JPH01272027A - ガス放電パネルの製造方法 - Google Patents
ガス放電パネルの製造方法Info
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- JPH01272027A JPH01272027A JP63098985A JP9898588A JPH01272027A JP H01272027 A JPH01272027 A JP H01272027A JP 63098985 A JP63098985 A JP 63098985A JP 9898588 A JP9898588 A JP 9898588A JP H01272027 A JPH01272027 A JP H01272027A
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- Japan
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- photosensitive resin
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- Formation Of Various Coating Films On Cathode Ray Tubes And Lamps (AREA)
- Gas-Filled Discharge Tubes (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔概 要〕
面放電形カラー表示パネルの表示側基板の製造方法に関
し、 多画素で高解像なガス放電表示パネルの表示セルに対応
し、表示側基板内面にセル対応の隔壁及びそれに囲まれ
た島状の螢光体を効率良く作成することを１的とし、 螢光体保持用基板となる他方の基板上に、所定の螢光体
を混合した感光性樹脂からなる島状の凸部を前記複数の
表示セルに対応した位置に形成し、該凸部の周辺の凹部
に結合剤を混合した低融点ガラスを充填して焼成し、前
記島状の凸部が含む感光性樹脂のみを消失せしめて螢光
体を残すと共に、前記低融点ガラスから成る隔壁で罪ま
れだ螢光体を保持する他方の基板を形成する。
し、 多画素で高解像なガス放電表示パネルの表示セルに対応
し、表示側基板内面にセル対応の隔壁及びそれに囲まれ
た島状の螢光体を効率良く作成することを１的とし、 螢光体保持用基板となる他方の基板上に、所定の螢光体
を混合した感光性樹脂からなる島状の凸部を前記複数の
表示セルに対応した位置に形成し、該凸部の周辺の凹部
に結合剤を混合した低融点ガラスを充填して焼成し、前
記島状の凸部が含む感光性樹脂のみを消失せしめて螢光
体を残すと共に、前記低融点ガラスから成る隔壁で罪ま
れだ螢光体を保持する他方の基板を形成する。
本発明は面放電形カラー表示パネルの表示側基板の製造
方法に関する。
方法に関する。
近年の大型高解像度なガス放電螢光表示パネルのように
放電セル空間が小さ（密接して存在し、螢光体への刺激
光線の入射角が大きくなりやすい（垂直から外れ易い）
平面パネルにおいては、隣接セルからの！り激光線の漏
光や放電動作特性の干渉を少なくするため、表示セルを
分離する微少な壁を形成する必要がある。
放電セル空間が小さ（密接して存在し、螢光体への刺激
光線の入射角が大きくなりやすい（垂直から外れ易い）
平面パネルにおいては、隣接セルからの！り激光線の漏
光や放電動作特性の干渉を少なくするため、表示セルを
分離する微少な壁を形成する必要がある。
そこでＲＧＢ （赤、緑、青）三セルで一画素とし、し
かも多画素で高解像度な大型のカラー化面放電パネルの
ごとく、細かい画素の螢光面での仕切壁を作成するには
、そのパターンニングに精度の点からガス放電パネルの
分野においても厚膜印刷に代わってフォトリソグラフィ
の手法を用いるようになって来ている。
かも多画素で高解像度な大型のカラー化面放電パネルの
ごとく、細かい画素の螢光面での仕切壁を作成するには
、そのパターンニングに精度の点からガス放電パネルの
分野においても厚膜印刷に代わってフォトリソグラフィ
の手法を用いるようになって来ている。
上記手法で細かく作られた隔壁内に螢光体付着技術が要
求される。
求される。
ガス放電パネルの一例として、カラー化面放電形ガス放
