JPH01267444A

JPH01267444A - パターン検出方法

Info

Publication number: JPH01267444A
Application number: JP9659788A
Authority: JP
Inventors: Kazuo Watanabe; 一生渡辺
Original assignee: Dai Nippon Printing Co Ltd
Current assignee: Dai Nippon Printing Co Ltd
Priority date: 1988-04-19
Filing date: 1988-04-19
Publication date: 1989-10-25

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】発明の目的；（産業上の利用分野）この発明は、例えばシャドウマスク、リードフレーム、
液晶表示パネル、プラズマデイスプレィパネル、集積回
路等に用いるフォトマスクの遮光性パターンを透過方式
により高性能に検出するパターン検出方法に関する。

（従来の技術）従来、第３図のようにガラス等の透明基板１２上に形成
されたエマルジョンや、金属薄膜（クロームなど）等の
遮光性パターン１１を有した試２４１Ｏを検査するには
、支持部材６Ａ、６Ｂで試料ｌＯを固定して、その上方
に光電素子等の検出装置３を、下方にランプ等の照明装
置７をそれぞれ設け、照明装置７より光Ｓにを照射し、
試料１０の透過光Ｔにを検出装置３で受光して、遮光性
パターン１１を検出するようにしている。

（発明が解決しようとする課題）しかし、上記検出方法は試料１０に光を透過させる方法
であるので、試料１０の検出すべき領域にはスペース等
の問題で駆動機構や基板支持機構を取付けることができ
ない。このため、従来は試料ｌＯのパターン１１の無い
外周部のみを支持部材６Ａ、６Ｂで支持していた。この
ような方法では、大型又は薄く曲折し易い試料ｌＯの部
分に破線で示すようなベンディングを生じ、試料１０の
読取精度を高く維持できない欠点がある。

これを解決する方法として、厚いガラス板などの剛性の
高い透明部材の上に被検試料を載置する方法も考えられ
るが、これによればベンディングは生じないが、駆動機
構を配置することができないという設計上の制約は解決
できない。又、他の方法として金属顕微鏡等で使用され
る落射照明により上記パターンを検出することも行なわ
れている。しかし、この方法ではステージ等には制約が
ないものの、エマルジョンパターンの検出が困難であっ
たり、クロームパターン等の反射光で検出し易い試料の
場合でも、パターン以外の光透過部の傷や遮光性パター
ン上の異物等の余分な検出を行なフたり、反射特性が不
安定な場合に検出が不安定になってしまうという問題が
あった。

この発明は上述のような事情からなされたものであり、
この発明の目的は、ステージ等の配置上の制約を取除く
と共に、遮光性パターンを常に高性能に検出できるパタ
ーン検出方法を提供するこ１　とにある。

発明の構成；（課題を解決するための手段）この発明は、透明基板上に形成された遮光性パターンに
光を照射して、検出手段により透過方式で前記遮光性パ
ターンを検出するパターン検出方法に関し、この発明の
上記目的は、前記透明基板に対する前記検出手段の反対
側に反射体を設け、前記遮光性パターンの検出側から光
を照射し、前記反射体での反射光が前記透明基板を透過
してから前記検出手段で検出することにより達成される
。

（作用）この発明のパターン検出方法は、透明基板上に形成され
た遮光性パターンを有する試料の裏面側に反射体を設け
、光源より試料を介して反射体に光を照射し、試料の遮
光性パターンを、前記透明基板の裏面より通過してきた
反射光を検出手段で検出することにより高性能に検出す
るようにしている。

（実施例）第１図は、この発明のパターン検出方法を実現するパタ
ーン検出装置の一例を示している。

この装置では、試料１０の背面側に、裏面に光の反射層
２２が層設された透明板等２１から成る反射板２０をｓ
ｉ置しておく。そして、試料１（ｌの両側上方に配置さ
れている光源ＩＡ、ＩＢの光を光学系２Ａ、２Ｂを介し
て、それぞれ照射光ＳＫＩ、Ｓに２として試料ｌＯに照
射する。照射光ＳＫＩ　、ＳＫ２は試料１０の透明基板
１２を透過し、反射板２０の反射層２２に到達して反射
され、反射光ＰＫとして試料１０の透明基板１２を再び
透過して、遮光性パターン１１を透明基板１２の裏面側
より照らす。そこで、試料ｌＯの上方に光学系を有シタ
イメージセンサ等の検出装置３を配設しておけば、遮光
性パターン１１を鮮明な画像として検出することができ
る。

