JPH01268565A - 麻酔強度モニター - Google Patents
麻酔強度モニターInfo
- Publication number
- JPH01268565A JPH01268565A JP9912288A JP9912288A JPH01268565A JP H01268565 A JPH01268565 A JP H01268565A JP 9912288 A JP9912288 A JP 9912288A JP 9912288 A JP9912288 A JP 9912288A JP H01268565 A JPH01268565 A JP H01268565A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- anesthesia
- anesthetic gas
- anesthetic
- capacitance
- substance
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- Investigating Or Analyzing Materials By The Use Of Electric Means (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野コ
本発明は麻酔ガスに感応する素材を使用した麻酔感応素
子を用い、麻酔深度または麻酔濃度を測定・表示可能な
麻酔強度モニターに関する。
子を用い、麻酔深度または麻酔濃度を測定・表示可能な
麻酔強度モニターに関する。
[従来の技術]
従来、手術のため吸入麻酔を受ける患者に対して安全を
図るためのモニタリングとしては、心電モニターなどが
行なわれているが、直接、麻酔ガスの吸入量を測定する
ような機器はあまり知られていない。
図るためのモニタリングとしては、心電モニターなどが
行なわれているが、直接、麻酔ガスの吸入量を測定する
ような機器はあまり知られていない。
現在、麻酔濃度の測定機器としては、質量分析器や麻酔
濃度計がある。
濃度計がある。
[発明が解決しようとする課題]
しかしながら、従来から使用されている質量分析器は大
型で、操作較正が難しく、またガスを吸引してサンプリ
ングするため排気も必要であり、かつ大型のため移動が
難しく、手術室に一台づつ設置することは場所等の制約
から一般に困難であるという問題かあった。
型で、操作較正が難しく、またガスを吸引してサンプリ
ングするため排気も必要であり、かつ大型のため移動が
難しく、手術室に一台づつ設置することは場所等の制約
から一般に困難であるという問題かあった。
また、従来使用されている麻酔濃度計は、麻酔ガスか赤
外線を吸収する量を利用して麻酔濃度を算出しており、
またガスを吸引して測定を行なうため測定後のガスの排
気回路か必要であり、さらに麻酔ガスの種類によっては
、装置上においてガスの種類の設定を行なう必要かあっ
た。
外線を吸収する量を利用して麻酔濃度を算出しており、
またガスを吸引して測定を行なうため測定後のガスの排
気回路か必要であり、さらに麻酔ガスの種類によっては
、装置上においてガスの種類の設定を行なう必要かあっ
た。
[課題を解決するための手段]
そこで、本発明者はト記した従来の麻酔a度計の問題点
にffiみ鋭意検討を重ねた結果、麻酔ガスの吸引排気
を行うことなく直接麻酔濃度あるいは深度か測定可能な
、使用に際して簡便な麻酔強度モニターを見出し、本発
明に到達した。
にffiみ鋭意検討を重ねた結果、麻酔ガスの吸引排気
を行うことなく直接麻酔濃度あるいは深度か測定可能な
、使用に際して簡便な麻酔強度モニターを見出し、本発
明に到達した。
即ち本発明によれば、櫛形電極に、レシチン、ケファリ
ン、ジオクタデシル・フすスファイト、亜リン酸トリス
テアリル、■、3−ジテトラデシルグリセロ−2−フォ
スフォコリン、ジメチルジオクタデシルアンモニウムブ
ロマイド、N−(β−(トリメチルアンモニオ)エチル
オキシベンゾイル〕−ジオクタデシル−L−タルタメイ
トーブロマイド、ソジウム1.2−ビス(オクタデシル
オキシカーボニル)−エタン−1−サルフォネートから
なる群からjxばれる少なくとも一種の物質をライニン
