JPH0126768Y2 - - Google Patents
Info
- Publication number
- JPH0126768Y2 JPH0126768Y2 JP1981059716U JP5971681U JPH0126768Y2 JP H0126768 Y2 JPH0126768 Y2 JP H0126768Y2 JP 1981059716 U JP1981059716 U JP 1981059716U JP 5971681 U JP5971681 U JP 5971681U JP H0126768 Y2 JPH0126768 Y2 JP H0126768Y2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- reinforcing cloth
- reinforcing
- gasket
- rubber
- exchange membrane
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
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- Electrolytic Production Of Non-Metals, Compounds, Apparatuses Therefor (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】
本考案は、補強布を裏打したガスケツトの改良
に関するものである。
に関するものである。
補強布を裏打したゴム製ガスケツトについては
特開昭55−164088号に提案されている。該提案の
補強布としては、接触する液に対して耐性のある
こと、機械的物性の良いこと、ゴムとの接着性の
良いことが好ましい旨記載されている。例えばイ
オン交換膜法食塩電解槽のイオン交換膜と電槽枠
との間に介在させるガスケツトとして、クロロプ
レンゴムとナイロン６、ポリエステル、アラミド
（芳香族ナイロン）との組合せ、ブチルゴムとナ
イロン６との組合せ、フツ素ゴムとナイロン６と
の組合せ等のガスケツトを６ケ月間使用すると、
補強布が溶失し、イオン交換膜がシール部で切断
するので、補強布としてフツ素系繊維や炭素繊維
の如き電解液に耐性の優れたものが好ましいこと
が記載されている。
特開昭55−164088号に提案されている。該提案の
補強布としては、接触する液に対して耐性のある
こと、機械的物性の良いこと、ゴムとの接着性の
良いことが好ましい旨記載されている。例えばイ
オン交換膜法食塩電解槽のイオン交換膜と電槽枠
との間に介在させるガスケツトとして、クロロプ
レンゴムとナイロン６、ポリエステル、アラミド
（芳香族ナイロン）との組合せ、ブチルゴムとナ
イロン６との組合せ、フツ素ゴムとナイロン６と
の組合せ等のガスケツトを６ケ月間使用すると、
補強布が溶失し、イオン交換膜がシール部で切断
するので、補強布としてフツ素系繊維や炭素繊維
の如き電解液に耐性の優れたものが好ましいこと
が記載されている。
しかし、フツ素系繊維や炭素繊維の如き電解液
に対する耐性の優れた補強布をそのまゝ組合せて
用いても、表面の活性を必要とするゴムとの接着
性が悪く、充分な接着強度を得ることは難かし
い。従つて、接着強度を上げる為に補強布の表面
処理を行つたり、接着助剤を表面に塗布する等の
手段がとられるが、長期電解を行うと補強布の接
液部から電解液が浸透し、接着面や接着助剤の性
能低下をきたすので接着強度を長期間維持するこ
とが難かしい。更に、フツ素系繊維や炭素繊維は
高価である。
に対する耐性の優れた補強布をそのまゝ組合せて
用いても、表面の活性を必要とするゴムとの接着
性が悪く、充分な接着強度を得ることは難かし
い。従つて、接着強度を上げる為に補強布の表面
処理を行つたり、接着助剤を表面に塗布する等の
手段がとられるが、長期電解を行うと補強布の接
液部から電解液が浸透し、接着面や接着助剤の性
能低下をきたすので接着強度を長期間維持するこ
とが難かしい。更に、フツ素系繊維や炭素繊維は
高価である。
一方、本考案は電解液に耐性のない補強布を裏
打ちしたガスケツトの欠点を除去することを目的
とし、補強布を接液部に露出させないようにゴム
層で埋込むことにより、汎用的で機械的物性に優
れ、且つ、接着技術の確立した補強布の耐性向上
を目指したものである。即ち、電解液に耐性のな
い補強布を接液部に於て、0.2mm以上のゴム層で
埋込むことにより、補強布の溶失や接着強度の低
下を防止し得ることを見出した。
打ちしたガスケツトの欠点を除去することを目的
とし、補強布を接液部に露出させないようにゴム
層で埋込むことにより、汎用的で機械的物性に優
れ、且つ、接着技術の確立した補強布の耐性向上
を目指したものである。即ち、電解液に耐性のな
い補強布を接液部に於て、0.2mm以上のゴム層で
埋込むことにより、補強布の溶失や接着強度の低
下を防止し得ることを見出した。
例えば、イオン交換膜法食塩電解槽に於て、陰
極液に接するガスケツトとして苛性ソーダに耐性
あるエチレン／プロピレンゴム、クロロプレンゴ
ム、ブチルゴム、フツ素ゴム等のゴムに、ナイロ
ン６、ナイロン66、ポリエステル、アラミド、ア
クリル、ガラス繊維等の苛性ソーダに耐性のない
汎用的な補強布を公知の技術で裏打し、補強布が
接液部で露出しないように0.2mm以上の同質ゴム
で埋込んだものは、６ケ月以上にわたつて補強布
の溶失や接着強度の低下がなかつた。0.2mm以下
のゴム層で埋込んだガスケツトは、ピンホール等
の製作上の欠陥により、部分的に補強布が溶失し
た。一方、同様なガスケツトを陽極液側に使用し
た場合にも、接液部のゴム層表面に生成するクロ
ーリンバターがゴム層及び補強布を保護し、補強
布の溶失が著るしく遅延されることがわかつた。
