JPH01269530A - 透明性を有する複合フィルム - Google Patents
透明性を有する複合フィルムInfo
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- JPH01269530A JPH01269530A JP9954788A JP9954788A JPH01269530A JP H01269530 A JPH01269530 A JP H01269530A JP 9954788 A JP9954788 A JP 9954788A JP 9954788 A JP9954788 A JP 9954788A JP H01269530 A JPH01269530 A JP H01269530A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〈産業上の利用分野〉
本発明は、高分子フィルムからなる基材に金属酸化物薄
膜を設けた透明性を有する複合フィルムに関し、特に防
湿性、ガスバリアー性の優れた均衡のとれた透明性を有
する複合フィルムに関する。
膜を設けた透明性を有する複合フィルムに関し、特に防
湿性、ガスバリアー性の優れた均衡のとれた透明性を有
する複合フィルムに関する。
〈従来技術〉
医薬、食品の包装分野において、内容物の保護性を高め
るため、包装に用いる材料には種々の物性が要求され、
これら要求される物性は増々高いものが望まれるように
なってきている。
るため、包装に用いる材料には種々の物性が要求され、
これら要求される物性は増々高いものが望まれるように
なってきている。
特に内容物の保護のうち、内容物の変質、酸化防止の点
から、酸素バリアー性、水蒸気バリアー性は、包装材料
には欠くことのできない事項で、今日これらのバリアー
性を付与することは、−船釣になりつつあり、その観点
から包装材料の設計が行われている。
から、酸素バリアー性、水蒸気バリアー性は、包装材料
には欠くことのできない事項で、今日これらのバリアー
性を付与することは、−船釣になりつつあり、その観点
から包装材料の設計が行われている。
一般的に、酸素バリアー性という面からは、エチレンビ
ニルアルコール共重合体、ポリビニルアルコールのホル
マール化物（ビニロン）、二軸延伸ポリアミド（ＯＮｙ
） 、未延伸ポリアミド（ＣＮｙ）、セロハン等が優れ
ている。
ニルアルコール共重合体、ポリビニルアルコールのホル
マール化物（ビニロン）、二軸延伸ポリアミド（ＯＮｙ
） 、未延伸ポリアミド（ＣＮｙ）、セロハン等が優れ
ている。
また、水蒸気バリアー性という面からは二軸延伸ポリプ
ロピレン（ＯＰＰ） 、未延伸ポリプロピレン（ＯＰＰ
）等が優れている。
ロピレン（ＯＰＰ） 、未延伸ポリプロピレン（ＯＰＰ
）等が優れている。
一方、酸素、水蒸気両バリアー性を備えたものは、ポリ
ビニリデン樹脂、ポリビニリデン−ポリアクリル酸共重
合体樹脂等を各種フィルムにコーティ箔には劣り、上記
側々の材料にそれぞれ長所をもつものの、単体ではあら
ゆる物性を持ち備えることができないので、二種以上の
異種材質を積層することで、複合機能を有する積層体と
して用いられる。
ビニリデン樹脂、ポリビニリデン−ポリアクリル酸共重
合体樹脂等を各種フィルムにコーティ箔には劣り、上記
側々の材料にそれぞれ長所をもつものの、単体ではあら
ゆる物性を持ち備えることができないので、二種以上の
異種材質を積層することで、複合機能を有する積層体と
して用いられる。
アルミ箔は、水蒸気、酸素バリアー両物性が極めて優れ
ており、光沢性の点でデイスプレィ効果もあるが、２０
μ以下では耐ピンホール性の点、また、コスト面からも
最近では、ＰＨＴ 、 ＯＮｙ 、 ０ＰＰＣＰＰ等の
基材にアルミニウム等が真空蒸着されたフィルムが防湿
、酸素バリアー性、遮光性、保香性デイスプレィ効果の