電パネルについて従来の技術を述べる。
電パネルについて従来の技術を述べる。
本発明を通用する例は破ｔＪＪｉ図で示す第６図の如き
カラー化ガス放電パネルの前面パネルであって、従来か
ら表示の螢光体境界を明確にするため各色毎の螢光体を
非発光誘電体層で囲み、発光をくっきりと見せるための
処置を取っていた。デイスプレィの観察者側に位置する
カバー基板１の内面にｒ厚膜印刷性ｊ等によって放電単
位セルを区切って表すメツシュ状隔壁４を形成した後、
隔壁４の内面の窪みにセル毎の所定色を発光する螢光体
６を印刷やフォトリソグラフィ技術によって形成してい
た。以上のことを詳述するためカラー化面放電形ガス放
電パネルである第４図の各部の名称を定義する。
カラー化ガス放電パネルの前面パネルであって、従来か
ら表示の螢光体境界を明確にするため各色毎の螢光体を
非発光誘電体層で囲み、発光をくっきりと見せるための
処置を取っていた。デイスプレィの観察者側に位置する
カバー基板１の内面にｒ厚膜印刷性ｊ等によって放電単
位セルを区切って表すメツシュ状隔壁４を形成した後、
隔壁４の内面の窪みにセル毎の所定色を発光する螢光体
６を印刷やフォトリソグラフィ技術によって形成してい
た。以上のことを詳述するためカラー化面放電形ガス放
電パネルである第４図の各部の名称を定義する。
１は表示側基板であるカバー基板、２は電極を有する電
極基板、３は誘電体層、４は（メソシュ状）隔壁、５は
螢光体を有する発光部、６は螢光体、７は電極基板上の
放電区域を限定するセパレータ、Ｘ、Ｙは表示電極、Ａ
はアドレス電極、Ｍは放電部位、Ｑは表示電極上の放電
部位の一つの境界である。
極基板、３は誘電体層、４は（メソシュ状）隔壁、５は
螢光体を有する発光部、６は螢光体、７は電極基板上の
放電区域を限定するセパレータ、Ｘ、Ｙは表示電極、Ａ
はアドレス電極、Ｍは放電部位、Ｑは表示電極上の放電
部位の一つの境界である。
この電極基板２上に表示電極Ｘ、Ｙが形成されており、
該電極上に誘電体層３を介して、拡幅された表示電極Ｘ
、Ｙの部位Ｍにおいて放電セルを形成し、該拡幅された
表示電極が元どおりの細い幅に戻る境界部Ｑにおいて表
示電極と交差する方向に、放電セルを隔離するべく土手
状のセパレータ７が誘電体隔壁で形成されると共に、そ
のセパレータフの拡幅されたセル電極により近い傾斜面
に金属材料からなるアドレス電極Ａを蒸着などで作成し
ている。このようにして出来上がった基板２のセパレー
タ７と、カバー基板ｌ上の隔壁４の構成壁の一つとを突
き当てるように両基板を合わせて組立てると、弧状を描
く放電部分Ｍの頂上付近に隔壁４の囲う螢光体からなる
発光部５が位置するようになり、放電部分Ｍで発生した
紫外線によって、当該セルの螢光体６を刺激・して所望
の発光色で放電を表示することができる。螢光体６には
ＲＧＢ三原色の螢光体が発光部５毎に規則的に配列して
あり、その直下のセルの放電の有る無しの状態によって
表示したい情報をカラー表示することができる。このよ
うなパネルのカバー基板１上の隔ｑ４と螢光体６の！！
ｌ！遣方法遣方−て本発明の技術が通用される。
該電極上に誘電体層３を介して、拡幅された表示電極Ｘ
、Ｙの部位Ｍにおいて放電セルを形成し、該拡幅された
表示電極が元どおりの細い幅に戻る境界部Ｑにおいて表
示電極と交差する方向に、放電セルを隔離するべく土手
状のセパレータ７が誘電体隔壁で形成されると共に、そ
のセパレータフの拡幅されたセル電極により近い傾斜面
に金属材料からなるアドレス電極Ａを蒸着などで作成し
ている。このようにして出来上がった基板２のセパレー
タ７と、カバー基板ｌ上の隔壁４の構成壁の一つとを突
き当てるように両基板を合わせて組立てると、弧状を描
く放電部分Ｍの頂上付近に隔壁４の囲う螢光体からなる
発光部５が位置するようになり、放電部分Ｍで発生した
紫外線によって、当該セルの螢光体６を刺激・して所望
の発光色で放電を表示することができる。螢光体６には
ＲＧＢ三原色の螢光体が発光部５毎に規則的に配列して
あり、その直下のセルの放電の有る無しの状態によって
表示したい情報をカラー表示することができる。このよ
うなパネルのカバー基板１上の隔ｑ４と螢光体６の！！
ｌ！遣方法遣方−て本発明の技術が通用される。
これに関連した従来の技術で近頃使用されてきているフ
ォトリソグラフィの方法でガス放電パネルの隔壁を作る
