JPH01274280A - パターン検査方法及び装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 この発明は、マスク、レチクル、プリント基板等に形成
されたパターンの欠陥の有無を検査するパターン欠陥検
査方法及び装置に関する。

〔従来の技術〕

従来のパターン検査方法としては、例えば特開昭６０−
２１５２３号公報（第１従来例）、特開昭５９−１２６
８３０号公報（第２従来例）に記載されているものがあ
る。

第１従来例は、フォトマスクの欠陥検査方法であって、
マスク上に位置合わせマークとして少なくとも３個のマ
ークを設け、これらのマークの各中心位置をマスクを光
照射部によって一方向に走査することにより得られる被
検査パターンに対応する走査信号を検出する信号検出部
により検出し、これらの中心位置の各座標から前記マス
クのＸ方向伸縮量、Ｙ方向伸縮量及び直交度のずれを求
め、これらに基づいて基準信号発生部（マスクパターン
）の比較用走査信号を発生する際の位置↑ｎ報を補正す
ることにより、被検査パターンとマスクパターンとの位
置ずれによる誤判断を防止するようにしている。

第２の従来例は、走査に使用する一次元ラインセンサを
被検体中の走査領域に対して一定角度傾けた状態で走査
を行い、画像に対するライン方向のずれを防止するよう
にしている。

〔発明が解決しようとする課題〕

しかしながら、上記第１従来例にあっては、被検査部材
に被検査パターンとは別個に少なくとも３つの位置合わ
せマークを設ける必要があると共に、これらの位置合わ
せパターンを読取って中心位置座標を検出する必要があ
り、パターンの位置合わせマーク読取手段がペット必要
など装置が複雑大型化するという未解決の課題があった
。

また、上記第２従来例にあっては、１次元ラインセンサ
をＸ方向に走査しながら、被検査パターンをＹ方向に連
続的に移動させる場合の読取パターンの補正には有効で
あるが、被検査パターンとマスクパターンとのずれを補
正するためには、別途被検査パターンとマスクパターン
とのずれ角を検出しなければ、１次元ラインセンサの傾
きを制御することができないという未解決の課題があっ
た。

そこで、この発明は、上記従来例の未解決の課題に着目
してなされたものであり、特別な位置合わせマークを設
けることなく、被検査パターンに角度ずれを生じている
場合であっても、その状態で被検査パターンをＸ方向及
びＹ方向に走査しながら読取って、画像処理時に角度誤
差を補正することによって上記従来例の課題を解決する
ことが可能なパターン検査方法及び装置を提供すること
を目的としている。

〔課題を解決するための手段］ 上記課題を解決するために、請求項（１）の発明は、検
査対象パターンを形成した被検査物と撮像装置とを相対
的に１次元又は２次元に走査して検査パターンデータを
得、該検査パターンデータと予め記憶したマスタパター
ンデータとを比較して検査パターンの欠陥を検査するよ
うにしたパターン検査方法において、前記撮像装置から
の１走査ライン毎の検査パターンデータを複数の画素群
に分割して記憶し、該記憶された検査パターンデータと
前記マスタパターンデータとを比較して検査パターンの
傾きを算出し、該検査パターンの傾きに応じて前記検査
パターン及びマスタパターンデータの何れかの読出順を
変更して両パターンデータ間を整合させてから両者を比
較するようにしたことを特徴としている。ここで、検査
パターンデータ及びマスタパターンデータとの排他的論
理和をとることにより行うことが好ましい。

さらに、請求項（３）の発明は、検査対象パターンを形
成した被検査物と撮像装置とを相対的に１次元又は２次
元に走査して検査パターンデータを得、該検査パターン
データと予め記憶したマスタパターンデータとを比較し
て検査パターンの欠陥を検査するようにしたパターン検
査装置において、前記撮像装置からの１走査ライン毎の
検査パターンデータを複数の画素群に分割して記憶する
分割記憶手段と、該分割記憶手段に記憶された検査パタ
ーンデータと前記マスタパターンデータとを比較して検
査パターンの傾きを検出する傾き検出手段と、該傾き検
出手段の検出結果に基づいて前記検査パターン及びマス
タパターンデータの何れかの読出順を変更して両パター
ンデータ間を整合させるデータ整合手段と、該データ整
合手段で整合された検査パターンデータ及びマスタパタ
ーンデータをを比較する比較手段とを備えたことを特徴
としている。ここで、比較手段は、検査パターンデータ
及びマスタパターンデータの排他的論理和をとって欠陥
部を抽出すること構成とすることが好ましい。