点で活発に用いられている。
ており、光沢性の点でデイスプレィ効果もあるが、２０
μ以下では耐ピンホール性の点、また、コスト面からも
最近では、ＰＨＴ 、 ＯＮｙ 、 ０ＰＰＣＰＰ等の
基材にアルミニウム等が真空蒸着されたフィルムが防湿
、酸素バリアー性、遮光性、保香性デイスプレィ効果の
点で活発に用いられている。
しかしながら、このような金属Ｍ着フィルムは、包装材
料として用いた場合、内容物が確認できない、電子レン
ジで加熱できないという透明性の点また、食品包装等の
レトルト用蒸着フィルムとして用いた場合、基材と蒸着
層との密着性が不十分であった。
料として用いた場合、内容物が確認できない、電子レン
ジで加熱できないという透明性の点また、食品包装等の
レトルト用蒸着フィルムとして用いた場合、基材と蒸着
層との密着性が不十分であった。
また、ＡＩ蒸着層に代わり酸化ケイ素、酸化マグネシウ
ム、酸化アルミニウム１ｍを高分子フィルム等に設けて
、透明性があり、かつ、防湿性、酸素バリアー性を付与
した蒸着フィルムも考案されている。（特公昭５３−１
２９５３公報、特開昭６１−５１３３２公報、特開昭６
２−１７９９３５公報） しかしながら上記酸化ケイ素、酸化マグネシウム、酸化
アルミニウム等の蒸着薄膜は防湿性、酸素バリアー性が
付与できるものの、酸化マグネシウム蒸着フィルムにつ
いては、蒸着層である酸化マグネシウムが経時で除々に
空気中のＣＯ！ と反応し、炭酸マグネシウムになって
しまい、耐水性がなくなり、０８、ＨｍＯバリアー性共
に低下してしまう。
ム、酸化アルミニウム１ｍを高分子フィルム等に設けて
、透明性があり、かつ、防湿性、酸素バリアー性を付与
した蒸着フィルムも考案されている。（特公昭５３−１
２９５３公報、特開昭６１−５１３３２公報、特開昭６
２−１７９９３５公報） しかしながら上記酸化ケイ素、酸化マグネシウム、酸化
アルミニウム等の蒸着薄膜は防湿性、酸素バリアー性が
付与できるものの、酸化マグネシウム蒸着フィルムにつ
いては、蒸着層である酸化マグネシウムが経時で除々に
空気中のＣＯ！ と反応し、炭酸マグネシウムになって
しまい、耐水性がなくなり、０８、ＨｍＯバリアー性共
に低下してしまう。
一方酸化アルミニウム蒸着フィルムは、Ｈ，Ｏバリアー
性が不十分であり、更に酸化ケイ素、蒸着フィルムは、
プラスチックフィルム上に線膨張係数のきわめて異なる
ガラス状薄膜を設けるので薄膜形成時にプラスチックフ
ィルムからなる基材と薄膜界面とに生じた熱応力歪のた
めに得られる蒸着フィルムとしては、該基材と薄膜の必
着性が不十分であり、かつ、６〜１００μｍ程度の基材
上に蒸着した場合は、得られる蒸着フィルムはカールが
ひどく、他の基材とのラミネート、蒸着面に文字絵柄等
の印刷を行なうなどの後加工時の作業性がきわめて悪い
などの大きな問題点があった。
性が不十分であり、更に酸化ケイ素、蒸着フィルムは、
プラスチックフィルム上に線膨張係数のきわめて異なる
ガラス状薄膜を設けるので薄膜形成時にプラスチックフ
ィルムからなる基材と薄膜界面とに生じた熱応力歪のた
めに得られる蒸着フィルムとしては、該基材と薄膜の必
着性が不十分であり、かつ、６〜１００μｍ程度の基材
上に蒸着した場合は、得られる蒸着フィルムはカールが
ひどく、他の基材とのラミネート、蒸着面に文字絵柄等
の印刷を行なうなどの後加工時の作業性がきわめて悪い
などの大きな問題点があった。
〈発明が解決しようとする課題〉
本発明は、上記従来の欠点を解決するものであり、その
目的とすることは、新規なＭ着膜を基材上に設けること
で、得られる蒸着フィルムの、ｌ’Ｊ −ルが極めて少
なく、かつ、防湿性、酸素バリアー性がバランスのとれ
た透明性を有する複合フィルムを提供するものである。
目的とすることは、新規なＭ着膜を基材上に設けること
で、得られる蒸着フィルムの、ｌ’Ｊ −ルが極めて少
なく、かつ、防湿性、酸素バリアー性がバランスのとれ