グして形成した麻酔感応素子と。
ン、ジオクタデシル・フすスファイト、亜リン酸トリス
テアリル、■、3−ジテトラデシルグリセロ−2−フォ
スフォコリン、ジメチルジオクタデシルアンモニウムブ
ロマイド、N−(β−(トリメチルアンモニオ)エチル
オキシベンゾイル〕−ジオクタデシル−L−タルタメイ
トーブロマイド、ソジウム1.2−ビス(オクタデシル
オキシカーボニル)−エタン−1−サルフォネートから
なる群からjxばれる少なくとも一種の物質をライニン
グして形成した麻酔感応素子と。
該麻酔感応素子に連結され、該麻酔感応素子の静電容量
の麻酔ガスに対する変化量に対応した麻酔深度又は麻酔
濃度を表示する電気回路とからなることを特徴とする麻
酔強度干二ター、か提供される。
の麻酔ガスに対する変化量に対応した麻酔深度又は麻酔
濃度を表示する電気回路とからなることを特徴とする麻
酔強度干二ター、か提供される。
本発明においては、麻酔ガスに感応する物質として、レ
シチン、ケファリン、ジオクタデシル・フォスファイト
、亜リン酸トリステアリル、■。
シチン、ケファリン、ジオクタデシル・フォスファイト
、亜リン酸トリステアリル、■。
3−シテトラデシルグリセロー2−フォスフォコリン、
ジメチルジオクタデシルアンモニウムブロマイド、N−
(β〜(トリメチルアンモニオ)エチルオキシベンゾイ
ル)−ジオクタデシル−L−グルタメイド−ブロマイド
、ソジウム1.2−ビス(オクタデシルオキシカーボニ
ル)−エタン−1−サルフォネートからなる群から選ば
れる少なくとも一種か通出なものであり、特に、レシチ
ンか麻酔ガスへの感応性に優れていることから好ましい
。
ジメチルジオクタデシルアンモニウムブロマイド、N−
(β〜(トリメチルアンモニオ)エチルオキシベンゾイ
ル)−ジオクタデシル−L−グルタメイド−ブロマイド
、ソジウム1.2−ビス(オクタデシルオキシカーボニ
ル)−エタン−1−サルフォネートからなる群から選ば
れる少なくとも一種か通出なものであり、特に、レシチ
ンか麻酔ガスへの感応性に優れていることから好ましい
。
ここで麻酔深度とは、外科的刺激によって体を動かさな
い吸入麻酔薬の肺胞気儂度のことを指し、ミニマム ア
ルビオラ−コンセントレージョン(minimum a
lveolar concentration) (
MAC)と称するものである。この値は吸入麻酔薬の種
類により異なり、少ないもの程強力である。
い吸入麻酔薬の肺胞気儂度のことを指し、ミニマム ア
ルビオラ−コンセントレージョン(minimum a
lveolar concentration) (
MAC)と称するものである。この値は吸入麻酔薬の種
類により異なり、少ないもの程強力である。
又、幼児ではMACはやや高くなる。
麻酔深度(MAC)と麻酔薬濃度の関係(麻酔ハンlへ
ノックより) 従って、吸入麻酔薬の種類に依らない統一した基準値と
して用いられている。濃度表示において、例えばエトレ
ン用気化器にへロタンを入れ、誤用に気付かなかった場
合、ダイヤルによりある設定値を決めると、エトレンと
へロタンの蒸気圧の違いにより、設定濃度より高い値の
へロタンかエトレンの気化器から出ることになり、極め
て危険である。しかし、MAC表示では、その様な事故
の防止にも有効である。
ノックより) 従って、吸入麻酔薬の種類に依らない統一した基準値と
して用いられている。濃度表示において、例えばエトレ
ン用気化器にへロタンを入れ、誤用に気付かなかった場
合、ダイヤルによりある設定値を決めると、エトレンと
へロタンの蒸気圧の違いにより、設定濃度より高い値の
へロタンかエトレンの気化器から出ることになり、極め
て危険である。しかし、MAC表示では、その様な事故
の防止にも有効である。
[作用]
麻酔ガスを、その麻酔ガスに感応して静電容を辻か変化
する物質に接触させ、該静電容量の変化に対応した電位
差を測定することにより、麻酔濃度あるいは麻酔深度を
測定・表示する。
する物質に接触させ、該静電容量の変化に対応した電位
差を測定することにより、麻酔濃度あるいは麻酔深度を
測定・表示する。
[実施例コ
以下、本発明を図示の実施例に基いて更に詳しく説明す
るか、本発明はこれら実施例に限られるものではない。