〔作用〕

この発明においては、被検査物を走査して得られるｌ走
査分の検査パターンデータを複数の画素群に分割して記
憶し、その分割記憶された検査パターンデータとマスタ
パターンデータとを比較することにより、両者間の傾き
誤差を検出し、この傾き誤差に応じて検査パターンデー
タ及びマスタパターンデータの何れかのデータ読出順を
変更することにより、両者間のパターンデータの整合性
を確保し、この整合をとった状態で両パターンデータを
比較することにより、特別な位置合わせマークや、その
読取手段を設けることなく傾き誤差を補正した正確なパ
ターン検査を行うことができる。

〔実施例］ 以下、この発明の実施例を図面に基づいて説明する。

第１図はこの発明の一実施例を示すブロック図である。

図中、１はマスク、レチクル、プリント基板等の表面に
所定の検査パターンＰを形成した被検査物２を載置して
少なくともＸＹ力方向移動可能なＲ置台であって、この
載置台１がＸ軸駆動モータ１ａ及びＹ軸駆動モータ１ｂ
によってＸＹ力方向移動される。

載置台１の上面側には、被検査物２と対向する位置に撮
像装置としてのＣＣＤカメラ３が固定配置され、このＣ
ＣＤカメラ３で被検査物２の検査パターンＰを撮像して
その画像データを出力する。

そして、′Ｒ載置台及びＣＣＤカメラ３が例えばコンピ
ュータを含んで構成される制御装置４によって制御され
ると共に、ＣＣＤカメラ３の画像データが制御装置４に
よって処理される。

制御装置４には、Ｘ軸モータ１ａ及びＹ軸モータ１ｂを
制御するモータコントローラ７、ＣＣＤカメラ３を制御
するカメラコントローラ８、ＣＣＤカメラ３からの画像
信号の１走査ラインを例えば８つのシフトレジスタＲ１
〜Ｒ６に分割して記憶する複数例えば４つの直列に接続
されたシフトレジスタ群９ａ〜９ｄと、画像メモリとし
ての４つのビットマツプメモリ１０ａ、１０ｂ、１０ｃ
及び１０ｄ、ｉｆｆｆｆ−プ装置１）、磁気ディスク装
置１２、ＣＲＴデイスプレィ１３、プリンタ１４並びに
欠陥検査回路２０が接続されている。磁気テープ装置１
）には、マスク等の被検査物２に形成する検査パターン
Ｐの設計を行う場合に使用するＣＡＤ装置からのフォト
プロッタ又はパターンジェネレータへの入力用データ（
以下、ＣＡＤデータと称す）を記録した磁気テープが装
着される。ここで、ＣＡＤデータは、第２図に示すよう
に、マスクパターンＭを形成する場合に必要なデータで
あり、数値制御装置等と同様のフォーマットを有し、例
えばＸ軸方向に走査する所定形状のアパーチャーＡ１及
びＹ軸方向に走査するアパーチャーＡ２の選択データＤ
ＩＯ，Ｄｌｌ、アパーチャーＡ１及びＡ２の移動座標デ
ータ（ＸＸｉ、　　Ｙ７、）及びシャッタの開データＤ
０１．閉データＤ０２等で構成され、例えばマスクパタ
ーンＭの上半部を走査するには、’　Ｇ’ＯＯＸ　Ｉｌ
ｌ　Ｙ□Ｄｏ　２Ｄ１０」としてシャッターを閉状態で
アパーチャーＡ、を初期位置（Ｘ＋、Ｙ＋）に移動させ
、次いでｒ　Ｇ　０１　ＸｘｚＹｙ□ＤＯＩＪとしてシ
ャッターを開状態としてからアパーチャーＡ１を移動終
了位置（ｘｚ、ｙｚ）に移動させることにより行う。