た透明性を有する複合フィルムを提供するものである。
〈課題を解決するための手段〉
本発明は、真空系内で真空蒸着、スパッタリングイオン
ブレーティング等のＰＶＤ法により高分子フィルムから
なる基材上の少なくとも片面に酸化スズ薄膜層を設ける
ことにより目的を達成することができる。
ブレーティング等のＰＶＤ法により高分子フィルムから
なる基材上の少なくとも片面に酸化スズ薄膜層を設ける
ことにより目的を達成することができる。
以下具体的に述べると本発明で用いる基材のプラスチッ
クフィルムは、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリア
ミド、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフ
タレート、ポリカーボネート、ポリウレタン等のは一種
以上の樹脂から得られる未延伸、任意の延伸倍率、を持
っフィルム、シートであって、表面平滑性、安定性付与
のため添加剤を含んでもかまわないが、真空下でそれら
が表面ヘブリードし、基材と薄膜の密着性が低下してし
まう点から、極力低添加物含有の樹脂から成るフィルム
、シニト好ましく、特に、透明性、耐熱性のあるポリエ
チレンテレフタレートＣＰＥＴ＞、ポリエチレンナフタ
レート（ＰＥＮ）等が好ましい。
クフィルムは、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリア
ミド、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフ
タレート、ポリカーボネート、ポリウレタン等のは一種
以上の樹脂から得られる未延伸、任意の延伸倍率、を持
っフィルム、シートであって、表面平滑性、安定性付与
のため添加剤を含んでもかまわないが、真空下でそれら
が表面ヘブリードし、基材と薄膜の密着性が低下してし
まう点から、極力低添加物含有の樹脂から成るフィルム
、シニト好ましく、特に、透明性、耐熱性のあるポリエ
チレンテレフタレートＣＰＥＴ＞、ポリエチレンナフタ
レート（ＰＥＮ）等が好ましい。
本発明でいう酸化スズ薄膜というのは、真空系内で、抵
抗加熱、高周波融湯加熱、電子ビーム加熱方式を用いた
一般的な真空蒸着法、二極直流スパッタリング（ＤＣ）
、高周波スパッタリング（ＲＦ）等のマグネトロンス
パッタリング、更には、イオンブレーティング、あるい
は、上記手法の応用として、酸素及び酸素を含む不活性
キャリアを真空系内に導入しながら薄膜形成する反応性
蒸着、スパッタリング、イオンブレーティング等いずれ
の方法により得られる薄膜であってもかまわない。
抗加熱、高周波融湯加熱、電子ビーム加熱方式を用いた
一般的な真空蒸着法、二極直流スパッタリング（ＤＣ）
、高周波スパッタリング（ＲＦ）等のマグネトロンス
パッタリング、更には、イオンブレーティング、あるい
は、上記手法の応用として、酸素及び酸素を含む不活性
キャリアを真空系内に導入しながら薄膜形成する反応性
蒸着、スパッタリング、イオンブレーティング等いずれ
の方法により得られる薄膜であってもかまわない。
基材との密着性の点で、イオンブレーティング、スパッ
タリングが優れているが、巻取状で高速加工でき、経済
面で蒸着がもっとも宥和である。また、得られた蒸着フ
ィルムの物性面でも十分満足のいくものができる。
タリングが優れているが、巻取状で高速加工でき、経済
面で蒸着がもっとも宥和である。また、得られた蒸着フ
ィルムの物性面でも十分満足のいくものができる。
上記方法で得られた本発明でいう酸化スズ薄膜というの
は、Ｓｏ、 ＳｎＯ、ＳｎＪ、５ｎｔＯｓ 、５ｎｓＯ
ａ、５ｎｖＯ＋ｓ ・ｎＨ＝ｏ、５ｎＯａ等の混合状態
と考えられ、それぞれの含有比等は薄膜作製する際、真
空系内の真空度、水蒸気分圧、残留酸素分圧、基板温度
