JPH01281119A - ガラス・セラミックス系濾過材及びその製造方法 - Google Patents
ガラス・セラミックス系濾過材及びその製造方法Info
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Landscapes
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は、ガラス・セラミックス系濾過材およびその製
造方法に関する。
造方法に関する。
従来技術とその問題点
アルミニウムアルコキシドの溶液を多孔質セラミックス
上に付与し、乾燥により加水分解し、焼結して、多孔質
のアルミナ膜を形成させて、複層セラミックス系濾過材
を製造する方法は、公知である。しかしながら、この方
法により得られる濾過材においては、乾燥−焼結工程で
アルミナ膜にひび割れが生じるので、アルミニウムアル
コキシドの溶液塗布を１０回以上繰返し行う必要があり
、工程が煩瑣となるばかりではなく、濾過材としての透
過速度も、低下する欠点がある。
上に付与し、乾燥により加水分解し、焼結して、多孔質
のアルミナ膜を形成させて、複層セラミックス系濾過材
を製造する方法は、公知である。しかしながら、この方
法により得られる濾過材においては、乾燥−焼結工程で
アルミナ膜にひび割れが生じるので、アルミニウムアル
コキシドの溶液塗布を１０回以上繰返し行う必要があり
、工程が煩瑣となるばかりではなく、濾過材としての透
過速度も、低下する欠点がある。
問題点を解消するための手段
本発明者は、上記の如きセラミックス系濾過材の問題点
に鑑みて種々研究を重ねた結果、多孔質シリカ−ジルコ
ニア系ガラス膜を多孔質セラミックス基村上に形成させ
る場合には、これらの問題点が大巾に軽減されることを
見出した。
に鑑みて種々研究を重ねた結果、多孔質シリカ−ジルコ
ニア系ガラス膜を多孔質セラミックス基村上に形成させ
る場合には、これらの問題点が大巾に軽減されることを
見出した。
すなわち、本発明は、下記のガラス・セラミックス系濾
過材及びその製造方法を提供するものである： ■多孔質セラミックス基材上にシリカージルコニア系多
孔質ガラス膜を備えたガラス・セラミック系濾過材。
過材及びその製造方法を提供するものである： ■多孔質セラミックス基材上にシリカージルコニア系多
孔質ガラス膜を備えたガラス・セラミック系濾過材。
■多孔質セラミックス基材上にシリカ源およびジルコニ
ア源となるアルコキシドの混合溶液を付与し、乾燥し、
焼成することを特徴とするガラス・セラミックス系濾過
材の製造方法。
ア源となるアルコキシドの混合溶液を付与し、乾燥し、
焼成することを特徴とするガラス・セラミックス系濾過
材の製造方法。
本発明において使用する多孔質セラミックス基材は、ア
ルミナ、ジルコニア、炭化ケイ素、炭素、チッ化ケイ素
などである。該基材の厚さ、細孔径、細孔容積などは、
特に限定されず、被濾過物、滑液の種類などに応じて、
適宜選択すれば良いが、通常厚さ１〜２ｍｎ＋程度、細
孔径０．１〜０．５μｍ程度、細孔容積０．３〜０．５
ｃｃ／ｇ程度である。
ルミナ、ジルコニア、炭化ケイ素、炭素、チッ化ケイ素
などである。該基材の厚さ、細孔径、細孔容積などは、
特に限定されず、被濾過物、滑液の種類などに応じて、
