JPH01277101A - 真空蒸気発生装置 - Google Patents

真空蒸気発生装置

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JPH01277101A
JPH01277101A JP10676688A JP10676688A JPH01277101A JP H01277101 A JPH01277101 A JP H01277101A JP 10676688 A JP10676688 A JP 10676688A JP 10676688 A JP10676688 A JP 10676688A JP H01277101 A JPH01277101 A JP H01277101A
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pressure
temperature
ejector
tank
reducing valve
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Shinichi Ueda
信一 上田
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TLV Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、被加熱物を100℃以下の温度で効率的に加
熱処理するための真空蒸気を供給する真空蒸気発生装置
に関する。
各種生産プロセスに於ては、加熱処理が広く一般的に行
なわれているが、かかる加熱処理は被加熱物を100℃
以上の高温で加熱することが多く、ボイラーからの蒸気
を直接利用した、加圧系の加熱装置を用いて行なわれて
いる。
一方化学工場や食品工場などに於ては、製品品質を維持
するために被加熱物を100℃以下の比較的低温で加熱
しなければならない用途が多々ある。
従来技術 そこで従来は特願昭62−200714号にて提案した
ような真空蒸気発生装置が用いられていた。これは、間
接加熱容器の一次側に減圧弁を配し、二次側にエゼクタ
−のノズルを通過する流体の温度を制御することにより
エゼクタ一部で発生する吸引圧力を任意に設定すること
ができるエゼフター式真空ポンプ接続した真空蒸気発生
装置であって、エゼクタ一部で発生する吸引圧力と減圧
弁の設定圧力を同一にすることにより、減圧弁を通して
蒸気が間接加熱容器へ過度に供給されることがなく、蒸
気損失のない効率の良い真空蒸気の発生が可能となるも
のでおる。また、実際の生産プロセスに於ては使用温度
すなわち真空蒸気圧力を変更しなければならない場合が
多くある。
本発明が解決しようとする課題 上記従来技術の場合、減圧弁設定圧力の変更の都度、こ
の変更に伴って、ノズルを通過する流体の温度設定も変
更しなければならず、特に頻繁に減圧弁の設定圧力すな
わち使用温度を変更する場合には繁雑であるとともに変
更に時間を要し生産性の低下を来たすという不都合がめ
った。
従って本発明の技術的課題は、減圧弁の設定圧力の変更
に伴う、エゼクタ−のノズルを通過する流体の温度設定
の変更を容易且つ短時間にできるようにすることである
課題を解決する為の手段 上記課題を解決する為に講じた本発明の技術的手段は、
加熱容器の一次側に減圧弁を配し、二次側に、エゼクタ
−のディフューザーと渦巻きポンプの吸込口とをタンク
を介して連通し、エゼクターと渦巻きポンプの吐出口と
を連通して、上記タンクに冷却水を供給する冷却水供給
通路を設け、当該通路にタンク内水温に応じて開閉する
制御弁を設けたエゼクタ−式真空ポンプを配し、エゼク
ターと渦巻きポンプを循環する流体の温度を制御するよ
うにした真空蒸気発生装置に於て、減圧弁に設定圧力を
変更するためのアクチュエータ部を取り付け、当該アク
チュエータ部に設定信号を送るとともに、当該設定信号
とタンク内水温に基づき上記制御弁に開閉信号を送る制
御部を設けた、ものである。
作用 減圧弁の設定圧力を変更する場合、制御部からアクチュ
エータ部に設定信号が送られ変更されるとともに、この
設定信号およびタンク内水温に基づきノズルを通過する
流体の温度を変更するための制御弁が開閉される。
発明の効果 減圧弁の設定圧力の変更に伴い自動的にノズルを通過す
る流体の温度が調節されるので、頻繁な設定圧力の変更
に対しても容易且つ短時間に流体の温度を変更すること
ができる。
実施例 上記の技術的手段の具体例を示す実施例を説明する。(
第1図及び第2図参照) 第1図は本発明の真空蒸気発生装置の系統図である。加
熱装置1に蒸気を供給する蒸気通路2に蒸気圧力を調節
するための減圧弁3を取り付ける。
減圧弁3は(第2図参照)圧力設定ばね51を引張り状
態で作用させる真空用の減圧弁で、入口52と出口53
と弁54を有した弁部3にダイヤフラム56とアクチュ
エータ部19を設けたものである。アクチュエータ部1
9で調節ねじ57を回転させて圧力設定ばね51の引張
り力を調節することにより圧力設定を行なう。
蒸気通路2の出口側端はエゼクタ−式真空ポンプ4のエ
ゼクタ一部5に連通する。エゼクタ−式真空ポンプ4は
、エゼクタ一部5のデイフユーザ一部9と渦巻きポンプ
6の吸込ロアをタンク8を介して連通し、渦巻きポンプ
6の吐出口10とエゼクタ一部5のノズル部12を循環
通路11により連通して形成する。循環通路11の一端
にはj!水及び冷却水を吐出する吐出通路13を設ける
とともに吐出量を調節するための調節弁14を取り付け
る。吐出量に大きな変動が無い場合は上記調節弁14は
必ずしも必要ではない。タンク8に冷却水を供給するた
めの冷却水供給通路15を制御弁16を介して取り付け
る。タンク8の底部にタンク内水温ひいてはノズル部1
2を通過する流体の温度を検出するための温度センサー
17を取り付ける。制御弁16のアクチ1エータ部18
と、減圧弁3のアクチ1エータ部19と、温度センサー
17を信号線20により制御部21と連結する。
制御部21は、減圧弁3のアクチュエータ部19に設定
圧力信号を伝える圧力設定部(図示せず)、設定圧力か
らタンク8内の必要水温を演算する演輝部(図示せず)
、演算結果とタンク8内水温から制御弁16の7クチユ
工−タ部18に開閉信号を発する発信部(図示せず)か
らなる。
吐出通路13に取り付けた調節弁14のアクヂュエータ
部22にはタンク8内の水位を検出する水位センサー2
3からの信号を入力して吐出量を調節する。また、タン
ク8上部には大気と連通する連通管24を弁25を介し
て取り付ける。
加熱装置1の使用温度すなわち真空蒸気圧力を設定する
場合、制御部21から設定圧力を入力すると必要なタン
ク8内水温、すなわち、エゼクタ−式真空ポンプ4のノ
ズル部12で発生する吸引圧力はノズル部12を通過す
る流体の温度における飽和圧力と等しくなり、設定圧力
と飽和圧力を同一にするための水温、が演算され、この
水温になるように冷却水が制御弁16から注入または停
止される。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の真空蒸気発生装置の系統図、第2図は
第1図に示した減圧弁の概略断面図である。 1:加熱装@    3:減圧弁 4:エゼクター式真空ポンプ 5:エセクタ一部  6:渦巻きポンプ8:タンク  
   9:デイフユーザ一部12:ノズル部   15
:冷却水供給通路16:制御弁    17:温度セン
サー18.19,22:アクチュエータ部 21:制御部    24:連通管