及び反応性蒸着、スパッタリング等での導入ガス中の酸
素分圧により異なる。
は、Ｓｏ、 ＳｎＯ、ＳｎＪ、５ｎｔＯｓ 、５ｎｓＯ
ａ、５ｎｖＯ＋ｓ ・ｎＨ＝ｏ、５ｎＯａ等の混合状態
と考えられ、それぞれの含有比等は薄膜作製する際、真
空系内の真空度、水蒸気分圧、残留酸素分圧、基板温度
及び反応性蒸着、スパッタリング等での導入ガス中の酸
素分圧により異なる。
しかし、本発明でいう酸化スズ薄膜というのは、金属Ｓ
ｎが多く 、５ｎＯｘ−ｘ（ｘ−０〜２ ）から成る組
成の混合状態であると考えられる。酸化スズ薄膜の膜厚
としては、３００ Å〜３０００人が適当であり、３０
０Å以下であると基材上均一な薄膜が形成されず、その
結果、酸素、水蒸気バリアー性が不十分であり、３００
０λ以上になると、基材上に熱膨張係数の小さく （４
Ｘ １０−”／烙２０〜１００℃）かつ、熱伝導率が小
さい酸化スズ薄膜が形成されるので、薄膜成時に基材内
部と表面間に温度変化が生じ、界面での熱応力歪のため
に薄膜に亀裂が生じ、同様に、酸素、水蒸気バリアー性
は、急激に低下してしまう、更に大切なことは、本発明
の特徴である薄膜の透明性が著しく低下してしまう。
ｎが多く 、５ｎＯｘ−ｘ（ｘ−０〜２ ）から成る組
成の混合状態であると考えられる。酸化スズ薄膜の膜厚
としては、３００ Å〜３０００人が適当であり、３０
０Å以下であると基材上均一な薄膜が形成されず、その
結果、酸素、水蒸気バリアー性が不十分であり、３００
０λ以上になると、基材上に熱膨張係数の小さく （４
Ｘ １０−”／烙２０〜１００℃）かつ、熱伝導率が小
さい酸化スズ薄膜が形成されるので、薄膜成時に基材内
部と表面間に温度変化が生じ、界面での熱応力歪のため
に薄膜に亀裂が生じ、同様に、酸素、水蒸気バリアー性
は、急激に低下してしまう、更に大切なことは、本発明
の特徴である薄膜の透明性が著しく低下してしまう。
このようなことから、さらに好ましくは酸化スズ薄膜の
膜厚としては、５００ Å〜１０００人が好ましい。
膜厚としては、５００ Å〜１０００人が好ましい。
酸化スズ薄膜中にｔ、ＬＢｅ、Ｆ、Ｎａ＋Ｍｇ＋Ａ１．
Ｓｌ、Ｐ、ＣＩ、Ｋ。
Ｓｌ、Ｐ、ＣＩ、Ｋ。
Ｔ１． Ｃｒ＋Ｍｎ＋Ｐｅ、Ｃｏ、Ｎｌ＋Ｃｕ、Ｚｎ、
Ｂｉ、Ｐｂ等の無機物として含有してていも１０重量％
以下で物性面に影響しない範囲であれば、かまわない、
１０重量％以上含有するととくにイオン化エネルギー
の小さい金属成分により蒸着膜の耐水性が低下し、バリ
アー性が急激に低下してしまう。
Ｂｉ、Ｐｂ等の無機物として含有してていも１０重量％
以下で物性面に影響しない範囲であれば、かまわない、
１０重量％以上含有するととくにイオン化エネルギー
の小さい金属成分により蒸着膜の耐水性が低下し、バリ
アー性が急激に低下してしまう。
また、本発明の蒸着フィルム上にポリエチレン、ポリエ
チレン、ポリプロピレン等のヒートシール性を有する樹
脂を押出しコーティング、あるいは上記樹脂から成るフ
ィルムを蒸着フィルムと積層複合化することで、バリア
ー包装材料として用いる。特に食品等の内容物をレトル
ト法などにより殺菌処理するための、いわゆるレトルト
用包装バリアー材料として用いる場合は、蒸着フィルム
の外層に文字、絵柄等の印刷層を設けたポリエチレンテ
レフタレート、二軸延伸ポリプロピレン、二軸延伸ナイ
ロン等の外層フィルムとなりうるものを少なくとも一層
設け、かつ、該外層フィルムと蒸着フィルムの非蒸着フ
ィルムの非蒸着側を積層し、最内層にシーラントとなり
うるオレフィンを設けて積層化した複合フィルムが好ま
しい。
チレン、ポリプロピレン等のヒートシール性を有する樹
脂を押出しコーティング、あるいは上記樹脂から成るフ
ィルムを蒸着フィルムと積層複合化することで、バリア
ー包装材料として用いる。特に食品等の内容物をレトル
ト法などにより殺菌処理するための、いわゆるレトルト