適宜選択すれば良いが、通常厚さ１〜２ｍｎ＋程度、細
孔径０．１〜０．５μｍ程度、細孔容積０．３〜０．５
ｃｃ／ｇ程度である。
多孔質セラミックス基村上に形成されるシリカ−ジルコ
ニア系多孔質ガラス膜は、シリカ２０〜７０重量％とジ
ルコニア８０〜３０重量％の割合とすることが好ましい
。該ガラス膜の厚さ、細孔径、細孔容積なども、特に限
定されず、やはり被濾過物、滑液の種類などに応じて、
適宜選択すれば良いが、通常厚さ０．５〜１５μｍ程度
、細孔径２〜１１００ｎ程度、細孔容積０．０３〜０゜
３ ｃ ｃ ／ ｇ程度である。このようなセラミック
膜は、必要に応じて、複数層形成しても良い。
ニア系多孔質ガラス膜は、シリカ２０〜７０重量％とジ
ルコニア８０〜３０重量％の割合とすることが好ましい
。該ガラス膜の厚さ、細孔径、細孔容積なども、特に限
定されず、やはり被濾過物、滑液の種類などに応じて、
適宜選択すれば良いが、通常厚さ０．５〜１５μｍ程度
、細孔径２〜１１００ｎ程度、細孔容積０．０３〜０゜
３ ｃ ｃ ／ ｇ程度である。このようなセラミック
膜は、必要に応じて、複数層形成しても良い。
本発明の複層セラミックス系濾過材は、以下のようにし
て、製造される。まず、シリカ源およびジルコニア源と
なるアルコキシドの混合溶液を調製する。シリカ源とな
るアルコキシドとしては、Ｓｉ （ＯＣＨ３）４、Ｓ
ｉ （ＯＣ２Ｈ５）４、Ｓ ｉ （ＯＣ３Ｈ７） ４
などが例示され、ジルコニア源となるアルコキシドとし
ては、 Ｚｒ （ＯＣ３Ｈ７）４ 、Ｚｒ （ＯＣ４Ｈ９）４、
Ｚ ｒ （ＯＣ５Ｈ１１） ４などが例示される。これ
らのアルコキシドを含有する溶液は、常法に従って、メ
タノール、エタノール、プロパツール、ブタノールなど
のアルコールと水との混合溶媒にアルコキシドを加える
ことにより、調製される。溶液の調製に際しては、必要
ならば、塩酸、硫酸、硝酸などを添加しても良い。次い
で、該溶液をセラミックス多孔質基材上に塗布するか、
該溶液にセラミックス多孔質基材上を浸漬するなどの任
意の手段により、基材上にアルコキシド溶液を付与した
後、室温〜１５０℃程度で乾燥し、３００〜８００℃程
度で焼成する。必要ならば、乾燥速度を制御するために
、乾燥工程中に湿度調整を行なっても良い。シリカ−ジ
ルコニアガラス膜の厚さおよび強度が不足する場合には
、溶液の付与、乾燥および焼成を複数回繰り返せば良い
。通常この繰返し操作は、５〜６回程度で十分である。
て、製造される。まず、シリカ源およびジルコニア源と
なるアルコキシドの混合溶液を調製する。シリカ源とな
るアルコキシドとしては、Ｓｉ （ＯＣＨ３）４、Ｓ
ｉ （ＯＣ２Ｈ５）４、Ｓ ｉ （ＯＣ３Ｈ７） ４
などが例示され、ジルコニア源となるアルコキシドとし
ては、 Ｚｒ （ＯＣ３Ｈ７）４ 、Ｚｒ （ＯＣ４Ｈ９）４、
Ｚ ｒ （ＯＣ５Ｈ１１） ４などが例示される。これ
らのアルコキシドを含有する溶液は、常法に従って、メ
タノール、エタノール、プロパツール、ブタノールなど
のアルコールと水との混合溶媒にアルコキシドを加える
ことにより、調製される。溶液の調製に際しては、必要
ならば、塩酸、硫酸、硝酸などを添加しても良い。次い
で、該溶液をセラミックス多孔質基材上に塗布するか、
