JPH01275486A - ケイ酸塩性の加工材料からなる器物上の光沢貴金属彩飾模様 - Google Patents

ケイ酸塩性の加工材料からなる器物上の光沢貴金属彩飾模様

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JPH01275486A JP1067749A JP6774989A JPH01275486A JP H01275486 A JPH01275486 A JP H01275486A JP 1067749 A JP1067749 A JP 1067749A JP 6774989 A JP6774989 A JP 6774989A JP H01275486 A JPH01275486 A JP H01275486A
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 不発明は、光沢貴金属化合物を用いた、ケイ酸塩性の加
工材料からなる器物、たとえば陶m器上の、高い機械抵
抗の洗浄機により横降を受けない光沢貴金属彩飾模様に
関する。
〔従来の技術] 西ドイツ国特許出願公告第1421865号明細書から
、可溶性の有機貴金属化合物、有機卑金属化合物の形の
可溶性フラックスおよび有機相体からなる光沢貴金属調
製剤は公知である。
フラックスとして金属有機化合物を貴金属1モルに対し
て卑金属0.25〜10モルの量で使用する。この?A
11l剤はガラスセラミックス裂の対象物上に貴金属含
有被膜を製造するために用いられ、1140℃までの温
度で焼き付けられる。
しかしこの被膜は全光沢を有しておらず、かつ洗浄機に
LD損#Lを受ける。
さらに固体卑金属酸化物を含有するバラシュ金AM剤を
金の融点(1063℃)を越える温度でケイ酸塩性の加
工材料上に施すことは公知である(西ドイツ国特許出願
公告第2208915号おLび同第2435859号明
細書ン。しかし、こうして得られた金被膜は比較的高い
層厚を有し、同様に全光沢を呈しない。なおこの被膜は
洗浄機により横降を受ける。
〔発明が解決しようとするll1題〕 従って本発明の課題は、ケイ酸塩性の加工材料からなる
器物部上で高い機械抵抗の、洗浄機により横降をうけな
い光沢貴金属彩飾模様のための光沢貴金属調製剤上見出
すことであった。
〔課題′ft#決するための手段〕
この昧廟は、有機金化合物、場合により有機銀化合物、
有機バラックム化合物および/また金 は有機白金化合物と混合した有1ヒ合物、有機指体およ
びケイ素原子と結合した3個および/または4個の卯水
分解可能な2!i!iを有する有機ケイ素化合物を貴金
属1モルに対してケイ素0.1〜4モルの量で含有した
W機金属化合物からなる7ラツクスからなる光沢貴金属
調製剤を使用することにより解決される。
この調製剤は、有機ケイ素化合物を貴金属1モルに対し
てケイ素0.1〜0.6モルの量で含有しかつ付加的に
ゾル;ニウム酸エステルまたはスタネートを貴金属1モ
ルに対してジルコニウムまたはスズ0.05〜0.3モ
ルの量で含有する。
好ましくは、有機ケイ素化合物として一般式: Y4E
liおよび/まkはY3SIX C前記式中Yはアルコ
キシ、アリールオキシ、アルアルコキシ、カルボキシラ
ト、ケトオキシミル、メルカプタン、ハロゲンおよび/
またはハロデニドを表わし、Xはアルキル、アリール、
アルアルキル、アルケニル、シクロアルケニル、ビニル
および/またはへテロ原子により置換された類φ体を表
わす〕で示される化合物を含有する光沢貴金属調製剤が
用いられる。
一般式: (zo)3−stx (式中2はR%R”−
OR4たはR200を界わし、Rは1〜24個のOi子
を有する直鎖または分枝鎖炭化水素、1〜8個のC原子
を有する環式脂肪族炭化水素または7〜15個のC原子
ヲ有する脂肪族−芳香族炭化水素1&:表わし、R1は
2〜10個のC原子を有する直鎖ま次は分枝鎖炭化水素
上表わし R2は1〜10個の○原子を有する直鎖また
は分枝鎖炭化水素を表わす〕で示される有機ケイ素化合
物は有利である。