用包装バリアー材料として用いる場合は、蒸着フィルム
の外層に文字、絵柄等の印刷層を設けたポリエチレンテ
レフタレート、二軸延伸ポリプロピレン、二軸延伸ナイ
ロン等の外層フィルムとなりうるものを少なくとも一層
設け、かつ、該外層フィルムと蒸着フィルムの非蒸着フ
ィルムの非蒸着側を積層し、最内層にシーラントとなり
うるオレフィンを設けて積層化した複合フィルムが好ま
しい。
レトルト条件下は加温加圧により包材にはかなり熱、ス
トレスが加わり少なくとも最外層はそれにより、多少伸
びが生じ、また急冷により前述したように基材と蒸着層
界面に否が生じ、蒸着層の密着性が不十分となり、最悪
の場合は、蒸着層が剥離してしまう。
トレスが加わり少なくとも最外層はそれにより、多少伸
びが生じ、また急冷により前述したように基材と蒸着層
界面に否が生じ、蒸着層の密着性が不十分となり、最悪
の場合は、蒸着層が剥離してしまう。
このようなことから、蒸着層は、極力最内層のオレフィ
ン層側に近いところに設けて、積層化することが望まし
い。
ン層側に近いところに設けて、積層化することが望まし
い。
また、本発明における酸化スズ薄膜を形成する手段は先
に述べたようないずれの方法であってもかまわないが、
高速生産性、経済的に考慮すると酸化スズを蒸着材料と
して、−船釣な抵抗加熱、高周波誘導、電子ビーム等の
加熱手段による真空蒸着、あるいは、スズを蒸着材料し
て特定の０．ガスを含むキャリヤーを導入しながら行な
う反応性蒸着が好適である。
に述べたようないずれの方法であってもかまわないが、
高速生産性、経済的に考慮すると酸化スズを蒸着材料と
して、−船釣な抵抗加熱、高周波誘導、電子ビーム等の
加熱手段による真空蒸着、あるいは、スズを蒸着材料し
て特定の０．ガスを含むキャリヤーを導入しながら行な
う反応性蒸着が好適である。
スパッタリング、イオンブレーティング等は、基材上へ
の蒸着膜が優れていることから、密着性を重視する際は
、これらの方法が利用できる。
の蒸着膜が優れていることから、密着性を重視する際は
、これらの方法が利用できる。
また、基材上に薄膜層を形成する際基材には、特定の処
理は必要ないが、Ｏｔ＋ Ｎ＊＋ Ａｒ＋ Ｈｅ、 Ｎ
ｅ等のガスにより１０−３〜数Ｔｏｒｒ下での放電処理
、いわゆる低温プラズマ処理、基材上の帯電物、はこり
等を不活性ガスによりスパッタリングし、表面をクリー
ングするイオンボンバード処理をすることで、より基材
と密着性のある薄膜層が形成される。
理は必要ないが、Ｏｔ＋ Ｎ＊＋ Ａｒ＋ Ｈｅ、 Ｎ
ｅ等のガスにより１０−３〜数Ｔｏｒｒ下での放電処理
、いわゆる低温プラズマ処理、基材上の帯電物、はこり
等を不活性ガスによりスパッタリングし、表面をクリー
ングするイオンボンバード処理をすることで、より基材
と密着性のある薄膜層が形成される。
更には、基材上に熱硬化型樹脂層を設けることで、基材
と薄膜層との密着性を上げることができる。
と薄膜層との密着性を上げることができる。
く作用〉
本発明は真空系内で蒸着、スパッタリング、イオンブレ
ーティング等のＰＶＤ法により基材上に酸化スズ系薄膜
層から成る３００Å〜３０００人の薄膜層を設けること
で、酸素バリアー、水蒸気バリアー性のバランスのとれ
た、カールのまったくない、後加工時での作業性に優れ
た複合フィルムが得られた。
ーティング等のＰＶＤ法により基材上に酸化スズ系薄膜
層から成る３００Å〜３０００人の薄膜層を設けること
で、酸素バリアー、水蒸気バリアー性のバランスのとれ
た、カールのまったくない、後加工時での作業性に優れ
た複合フィルムが得られた。
〈実施例−１〉
二軸延伸ポリエステルフィルム１２μ（奇人製ＮＳフィ
ルム）を基材として片面に、電子ビーム加熱による巻取
式蒸着スパッタリング装置（ＳＰｌｆ−０２０特型日本
真空技術製）を用いて以下の条件で約５００人の酸化ス
ズＩ膜を連続的に設けた透明性に優れた蒸着フィルムを
