JPH01264236A - Wafer-breaking apparatus - Google Patents
Wafer-breaking apparatusInfo
- Publication number
- JPH01264236A JPH01264236A JP63093941A JP9394188A JPH01264236A JP H01264236 A JPH01264236 A JP H01264236A JP 63093941 A JP63093941 A JP 63093941A JP 9394188 A JP9394188 A JP 9394188A JP H01264236 A JPH01264236 A JP H01264236A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- roller
- wafer
- adhesive sheet
- break
- breaking
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Landscapes
- Dicing (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分骨〕
この発明は、ウェハ状態の半導体素子を素子単位に分離
するウェハブレーク装置に関するものである。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Industrial Application] The present invention relates to a wafer breaking device that separates semiconductor devices in a wafer state into device units.
第6図は、従来のウェハブレ゛−り装置の例の構成図で
ある。FIG. 6 is a block diagram of an example of a conventional wafer cutting apparatus.
図において、(1)はセミフルカットされたウェハ、(
2)は(1)のウェハを固定する粘着シート、(3)は
、この粘着シート(2)を支えるフレームリング、(4
)は、このフレームリング(3)を脱着自在に固定でき
るテーブル、(5)は、ブレーク刃(6)は、このブレ
ーク刃(5)を回転可能とする回転軸、(7)は、ブレ
ーク刃(5)回転軸(61を固定する固定治具、である
。In the figure, (1) is a semi-full cut wafer, (
2) is an adhesive sheet that fixes the wafer in (1), (3) is a frame ring that supports this adhesive sheet (2), and (4) is an adhesive sheet that fixes the wafer in (1).
) is a table to which this frame ring (3) can be fixed detachably, (5) is a break blade (6) is a rotating shaft that allows this break blade (5) to rotate, and (7) is a break blade. (5) A fixing jig for fixing the rotating shaft (61).
次に動作について説明する。上記の様な構成の従来ウェ
ハブレーク装置においては、ブレークしたいラインとブ
レーク刃(5)の進行方向とブレーク位置を合わせ、ブ
レーク刃(5)の位置を決定する。Next, the operation will be explained. In the conventional wafer breaking apparatus configured as described above, the position of the break blade (5) is determined by aligning the line to be broken with the advancing direction of the break blade (5) and the break position.
この際、ブレーク刃(5)は、粘着シート(2)をわず
かに突上げ高さに設定する。次にウェハ(1)を固定す
る粘着シート(2)を支えているフレームリング(3)
を装着しているテーブル(4)とブレーク刃(5)を相
対的に移動させブレーク刃(6)を第8図の位置まで動
かす。この移動の際ブレーク刃(5)によりシート(2
)と共にウェハ(1)のセミフルカットされた下部が押
し上げられ、この部分のラインがブレークされる。At this time, the break blade (5) is set to a height that slightly pushes up the adhesive sheet (2). Next is the frame ring (3) that supports the adhesive sheet (2) that fixes the wafer (1).
The break blade (5) is moved relative to the table (4) on which it is attached, and the break blade (6) is moved to the position shown in Figure 8. During this movement, the break blade (5) causes the sheet (2
), the semi-full cut lower part of the wafer (1) is pushed up, and the line in this part is broken.
第8図の状態で更に新しくブレークしたいラインにブレ
ーク刃(5)を移動させ以上の動作を繰返す。In the state shown in Fig. 8, move the break blade (5) to a new line where you want to break and repeat the above operation.
横方向の全ラインをブレーク終了後フレームリング(3
)を固定している、テーブル(4)を90″回転させ再
度ブレーク刃(5)の進行方向の全ラインをブレークし
ブレーク動作を終了する。After breaking all horizontal lines, frame ring (3
) is fixed, the table (4) is rotated 90'' to break all the lines in the advancing direction of the break blade (5) again, and the breaking operation is completed.
従来のウェハブレーク装置は、ブレーク刃(5)を用い
てダイシングラインを1ラインづつブレークしていくこ
とが必要でブレーク処理時間が長くなるという問題かぁ
、た。The problem with conventional wafer breaking equipment is that it is necessary to break the dicing lines one by one using a break blade (5), which increases the breaking processing time.
この発明は、上記のような問題点を解消するためになさ
れたもので、ダイシングライン数に関係がなく2回のス
トロークでブレークでき、ブレーク処理時間を短縮する
ことのできるウェハブレーク装置を得ることを目的とす
る。This invention was made in order to solve the above-mentioned problems, and it is an object of the present invention to obtain a wafer breaking device that can break with two strokes regardless of the number of dicing lines, and can shorten the breaking processing time. With the goal.