該溶液にセラミックス多孔質基材上を浸漬するなどの任
意の手段により、基材上にアルコキシド溶液を付与した
後、室温〜１５０℃程度で乾燥し、３００〜８００℃程
度で焼成する。必要ならば、乾燥速度を制御するために
、乾燥工程中に湿度調整を行なっても良い。シリカ−ジ
ルコニアガラス膜の厚さおよび強度が不足する場合には
、溶液の付与、乾燥および焼成を複数回繰り返せば良い
。通常この繰返し操作は、５〜６回程度で十分である。
発明の効果
本発明による複層セラミックス系濾過材は、機械的強度
の大きな多孔質セラミックス基材上に分離性に優れたシ
リカ−ジルコニアガラス膜を備えており、透過速度が大
きいので、各種気体および液体の濾過用、分離用の濾過
材として有用である。
の大きな多孔質セラミックス基材上に分離性に優れたシ
リカ−ジルコニアガラス膜を備えており、透過速度が大
きいので、各種気体および液体の濾過用、分離用の濾過
材として有用である。
また、その製造方法も、従来法に比して、簡便なもので
ある。
ある。
実施例
以下実施例を示し、本発明の特徴とするところをより一
層明確にする。
層明確にする。
実施例１
シリカ源としてのＳ ｉ （ＯＣ２Ｈ５） ４１３０
ｇ１ジル＝ｒ＝、ア源としてのＺｒ （ＯＣ３Ｈ７）
４８７ｇ、０．１５モル／１の塩酸水溶液１１ｇおよび
Ｃ２Ｈ５ＯＨ５２６ｇからなる混合溶液を調製した後、
表面層の平均細孔径が０．２μｍである多孔質アルミナ
管を該混合溶液に浸漬した。
ｇ１ジル＝ｒ＝、ア源としてのＺｒ （ＯＣ３Ｈ７）
４８７ｇ、０．１５モル／１の塩酸水溶液１１ｇおよび
Ｃ２Ｈ５ＯＨ５２６ｇからなる混合溶液を調製した後、
表面層の平均細孔径が０．２μｍである多孔質アルミナ
管を該混合溶液に浸漬した。
次いで、これを温度９８°Ｃ１相対湿度９５％の恒温恒
湿器に入れ、６０分間保持した後、電気炉中３００℃で
１０分間焼成した。この様な溶液の付与、乾燥および焼
成をさらに４回繰返した。ただし、最終回の焼成は、５
００℃で２０分間行った。
湿器に入れ、６０分間保持した後、電気炉中３００℃で
１０分間焼成した。この様な溶液の付与、乾燥および焼
成をさらに４回繰返した。ただし、最終回の焼成は、５
００℃で２０分間行った。
かくして、多孔質アルミナ管の表面にＺｒ０２３０モル
９６Ｓｉ０２７０モル％のガラス膜を備えた複合多孔質
セラミックス管が得られた。ガラス膜の付着量は、０．
２０ｇ／ｄｒｒｆであった。
９６Ｓｉ０２７０モル％のガラス膜を備えた複合多孔質
セラミックス管が得られた。ガラス膜の付着量は、０．
２０ｇ／ｄｒｒｆであった。
実施例２
シリカ源としてのＳ ｉ（ＯＣ２Ｈ５） Ａ ８０ ｇ
ｓジルコニア源としてのＺ ｒ （ＯＣ３Ｈｖ ）
４１２５ｇ、０．１５モル／１の塩酸水溶液７ｇおよび
Ｃ２Ｈ５０Ｈ４４８ｇからなる混合溶液を調製した後、
表面層の平均細孔径が０．２μｍである多孔質アルミナ
管を該混合溶液に浸漬した。
ｓジルコニア源としてのＺ ｒ （ＯＣ３Ｈｖ ）
４１２５ｇ、０．１５モル／１の塩酸水溶液７ｇおよび
Ｃ２Ｈ５０Ｈ４４８ｇからなる混合溶液を調製した後、
表面層の平均細孔径が０．２μｍである多孔質アルミナ
管を該混合溶液に浸漬した。
次いで、これを温度１００℃、相対湿度１００％の恒温
恒湿器に入れ、１２０分間保持した後、電気炉中３００