制御装置４は、予め内蔵するＲＯＭに記す、なされたプ
ログラムに従って所定の処理を実行し、まずＣＣＤカメ
ラ３から出力される４走査ライン分の画像データを順次
バッファメモリとしてのシフトレジスタ群９ａ〜９ｄに
格納し、格納された画像データから予め設定した所定パ
ターンの左右方向のエツジ座標（Ｘ　ｐ　＋　、　Ｙ　
ｐ　Ｉ）及び（Ｘ　Ｆ　ｔ　、　Ｙ　Ｐ　Ｚ　）を算出
し、これらエツジ座標（Ｘ　ｐ　＋　、　　Ｙ　Ｐ　Ｉ
　）及び（ＸＰ２．　　Ｙｒｔ）　　とマスクパターン
Ｍの同一パターンのエツジ座標（Ｘ　Ｍｒ　、Ｙ　、４
Ｉ）及び（ＸＭ２．　ＹＭＺ）とからマスクパターンＭ
に対する検査パターンＰの傾きｔａｎθを算出し、この
傾きｔａｎθからシフトレジスタ群９ａ〜９ｄの各シフ
トレジスタＲ１〜Ｒ８に対する続出アドレス順序を決定
することにより座標変換し、この続出アドレス順序にし
たがって、シフトレジスタ群９ａ〜９ｄに格納されてい
る画像データを読出し、これをビ・ノドマツプメモリ１
０ａに検査パターン読取データとして格納する。なお、
検査パターンＰの傾きによるＣＣＤカメラ３のライン方
向のずれに対しては予め傾きに応じて設定した所定量だ
けスキャン時にテーブルをライン方向に移動させること
により補正する。

また、制御装置４は、ＣＡＤデータからマスクパターン
Ｍの外形を示す座標データ（エツジのＸ。

ｙ座標を数値データ）を算出してこれをマスタパターン
データとして磁気ディスク装置１２に記憶すると共に、
この磁気ディスク装置１２に記憶されているマスタパタ
ーンデータからその輪郭を表す輪郭画像データを形成し
てこれをビットマツプメモリ１０ｂに記憶し、且つ同様
の方法でビットマツプメモリ１０ａに格納されている検
査パターンデータの輪郭画像データを形成してこれをビ
ットマツプメモリＩＯＣに記憶し、両メモリ１０ｂ及び
１０ｃに記憶された輪郭画像データを欠陥検査装置２０
に出力して両者を比較することにより、被検査物２に形
成されたパターンの欠陥の有無を検査し、欠陥があると
きには、その欠陥部のデータをビットマツプメモリ１０
ｄに記憶し、この記憶データを必要に応じてＣＲＴデイ
スプレィ１４及びプリンタ１５に出力する。

欠陥検査回路２０は、第３図に示すように、セレクト入
力端子Ｓに供給される選択入力信号が論理値“０°“で
あるときに一方の入力端子■１に供給される入力信号を
選択し、論理値“１′”であるときに他方の入力端子Ｉ
２に供給される入力信号を選択する２つのセレクター２
０Ａ及び２０Ｂと、その選択出力が夫々入力側に供給さ
れる排他的論理和回路２１とを備えている。セレクター
２０Ａの一方の入力端子１）には後述するマスクパター
ンＭに対応する検査ウィンドウＷＨＯ中心画素Ｗ９、の
読出信号が直並列変換回路を有するＩ１０インタフェー
ス２２を介して、他方の入力端子■２には後述する検査
ウィンドウＷ１４の各画素ＷＭＩ〜ＷＭ、の読出信号が
前記Ｉ１０インタフェース２２及びＯＲ回路２３を介し
て、セレクト端子Ｓには後述する検査パターンＰに対応
する検査ウィンドウＷ、の中心画素ｗｐｓが前記Ｉ１０
インタフェース２２を介して夫々入力され、且つセレク
ター２０Ｂの一方の入力端子■１には後述する検査パタ
ーンＰに対応する検査ウィンドウＷＰの中心画素ＷＰ５
の続出信号がＩ１０インタフェース２２を介して、他方
の入力端子■２には後述する検査ウィンドウＷＰの各画
素Ｗ、〜ＷＰ９の読出信号がＩ１０インタフェース２２
及びＯＲ回路２４を介して、セレクト端子Ｓにはマスク
パターンＭに対応する検査ウィンドウＷ、の中心画素Ｗ
、４．がＩ１０インタフェース２２を介して夫々入力さ
れている。また、排他的論理和回路２１の出力信号が欠
陥検査信号としてＩ１０インタフェース２２を介して制
御装置４に出力される。

次に、上記実施例の動作を制御装置４の処理手順を示す
第４図〜第８図のフローチャートを伴って説明する。

すなわち、第４図に示すように、ステップ■で磁気テー
プ装置１）を駆動してマスクパターンＭのＣＡＤデータ
を読込み、その輪郭データをビットマツプメモリ１０ｂ
に書込むマスクパターン輪郭データ登録処理を実行する
。