るか、本発明はこれら実施例に限られるものではない。
第1図は本発明の麻酔感応素子の一例であり、第2図は
第1図のA−A′部分拡大断面IAを示すものである。
第1図のA−A′部分拡大断面IAを示すものである。
図において、10は櫛形電極からなる麻酔感応素子であ
り、非導電性物質からなる基板11上にCr、又はAI
などから形成される電極素子12を配置し、その電極素
子12には絶縁層13が塗布されている。そして、さら
にその上から麻酔ガスに感応する物質14をコーティン
グして構成されているものである。
り、非導電性物質からなる基板11上にCr、又はAI
などから形成される電極素子12を配置し、その電極素
子12には絶縁層13が塗布されている。そして、さら
にその上から麻酔ガスに感応する物質14をコーティン
グして構成されているものである。
基板11としては、非導電性物質であればよく、特にそ
の種類は限定されず、例えば、ガラス−エポキシ板、ベ
ークライト板等が挙げられる。
の種類は限定されず、例えば、ガラス−エポキシ板、ベ
ークライト板等が挙げられる。
また、絶縁層13としては絶縁性物質からなるもので、
例えば窒化珪素(SiNx)、二酸化珪素(SiO2)
などが挙げられる。
例えば窒化珪素(SiNx)、二酸化珪素(SiO2)
などが挙げられる。
次に、麻酔感応素子を組込んだ第3図の電気回路につい
て説明する。
て説明する。
パルスジェネレーター20は、標準タイマー回路(NE
555)21とキャパシタンス22及び抵抗23とから
構成されており、このパルスジェネレーター20はマル
チバイブレータ−24に規則的な反復パルスを送ってい
る。
555)21とキャパシタンス22及び抵抗23とから
構成されており、このパルスジェネレーター20はマル
チバイブレータ−24に規則的な反復パルスを送ってい
る。
このマルチハイツレ−ター24は上記標準タイマー回路
21と類似のタイマー回路25を含み。
21と類似のタイマー回路25を含み。
その出力信号のパルス幅か麻酔感応素子lOの静電容量
に依存するように接続されている。出力は、抵抗28と
キャパシタンス29から成る積分回路31で積分され、
増幅器(インピーダンス変調)26及び27にて増幅さ
れてその信号は32以後の回路で変換され、デジタル化
され1表示されるのである。
に依存するように接続されている。出力は、抵抗28と
キャパシタンス29から成る積分回路31で積分され、
増幅器(インピーダンス変調)26及び27にて増幅さ
れてその信号は32以後の回路で変換され、デジタル化
され1表示されるのである。
以下、本発明の具体的な実施結果を説明する。
(実施例1)
脂質の1種である大豆製レシチン10gを、試薬特級9
9.5%のエタノール液100gの入ったビーカー中に
攪拌しながら溶解した。得られた溶液に櫛形電極を垂直
に浸し、30秒後、垂直のまま引き上げて取り出し、真
空乾燥機により500Cて3時間乾燥させ、レシチンで
コーティングされた櫛形電極からなる麻酔感応素子を作
製した。
9.5%のエタノール液100gの入ったビーカー中に
攪拌しながら溶解した。得られた溶液に櫛形電極を垂直
に浸し、30秒後、垂直のまま引き上げて取り出し、真
空乾燥機により500Cて3時間乾燥させ、レシチンで
コーティングされた櫛形電極からなる麻酔感応素子を作
製した。
尚、上記の櫛形電極はクロム−アルミニウム(Cr、A
M)合金製で、幅約10JLm、厚さ約10ルm、長さ
約4.1msの電極素子を陽極60本。
M)合金製で、幅約10JLm、厚さ約10ルm、長さ
約4.1msの電極素子を陽極60本。
陰極61本(59木+外側2本)として、約3m鵬X7
mmでガラス−エポキシ基板上に配置され構成されてい
る。また、電極には絶縁層として窒化珪素(S i N
x)が0.27Lmの厚さで塗布されており、この電極
は、温度21’C1湿度45%において、電気抵抗が1
xlo”Ω以上(印加電圧10V)、静電容量が約18
pF (電圧5v、周波数10KHz)てあった。
mmでガラス−エポキシ基板上に配置され構成されてい
る。また、電極には絶縁層として窒化珪素(S i N
x)が0.27Lmの厚さで塗布されており、この電極
は、温度21’C1湿度45%において、電気抵抗が1