℃で１０分間焼成した。この様な溶液の付与、乾燥およ
び焼成をさらに４回繰返した。
恒湿器に入れ、１２０分間保持した後、電気炉中３００
℃で１０分間焼成した。この様な溶液の付与、乾燥およ
び焼成をさらに４回繰返した。
ただし、最終回の焼成は、５００℃で２０分間行った。
かくして、多孔質アルミナ管の表面にＺｒ０２５０モル
％−８ｉ０２５０モル％のガラス膜を備えた複合多孔質
セラミックス管が得られた。ガラス膜の付着量は、０．
２５ｇ／ｄｒ＆であった。
％−８ｉ０２５０モル％のガラス膜を備えた複合多孔質
セラミックス管が得られた。ガラス膜の付着量は、０．
２５ｇ／ｄｒ＆であった。
実施例３
シリカ源としてのＳ ｉ （ＯＣ２Ｈ５） ４１６１
ｇ１ジルコニア源としてのＺ ｒ （ＯＣ３Ｈ７） ４
６３ｇ、０．１５モル／１の塩酸水溶液１４ｇおよびＣ
２Ｈ６ＯＨ５７４ｇからなる混合溶液を調製した後、表
面層の平均細孔径が０．２μｍである多孔質アルミナ管
を該混合溶液に浸漬した。
ｇ１ジルコニア源としてのＺ ｒ （ＯＣ３Ｈ７） ４
６３ｇ、０．１５モル／１の塩酸水溶液１４ｇおよびＣ
２Ｈ６ＯＨ５７４ｇからなる混合溶液を調製した後、表
面層の平均細孔径が０．２μｍである多孔質アルミナ管
を該混合溶液に浸漬した。
次−いで、これを温度１２０℃の恒温器に入れ、１０分
間保持した後、電気炉中３００℃で１０分間焼成した。
間保持した後、電気炉中３００℃で１０分間焼成した。
この様な溶液の付与、乾燥および焼成をさらに４回繰返
した。ただし、最終回の焼成は、５００℃で２０分間行
った。
した。ただし、最終回の焼成は、５００℃で２０分間行
った。
かくして、多孔質アルミナ管の表面にＺｒ０２２０モル
％−３ｉＯ２８０モル％のガラス膜を備えた複合多孔質
セラミックス管が得られた。ガラス膜の付着量は、０．
１８ｇ／ｄｒｒｉ’であった。
％−３ｉＯ２８０モル％のガラス膜を備えた複合多孔質
セラミックス管が得られた。ガラス膜の付着量は、０．
１８ｇ／ｄｒｒｉ’であった。
実施例４
シリカ源としてのＳ ｉ （ＯＣ２Ｈ５） ４４２ｇ
５ジルコニア源としてのＺｒ （ＯＣ３Ｈ７） ４１５
４ｇ、０．１５モル／１の塩酸水溶液４ｇおよびＣ２Ｈ
５０Ｈ３９０ｇからなる混合溶液を調製した後、表面層
の平均細孔径が０．２μｍである多孔質アルミナ管を該
混合溶液に浸漬した。
５ジルコニア源としてのＺｒ （ＯＣ３Ｈ７） ４１５
４ｇ、０．１５モル／１の塩酸水溶液４ｇおよびＣ２Ｈ
５０Ｈ３９０ｇからなる混合溶液を調製した後、表面層
の平均細孔径が０．２μｍである多孔質アルミナ管を該
混合溶液に浸漬した。
次いで、これを温度９８℃、相対湿度９５％の恒温恒湿
器に入れ、１２０分間保持した後、電気炉中３００℃で
１０分間焼成した。この様な溶液の付与、乾燥および焼
成をさらに４回繰返した。ただし、最終回の焼成は、５
００℃で２０分間行った。
器に入れ、１２０分間保持した後、電気炉中３００℃で
１０分間焼成した。この様な溶液の付与、乾燥および焼
成をさらに４回繰返した。ただし、最終回の焼成は、５
００℃で２０分間行った。
かくして、多孔質アルミナ管の表面にＺｒ０２７０モル
％−８１０２３０モル％のガラス膜を備えた複合多孔質
セラミックス管が得られた。ガラス膜の付着量は、０．
３０ｇ／ｄｒｎ”であった。