この発明に係るウェハブレーク装置は、フレームリング
に貼付けられた粘着シート上に固着はれたダイシング済
のウェハをウェハ表面パターンに接触する事なく、テー
プの裏側よりテ・−ブとウェハとの接着力と、フレ−ム
リングとテープの接着力、及び71/−ムリングに接着
されたテープに裏面より荷重をH4けた時のテープの剛
性を利用してブレークを行う、其の時、テープの裏面よ
り荷重を掛けるためのローラーの形状を中央の径を大き
く、両端に行く程小径に構成I7、ローラー移動に対し
、フレームリングと干渉しない様にすると共に中央部の
径と両端部の径をブレークするチップサイズにより選定
するものである。The wafer breaking device according to the present invention adheres a diced wafer stuck on an adhesive sheet attached to a frame ring to the wafer from the back side of the tape without contacting the wafer surface pattern. The break is performed using the force, the adhesive strength between the frame ring and the tape, and the rigidity of the tape when a load of H4 orders of magnitude is applied from the back side to the tape adhered to the 71/- frame ring. The shape of the roller for applying the load is configured to have a large diameter at the center and a smaller diameter towards both ends.I7, the roller movement is made so that it does not interfere with the frame ring, and the diameter at the center and the diameter at both ends are broken. The selection is made based on the chip size.
この発明におけるウェハブレーク装flは、フレームリ
ングにより粘着シートを外周周辺で接着されているため
、テープ裏面から荷重を負荷した時テープの変形は境界
条件が周辺支持のドS肉内板と同様の変位を行うため、
テープ面内には位置ζこより全て異る応力を発生すると
共に単純な荷重形態ではプL/−り出来る曲率を得る事
は出来ない。そのため中央部と両端部の径を変えた中央
部が大きい両端部が小ζい径のローラーでブレークする
様にしたものである。In the wafer break device fl of this invention, the adhesive sheet is adhered around the outer periphery by a frame ring, so when a load is applied from the back side of the tape, the deformation of the tape is similar to the boundary condition of the de-S inner plate with peripheral support. To perform the displacement,
Different stresses are generated in the tape plane from position ζ, and it is not possible to obtain a curvature capable of pulling L/- with a simple loading form. For this reason, the diameters of the center and both ends are changed so that the center is large and both ends are broken by rollers with small diameters.
以下この発明の一実施例を図について説明する。 An embodiment of the present invention will be described below with reference to the drawings.
第1図において(8)は、中央が最大の半径Rで両端部
半径がそれより小さい半径rで構成された中央部にふく
らみを持つローラー、(9)は、このローラー(8)を
回転可能にさせる回転軸である。第4図において(1)
はダイシングされたウェハ(2)は粘着シート(3)は
ウェハリング(4)はウェハリングを挟み込んで締付+
1固定する様に構成した固定用テーブル、(8)は本発
明になるローラーα4は此のローラーが回転出来るよう
にするための軸受(10は、(9)軸及びローう−(8
)を支える軸受台αDは軸受台αdを上下出来る様に設
えた上下動機構、02はローラーをブレーク線に沿って
移動させるためのローラー移動機構のための移動軸03
はその移動機構を支持するためのガイド機構の一部を示
す。第2図はローラー(8)によりブレークを開始する
時のローラー(8)とウェハ(1)粘着シート(2)及
びフレームリング(3)との関係を示す、第3図はロー
ラー(8)を移動しブレークを完了した時のローラー(
8)とウェハ(i) ?ニー 粘着テープ(2)及びフ
レームリング(3)と固定用テーブル(4)の関係を示
す。In Fig. 1, (8) is a roller with a bulge in the center, with a maximum radius R at the center and a smaller radius r at both ends, and (9) is a roller that can rotate. It is the axis of rotation that allows In Figure 4 (1)
is the diced wafer (2) is the adhesive sheet (3) is the wafer ring (4) is the wafer ring and tightens it.
(8) is a fixing table configured to be fixed; (8) is a roller α4 according to the present invention; (10 is a bearing for allowing this roller to rotate; (9) is a shaft and a row (8);
) is a vertical movement mechanism installed to move the bearing stand αd up and down, and 02 is a moving shaft 03 for the roller movement mechanism to move the roller along the break line.
shows a part of the guide mechanism for supporting the moving mechanism. Figure 2 shows the relationship between the roller (8), the wafer (1), the adhesive sheet (2), and the frame ring (3) when the roller (8) starts breaking. Roller when moving and completing a break (
8) and wafer (i)? The relationship between the knee adhesive tape (2), the frame ring (3), and the fixing table (4) is shown.