方法を述べると、予め作ろうとしている基板−面に隔壁
材料を隔壁の最大高さたとえば９０ミクロン厚さまで厚
膜印刷で付着させた後焼成しておき、その上をセル聞の
隅壁パターンを残すべ（、枠状の耐エツチングマスクを
かけた上でエツチング液を加えて所望の隔壁を残してゆ
く。この隔壁間の９０ミクロンの深さの富みに例えばマ
スクを経由した印刷で螢光体を付着させ、焼成して点状
の螢光体集合面としていた。これが従来の良く知られて
いる方法である。
ォトリソグラフィの方法でガス放電パネルの隔壁を作る
方法を述べると、予め作ろうとしている基板−面に隔壁
材料を隔壁の最大高さたとえば９０ミクロン厚さまで厚
膜印刷で付着させた後焼成しておき、その上をセル聞の
隅壁パターンを残すべ（、枠状の耐エツチングマスクを
かけた上でエツチング液を加えて所望の隔壁を残してゆ
く。この隔壁間の９０ミクロンの深さの富みに例えばマ
スクを経由した印刷で螢光体を付着させ、焼成して点状
の螢光体集合面としていた。これが従来の良く知られて
いる方法である。
ところが上記従来の方法では先に作った隔壁４が螢光体
付着工程の障害となる場合が多い。即ち螢光体部分の形
成に当たってはこの隔壁を形成した後、ｊ￥膜印刷技術
或いはフォトリソグラフィの技術で行われるが、厚膜印
刷技術の場合、隔壁の高さが高くなるほどその凹部に螢
光体を固着させ、塗布して行くことが困難となる。また
フォトリソグラフィの方法では付着に要する時間等のプ
ロセスが長くなるという問題があった。
付着工程の障害となる場合が多い。即ち螢光体部分の形
成に当たってはこの隔壁を形成した後、ｊ￥膜印刷技術
或いはフォトリソグラフィの技術で行われるが、厚膜印
刷技術の場合、隔壁の高さが高くなるほどその凹部に螢
光体を固着させ、塗布して行くことが困難となる。また
フォトリソグラフィの方法では付着に要する時間等のプ
ロセスが長くなるという問題があった。
そこで本発明の目的は多画素で高解像なガス放電表示パ
ネルの表示セルに対応し、表示側基板内面にセル対応の
隔壁及びそれに囲まれた島状の螢光体を効率よく作成す
る手段を提倶するにある。
ネルの表示セルに対応し、表示側基板内面にセル対応の
隔壁及びそれに囲まれた島状の螢光体を効率よく作成す
る手段を提倶するにある。
本発明によれば、上記目的は複数の表示セルを規定する
電極を配列した電極支持用の一方の基板と、内面に前記
表示セル対応の螢光体層を形成した螢光体支持用の他方
の基板とを所定のガス封入間隙を介して対向させてなる
ガス放電パネルにおいて、前記螢光体保持用基板となる
他方の基板上に、所定の螢光体を混合した感光性樹脂か
らなる島状の凸部を前記複数の表示セルに対応した位置
に形成し、該凸部のｆＪ辺の四部に結合剤を混合した低
融点ガラスを充填して焼成し、前記島状の凸部が含む感
光性樹脂のみを消失せしめて螢光体を残すと共に、前記
低融点ガラスから成る隔壁で囲まれた螢光体を保持する
他方の基板を形成することで達成される。
電極を配列した電極支持用の一方の基板と、内面に前記
表示セル対応の螢光体層を形成した螢光体支持用の他方
の基板とを所定のガス封入間隙を介して対向させてなる
ガス放電パネルにおいて、前記螢光体保持用基板となる
他方の基板上に、所定の螢光体を混合した感光性樹脂か
らなる島状の凸部を前記複数の表示セルに対応した位置
に形成し、該凸部のｆＪ辺の四部に結合剤を混合した低
融点ガラスを充填して焼成し、前記島状の凸部が含む感
光性樹脂のみを消失せしめて螢光体を残すと共に、前記
低融点ガラスから成る隔壁で囲まれた螢光体を保持する
他方の基板を形成することで達成される。
正確な目的形状に形成された所定の螢光体を含む感光性
樹脂からなる島状の凸部を鋳物用語で言う雌形として、
該周囲の隙間に低融点ガラスとその結合剤との混合を詰
めて鋳物を作るように形成するので、隔壁としていかよ
うな形状でも正確な位置にセル構造を実現させることが
出来るだけでなく、中子にあたる感光性樹脂部分は核部
を取り巻く低融点ガラスを焼成中に消失し、これに含ま
せてあった螢光体のみが前記消失跡の凹部に残留する。
樹脂からなる島状の凸部を鋳物用語で言う雌形として、
該周囲の隙間に低融点ガラスとその結合剤との混合を詰
めて鋳物を作るように形成するので、隔壁としていかよ
うな形状でも正確な位置にセル構造を実現させることが
出来るだけでなく、中子にあたる感光性樹脂部分は核部