次いでステップ■に移行して、ＣＣＤカメラ３からの画
像データを読込み、これに基づいて検査パターンがマス
クパターンに対して傾斜しているときにその傾斜を補正
してビットマツプメモリ１０ａに登録する検査パターン
座標変換処理を実行する。

次いで、ステップ■に移行して、ピントマツプメモリ１
０ａに格納されている検査パターンの輪郭データを形成
してこれをビットマツプメモリ１０Ｃに登録する検査パ
ターン輪郭データ登録処理を実行する。

次いで、ステップ■に移行して、ビットマツプメモリ１
０ｂ及び１０ｃに格納されているマスクパターン及び検
査パターンの輪郭データを読出して両者を比較判断して
欠陥データを形成し、これをビットマツプメモリ１０ｄ
に登録する欠陥検査処理を実行する。

次いで、ステップ■に移行して、検査を終了するか否か
を判定し、検査を継続する場合には、ステップ■に移行
して次の検査を開始する検査開始指令が入力されたか否
かを判定し、検査開始指令が入力されていないときには
、そのまま待機し、検査開始指令が入力されたときには
、前記ステップ■に戻り、検査を終了する場合には処理
を終了する。

そして、ステップ■のマスタパターン輪郭データ登録処
理は、第５図に示すように、マスク、レチクル、プリン
ト基板等のパターンを設計する際に使用するＣＡＤデー
タを記録した磁気テープを磁気テープ装置１）に装着し
、この状態でステップ■ａで磁気テープ装置１）を駆動
してＣＡＤデータを読込み、次いでステップ■ｂに移行
してアパーチャーの種別、始点座標及び終点座標からマ
スクパターンＭの外形の始点座標（Ｘ＋、）’＋）及び
終点座標（ｘｚ、ｙｚ）を算出する。すなわち、アパー
チャーの種別に応じてアパーチャーの大きさがわかり、
始点座標（ｘ＋、ｙ＋）及び終点座標（Ｘ２゜ｙｚ）か
らマスクパターンＭの延長方向がわかるので、例えばマ
スクパターンＭが簡単のため第２図に示す逆り字状のパ
ターンであるものとすると、アパーチャーＡ、の始点座
標（ｘ＋、ｙ＋）及び終点座標（ｘ、、’ｙｚ）からマ
スクパターンＭの外形の始点は、アパーチャーＡＩが始
点座標（ｘ＋、ｙ＋）にある状態で、左上隅の座標（ｘ
＋、ｙ＋）が外形のエツジ座標であることが認識され、
同様に外形の他端側のエツジ座標は、アパーチャーＡ、
が終点座標（Ｘｚ、Ｙｚ）にある状態で、右下隅の座標
（ｘ２゜ｙｚ）であることが認識され、さらにアパーチ
ャーＡ１の終点座標位置で下側に連接する他のアパーチ
ャーの終点座標がないことにより、右下隅の座標（Ｘ３
．Ｖ３）もエツジ座標として認識することができ、同様
にしてアパーチャーＡ２の始点座標（Ｘ　！、　Ｙ　３
）及び終点座標（Ｘ４．Ｙ４）から外形のエツジ座標（
Ｘｎ、）’ｔ）、　　（Ｘｓ、）’ｓ）及び（ｘｂ、ｙ
６）を算出し、これらエツジ座標の算出が終了したらス
テップ■Ｃに移行して各エツジ座標を結んで第９図（ａ
ｌに示す輪郭パターンデータを形成し、これをステップ
■ｄでピントマツプメモリ１０ｂに記憶して、マスクパ
ターンＭの輪郭データ登録処理を終了する。

また、検査パターン座標変換処理は、第６図に示すよう
に、ステップ■ａで、ＣＣＤカメラ３から出力されるの
検査パターン読取データを最初の４走査ライン分をバッ
ファメモリとしてのシフトレジスタ群９ａ〜９ｄに占込
む。このシフトレジスタ群９ａ〜９ｄに対するデータの
書込みは、各シフトレジスタ群９ａ〜９ｄが直列に接続
されているので、ＣＣＤカメラから時間順次に出力され
るデータを順次シフトレジスタ群９ａのシフトレジスタ
Ｒ９に書込むことにより、最初に書込まれた書込データ
が順次シフトされてシフトレジスタ群９ｄのシフトレジ
スタＲ１）の最終段に書込まれる。