すなわち、反射層２２での散乱光は試料１ｏに対して透
過照明として作用するため、遮光性パターン１１の検出
を良好に行なうことができる。また、透明板等２１の厚
さを大きくすると、照射光束にかかるパターンの影や反
射面の凹凸の影響を減少することができる。検出領域に
照射光が当ると、その部分での反射光が検出に影響を与
えるため、検出領域の外を通っ″て検出領域の直下の反
射層２２に照明光が当るように照明すると、検出系から
は拡散板を用いた透過光照明と同等な効果が得られ、よ
り良好なパターン検出ができる。

第２図は、この発明のパターン検出装置の他の例を示し
ている。

このパターン検出装置では、反射板３０の反射層３１に
図示の様な鋸歯状断面の反射面を有するものを使用し、
光源１．光学系２からの照射光Ｓに３を垂直方向に指向
性をもった反射光Ｆに１として反射すると共に、反射光
ＦＫＩを光学系４を介しライセンサ５で読取るようにし
ている。そこで、この装置では照射光の効率が第１図の
装置よりも高く、遮光性パターン１１の高速度な検出が
可能である。

液晶投影露光装置ではＲ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）な
どの着色層の塗布と、露光、現像を繰り返してＲＧＢの
各パターンを形成するが、第２色目以降はそれより前に
形成されたパターンを検出しアライメントした後に露光
する必要がある。液晶基板は大型で薄いため、透過照明
できる構造のステージは困難であるため、）Ｉｅ−Ｎｅ
レーザなどを走査して反射光を検出してアライメントを
行なっている。しかし、塗布層が着色しであるため、例
えばＢの場合には赤色のレーザ光が透過せず、反射光の
下層のパターンによる変化は微少であり、検出が困難に
なるという問題がある。本発明で照明光を白色光（感光
波長は遮断）とすれば必ず透過波長帯があり、しかも透
過光照明と同等な光学像が得られ、安定、正確な検出と
アライメントができる。

なお、上述の実施例において、試料１０に対する光源１
．ＩＡ、ＩＢ及び光学系２．２Ａ、２Ｂからの照射光５
ＫＩ−５Ｋ３の入射角は任意でよい。又、照射光ＳＫＩ
〜５に３は遮光パターン１１と重なるように照射しても
よいし、反射光ＦＫ、ＦＫＩと重なるようにしてもよい
。さらに、第１図及び第２図の検出装置の上記光源及び
光学系の数は任意である。

発明の効果；この発明のパターン検出方法によれば、特にシャドウマ
スク用のフォトマスクパターン等のように遮光部の比率
の少ないパターンに対しても、検出系側からの照明だけ
で透過光によるパターンを検出することができ、各種パ
ターンの座標幅検出や形状、欠陥検査等の広範囲な用途
に使用できる利点がある。又、この発明の方法を使用し
た装置は、光学系およびステージ等の配置の制約を増除
くこと力ｙでき、高性能な画像を得ることができる。さ
、らに、装置構成が簡単でコストが安価な利点がある。

さらにまた、反射体の上に試料を載置して検査するので
、試料が可撓性を有するものであっても試料のベンディ
ングがなく、精度のよい画像が得られるという利点もあ
る。

【図面の簡単な説明】

第１図はこの発明の方法を実現するパターン検出装置の
構成の一例を示す図、第２図は他のパターン検出装置の
構成図、第３図は従来の検出方法を説明するための図で
ある。１、ＩＡ、１Ｂ・・・光源、２．２Ａ、２Ｂ・・・光学
系、３・・・検出器、１０・・・試料、２０．３０・・
・反射板。出願人代理人　　　安　形　雄　三第ｆ凪蔓２図

Claims

【特許請求の範囲】１、透明基板上に形成された遮光性パターンに光を照射
して、検出手段により透過方式で前記遮光性パターンを
検出するパターン検出方法において、前記透明基板に対
する前記検出手段の反対側に反射体を設け、前記遮光性
パターンの検出側から光を照射し、前記反射体での反射
光が前記透明基板を透過してから前記検出手段で検出す
るようにしたことを特徴とするパターン検出方法。２、前記遮光性パターンの検出領域に前記光が直接当た
らないように照射する請求項１に記載のパターン検出方
法。３、前記遮光性パターンの検出領域を包含する前記反射
体の領域に前記光を照射する請求項１に記載のパターン
検出方法。４、前記反射体が、前記検出手段に向かう反射光の強度
が入力側よりも大きくなるような指向性を有している請
求項１に記載のパターン検出方法。