を取り巻く低融点ガラスを焼成中に消失し、これに含ま
せてあった螢光体のみが前記消失跡の凹部に残留する。
低融点ガラスは含ませてあった結合剤の作用により塑性
形状を保ったまま、徐々に表面から熔融し、変形以前に
停止した昇温によって完全に原型を保つことが出来る。
形状を保ったまま、徐々に表面から熔融し、変形以前に
停止した昇温によって完全に原型を保つことが出来る。
以下図面を参照して本発明の実施例を詳細に説明する。
第１図から第３図に至る図は本発明の一例としてカラー
化面放電形ガス放電パネルの三原色の螢光体を順次配置
した表示側基板内面の発光部形成状況を順に示したもの
である。
化面放電形ガス放電パネルの三原色の螢光体を順次配置
した表示側基板内面の発光部形成状況を順に示したもの
である。
図においてｌは表示側基板、２は所定の螢光体を混合し
た感光性樹脂からなる島状の凸部、４′は隔壁となる低
融点ガラスを結合剤で仮に固めた誘電体層、４は前記低
融点ガラス４゛を焼結した隔壁である。
た感光性樹脂からなる島状の凸部、４′は隔壁となる低
融点ガラスを結合剤で仮に固めた誘電体層、４は前記低
融点ガラス４゛を焼結した隔壁である。
さてガラス基板を用いた表示側基板１の上に所定の螢光
体を混合した感光性有機樹脂による島状の凸部をセル位
置に対応させて第１図のごとくフォトリソグラフィの技
術で形成する。
体を混合した感光性有機樹脂による島状の凸部をセル位
置に対応させて第１図のごとくフォトリソグラフィの技
術で形成する。
すなわちフルカラー表示のパネルでは、赤、緑。
青の螢光体層に三回のフォトリソグラフィのプロセス、
表示部分全面に螢光体を混合した感光性樹脂を所定の厚
さに印刷し、マスクをかけて所定位置のみ残るようにエ
ツチングを行うことを三色について順次操り返し、第１
図のごとく螢光体層に島状の螢光体が並ぶように実行す
る。これの−殴的な大きさは例えばガラス面に平面的に
は１００〜６００ミクロン角、高さ数ミクロン−２００
ミクロン程度の大きさでパネルによって異なる。
表示部分全面に螢光体を混合した感光性樹脂を所定の厚
さに印刷し、マスクをかけて所定位置のみ残るようにエ
ツチングを行うことを三色について順次操り返し、第１
図のごとく螢光体層に島状の螢光体が並ぶように実行す
る。これの−殴的な大きさは例えばガラス面に平面的に
は１００〜６００ミクロン角、高さ数ミクロン−２００
ミクロン程度の大きさでパネルによって異なる。
つぎに細かく粉砕した低融点ガラスの粉末にシリカを含
貧した結合剤を十数％程度混合し、すでに作成されてい
る島状の凸部の頂部すれすれに前記作成した低融点ガラ
ス材料を隙間にすり込む。
貧した結合剤を十数％程度混合し、すでに作成されてい
る島状の凸部の頂部すれすれに前記作成した低融点ガラ
ス材料を隙間にすり込む。
この状態を示したものが第２図である。
この状態で乾燥し固化させた後、低融点ガラスの溶融温
度〜５００〜６００度で上げすぎぬようにして焼成し、
冷却すると、低融点ガラスはほぼそのままの形状で溶融
し緻密化すると共に、樹脂部分は酸化または蒸発して消
失してしまう、このように樹脂部分が消失した後は結合
剤を付加した誘電体層が持つ塑性力のため、溶融前の凸
部を囲む形をほぼ忠実に再現し、第３図に示すように隔
壁が完成すると同時に該隔壁に囲まれた凹部には螢光体
の集合もまた完成する。隔壁内の正確な位置に螢光体が
隔壁と同時に形成されることになる。
度〜５００〜６００度で上げすぎぬようにして焼成し、
冷却すると、低融点ガラスはほぼそのままの形状で溶融
し緻密化すると共に、樹脂部分は酸化または蒸発して消
失してしまう、このように樹脂部分が消失した後は結合
剤を付加した誘電体層が持つ塑性力のため、溶融前の凸
部を囲む形をほぼ忠実に再現し、第３図に示すように隔
壁が完成すると同時に該隔壁に囲まれた凹部には螢光体
の集合もまた完成する。隔壁内の正確な位置に螢光体が
隔壁と同時に形成されることになる。
なお、本発明は螢光体保持基板側の製造方法に特徴を有
するものであるので、電極支持基板側の構造は第４図に
例示したようなＡＣ駆動型の面放電パネルに限られるこ
となく、ＤＣ駆動型の電極構造を持つパネルに対しても
同様に通用出来るものである。
するものであるので、電極支持基板側の構造は第４図に
例示したようなＡＣ駆動型の面放電パネルに限られるこ