次いで、ステップ■ｂに移行してシフトレジスタ群９ａ
〜９ｄに対する読取データの書込みが完了したか否かを
判定し、書込みが未完了であるときには、前記ステップ
■ａに戻って読取データの書込処理を継続し、書込みが
完了したときには、ステップ■Ｃに移行する。

このステップ■Ｃでは、シフトレジスタ群９ａ〜９ｄに
書込まれた検査パターン読取データを検索して予め設定
されたパターンＰに対するエツジ座標（ＸＰｌ、Ｙ□）
及び（Ｘ　ｐ　ｚ　、　Ｙ　ｐ　ｚ　）を算出し、これ
らエツジ座標とマスクパターンＭのエツジ座標（Ｘ　ｓ
　＋　、　Ｙ　、＋　）及び（Ｘ　Ｎ　Ｚ　、Ｙ　、４
□）とからマスクパターンＭに対する検査パターンＰの
傾きｔａｎθを算出する。この傾きｔａｎθの算出は、
先ず検査パターンＰ及びマスクパターンＭの一方のエツ
ジ座標（Ｘ　ｐ　ｒ　、　Ｙ　ｐ　ｒ　）及び（Ｘ□、
　ＹＭＩ）に着目して、Ｘ方向の偏差ΔＸ及びＹ方向の
偏差ΔＹを下記（１）式及び（２）式に従って算出し、
次いで両者に基づいて下記（３）式の演算を行って傾き
ｔａｎθ、を算出する。

ΔＸ＝　ｌ　ＸＰＩ　　Ｘ、４＋　ｌ　　　・・・・・
・・・・・・・（１）ΔＹ＝　ｌ　Ｙ、、−Ｙ□１　　
・・・・・・・・・・・・（２）ｔａｎθ、＝ΔＸ／Δ
Ｙ　・・・・・・・・・・・・（３）同様に、他方のエ
ツジ座標についても同様の演算を行って傾きｔａｎθ２
を算出し、両傾きｔａｎθ、及びｔａｎθ２の何れか大
きい方又は両者が等しいときには何れか一方を傾きｔａ
ｎθとして決定する。この決定は、検査パターンＰが何
れかのエツジ座標を中心として傾斜している場合があり
、このときには、中心となるエツジ座標については傾き
が零となり、他方のエツジ座標については傾斜に応じた
傾きｔａｎθが得られるので、その傾きｔａｎθを検査
パターンの傾きとして決定する。

次いで、ステップ■ｄに移行して、前記ステップ■Ｃで
算出した傾きｔａｎθに基づいて予め記憶された傾きｔ
ａｎθと続出アドレスとの対応関係を示す記憶テーブル
を参照してシフトレジスタ群９ａ〜９ｄにおける読出ア
ドレス順序（例えばシフトレジスタ群９ｄのシフトレジ
スタＲ［ｌ、Ｒ？、シフトレジスタ群９Ｃのシフトレジ
スタＲｂ、Ｒｓ、シフトレジスタ群９ｂのシフトレジス
タＲ４，Ｒ３及びシフトレジスタ群９ａのシフトレジス
タＲ２゜Ｒ１）を選択する。この場合、傾きｔａｎθが
小さくなるに従ってシフトレジスタ９ａ、９ｂ、９Ｃの
順に記憶されているデータの読出しが行われなくなり、
傾きｔａｎθが零であるときには、シフトレジスタ９ｄ
の記憶データのみを読出す。

次いで、ステップ■ｅに移行して、上記ステップ■ｄで
選択された続出アドレス順序でシフトレジスタ群９３〜
９ｄの各シフトレジスタＲ３〜Ｒ８から書込データを読
出し、これを順次ビットマツプメモリ１０ａに格納する
。

次いで、ステップ■ｆに移行して、ビットマツプメモリ
１０ａに全ての画像データの書込みが完了したか否かを
判定し、書込みが未完了であるときには、ステップ■ｇ
に移行してＣＣＤカメラ３からの次の４走査ライン分の
画像データをシフトレジスタ群９ａ〜９ｄに格納してか
らステップ■ｅに戻り、全ての画像データの書込みが完
了したときには処理を終了して第４図のステップ■に移
行する。

この検査パターン座標変換処理によって、検査パターン
ＰのマスクパターンＭに対する傾きに応じてシフトレジ
スタ群９ａ〜９ｄの各シフトレジスタＲ＋−Ｒｅの続出
位置を変更することにより、ビットマツプメモリ１０ａ
に格納される検査パターンデータは、その傾きが補正さ
れてマスクパターンに対して整合性を有するものとなる
。