上記のウェハブレーク装置についての作用il’JI
作説明を行なう。Effects of the above wafer breaking device il'JI
Explain the work.
第2図において、ダイシングラインとローラー回転軸を
平行に合せてローラーの位置を決定する。In FIG. 2, the position of the roller is determined by aligning the dicing line and the roller rotation axis in parallel.
この際ローラーは、シート(2)をわずかに突き上げ所
定の高ζに第4図αBに示す上下動機構で調整する。At this time, the roller slightly pushes up the sheet (2) and adjusts it to a predetermined height ζ using the vertical movement mechanism shown in FIG. 4 αB.
次にウェハ(1)を固定する粘着シート(2)を支A−
ているフレームリング(3)を装着するテーブル(4)
とローラー(8)を相対的に移動させローラー(8)を
第3図の位置まで動かす。この時ローラー(8)の回転
する方向は、ローラー回転軸(9)により、粘着シーb
(2+との接触抵抗の大きい方へ向きローラー(8)
の曲率によりダイシングラインがブレークされ第3図に
示す位置までローラーが移動し1ストローク目のブl/
−りを完了させた後、フレームリング(3)を固定して
いる、テーブル(4)を90°回転させ上記一連の動作
を行ない2ストローク目のブレークでブレーク動作を終
了する。ブレーク出来る曲率半径は粘着テープの接着力
Pとチップサイズ縦寸法aと横寸法す及びダイシングに
よる切残しl tl トウエバの弾性率E、によりロー
ラーの最大直径を決め、ローラー両端部の直径は、粘着
シートの外周径寸法、すなわちフレームリング内周寸法
とテープ厚み、t2とテープの弾性係数E2で粘着テー
プの変位が決るためテープ中央部と、9+周部の変位差
を求めその差よりローラーの中央部径と両端部の径の差
が大きくなる様に設計する。Next, attach the adhesive sheet (2) that fixes the wafer (1) to the support A-
Table (4) to which the frame ring (3) is attached
and the roller (8) are moved relative to each other and the roller (8) is moved to the position shown in FIG. At this time, the direction in which the roller (8) rotates is determined by the roller rotation shaft (9).
(Roller (8) facing toward the side with greater contact resistance with 2+
The dicing line is broken due to the curvature of , and the roller moves to the position shown in Figure 3.
After completing the rotation, the table (4), which fixes the frame ring (3), is rotated by 90° and the above series of operations is performed, and the break operation is completed at the break of the second stroke. The radius of curvature that can be broken is determined by the adhesive force P of the adhesive tape, the vertical dimension a of the chip size, the horizontal dimension A, and the uncut portion from dicing L tl The elastic modulus of the tow bar E, determines the maximum diameter of the roller. The displacement of the adhesive tape is determined by the outer diameter of the sheet, that is, the inner circumference of the frame ring, the tape thickness, t2, and the tape's elastic modulus E2, so find the difference in displacement between the center of the tape and the 9+ circumference, and use that difference to determine the center of the roller. Design so that the difference between the diameter of the part and the diameter of both ends is large.
なお、上記図1の実施例では中央の最大径Rと、両端の
最小径rとの間を直線で構成したウェハ径より大きい長
さlのローラーを示したが、前述した様に粘着テープの
変位は、フレームリング内径周囲形状と、フレームリン
グ内径周囲を支えるテーブルの支持方法で境界条件が変
わることからフレームリングの形状を変えたり、フレー
ムリングの支持方法を変えたりする事で種々に粘着テー
プの変位は変わるその場合Rとrの差を変化する事で同
様の効果が得られる、フレームリングに粘着テープを貼
付けた状態で粘着テープに張力を持たせたものをテープ
の裏面より割る場合、最大径Rと最小径rを結ぶ絆が直
線であっても図4に示したように他の曲線であっても同
様の効果を奏することは言うまでもない、又ローラーの
長さeに対しても、図1や図4に示したようにウェハ径
に合わせる必要はなく、ウェハ径より短くても同様にブ
レーク可能である、又eを小さくしていくと、Rとrの
差が少なくなりRとrが同寸法となったとしても、チッ
プサイズa、やbより4が大きい限り、本発明と同様の
効果を奏する、但しeが小さい時はウェハ直径の端から
端までブレークするため往復させるローラーの回数は多
くなるが、ブレークする事は可能である。In addition, in the embodiment shown in FIG. 1, a roller with a length l larger than the wafer diameter is shown, which is formed by a straight line between the maximum diameter R at the center and the minimum diameter r at both ends. Displacement is determined by changing the boundary conditions depending on the shape of the inner circumference of the frame ring and the support method of the table that supports the inner circumference of the frame ring. Therefore, by changing the shape of the frame ring or the method of supporting the frame ring, various adhesive tapes can be applied. In that case, the same effect can be obtained by changing the difference between R and r.If the adhesive tape is attached to a frame ring and tension is applied to the adhesive tape, and the adhesive tape is broken from the back side of the tape, It goes without saying that the same effect can be achieved whether the bond connecting the maximum diameter R and the minimum diameter r is a straight line or another curved line as shown in Fig. 4. , as shown in Figures 1 and 4, it is not necessary to match the diameter of the wafer, and even if it is shorter than the diameter of the wafer, it is possible to break in the same way.Also, as e becomes smaller, the difference between R and r decreases, and R Even if and r are the same size, as long as the chip size 4 is larger than the chip size a or b, the same effect as the present invention will be achieved. However, when e is small, the break will occur from one end of the wafer diameter to the other, so it will reciprocate. The number of rollers will increase, but it is possible to break.