同様に一般式: (ZO)3SiX c式中XはR2−
V i表わし、■はハロゲン、メルカプタン、アミン、
ウレタン、アミド、尿素、7クド、チオシアネート、イ
ソシアネート、エポキシド、グリシドまたはエステルを
表わし R2は1〜10個のQ原子を有する直鎖または
分枝鎖炭化水素を表わす〕で示される有様ケイ素化合物
が好ましい。
牛νにR2が(OH2ンn(ただしn=1.2.3)を
表わし、■は塩素、臭素、ヨウ素、イソシアネート、ア
クリルオキシ、ツメチルアミン、グリシド、メルカプタ
ンを表わすものが有利でちる。
ジルコニウム酸エステルとして市販の化合物、次とえば
ンルコニクムテト2イソグロビレートまたはジルコニウ
ムテトラ−2,4−ペンタジオネートが使用され、スタ
ネートとしてたとえばスズレゾネートが使用される。
この光沢貴金属調製剤は金の融点を上清る温度で、有利
に約1250℃でケイ酸塩性のW工材料、たとえば陶磁
器上に焼き付け、高い機械抵抗および耐薬品性を有する
薄い光沢級膜を生じる。特にこの被膜は洗浄機にエフ横
降を受けず、D工N試験規則50275により、600
0回の洗浄および引き絖く機械的負荷(摩耗)の後にも
掻除しない。
彩飾模様の段進のために、市販の光沢貴金属調製剤を使
用することができ、かつ常用の彩飾技術を用いることが
できる。TA製剤の成分は、たとえば西ドイツ国特許出
願公告第1421865号明細書から推測することがで
きる。
〔実施例〕
次の例には、器物上で洗浄機により掻除を受けない彩飾
模様を生じる貴金属調製剤を記載する。
例1 次の組成の光沢貴金属調製剤: 金スルホレジネート(Au56%ン17.9m1%銀ス
ルホレジネート(Ag20%)5.0重量%ロゾウムス
ルホレンネー)      1.0重i%(テルピネオ
ール中5%) ビスマスレゾネート        1.01i%(テ
ルピネオール中7%) クロムレゾネート (テルピネオール中3%)  1.
5mi%テトラエトキシシラン      10.4重
量%アスファルト(テルピネオール中50%>25.0
M量%ロジン変性したフェノール樹脂   15.01
i%パイン油            25.2M量%
を均等にし、50℃で8時間熱処理した。転写法により
硬質磁器上の4,5x6cmの面に印刷した。1250
℃で、90分の通過時間で焼付けた後に光沢のある金合
金層が得られ、この層は洗浄機によジ横降を受けず、3
000回の洗浄の後にも、全光沢を失なわなかった。
例2 次の組成の全光沢貴金属調製剤: 金スルホレゾネー)(Au56%)    17.9重
量%銀スルホレクネート(Ag20%)    5゜0
重量%パラジウムスルホレシネー)     6.−5
1i−%(テルピネオール中8%) ロジウムスルホレゾネート     i、oxt%(テ
ルピネオール中5%) ビスマスレジネート        1.OJa量%(
テルピネオール中7%〕 クロムレゾネート(テルピネオール中3%)   1.
5m:51%トリエトキシシリルプロピルカルバメート
  11.4jtufi%ロンン変性したフェノール樹
脂  20.0MM%パイン油           
 35.η1%fic追で硬質磁器に塗布し、1240
℃で焼付けた。ここでも洗浄機により掻除を受けない彩
飾模様が得られた。
例6 次の組成の光沢貴金属調製剤: 金スルホレゾネー)(Au56%)17.9垂量%銀ス
ルホレゾネート(Ag20%)    5.0M量%ロ
ゾウムスルホレゾネート1.0重1%(チルぎネオール
中5%) ビスマスレジネート(テルピネオール7%) ・1.0
ii%クロムレジネート(テルピネオール中3%)  
 1.5m:1%テトラエトキシシラン      2
.1重i%ジルコニウムテトライソゾロピレート   
  1.7重量%ロンン変性したフェノール樹脂  2
0.0重量%パイン油            49.
8重量%を例1と同様に印刷し、続刊けた。この彩飾模
様は洗浄機により横降を受けなかった。
例4 次の組成の光沢貴金属調製剤: 金スルホレクネート(Au56%)    17.9!