となく、ＤＣ駆動型の電極構造を持つパネルに対しても
同様に通用出来るものである。
本発明によると、螢光体を含む感光性樹脂からなる島状
の凸部を形成することによりフォトリソグラフィの技術
の正確さでセル対応の放電空間を形成できると同時に、
隔壁の高さに影響されることなく隔壁内に正確に納まっ
た螢光体集合が得られ、にじみ等の無い高品質の表示が
得られる。
の凸部を形成することによりフォトリソグラフィの技術
の正確さでセル対応の放電空間を形成できると同時に、
隔壁の高さに影響されることなく隔壁内に正確に納まっ
た螢光体集合が得られ、にじみ等の無い高品質の表示が
得られる。
また、前記隔壁の元となる誘電体層の厚さは一回の印刷
では実現不可能となる厚い厚さが必要であるが、本発明
の方法では細い隔壁パターンの状態で印刷するのでは無
く、「連続した平面」という単純さのため印刷技術の中
でも十分厚い膜厚を利用出来るから隔壁の高さも実現し
やすい。以上本発明の方法はフォトリソグラフィの正確
さ、厚膜技術の能率の良さを合わせ持っているのでその
効果は大きい。
では実現不可能となる厚い厚さが必要であるが、本発明
の方法では細い隔壁パターンの状態で印刷するのでは無
く、「連続した平面」という単純さのため印刷技術の中
でも十分厚い膜厚を利用出来るから隔壁の高さも実現し
やすい。以上本発明の方法はフォトリソグラフィの正確
さ、厚膜技術の能率の良さを合わせ持っているのでその
効果は大きい。
第１図は本発明の方法により螢光体及び感光性樹脂から
なるセル対応の凸部を付加した基板を示す図、 第２図は本発明の前回凸部間を低融点ガラス材料と結合
剤で埋めた状態を示す図、 第３図は本発明の前回低融点ガラスを焼結し感光性樹脂
を消失せしめると同時に、螢光体を凹部に残留せしめた
状態を示す図、 第４図は本発明を適用する面放電カラー表示パネルの破
断図である。 図において、 １は螢光体保持側の基板、 ２は螢光体を混合した感光性樹脂からなる島状の凸部、 ４°は島状の凸部の境界の凹部を埋める低融点ガラスか
らなる隔壁材料、 ４は前記隔壁材料４”を焼結せしめた低融点ガラスから
なる隔壁、 ５は前記隔壁に囲まれた発光部、 ６は螢光体である。
なるセル対応の凸部を付加した基板を示す図、 第２図は本発明の前回凸部間を低融点ガラス材料と結合
剤で埋めた状態を示す図、 第３図は本発明の前回低融点ガラスを焼結し感光性樹脂
を消失せしめると同時に、螢光体を凹部に残留せしめた
状態を示す図、 第４図は本発明を適用する面放電カラー表示パネルの破
断図である。 図において、 １は螢光体保持側の基板、 ２は螢光体を混合した感光性樹脂からなる島状の凸部、 ４°は島状の凸部の境界の凹部を埋める低融点ガラスか
らなる隔壁材料、 ４は前記隔壁材料４”を焼結せしめた低融点ガラスから
なる隔壁、 ５は前記隔壁に囲まれた発光部、 ６は螢光体である。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 複数の表示セルを規定する電極を配列した電極支持用の
一方の基板と、内面に前記表示セル対応の島状の螢光体
を形成した螢光体保持用の他方の基板とを、所定のガス
封入間隙を介して対向させてなるガス放電パネルにおい
て、 前記螢光体保持用基板となる他方の基板（１）上に、所
定の螢光体を含めた感光性樹脂からなる島状の凸部（２
）を前記複数の表示セルに対応した位置に形成し、該凸
部（２）の周辺の凹部に結合剤を混合した低融点ガラス
（４′）を充填し、しかる後焼成工程を加えて前記島状
の凸部（２）が含む感光性樹脂のみを消失せしめて螢光
体（６）を残すと共に、前記低融点ガラス（４′）から
成る隔壁（４）で囲まれた螢光体（６）を保持する他方
の基板（１）を形成することを特徴とするガス放電パネ
ルの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63098985A JP2629809B2 (ja) | 1988-04-20 | 1988-04-20 | ガス放電パネルの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63098985A JP2629809B2 (ja) | 1988-04-20 | 1988-04-20 | ガス放電パネルの製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01272027A true JPH01272027A (ja) | 1989-10-31 |