得た。
ルム）を基材として片面に、電子ビーム加熱による巻取
式蒸着スパッタリング装置（ＳＰｌｆ−０２０特型日本
真空技術製）を用いて以下の条件で約５００人の酸化ス
ズＩ膜を連続的に設けた透明性に優れた蒸着フィルムを
得た。
（蒸着条件）
蒸着材料 Ｓｎｏｗ Ｃ高純度化学研究所製３Ｎ）真
空度 １．５Ｘ １０−’（Ｔｏｒｒ）蒸着スピー
ド２５〜２６（人／Ｓ）（水晶発振式モこのときのクー
クリングロールの温度は一１０゛Ｃ膜厚測定は、触針式
により測定したところ（ＤｅｃｔａＫｌｌ、日本真空技
術型） フィルム幅方向に対し５００人±２０％であっ
た。
空度 １．５Ｘ １０−’（Ｔｏｒｒ）蒸着スピー
ド２５〜２６（人／Ｓ）（水晶発振式モこのときのクー
クリングロールの温度は一１０゛Ｃ膜厚測定は、触針式
により測定したところ（ＤｅｃｔａＫｌｌ、日本真空技
術型） フィルム幅方向に対し５００人±２０％であっ
た。
ここで得られたフィルムの酸素バリアー性、水蒸気バリ
アー性を測定したところ、それぞれ３．１（ｃｃ／
ｒｒｆ、ｄａｎ、ａｔｅ） １ｎ２５℃、１００％Ｒ
Ｈ，３，０（ｇ／ ｎ１ｄａｙ ）であり、バリアー
性が良好であった。また透明性を評価するために７００
〜４００ｎ−波長の透過率を測定したところ、７００〜
５５０ｎｍでは８０％以上の透明性が認められた。
アー性を測定したところ、それぞれ３．１（ｃｃ／
ｒｒｆ、ｄａｎ、ａｔｅ） １ｎ２５℃、１００％Ｒ
Ｈ，３，０（ｇ／ ｎ１ｄａｙ ）であり、バリアー
性が良好であった。また透明性を評価するために７００
〜４００ｎ−波長の透過率を測定したところ、７００〜
５５０ｎｍでは８０％以上の透明性が認められた。
次にカールの度合をみたところ、まったくカールは生じ
てなく、見た目は未処理基材とまったくかわからなかっ
た。
てなく、見た目は未処理基材とまったくかわからなかっ
た。
更にこの蒸着フィルムの蒸着面に二液硬化型ウレタン系
接着剤を塗工し、未延伸ポリプロピレン６０μ（シッー
アロマーＡＴ、昭和電工製）と以下の条件でラミネート
することで、複合フィルムを得た。
接着剤を塗工し、未延伸ポリプロピレン６０μ（シッー
アロマーＡＴ、昭和電工製）と以下の条件でラミネート
することで、複合フィルムを得た。
同様に酸素バリアー、水蒸気バリアーを測定したところ
いずれも１以下であった。（単位は上述と同じ） （加工条件） ・接着剤 χ） ・版１３５ ｔｔ −７５４！格子 ・ニップ圧力４ｋ
ｇ／ｃｔｒ・ラインスピード２０−／閣ｉｎ ・乾燥温度 ７０ ＠−８０”−８０°Ｃ・活力
巻出し ６〜７ｋｇ／ｃｍオーブン ６
ｋｇ／ｃｍ 巻取り ５ｋｇ／ｃｍ ・インプレッション圧力３．５ ｋｇ／ ＣＩ・ヒート
ロール温度 ７５ ℃ 〈実施例−２〉 蒸着膜厚を１ｏｏｏ人±２０％にするためにラインスピ
ードを変えた以外は実施例−１と同様にして複合フィル
ムを得た。
いずれも１以下であった。（単位は上述と同じ） （加工条件） ・接着剤 χ） ・版１３５ ｔｔ −７５４！格子 ・ニップ圧力４ｋ
ｇ／ｃｔｒ・ラインスピード２０−／閣ｉｎ ・乾燥温度 ７０ ＠−８０”−８０°Ｃ・活力
巻出し ６〜７ｋｇ／ｃｍオーブン ６
ｋｇ／ｃｍ 巻取り ５ｋｇ／ｃｍ ・インプレッション圧力３．５ ｋｇ／ ＣＩ・ヒート
ロール温度 ７５ ℃ 〈実施例−２〉 蒸着膜厚を１ｏｏｏ人±２０％にするためにラインスピ
ードを変えた以外は実施例−１と同様にして複合フィル
ムを得た。
〈実施例−３〉
〈実施例−１〉と同様な装置を用いて（Ｏｘ／Ａｒ）・
１／９から成るキャリアーを一定圧力で導入しながら真
空度が２〜３ Ｘ １０−’Ｔｏｒｒで金属Ｓｎ （４
Ｎ）を４０人／Ｓの蒸着スピードになるようにビームパ
ワーを調整し、実施例−１と同様にテストし、Ｓｎｕｇ
蒸着フィルムを得た。
１／９から成るキャリアーを一定圧力で導入しながら真
空度が２〜３ Ｘ １０−’Ｔｏｒｒで金属Ｓｎ （４