:i%銀スルホレシネー)(Ag20%)5.0重量%
ロジウムスルホレジネート     1.031%(テ
ルピネオール中5%〕 ビスマスレゾネート        1.Omi%(テ
ルピネオール中7%) クロムレゾネート(テルピネオール中′5%)   1
.5m!%テトラエトキシシラン      2.13
1jL%スズレジネート(テルピネオール中10%)6
.0m量%ロゾン変性し次フェノール樹脂  20.0
重量%パイン油            45.5重−
1%を例2と同様に塗布し、焼付けた。この彩飾模様は
洗浄機により横降を受けなかった。
特に適した有機ケイ素化合物の他の例は次のものである
: 3−メタクリルオキシプロピルトリメト印ジシラン、 6−アミノプロtルトリメトキシシラン、クロロメチル
トリメトキシシラン、 β−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメ
トキシシラン、 1.6−ビス(トリメトキシシリル)エタン、ビス(3
−()リエトキシシリル)ゾロtル〕アミン、 ビス[3−()リエトキシシリル)7’=1ビル〕テト
ラスルフイド。
次のタイプの縮合物: 〔式中nは0〜10であり、XおよびYは前記したもの
t表わす〕も適している。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、有機金化合物、または有機銀化合物、有機パラジウ
    ム化合物および/または有機白金化合物と混合した有機
    金化合物と、有機担体と、ケイ素原子に結合した3個お
    よび/または4個の加水分解可能な基を有する有機ケイ
    素化合物を、貴金属1モルに対してケイ素0.1〜4モ
    ルの量で含有する有機金属化合物からなるフラックスと
    からなる光沢貴金属調製剤を用いた、ケイ酸塩性の加工
    材料からなる器物上の、高い機械抵抗の、洗浄機により
    損障を受けない光沢貴金属彩飾模様。 2、有機ケイ素化合物が貴金属1モルに対してケイ素0
    .1〜0.3モルの量で存在し、かつ付加的にジルコニ
    ウム酸エステルまたはスタネートが貴金属1モルに対し
    てジルコニウムないしはスズ0.05〜0.5モルの量
    で存在する請求項1記載の光沢貴金属彩飾模様。 3、有機ケイ素化合物として一般式:Y_4Si〔式中
    Yはアルコキシ、アリールオキシ、アルアルコキシ、カ
    ルボキシラト、ケトオキシミル、メルカプタン、ハロゲ
    ンおよび/またはハロゲノイドを表わす〕で示される化
    合物を使用する請求項1または2記載の光沢貴金属彩飾
    模様。 4、有機ケイ素化合物として一般式:Y_3SiX〔式
    中Yはアルコキシ、アリールオキシ、アルアルコキシ、
    ケトオキシミル、メルカプタン、ハロゲンおよび/また
    はハロゲノイドを表わし、Xはアルキル、アリール、ア
    ルアルキル、シクロアルキル、ビニルおよび/またはヘ
    テロ原子により置換された類似体を表わす〕で示される
    化合物を使用する請求項1または2記載の光沢貴金属彩
    飾模様。 5、一般式:(ZO)_3SiX〔式中ZはR、R^1
    −ORまたはR^2COを表わし、Rは1〜24個のC
    原子を有する直鎖または分枝鎖炭化水素、1〜8個のC
    原子を有する環式脂肪族炭化水素または7〜15個のC
    原子を有する脂肪族−芳香族炭化水素を表わし、R^1
    は2−10個のC原子を有する直鎖または分枝鎖炭化水
    素を表わし、R^2は1〜10個のC原子を有する直鎖
    または分枝鎖炭化水素を表わす〕で示される有機ケイ素
    化合物を使用する請求項1、2または4記載の光沢貴金
    属彩飾模様。 6、一般式:(ZO)_3SiX〔式中XはR^2−V
    を表わし、Vはハロゲン、メルカプタン、アミン、ウレ
    タン、アミド、尿素、アジド、チオシアネート、イソシ
    アネート、エポキシド、グリシドまたはエステルを表わ
    し、R^2は1〜10個のC原子を有する炭化水素を表
    わす〕で示される有機ケイ素化合物を使用する請求項1
    、2、4または5記載の光沢貴金属彩飾模様。
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