| JP2629809B2 JP2629809B2 (ja) | 1997-07-16 |
Family
ID=14234295
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63098985A Expired - Lifetime JP2629809B2 (ja) | 1988-04-20 | 1988-04-20 | ガス放電パネルの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2629809B2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0785565A1 (en) * | 1996-01-22 | 1997-07-23 | Hitachi Chemical Co., Ltd. | Phosphor pattern, processes for preparing the same and photosensitive element to be used for the same |
| EP0887833A3 (en) * | 1997-05-22 | 2000-02-02 | Hitachi Chemical Co., Ltd. | Process for preparing phosphor pattern for field emission panel, photosensitive element for field emission display panel, phosphor pattern for field emission display panel and field emission display panel |
-
1988
- 1988-04-20 JP JP63098985A patent/JP2629809B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0785565A1 (en) * | 1996-01-22 | 1997-07-23 | Hitachi Chemical Co., Ltd. | Phosphor pattern, processes for preparing the same and photosensitive element to be used for the same |
| EP1387384A1 (en) * | 1996-01-22 | 2004-02-04 | Hitachi Chemical Co., Ltd. | Phosphor pattern, processes for preparing the same and photosensitive element to be used for the same |
| EP0887833A3 (en) * | 1997-05-22 | 2000-02-02 | Hitachi Chemical Co., Ltd. | Process for preparing phosphor pattern for field emission panel, photosensitive element for field emission display panel, phosphor pattern for field emission display panel and field emission display panel |
| KR100655945B1 (ko) * | 1997-05-22 | 2007-12-24 | 히따찌 케미칼 컴퍼니, 리미티드 | 전계방출디스플레이패널용형광체패턴의제조방법,전계방출디스플레이패널용감광성소자,전계방출디스플레이패널용형광체패턴및전계방출디스플레이패널 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2629809B2 (ja) | 1997-07-16 |
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