Ｎ）を４０人／Ｓの蒸着スピードになるようにビームパ
ワーを調整し、実施例−１と同様にテストし、Ｓｎｕｇ
蒸着フィルムを得た。
得られた薄膜層測定をしたところ１２００人であった。
〈比較例−１〜３〉
ＳｉＯ、（大阪チタニウム製） 、Ｍｇ０（高純度化学
研究所製９９．９％以上） 、ＡｌｚＯｓ（高純度化学
研究所製、９９．９％以上）をそれぞれ蒸着し、得られ
た蒸着フィルムを同様に評価した。
研究所製９９．９％以上） 、ＡｌｚＯｓ（高純度化学
研究所製、９９．９％以上）をそれぞれ蒸着し、得られ
た蒸着フィルムを同様に評価した。
〈実施例４．５〉
実施例−１と同様の条件で膜厚をそれぞれ３００人、３
０００人にした複合フィルムを得た。
０００人にした複合フィルムを得た。
以上の実施例および比較例の測定結果を表−１に示す。
（以下余白）
く効果〉
透明性を有する高分子フィルムからなる基材上に３００
Å〜３０００人の酸化スズ薄膜層を設けることで、従来
のＳ１０．ＭｇＯ，ＡＩｔｏｚ蒸着フィルムと同等、そ
れ以上の酸素、水素気バリアー性を有し、がっ、透明性
の優れた複合フィルムになり、がっ、二次加工時でのカ
ールによる作業性がきわめて悪いという問題がなく、実
用性の高い、透明バリアー性を有する複合フィルムが得
られた。
Å〜３０００人の酸化スズ薄膜層を設けることで、従来
のＳ１０．ＭｇＯ，ＡＩｔｏｚ蒸着フィルムと同等、そ
れ以上の酸素、水素気バリアー性を有し、がっ、透明性
の優れた複合フィルムになり、がっ、二次加工時でのカ
ールによる作業性がきわめて悪いという問題がなく、実
用性の高い、透明バリアー性を有する複合フィルムが得
られた。
特 許 出 願 人
凸版印刷株式会社
代表者 鈴木和夫
Claims (3)
- （１）透明な高分子フィルムからなる基材の表面に３０
０Å〜３０００Åの酸化スズ薄膜を設けた透明性を有す
る複合フィルム。 - （２）酸化スズ薄膜側に接着剤層を介してヒートシール
性を有する樹脂層を設けた請求項（１）の透明性を有す
る複合フィルム。 - （３）基材の酸化スズ薄膜と反対側に接着層を介して、
ポリエチレンテレフタレートフィルム、二軸延伸ポリプ
ロピレンフィルムまたは二軸延伸ナイロンフィルムのい
ずれかからなる外層フィルムを設けた請求項（２）記載
の殺菌処理に適した透明性を有する複合フィルム。
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| JP (1) | JP2889576B2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0460966A3 (ja) * | 1990-06-08 | 1995-01-04 | Flex Products Inc | |
| WO2006043333A1 (ja) * | 2004-10-22 | 2006-04-27 | Sumitomo Metal Mining Co., Ltd. | ガスバリア性透明樹脂基板、その製造方法、およびガスバリア性透明樹脂基板を用いたフレキシブル表示素子 |
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-
1988
- 1988-04-22 JP JP63099547A patent/JP2889576B2/ja not_active Expired - Fee Related
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Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2889576B2 (ja) | 1999-05-10 |
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