JPH01264949A - 薄膜磁気ヘッド基板用非磁性材料及びその製造方法 - Google Patents
薄膜磁気ヘッド基板用非磁性材料及びその製造方法Info
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- JPH01264949A JPH01264949A JP63090544A JP9054488A JPH01264949A JP H01264949 A JPH01264949 A JP H01264949A JP 63090544 A JP63090544 A JP 63090544A JP 9054488 A JP9054488 A JP 9054488A JP H01264949 A JPH01264949 A JP H01264949A
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Landscapes
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- Compositions Of Oxide Ceramics (AREA)
- Magnetic Heads (AREA)
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
利用産業分野
この発明は、薄膜磁気ヘッド基板用Ｚｎフェライトに係
り、酸化カリウム、酸化カルシウム、酸化ナトリウムの
添加元素により、均一な微細結晶を有し、無孔化されす
ぐれた加工性を有するＺｎフェライトに関する。
り、酸化カリウム、酸化カルシウム、酸化ナトリウムの
添加元素により、均一な微細結晶を有し、無孔化されす
ぐれた加工性を有するＺｎフェライトに関する。
背景技術
薄膜磁気ヘッド基板は、一般に精密加工をするため、チ
ッピング発生のないすぐれた加工性を有し、かつ空孔が
少なく、均一な１吸細結晶からなり媒体とのなじみ性が
良好なことが要望されている。
ッピング発生のないすぐれた加工性を有し、かつ空孔が
少なく、均一な１吸細結晶からなり媒体とのなじみ性が
良好なことが要望されている。
従来、薄膜磁気ヘッド用基板には、ガラスやシリカ系、
アルミナ系等の非磁性材が実用化されていた。
アルミナ系等の非磁性材が実用化されていた。
また、出願人は、薄膜磁気ヘッド用基板として、すぐれ
た特注を有するが、加工面に微細孔が発生するため実用
化されていなかったＮｉ−Ｚｎフェライトに関し、加工
面の微細孔発生を防止した該フェライトを提案（特開昭
６１−１１１５１２号）した。
た特注を有するが、加工面に微細孔が発生するため実用
化されていなかったＮｉ−Ｚｎフェライトに関し、加工
面の微細孔発生を防止した該フェライトを提案（特開昭
６１−１１１５１２号）した。
さらに、Ｚｎ−フェライトとして、１ＺｎＯ４６〜５２
モル％、Ｆｅ２Ｏ３４８〜５４モル％からなる組成のも
のが知られているが、前記Ｚｎフェライトは磁気ヘッド
形状にレール加工時、チッピングが発生する恐れがあり
、製品歩留の低下を招来してきた。
モル％、Ｆｅ２Ｏ３４８〜５４モル％からなる組成のも
のが知られているが、前記Ｚｎフェライトは磁気ヘッド
形状にレール加工時、チッピングが発生する恐れがあり
、製品歩留の低下を招来してきた。
発明の目的
この発明は、従来の薄膜磁気ヘッド基板用Ｚｎフェライ
トの欠点を除去し、空孔が少なく、かつ均一な微細結晶
からなり、精密加工性のすぐれた薄膜磁気ヘッド基板用
Ｚｎフェライトの提供を目的としている。
トの欠点を除去し、空孔が少なく、かつ均一な微細結晶
からなり、精密加工性のすぐれた薄膜磁気ヘッド基板用
Ｚｎフェライトの提供を目的としている。
発明の概要
この発明は、
ＺｎＯ４６〜５２モル％、
Ｆｅ２Ｏ３４８〜５４モル％からなる基本組成に、Ｋ２
Ｏ，ＣａＯ及びＮａ２Ｏの少なくとも１種を０．００５
〜０．１ｗｔ％含有し、 気孔率０．０５％以下、平均結晶粒径が１０４ｍ以下を
有することを特徴とする薄膜磁気ヘッド基板用非磁性材
料である。
Ｏ，ＣａＯ及びＮａ２Ｏの少なくとも１種を０．００５
〜０．１ｗｔ％含有し、 気孔率０．０５％以下、平均結晶粒径が１０４ｍ以下を
有することを特徴とする薄膜磁気ヘッド基板用非磁性材
料である。
また、この発明は、
１ＺｎＯ４６〜５２モル％、Ｆｅ２Ｏ３４８〜５４モル
％からなる基本組成に、Ｋ２Ｏ，ＣａＯ及びＮａ２Ｏの
少なくとも１種を０．００５〜０．１ｗｔ％含有する組
成になる如く、原料粉末を配合混合したり、あるいは共
沈原料を成型後、 前記成型体を１０００℃〜１３００℃に予備焼結して密
度が理論密度の９５％以上、平均結晶粒径を１０μｍ以
下にした後、 前記焼結体を、温度９００℃〜１３００℃、６００ｋｇ
／ｃｍ２〜２０００ｋｇ／ｃｍ２に１時間〜５時間保持
した熱間静水圧プレス処理することにより、成品の気孔
率が０．０５％以下、平均結晶粒径が１１０１Ｊ以下で
あることを特徴とする薄膜磁気ヘッド基板用非磁性材料
を得ることができる。
％からなる基本組成に、Ｋ２Ｏ，ＣａＯ及びＮａ２Ｏの
少なくとも１種を０．００５〜０．１ｗｔ％含有する組
成になる如く、原料粉末を配合混合したり、あるいは共
沈原料を成型後、 前記成型体を１０００℃〜１３００℃に予備焼結して密