さらに、ステップ■の検査パターン輪郭データ登録処理
は、第７図に示すように、ステップ■ａで、ビットマツ
プメモリ１０ａに記憶されている検査パターンＰの画像
データを画素単位で行及び列方向に走査して、符号が“
０”から“１“に又はその逆に反転するビット位置を検
索し、このビット位置をエツジ座標として、順次記憶し
て各エツジ座標を結ぶことにより検査パターンＰの輪郭
データを作成し、次いで、ステップ■ｂに移行して輪郭
データをビットマツプメモリ１０ｃに記憶させてから第
４図のステップ■に移行する。

またさらに、ステップ■の欠陥検査処理は、第８図に示
すように、ステップ■ａで各ビットマツプメモリ１０ｂ
及び１０ｃに記憶されている第９図ｆａｔに示すマスク
パターンＭの輪郭データ及び第９図ｆｃ）に示す検査パ
ターンＰの輪郭データの続出開始位置を例えば第９図（
ａ）及び（Ｃ）で鎖線図示の如く中心画素ＷＭ５．　Ｗ
ＰＳが画素Ｄ０゜となるように設定すると共に、検査ウ
ィンドウ（読出範囲）ＷＨ及びＷ、を例えば３×３画素
に設定し、次いで、ステップ■ｂに移行して、検査ウィ
ンドウＷＨ及び検査ウィンドウＷ、の各画素をシリアル
に読出し、これを欠陥検査回路２０に出力すると共に、
この欠陥検査回路２０の欠陥データを読込み、これをビ
ットマツプメモリ１０ｄに記憶し、次いでステップ■Ｃ
に移行して、ビットマツプメモリ１０ｂ及び１０ｃに記
憶されている全ての画素に対して欠陥検査を行ったか否
かを判定し、欠陥検査未完了であるときには、ステップ
■ｄに移行して、検査ウィンドウＷＭ及びＷ、を右に１
画素分シフトさせてからステップ■ａに戻り、欠陥検査
が全て終了したときには処理を終了して第４図のステッ
プ■に移行する。なお、ステップ■ｄで検査ウィンドウ
Ｗ、４及びＷ、の中心画素Ｗ、４．及びＷ２．が右端に
達しているときには、下の行の左端にシフトさせる。

したがって、第９図（ａ）及び（Ｃ１における画素Ｄ０
゜。

Ｉ）ｏ＋・・・・・・のように検査ウィンドウＷＭ及び
Ｗｅの中心画素Ｗイ、及びＷＰ、が共に論理値ＩＩ　Ｏ
ＩＩであるときには、セレクター２０Ｂ及び２０Ａで入
力端子Ｉ、を選択するので、中心画素ＷＭＳ及びＷｌ、
の論理値゛Ｏ”のビット信号が排他的論理和回路２１に
入力されるので、その出力は論理値“０°゛となり、ビ
ットマツプメモリ１０ｄの該当画素位置に欠陥無しを表
す論理値゛０°゛が書込まれる。

同様に、マスクパターンＭに対応する検査ウィンドウＷ
Ｈ及び検査パターンＰに対応する検査ウィンドウＷ、の
中央画素ＷＨ５及びＷＰ、の何れか一方が論理値“１パ
、他方が論理値“°０°“であるときには、論理値゛１
“°となった中央画素ＷＭＳ（又はＷ　Ｐ　Ｓ　）と、
他方の各画素Ｗ　ｐ　Ｉ”　Ｗ　Ｐ　９　（又はＷ、４
゜〜Ｗ　ｓ　ｑ　）のＯＲ出力とが排他的論理和回路２
１に入力されるので、各画素ＷＰ１〜ＷＰ９（又はＷ□
〜Ｗ□）の何れか１つが論理値“１“′であれば、排他
的論理和回路２１の出力が論理値°“０″となって欠陥
無しと判断することができ、各画素ＷＰＩ〜Ｗ２．（又
はＷ１４１−ＷＨｌ）の全てが論理値“０′″であると
きには、排他的論理和回路２１の出力が論理値“１″°
となって欠陥有りと判断することができる。

そして、必要に応じてビットマツプメモリ９ｃの記憶内
容を読出してＣＲＴデイスプレィ１３又はプリンタ１４
に出力することにより、検査パターンＰの欠陥部の表示
又は印字を行うことができる。

