en) * | 1994-11-02 | 1997-01-28 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Photoimageable elements |
| US5563023A (en) * | 1994-11-02 | 1996-10-08 | Minnesota Mining And Manufacturing Co. | Photoimageable elements |
| US5658708A (en) * | 1995-02-17 | 1997-08-19 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Image recording material |
| US5763134A (en) | 1996-05-13 | 1998-06-09 | Imation Corp | Composition comprising photochemical acid progenitor and specific squarylium dye |
| IL129076A (en) * | 1999-03-21 | 2002-02-10 | Creoscitex Corp Ltd | A printing plate with a socket method for short runs and a method for using it |
| JP4042142B2 (ja) * | 2000-09-08 | 2008-02-06 | Jsr株式会社 | El表示素子の隔壁形成用感放射線性樹脂組成物、隔壁およびel表示素子 |
| US6800415B2 (en) | 2001-09-28 | 2004-10-05 | Clariant Finance (Bvi) Ltd | Negative-acting aqueous photoresist composition |
| KR20100006952A (ko) * | 2008-07-11 | 2010-01-22 | 삼성전자주식회사 | 포토레지스트 조성물, 이를 이용한 금속 패턴의 형성 방법및 표시 기판의 제조 방법 |
| KR101989707B1 (ko) * | 2014-07-08 | 2019-06-14 | 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 | 네거티브톤 현상제 겸용 포토레지스트 조성물 및 이용 방법 |
Family Cites Families (17)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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| US4196003A (en) * | 1974-02-01 | 1980-04-01 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Light-sensitive o-quinone diazide copying composition |
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| DE3325022A1 (de) * | 1983-07-11 | 1985-01-24 | Hoechst Ag, 6230 Frankfurt | Verfahren zur herstellung negativer kopien mittels eines materials auf basis von 1,2-chinondiaziden |
| IE57143B1 (en) * | 1984-06-01 | 1992-05-06 | Rohm & Haas | Photosensitive coating compositions,thermally stable coating prepared from them,and the use of such coatings in forming thermally stable polymer images |
| US4650743A (en) * | 1985-07-31 | 1987-03-17 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Optical coating composition |
-
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- 1987-04-03 DE DE19873711263 patent/DE3711263A1/de not_active Withdrawn
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-
1989
- 1989-12-04 US US07/443,849 patent/US5017462A/en not_active Expired - Fee Related
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2014048517A (ja) * | 2012-08-31 | 2014-03-17 | Asahi Kasei E-Materials Corp | フレキソ印刷版用構成体及びフレキソ印刷版 |
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