度が理論密度の９５％以上、平均結晶粒径を１０μｍ以
下にした後、 前記焼結体を、温度９００℃〜１３００℃、６００ｋｇ
／ｃｍ２〜２０００ｋｇ／ｃｍ２に１時間〜５時間保持
した熱間静水圧プレス処理することにより、成品の気孔
率が０．０５％以下、平均結晶粒径が１１０１Ｊ以下で
あることを特徴とする薄膜磁気ヘッド基板用非磁性材料
を得ることができる。
発明の効果
この発明は、Ｚｎフェライトにおいて、特定量のに２０
． Ｃａｂ、 Ｎａ２Ｏの少なくとも１種を含有するこ
とを特徴とし、成品中には空孔が少なく、かつ結晶粒径
が微細で均一であり、精密加工時、チッピング等が発生
せず、すぐれた加工性を有し、記録媒体とのなじみが良
好となる。
． Ｃａｂ、 Ｎａ２Ｏの少なくとも１種を含有するこ
とを特徴とし、成品中には空孔が少なく、かつ結晶粒径
が微細で均一であり、精密加工時、チッピング等が発生
せず、すぐれた加工性を有し、記録媒体とのなじみが良
好となる。
発明の構成
この発明において、基本組成が、ＺｎＯ４６〜５２モル
％、Ｆｅ２Ｏ３４８〜５４モル％の組成範囲外では、十
分なる焼結性が得られず、結晶粒径も不均一となり、薄
膜磁気ヘッド基板としては実用的ではない。
％、Ｆｅ２Ｏ３４８〜５４モル％の組成範囲外では、十
分なる焼結性が得られず、結晶粒径も不均一となり、薄
膜磁気ヘッド基板としては実用的ではない。
コノ発明において、Ｋ２Ｏ，ＣａＯ１Ｎａ２０の少なく
とも１種が、０．００５ｗｔ％未満ではその効果が十分
でなく、また、０．１ｗｔ％を超えると、焼結性が低下
して、結晶粒径が不均一となり、緻密な焼結体が得られ
ず、加工性も劣化するので好ましくない。
とも１種が、０．００５ｗｔ％未満ではその効果が十分
でなく、また、０．１ｗｔ％を超えると、焼結性が低下
して、結晶粒径が不均一となり、緻密な焼結体が得られ
ず、加工性も劣化するので好ましくない。
この発明において、成品のＺｎフェライトの気孔率を０
．０５％以下、平均結晶粒径を１０１１ｍ以下に限定し
た理由は、気孔率が０．０５％を超え、平均結晶粒径が
１０μｍを超えると、このフェライト素材を所要の磁気
ヘッド形状に溝加工する際に、チッピングが発生し易く
、所定形状に加工することはできず、また、磁性膜が加
工時に剥離する恐れがあるため好ましくない。
．０５％以下、平均結晶粒径を１０１１ｍ以下に限定し
た理由は、気孔率が０．０５％を超え、平均結晶粒径が
１０μｍを超えると、このフェライト素材を所要の磁気
ヘッド形状に溝加工する際に、チッピングが発生し易く
、所定形状に加工することはできず、また、磁性膜が加
工時に剥離する恐れがあるため好ましくない。
この発明の予備焼結条件において、焼結温度が１０００
℃未満では、緻密な焼結体が得られず、また１３００℃
を超えると、焼結体の結晶粒径が不均一となり、熱間静
水圧プレス処理後、精密加工性の劣化を招来するため好
ましくない。
℃未満では、緻密な焼結体が得られず、また１３００℃
を超えると、焼結体の結晶粒径が不均一となり、熱間静
水圧プレス処理後、精密加工性の劣化を招来するため好
ましくない。
また、予備焼結時間は、１時間未満では緻密な焼結体が
得られず、また、５時間を超えると焼結体の結晶粒径が
不均一となり、熱間静水圧プレス処理後においても空孔
がなく、結晶粒径の均一な緻密成品を得ることはできず
、すぐれた加工性の成品が得られない。
得られず、また、５時間を超えると焼結体の結晶粒径が
不均一となり、熱間静水圧プレス処理後においても空孔
がなく、結晶粒径の均一な緻密成品を得ることはできず
、すぐれた加工性の成品が得られない。
また、熱間静水圧プレス処理条件は、温度９００℃〜１
３００℃、圧力６００ｋｇ／ｃｍ２〜２０００ｋｇ／ｃ
ｍ２にて、保持時間１時間〜５時間の条件以外では、気
孔率０．０５％以下、平均結晶粒径が１０μｍ以下の緻
密、かつすぐれた精密加工性を有するＺｎフェライトを
得ることができない。
３００℃、圧力６００ｋｇ／ｃｍ２〜２０００ｋｇ／ｃ
ｍ２にて、保持時間１時間〜５時間の条件以外では、気
孔率０．０５％以下、平均結晶粒径が１０μｍ以下の緻
密、かつすぐれた精密加工性を有するＺｎフェライトを
得ることができない。
この発明において、原料として酸化物を用いてもよいが
、これら酸化物が分解によって得られる炭酸塩、水酸化
物、蓚酸塩等を用いることができる。
、これら酸化物が分解によって得られる炭酸塩、水酸化
物、蓚酸塩等を用いることができる。
実施例
原料として、Ｆｅ２Ｏ３、ＺｎＯ及び添加物として、Ｋ
２Ｏ，Ｃａｂ、 Ｎａ２Ｏを第１表の如く配合し、ボー
ルミル中で十分混合した後、大気中で１０００℃の仮焼
きを行なった。
２Ｏ，Ｃａｂ、 Ｎａ２Ｏを第１表の如く配合し、ボー
ルミル中で十分混合した後、大気中で１０００℃の仮焼
きを行なった。
さらに、ボールミルで粉砕して、粒径０．２μｍ以下と
した。
した。
この原料粉末にバインダーを添加し、造粒後、４０ｍｍ
Ｘ ４０ｍｍ寸法の塊状に成型し、前記成型体を１２
５０℃、１時間の予備焼結を行ない、第１表の如き焼結
性平均結晶粒径の焼結体を得た。
Ｘ ４０ｍｍ寸法の塊状に成型し、前記成型体を１２
５０℃、１時間の予備焼結を行ない、第１表の如き焼結