以上のようにこの発明によればふくらみをもつローラー
を用いることで、従来のブレーク装置では1ライン1ス
トロークのブレーク動作を行なっていたのを、2向のス
トロークで全ラインブレークできるように構成したので
、ブレーク処理時間の短縮が得られる効果がある。As described above, according to the present invention, by using a roller with a bulge, it is possible to break the entire line with a stroke in two directions, whereas the conventional breaking device performs a breaking operation of one stroke per line. This has the effect of shortening the break processing time.
第1図は、この発明の一実施例によるローラーを示す斜
視図、第2.3.4図は、この発明が、およぼす作用層
び動作を示す正面図、第5.6.7.8図は、従のブレ
ーク装置の作用及び動作を示す正面図、(1)ウェハ、
(2)は、粘着シート、(3)は、フレームリング、(
4)はテーブル、(5)は、ブレーク刃、(6)はブレ
ーク刃回転軸、(7)は、ブレーク刃固定治具、(8)
はローラー、(9)はローラー回転軸、Qdは軸受台0
1)は上下動i溝、(2)はローラー移動機構、03は
ガイド機構、α→は軸受
なお図中、同一符号は、同一、又は相当部分を示す。Fig. 1 is a perspective view showing a roller according to an embodiment of the present invention, Fig. 2.3.4 is a front view showing the working layer and operation of the present invention, and Fig. 5.6.7.8. (1) Wafer;
(2) is an adhesive sheet, (3) is a frame ring, (
4) is the table, (5) is the break blade, (6) is the break blade rotation axis, (7) is the break blade fixing jig, (8)
is the roller, (9) is the roller rotation axis, and Qd is the bearing stand 0.
1) is a vertically movable i-groove, (2) is a roller moving mechanism, 03 is a guide mechanism, and α→ is a bearing. In the drawings, the same reference numerals indicate the same or equivalent parts.
Claims (1)
シートで固定されたダイシング済みウェハを粘着シート
の裏面から、ロ−ラーを用いてウェハ状態の半導体素子
を素子単位に切離するウェハブレーク装置において、中
央を最大の半径Rで、両端部がそれより小さい半径rに
なるようにした中央部にふくらみのあるローラーとその
ローラーが回転出来る回転機構と、そのローラーを直線
状に移動出来る機構とを備えたウェハブレーク装置。In a wafer breaking device that uses an adhesive sheet attached to a frame ring and a diced wafer fixed with the adhesive sheet from the back side of the adhesive sheet, the semiconductor devices in the wafer state are separated into individual elements using a roller. A roller with a bulge in the center with a maximum radius R and a smaller radius R at both ends, a rotation mechanism that allows the roller to rotate, and a mechanism that allows the roller to move linearly. Wafer break equipment.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9394188A JPH0744211B2 (en) | 1988-04-14 | 1988-04-14 | Wafer break device |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9394188A JPH0744211B2 (en) | 1988-04-14 | 1988-04-14 | Wafer break device |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01264236A true JPH01264236A (en) | 1989-10-20 |
| JPH0744211B2 JPH0744211B2 (en) | 1995-05-15 |
Family
ID=14096459
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9394188A Expired - Lifetime JPH0744211B2 (en) | 1988-04-14 | 1988-04-14 | Wafer break device |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0744211B2 (en) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6544819B2 (en) | 1999-03-03 | 2003-04-08 | Hitachi, Ltd. | Method and apparatus for separating semiconductor elements, and mounting method of semiconductor elements |
| US6602736B1 (en) | 1999-03-03 | 2003-08-05 | Hitachi, Ltd. | Method and apparatus for separating semiconductor chips |
| US6629553B2 (en) | 1997-09-04 | 2003-10-07 | Hitachi, Ltd. | Method and system for mounting semiconductor device, semiconductor device separating system, and method for fabricating IC card |
| US6805762B2 (en) * | 2000-06-30 | 2004-10-19 | Plus Stationery Corporation | Film transfer tool and method for producing a small diameter roller for use for a transfer head of a film transfer |