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1、加熱容器の一次側に減圧弁を配し、二次側に、エゼ
    クターのディフューザーと渦巻きポンプの吸込口とをタ
    ンクを介して連通し、エゼクターと渦巻きポンプの吐出
    口とを連通して、上記タンクに冷却水を供給する冷却水
    供給通路を設け、当該通路にタンク内水温に応じて開閉
    する制御弁を設けたエゼクター式真空ポンプを配し、エ
    ゼクターと渦巻きポンプを循環する流体の温度を制御す
    るようにした真空蒸気発生装置に於て、減圧弁に設定圧
    力を変更するためのアクチュエータ部を取り付け、当該
    アクチュエータ部に設定信号を送るとともに、当該設定
    信号とタンク内水温に基づき上記制御弁に開閉信号を送
    る制御部を設けた、真空蒸気発生装置。
JP10676688A 1988-04-28 1988-04-28 真空蒸気発生装置 Expired - Fee Related JPH0656243B2 (ja)

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JPH03241202A (ja) * 1990-02-15 1991-10-28 Tlv Co Ltd 真空蒸気発生装置
CN109365442A (zh) * 2018-10-09 2019-02-22 广州铖兴进出口贸易有限公司 利用洁净蒸汽低耗清洁的系统及其工艺

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP5751559B2 (ja) 2013-12-11 2015-07-22 サミー株式会社 遊技機用の電子基板ユニット

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