性平均結晶粒径の焼結体を得た。
次いで、この焼結体を熱間静水圧プレス装置にて、保持
温度１２００℃、保持時間２時間、圧力１０００ｋｇ／
ｃｍ２の条件にて処理した。
温度１２００℃、保持時間２時間、圧力１０００ｋｇ／
ｃｍ２の条件にて処理した。
熱間静水圧プレス処理した試験片の気孔率、平均粒径、
及び切削機を使用して切断加工した場合、試験片に発生
する大きさ５μｍ以上のチッピングの有無状況を第１表
に表す。
及び切削機を使用して切断加工した場合、試験片に発生
する大きさ５μｍ以上のチッピングの有無状況を第１表
に表す。
以下余白
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ ＺｎＯ４６〜５２モル％、Ｆｅ＿２Ｏ＿３４８〜５４モ
ル％からなる基本組成に、Ｋ＿２Ｏ、ＣａＯ及びＮａ＿
２Ｏの少なくとも１種を０．００５〜０．１ｗｔ％含有
し、気孔率０．０５％以下、平均結晶粒径が１０μｍ以
下を有することを特徴とする薄膜磁気ヘッド基板用非磁
性材料。 ２ ＺｎＯ４６〜５２モル％、Ｆｅ＿２Ｏ＿３４８〜５４モ
ル％からなる基本組成に、Ｋ＿２Ｏ、ＣａＯ及びＮａ＿
２Ｏの少なくとも１種を０．００５〜０．１ｗｔ％含有
の組成が得られるよう配合された成形体を、１０００℃
〜１３００℃に予備焼結して、密度が理論密度の９５％
以上、平均結晶粒径を１０μｍ以下とした後、前記焼結
体を熱間静水圧プレス処理して、気孔率０．０５％以下
、平均結晶粒径が１０μｍ以下の成品を得ることを特徴
とする薄膜磁気ヘッド基板用非磁性材料の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63090544A JPH0649608B2 (ja) | 1988-04-13 | 1988-04-13 | 薄膜磁気ヘッド基板用非磁性材料及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63090544A JPH0649608B2 (ja) | 1988-04-13 | 1988-04-13 | 薄膜磁気ヘッド基板用非磁性材料及びその製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01264949A true JPH01264949A (ja) | 1989-10-23 |
| JPH0649608B2 JPH0649608B2 (ja) | 1994-06-29 |
Family
ID=14001358
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63090544A Expired - Fee Related JPH0649608B2 (ja) | 1988-04-13 | 1988-04-13 | 薄膜磁気ヘッド基板用非磁性材料及びその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0649608B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0453013A (ja) * | 1990-06-20 | 1992-02-20 | Victor Co Of Japan Ltd | 磁気ヘッド用基板 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS58185437A (ja) * | 1982-04-24 | 1983-10-29 | Tohoku Metal Ind Ltd | 非磁性亜鉛フエライトおよびその製造方法 |
-
1988
- 1988-04-13 JP JP63090544A patent/JPH0649608B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS58185437A (ja) * | 1982-04-24 | 1983-10-29 | Tohoku Metal Ind Ltd | 非磁性亜鉛フエライトおよびその製造方法 |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0453013A (ja) * | 1990-06-20 | 1992-02-20 | Victor Co Of Japan Ltd | 磁気ヘッド用基板 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0649608B2 (ja) | 1994-06-29 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| S533 | Written request for registration of change of name |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533 |
|
| R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
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