JPH01264228A - 外部燃焼装置 - Google Patents

外部燃焼装置

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Publication number
JPH01264228A
JPH01264228A JP9251888A JP9251888A JPH01264228A JP H01264228 A JPH01264228 A JP H01264228A JP 9251888 A JP9251888 A JP 9251888A JP 9251888 A JP9251888 A JP 9251888A JP H01264228 A JPH01264228 A JP H01264228A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
hydrogen
oxygen
introduction port
ignition
gas
Prior art date
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Pending
Application number
JP9251888A
Other languages
English (en)
Inventor
Takayuki Ogoshi
大越 隆之
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
NEC Corp
Original Assignee
NEC Corp
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Filing date
Publication date
Application filed by NEC Corp filed Critical NEC Corp
Priority to JP9251888A priority Critical patent/JPH01264228A/ja
Publication of JPH01264228A publication Critical patent/JPH01264228A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は半導体ウェハーの炉における熱酸化膜製造に供
する酸素−水素ガスによる外部燃焼装置に関するものの
うち、製品ウェハーの処理反応管外で水蒸気を発生させ
る装置に間するものである。
〔従来の技術〕
近年、良質な酸化膜を得ることはデバイスの品質、性能
に大いに影響し、技術的重要度が上ってきている。
従来は管状炉の中に設置された石英管内に酸素−水素ガ
スを導入し、その部分で燃焼させて水蒸気を得ていた。
このため、ガス導入から点火、燃焼までの一連の手順に
時間を要し、均一な薄い酸化膜を得ることが困難なこと
や、又燃焼温度の影響で炉の均熱域に変化を与え、同時
処理枚数を減じてしまうなどの欠点があった。
このため、第4図(a)〜(C)に示すようなウェハー
処理反応管1の外部で酸素ガス及び水素ガスを燃焼させ
て、生成した水蒸気を反応管1へ導き、酸化膜を形成す
る装置が提案されている。
例えば、第4図(a)では、予め、酸素導入口3と水素
導入ロアからの酸素及び水素の両ガスを混合し、ヒータ
11にて水素の自然発火点である約560℃以上に熱せ
られた部分へ導入される。12は断熱材である。(FU
L、通常このヒータ11は点火の確実性と安全性を得る
ため、800°C位の温度か利用されている。酸素及び
水素の混合ガスは燃焼し、水蒸気となって反応管1へと
導かれる。第4図fb) 、 (c)は第4図(a)の
改良型で、点火部分であるし−タ部か小さくなるように
工夫された(lのである。
〔発明が解決しようとする課題〕
上述した従来の酸素−水素ガス外部燃焼装置は第4図に
示した様に、混合ガスを燃焼室へ導入する場合も、燃焼
室で混きする場合も、燃焼火炎が一方向を向いてしまう
。従って、約3000℃ある火炎の影響をどうするかと
いう大きな問題があっ/、二。
燃焼量を多くすれば、高温の火炎が容器反対側に達して
しまう、容器は通常石英で作られているので、この部分
が洛は出してしまう恐れがある。
又、高温であるため、石英含有の不純物が燃え出すなど
の不都合により大きな装置寸法で小菫の燃焼しかできな
いという欠点があった。
このことは安全上から見ても不都合なものであった。
本発明の目的は前記問題点を解消した外部燃焼装置を提
供ずろことにある。
〔課題を解決τ−るための手段〕
Jl記目的を達成するため、本発明においては、少なく
も酸素ガスと、水素カスとを密封容器内へ、導入し、該
容器内で着火燃焼させ、水蒸気を発生させる酸素−水素
カスによる外部燃焼装置において、酸素カスの導入[]
と水水ガスの導入口とを前記密封容器内に互いに向き合
せに配設したものである。
〔実施例〕
次に本発明について図面を参照して説明する。
(実施例1) 第1図は本発明の実施例1の縦断面図である6本装置は
ほとんどが石英硝子の一体構造のものである。1は内外
2重壁構造の石英製密封容器であり、2は水素取入[1