また、ＣＯＤカメラ３で撮像した被検査物２の検査パタ
ーンＰに第１０図（ａｌに示すように内部欠陥がある場
合には、第７図の検査パターン輪郭データ処理を行うこ
とにより、第１０図（ｂ）に示すように外周側の輪郭と
内部欠陥の周囲の輪郭とを表す輪郭データが得られ、こ
れがビー／　）マツプメモリ１０ｃに記憶される。

そして、第８図の欠陥検査処理を実行すると、ビットマ
ツプメモリＩＯＣの画素Ｄ０゜〜Ｄａ□までの間は、マ
スクパターンＭと検査パターンＰとの輪郭データが互い
に一致するので、ビットマツプメモリ１０ｄには論理値
′°１”の欠陥データが書込まれることがないが、検査
パターンＰに対応する検査ウィンドウＷ２の中心画素Ｗ
Ｐｓが画素Ｄｌ１３の位置に達すると、マスクパターン
Ｍの画素Ｄ１）３のビットは論理値″″Ｏ”であり、且
つ検査パターンＰの画素Ｄｍ３のビットが論理値“１′
°であると共に、マスクパターンＭに対応する検査ウィ
ンドウＷＭの各画素ＷＭ１〜ＷＭ、が論理値“Ｏ１）で
あるので、欠陥であると判断し、ビットマツプメモリ１
０ｄの画素り、３に論理値゛′１”を書込んでがら検査
ウィンドウＷＨ及びＷ２を１画素分右にシフトしてステ
ップ■ａに戻る。

以下同様に、検査パターンＰに対応する検査ウィンドウ
Ｗ、の中心画素ＷＰＳが検査パターンＰの画素Ｄ８４〜
ＤＩ＋６・　Ｄ　９：ｌ＋　Ｄ　Ｑ＆・　ＤＡ３・　Ｄ
ＭＡ・　Ｄ１）３・ＤＩ＆＋　　ＤＣ３〜ＤＣ＆につい
て欠陥有りと判断してビットマツプメモリ１０ｄの対応
する画素位置に論理値″“１゛′を書込む。

したがって、第１０図（Ｃ１に示すように、ビットマツ
プメモリ１０ｄの記憶内容から検査パターンＰの欠陥部
を認識することができる。

この実施例によると、３×３ビツトの検査ウィンドウＷ
、及びＷ２を使用して欠陥検査を行うようにしているの
で、マスクパターンＭ及び検査パターンＰに±１ビット
の量子化誤差或いは位置すれが生じた場合でも欠陥無し
と判断することができ、誤検出を防止することができる
。

なお、上記実施例においては、検査ウィンドウＷ、４及
びＷ、を３×３ビツトに選定した場合について説明した
が、これに限らず任意の大きさの検査ウィンドウを適用
し得ることは言うまでもない。

そして、検査ウィンドウＷ、４及びＷ、を最小画素単位
の大きさに選定することもでき、この場合にはマスクパ
ターンＭ及び検査パターンＰの相対応する画素のビット
の排他的論理和をとることにより、両者が一致すれば正
常、不一致であるときには欠陥有りと判断することがで
きる。

さらに、上記実施例においては、検査パターンデータの
続出順序を変更して検査パターン及びマスタパターンの
整合を得るようにした場合について説明したが、これに
限定されるものではなく、マスタパターンデータの続出
順序を変更するようにしてもよい。

またさらに、上記実施例においては、パターンの両端の
エツジ座標を基準として傾きを算出する場合について説
明したが、プリント基板等にあっては所定のスルーホー
ル等の微小パターンの位置座標を基準として傾きを算出
するようにしてもよい。

なおさらに、上記実施例においては、撮像装置としてＣ
ＣＤカメラ３を適用した場合について説明したが、これ
に限定されるものではなく、ライン走査形のイメージセ
ンサと同期をとって移動する載置台の組合わせ等を適用
することもできる。

また、上記実施例においては、ＣＡＤデータとしてフォ
トプロッタ又はパターンジェネレータへの入力用データ
を適用した場合について説明したが、これに限定される
ものではなく、パターンの外形を取り出せる図形データ
であればよく、またデータ記録媒体としては磁気テープ
以外にフロッピィディスクネットワーク等の任意の記録
媒体を適用することができる。