xlo”Ω以上(印加電圧10V)、静電容量が約18
pF (電圧5v、周波数10KHz)てあった。
この櫛形電極からなる麻酔感応素子は、レシチン塗布後
においては、1回のレシチンのコーティングにより静電
容量が約0.5pF増加した。
においては、1回のレシチンのコーティングにより静電
容量が約0.5pF増加した。
この麻酔感応素子を、第3図に示す、麻酔感応素子の静
電容量を電位差として出力および表示が可能で、且つ電
位差のゼロ点の調整及びゲイン調整可能な電気回路に接
続し麻酔強度モニター30を作製した。
電容量を電位差として出力および表示が可能で、且つ電
位差のゼロ点の調整及びゲイン調整可能な電気回路に接
続し麻酔強度モニター30を作製した。
次に、上記の麻酔強度モニター30に接続された麻酔感
応素子lOを、第4図に示すように、酸素ガスが流量5
交/Sin、で流れているパイプ15中に挿入し、そ
こに揮発性吸入麻酔薬であるハロタン(l1aloth
ane) (非爆発性フッ素化合物)を気化器を用いて
濃度0%、1%、0%、2%、0%、3%、0%、4%
、0%、3%、0%、2%、0%、1%、0%の順序で
流し、麻酔感応素子lOの静電容量の変化に対応した電
位差を測定し、第5図のグラフに示した。なお、16は
麻酔ガス気化ぶである。
応素子lOを、第4図に示すように、酸素ガスが流量5
交/Sin、で流れているパイプ15中に挿入し、そ
こに揮発性吸入麻酔薬であるハロタン(l1aloth
ane) (非爆発性フッ素化合物)を気化器を用いて
濃度0%、1%、0%、2%、0%、3%、0%、4%
、0%、3%、0%、2%、0%、1%、0%の順序で
流し、麻酔感応素子lOの静電容量の変化に対応した電
位差を測定し、第5図のグラフに示した。なお、16は
麻酔ガス気化ぶである。
第5図に示す結果から明らかなように、ハロタンの濃度
に鋭敏に対応し、電位差として示されることかわかる。
に鋭敏に対応し、電位差として示されることかわかる。
更に同様に、上記の麻酔強度モニター30に接続された
麻酔感応素子lOを第4図に示すように、酸素ガスか流
量51 /sin、で流れているバイブ15中に挿入し
、そこに揮発性吸入麻酔薬であるエトレン(Ethra
ne) (非爆発性フッ素化合物)を気化器を用いて濃
度0%、0.7%、0%、1.8%、0%、3.7%、
0%、1.8%、0%、0.7%、0%の順序で流し、
麻酔感応素子lOの静電容量の変化に対応した電位差を
測定し、第6図のグラフに示した。第6図に示す結果か
ら明らかな様に、エトレンの濃度に鋭敏に対応し、電位
差として示されていることがわかる。
麻酔感応素子lOを第4図に示すように、酸素ガスか流
量51 /sin、で流れているバイブ15中に挿入し
、そこに揮発性吸入麻酔薬であるエトレン(Ethra
ne) (非爆発性フッ素化合物)を気化器を用いて濃
度0%、0.7%、0%、1.8%、0%、3.7%、
0%、1.8%、0%、0.7%、0%の順序で流し、
麻酔感応素子lOの静電容量の変化に対応した電位差を
測定し、第6図のグラフに示した。第6図に示す結果か
ら明らかな様に、エトレンの濃度に鋭敏に対応し、電位
差として示されていることがわかる。
又、第5図及び第6図の結果を、第7図に示す麻酔深度
(MAC)を示すグラフに表わしてみると、レシチンを
コーティングした麻酔感応素子lOの静電容量の変化に
対応した電位差は、麻酔深度(MAC)に対応している
ことが分かる。
(MAC)を示すグラフに表わしてみると、レシチンを
コーティングした麻酔感応素子lOの静電容量の変化に
対応した電位差は、麻酔深度(MAC)に対応している
ことが分かる。
[発明の効果]
以上説明したように、本発明は麻酔ガスに感応する麻酔
感応素子を電気回路に連結し、麻酔ガスに対する麻酔感
応素子の静電容量の変化に対応して麻酔深度または麻酔
濃度を測定・表示しているので、麻酔ガスの吸引排気を
行なう必要かなく、操作も容易で安全に行うことができ
る。
感応素子を電気回路に連結し、麻酔ガスに対する麻酔感
応素子の静電容量の変化に対応して麻酔深度または麻酔
濃度を測定・表示しているので、麻酔ガスの吸引排気を
行なう必要かなく、操作も容易で安全に行うことができ