である6水素取入ロ2がら入った水素ガスは容器1の内
外壁間に形成さh i−通路9を通して水素導入ロアか
ら容器1内へ導入される。3は酸素導入L1であり、水
素導入[−17と相対している。4は生成した水蒸気を
反応管へど導き出すための取出口である。5はZ h、
、6は電極リードで、高電圧にて一対の’ls&5.5
間で旅;さぜ、容器1の燃焼室8内にて水素導入口7か
らの水素に点火するものである。
ここで、第3図を用いて点火の手順を説明する。
第3図fa)は点火以前の状態で酸素導入口3及び水素
導入ロアからは窒素を基本としたガスを流している。第
3図(b)は点火前準備で酸素導入口3から酸素ガスを
流し燃焼室8内を酸素に置換している。十分に酸素にて
置換された状態になった擾、水素導入ロアから水素を燃
焼室8へ導入する。
水素の流量は点火するまで1〜2Q/分程度の小波を流
し、点火後所定の量まで増加させる。第3図(C)に示
すように、点火時、電極5.5間に高電圧をかけて放電
させ水素に点火する。
第3図(d)は燃焼中の状態を示すもので、水素導入ロ
アからの水素と、酸素導入口3からの酸素が燃焼室8の
中央部で衝突し、火炎特に高温な外炎が容器1の内壁に
当ることなく、大量の水蒸気の発生が可能となる。−度
点火すれば、ガス供給を停止するまで連続的に燃焼する
ものである。
又、容器1を2重n4遺とし、この部分に水素を流すの
は、容器1の冷却と水素カスを余熱して燃え易くするた
めの2つの目的を持つ。
(実施例2) 第2図は本発明の実施例2を示す縦断面図て゛ある0本
実施例は点火方式をヒータによる点火方式に変更したも
のである。ヒータ10を水素導入ロアのごく近傍に配す
ることにより、点火時の少流最水素で点火し、通常流量
では火炎は大きくなり、ヒータ10部分で大きく昇温し
ないようにしである、抵抗加熱であるため、熱電対を用
いてその制御がし吊<、又この熱電対を利用しての燃焼
モニターにも利用できるという利点がある。
〔発明の効果〕
以F説明したように本発明は酸素カスと水素カスを燃焼
室で衝突させながら、燃焼させて水蒸気を発生させるた
め、穀も高温になる燃焼外炎か容器内壁に当ることなく
、燃焼が続行でき、従って、比較的小さな容器で大量の
水蒸気の発生か可能となるばかりでなく、石英容器の燃
焼熱による溶融破損を防止でき、安全性を確保できる効
果がある。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の実施例1の縦断面図、第2図は本発明
の実施例2の縦断面図、第3図(a)〜(d)は第1の
実施例における燃焼手順を示す模式図、第4図fa)〜
(C)は従来技術における燃焼装置の縦断面図である。 ■・・・密封容器(外壁)  2・・・水素収入口3・
・・酸素導入口     4・・・水蒸気取出口5・・
・電極         6・・・電極リード7・・・
水素導入口     8・・・燃焼室10・・・ヒータ 特許出願人  日本電気株式会社 代  理  人   弁理士  菅 野   中・・ノ 一ミ 第2図 第1図 (α) 第3図

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)少なくも酸素ガスと、水素ガスとを密封容器内へ
    導入し、該容器内で着火燃焼させ、水蒸気を発生させる
    酸素−水素ガスによる外部燃焼装置において、酸素ガス
    の導入口と水素ガスの導入口とを前記密封容器内に互い
    に向き合せに配設したことを特徴とする外部燃焼装置。
JP9251888A 1988-04-14 1988-04-14 外部燃焼装置 Pending JPH01264228A (ja)

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JP9251888A JPH01264228A (ja) 1988-04-14 1988-04-14 外部燃焼装置

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JP9251888A JPH01264228A (ja) 1988-04-14 1988-04-14 外部燃焼装置

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JPH01264228A true JPH01264228A (ja) 1989-10-20

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100541542B1 (ko) * 1999-08-31 2006-01-12 삼성전자주식회사 잔류 가스 연소용 고압 전극봉의 고정 장치

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100541542B1 (ko) * 1999-08-31 2006-01-12 삼성전자주식회사 잔류 가스 연소용 고압 전극봉의 고정 장치

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