| JP2012160660A (en) * | 2011-02-02 | 2012-08-23 | Tokyo Seimitsu Co Ltd | Apparatus and method for semiconductor wafer breaking |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5437954A (en) * | 1977-08-31 | 1979-03-20 | Toyo Rajieetaa Kk | Method of producing fin for bent core in heat exchanger |
-
1988
- 1988-04-14 JP JP9394188A patent/JPH0744211B2/en not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5437954A (en) * | 1977-08-31 | 1979-03-20 | Toyo Rajieetaa Kk | Method of producing fin for bent core in heat exchanger |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6629553B2 (en) | 1997-09-04 | 2003-10-07 | Hitachi, Ltd. | Method and system for mounting semiconductor device, semiconductor device separating system, and method for fabricating IC card |
| US6544819B2 (en) | 1999-03-03 | 2003-04-08 | Hitachi, Ltd. | Method and apparatus for separating semiconductor elements, and mounting method of semiconductor elements |
| US6585471B2 (en) | 1999-03-03 | 2003-07-01 | Hitachi, Ltd. | Method and apparatus for separating semiconductor elements, and mounting method of semiconductor elements |
| US6602736B1 (en) | 1999-03-03 | 2003-08-05 | Hitachi, Ltd. | Method and apparatus for separating semiconductor chips |
| US6805762B2 (en) * | 2000-06-30 | 2004-10-19 | Plus Stationery Corporation | Film transfer tool and method for producing a small diameter roller for use for a transfer head of a film transfer |
| JP2012160660A (en) * | 2011-02-02 | 2012-08-23 | Tokyo Seimitsu Co Ltd | Apparatus and method for semiconductor wafer breaking |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0744211B2 (en) | 1995-05-15 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US5891298A (en) | Method and apparatus for peeling protective adhesive tape from semiconductor wafer | |
| KR100429739B1 (en) | Apparatus and method of abrading outer periphery of device wafer | |
| US6803320B2 (en) | Protective tape applying and separating methods | |
| JP4128343B2 (en) | Wafer notch polishing machine and wafer orientation notch polishing method | |
| US20080293337A1 (en) | Methods and apparatus for polishing a notch of a substrate by substrate vibration | |
| TWI301654B (en) | Method and apparatus for breaking semiconductor wafers | |
| JPH1190803A (en) | Mirror polishing device for work edge | |
| JPH0573346B2 (en) | ||
| JPH01264236A (en) | Wafer-breaking apparatus | |
| EP0289045B1 (en) | Apparatus for fabricating semiconductor devices | |
| US7430950B2 (en) | Apparatus for cutting adhesive tape | |
| JPH11162889A (en) | Wafer breaking and stretching apparatus and method | |
| JP7377671B2 (en) | How to expand the sheet | |
| JPH09107018A (en) | Wafer centering device | |
| KR102599436B1 (en) | Method and apparatus for joining adhesive tape | |
| US20100105294A1 (en) | Methods and apparatus to minimize the effect of tape tension in electronic device polishing | |
| JP2003109917A (en) | Method of manufacturing semiconductor wafer, method of cutting single-crystal ingot, cutting device, and holding jig | |
| KR100207810B1 (en) | Method and apparatus for cutting wafer by wiresaw | |
| KR20230031777A (en) | Substrate dividing method | |
| JPH08236484A (en) | Method and apparatus for breaking semiconductor wafer | |
| JP3060445B2 (en) | Semiconductor wafer slicing method and apparatus | |
| JPH11240030A (en) | Method and apparatus for removing contact lens material from processing jig | |
| JP6953788B2 (en) | Wafer manufacturing method and holding jig | |
| JP3144269B2 (en) | Cutting method of single crystal material | |
| JPH0819946A (en) | Outer circumference polishing method and its device for disk shape work |