極液に接するガスケツトとして苛性ソーダに耐性
あるエチレン／プロピレンゴム、クロロプレンゴ
ム、ブチルゴム、フツ素ゴム等のゴムに、ナイロ
ン６、ナイロン66、ポリエステル、アラミド、ア
クリル、ガラス繊維等の苛性ソーダに耐性のない
汎用的な補強布を公知の技術で裏打し、補強布が
接液部で露出しないように0.2mm以上の同質ゴム
で埋込んだものは、６ケ月以上にわたつて補強布
の溶失や接着強度の低下がなかつた。0.2mm以下
のゴム層で埋込んだガスケツトは、ピンホール等
の製作上の欠陥により、部分的に補強布が溶失し
た。一方、同様なガスケツトを陽極液側に使用し
た場合にも、接液部のゴム層表面に生成するクロ
ーリンバターがゴム層及び補強布を保護し、補強
布の溶失が著るしく遅延されることがわかつた。
第１図に、本考案によるガスケツトの断面図を
示す。第１図に於て、面Ｍ及び面Ｆがシール面で
あり、面Ｓが装置の内部に面しており、面Ｓ及び
斜線部分２の面Ｆが接液している。１は補強布で
あり、面Ｍと補強布との距離t1，面Ｆと補強布と
の距離t2，面Ｓと補強布との距離とすると本考
案は、t1，t2，のいずれもが0.2mm以上のゴム層
でなければならない。0.2mm以下では、ピンホー
ル等の製作上の欠陥により部分的に補強布が浸蝕
され、経時的に拡大されてゆく。
示す。第１図に於て、面Ｍ及び面Ｆがシール面で
あり、面Ｓが装置の内部に面しており、面Ｓ及び
斜線部分２の面Ｆが接液している。１は補強布で
あり、面Ｍと補強布との距離t1，面Ｆと補強布と
の距離t2，面Ｓと補強布との距離とすると本考
案は、t1，t2，のいずれもが0.2mm以上のゴム層
でなければならない。0.2mm以下では、ピンホー
ル等の製作上の欠陥により部分的に補強布が浸蝕
され、経時的に拡大されてゆく。
本考案をイオン交換膜法電解槽に適用する場合
には、面Ｍをイオン交換膜に接する面とすれば、
t1は0.2mm〜0.7mm、（t1＋t2）は１mm以上が好まし
い。又、補強布は、締付部全体にわたつて存在し
ていなければならず、が長くなると通電面が減
少するので５mm以下が望ましい。
には、面Ｍをイオン交換膜に接する面とすれば、
t1は0.2mm〜0.7mm、（t1＋t2）は１mm以上が好まし
い。又、補強布は、締付部全体にわたつて存在し
ていなければならず、が長くなると通電面が減
少するので５mm以下が望ましい。
本考案の実施に際し補強布をゴム層に埋込むに
は、ラテツクスの塗布や生ゴムを被覆後、加硫し
て固定する等の手段を利用することができるが、
ガスケツトの成形時に同時に埋込むことが望まし
い。
は、ラテツクスの塗布や生ゴムを被覆後、加硫し
て固定する等の手段を利用することができるが、
ガスケツトの成形時に同時に埋込むことが望まし
い。
以上の説明のように、本考案により耐性のない
為に使用できなかつた汎用的で機械的物性が良
く、且つ、接着性が良い補強布が使用できるよう
になり、その結果、補強布の選択の巾を広げ安価
なガスケツトを提供することができる。
為に使用できなかつた汎用的で機械的物性が良
く、且つ、接着性が良い補強布が使用できるよう
になり、その結果、補強布の選択の巾を広げ安価
なガスケツトを提供することができる。
第１図は、本考案によるガスケツトの一例であ
る。
る。
Claims (1)
- 電解液に耐性のない補強布が接液部に於て、
0.2mm以上のゴム層で埋込まれているイオン交換
膜法食塩電解槽用ガスケツト。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1981059716U JPH0126768Y2 (ja) | 1981-04-27 | 1981-04-27 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1981059716U JPH0126768Y2 (ja) | 1981-04-27 | 1981-04-27 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS57172064U JPS57172064U (ja) | 1982-10-29 |
| JPH0126768Y2 true JPH0126768Y2 (ja) | 1989-08-10 |
Family
ID=29856045
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1981059716U Expired JPH0126768Y2 (ja) | 1981-04-27 | 1981-04-27 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0126768Y2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2011006767A (ja) * | 2009-06-29 | 2011-01-13 | Asahi Kasei Chemicals Corp | 電解槽用陰極ガスケット及びそれを含む電解槽 |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6038472B2 (ja) * | 1979-06-08 | 1985-08-31 | 旭化成株式会社 | イオン交換膜式電解槽 |
-
1981
- 1981-04-27 JP JP1981059716U patent/JPH0126768Y2/ja not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS57172064U (ja) | 1982-10-29 |
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