〔発明の効果］ 以上説明したように、この発明によれば、前記撮像装置
からの１走査ライン毎の検査パターンデータを複数の画
素群に分割して記憶し、該記憶された検査パターンデー
タと前記マスタパターンデータとを比較して検査パター
ンの傾きを算出し、該検査パターンの傾きに応じて前記
検査パターン及びマスタパターンデータの何れかの読出
順を変更して両パターンデータ間を整合させてから両者
を比較するようにしたので、検査パターンとマスクパタ
ーンとの角度ずれによる欠陥パターンと誤判断すること
を確実に防止することができ、しかもそのための構成を
簡易化することができる効果が得られる。

また、検査パターンの輪郭データとマスクパターンの輪
郭データとの排他的論理和をとることにより、両データ
間に多少座標ずれを生じている場合にも正確な欠陥検査
を行うことができる。

【図面の簡単な説明】

第１図はこの発明の一実施例を示すブロック図、第２図
はマスクパターンを示す説明図、第３図は欠陥検査回路
の一例を示すブロック図、第４図は制御装置の処理手順
を示すフローチャート、第５図はマスクパターンの輪郭
データ処理手順を示すフローチャート、第６図は制御装
置の検査パターン座標変換処理手順を示すフローチャー
ト、第７図は制御装置の検査パターン輪郭データ処理手
順を示すフローチャート、第８図は制御装置の欠陥検査
処理手順を示すフローチャート、第９図（ａｌ〜（ｄ）
及び第１Ｏ図（ａ）〜（Ｃ）はそれぞれこの発明の実施
例の動作の説明に供するパターンの説明図である。 図中、■は！１装置、２は被検査物、３はＣＯＤカメラ
（撮像装置）、４は制御装置、９ａ〜９ｄはシフトレジ
スタ群、Ｒ３−Ｒ４はシフトレジスタ、１０ａ〜１０ｄ
はビットマツプメモリ、１）は磁気テープ装置、１２は
磁気ディスク、１３はＣＲＴデイスプレィ、１４はプリ
ンタ、Ｍはマスクパターン、Ｐは検査パターン、ＷＨ，
Ｗ、は検査ウィンドウ、ＷＭＳ、　ＷＦ２は中心画素、
２０は欠陥検査回路である。 第１図 第２図 第３図 第６図 第７図　　第８因 第９図ＣＧ） 第９図（ｂ） 第９図（Ｃ） 第９図（ｄ） 第１０図（Ｇ） 第１０図（ｂ）

Claims (4)

【特許請求の範囲】
1. （１）検査対象パターンを形成した被検査物と撮像装置
   とを相対的に１次元又は２次元に走査して検査パターン
   データを得、該検査パターンデータと予め記憶したマス
   タパターンデータとを比較して検査パターンの欠陥を検
   査するようにしたパターン検査方法において、前記撮像
   装置からの１走査ライン毎の検査パターンデータを複数
   の画素群に分割して記憶し、該記憶された検査パターン
   データと前記マスタパターンデータとを比較して検査パ
   ターンの傾きを算出し、該検査パターンの傾きに応じて
   前記検査パターン及びマスタパターンデータの何れかの
   読出順を変更して両パターンデータ間を整合させてから
   両者を比較するようにしたことを特徴とするパターン検
   査方法。
2. （２）検査パターンデータ及びマスタパターンデータの
   比較は、両者の排他的論理和をとることにより行うよう
   にした請求項（１）記載のパターン検査方法。
3. （３）検査対象パターンを形成した被検査物と撮像装置
   とを相対的に１次元又は２次元に走査して検査パターン
   データを得、該検査パターンデータと予め記憶したマス
   タパターンデータとを比較して検査パターンの欠陥を検
   査するようにしたパターン検査装置において、前記撮像
   装置からの１走査ライン毎の検査パターンデータを複数
   の画素群に分割して記憶する分割記憶手段と、該分割記
   憶手段に記憶された検査パターンデータと前記マスタパ
   ターンデータとを比較して検査パターンの傾きを検出す
   る傾き検出手段と、該傾き検出手段の検出結果に基づい
   て前記検査パターン及びマスタパターンデータの何れか
   の読出順を変更して両パターンデータ間を整合させるデ
   ータ整合手段と、該データ整合手段で整合された検査パ
   ターンデータ及びマスタパターンデータをを比較する比
   較手段とを備えたことを特徴とするパターン検査装置。
4. （４）比較手段は、検査パターンデータ及びマスタパタ
   ーンデータの排他的論理和をとって欠陥部を抽出するよ
   うにしてなる請求項（３）記載のパターン欠陥検査装置
   。