る。
第1図は本発明の麻酔感応素子の一例を示す平面図、第
2図は第1図のA−A’部分拡大断面図、第3図は本発
明の麻酔感応素子を接続した電位差のゼロ点調整及びゲ
イン調整可能な電気回路を示す電気回路図、第4図は本
発明の麻酔感応素子をバイブ中に挿入した例を示す説明
図、第5図は麻酔感応素子のへロタン濃度に対する感応
度を示すグラフ、第6図は麻酔感応素子のエトレン濃度
に対する感応度を示すグラフ、第7図は麻酔深度と電位
差との対応関係を示すグラフである。 10.10’・・・麻酔感応素子、11・・・基板、1
2・・・電極素子、13・・・絶縁層、14・・・麻酔
感応物質、15・・・パイプ、16・・・麻酔ガス気化
器、20・・・パルスジェネレーター、21・・・標準
タイマー回路22・・・キャパシタンス、23・・・抵
抗、24・・・マルチバイブレータ−125・・・タイ
マー回路、26.27・・・増幅器、30・・・麻酔強
度モニター、31・・・積分回路。
2図は第1図のA−A’部分拡大断面図、第3図は本発
明の麻酔感応素子を接続した電位差のゼロ点調整及びゲ
イン調整可能な電気回路を示す電気回路図、第4図は本
発明の麻酔感応素子をバイブ中に挿入した例を示す説明
図、第5図は麻酔感応素子のへロタン濃度に対する感応
度を示すグラフ、第6図は麻酔感応素子のエトレン濃度
に対する感応度を示すグラフ、第7図は麻酔深度と電位
差との対応関係を示すグラフである。 10.10’・・・麻酔感応素子、11・・・基板、1
2・・・電極素子、13・・・絶縁層、14・・・麻酔
感応物質、15・・・パイプ、16・・・麻酔ガス気化
器、20・・・パルスジェネレーター、21・・・標準
タイマー回路22・・・キャパシタンス、23・・・抵
抗、24・・・マルチバイブレータ−125・・・タイ
マー回路、26.27・・・増幅器、30・・・麻酔強
度モニター、31・・・積分回路。
Claims (1)
- (1)櫛形電極に、レシチン、ケファリン、ジオクタデ
シル・フォスファイト、亜リン酸トリステアリル、1,
3−ジテトラデシルグリセロ−2−フォスフォコリン、
ジメチルジオクタデシルアンモニウムブロマイド、N−
(β−(トリメチルアンモニオ)エチルオキシベンゾイ
ル)−ジオクタデシル−L−グルタメイド−ブロマイド
、ソジウム1,2−ビス(オクタデシルオキシカーボニ
ル)−エタン−1−サルフォネートからなる群から選ば
れる少なくとも一種の物質をライニングして形成した麻
酔感応素子と、 該麻酔感応素子に連結され、該麻酔感応素子の静電容量
の麻酔ガスに対する変化量に対応した麻酔深度又は麻酔
濃度を表示する電気回路と からなることを特徴とする麻酔強度モニター。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9912288A JPH01268565A (ja) | 1988-04-21 | 1988-04-21 | 麻酔強度モニター |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9912288A JPH01268565A (ja) | 1988-04-21 | 1988-04-21 | 麻酔強度モニター |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01268565A true JPH01268565A (ja) | 1989-10-26 |
Family
ID=14238969
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9912288A Pending JPH01268565A (ja) | 1988-04-21 | 1988-04-21 | 麻酔強度モニター |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH01268565A (ja) |
-
1988
- 1988-04-21 JP JP9912288A patent/JPH01268565A/ja active Pending
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