％−８１０２３０モル％のガラス膜を備えた複合多孔質
セラミックス管が得られた。ガラス膜の付着量は、０．
３０ｇ／ｄｒｎ”であった。
実験例１
実施例３の方法で得たＺｒ０２７０モル％−３ｉ０２３
０モル％のガラス膜を備えた複合多孔質セラミックス管
を使用して、Ｎ２５０モル％−Ｎ２５０モル％の混合ガ
スの分離を行った。
０モル％のガラス膜を備えた複合多孔質セラミックス管
を使用して、Ｎ２５０モル％−Ｎ２５０モル％の混合ガ
スの分離を行った。
第１図に得られた結果を曲線Ａとして示す。
なお、第１図には、多孔質アルミナのみからなる管を使
用して同様の混合ガスの分離を行った場合の結果を曲線
Ｂとして併せて示す。
用して同様の混合ガスの分離を行った場合の結果を曲線
Ｂとして併せて示す。
第１図に示す結果から明らかな様に、本発明の複合多孔
質セラミックス管の分離比は、多孔質アルミナ管のそれ
と実質的に変わらない。
質セラミックス管の分離比は、多孔質アルミナ管のそれ
と実質的に変わらない。
しかるに、Ｈ２の透過係数は、本発明の複合多孔質セラ
ミックス管の場合には、３６０Ｘ１０’（ｍ３／ば・Ｐ
−５ｅｃ）であったのに対し、多孔質アルミナ管の
場合には、僅か１８Ｘ１０’（ｍ３／ゴ・Ｐ−８ｅＣ）
に過ぎなかった。
ミックス管の場合には、３６０Ｘ１０’（ｍ３／ば・Ｐ
−５ｅｃ）であったのに対し、多孔質アルミナ管の
場合には、僅か１８Ｘ１０’（ｍ３／ゴ・Ｐ−８ｅＣ）
に過ぎなかった。
実験例２
実施例１の方法に準じて、下記第１表に示す割合（モル
％）のジルコニアとシリカとからなるガラス膜を多孔質
セラミックス管上に形成した。次いで、該ガラス膜を１
００℃の蒸留水１０１００Ｏに浸漬し、４８時間還流し
て、液中のＺｒとＳｔの濃度を測定したところ、Ｚｒは
、検出されず、Ｓｉの溶出量は、第１表に示す通りであ
った。
％）のジルコニアとシリカとからなるガラス膜を多孔質
セラミックス管上に形成した。次いで、該ガラス膜を１
００℃の蒸留水１０１００Ｏに浸漬し、４８時間還流し
て、液中のＺｒとＳｔの濃度を測定したところ、Ｚｒは
、検出されず、Ｓｉの溶出量は、第１表に示す通りであ
った。
第１表
Ｓｔ
（ｐｐｍ）
Ｚｒ０１０： Ｓ ｉ０２９０ ６７、０５Ｚ ｒ０３
０： Ｓ ｔ ０２ Ｔｏ ２７．０５Ｚ ｒ０５０
： Ｓ ｉ ０２５０ ７．６５Ｚ ｒ０７０： Ｓ
ｉ ０２３０ ２．９３実験例３ 実施例２の方法に準じて得たＺｒ０２５０モル％−８ｉ
０２５０モル％のガラス膜を備えた複合多孔質セラミッ
クス管を各種の条件で熱処理した後、実験例１と同様に
して、Ｎ２５０モル％−Ｎ２５０モル％の混合ガスの分
離を行った。
０： Ｓ ｔ ０２ Ｔｏ ２７．０５Ｚ ｒ０５０
： Ｓ ｉ ０２５０ ７．６５Ｚ ｒ０７０： Ｓ
ｉ ０２３０ ２．９３実験例３ 実施例２の方法に準じて得たＺｒ０２５０モル％−８ｉ
０２５０モル％のガラス膜を備えた複合多孔質セラミッ
クス管を各種の条件で熱処理した後、実験例１と同様に
して、Ｎ２５０モル％−Ｎ２５０モル％の混合ガスの分
離を行った。
第２図に得られた結果を曲線Ｃ−Ｅとして示す。
第２図には、多孔質アルミナのみからなる管を使用して
同様の混合ガスの分離を行った場合の結果を曲線Ｆとし
て併せて示す。
同様の混合ガスの分離を行った場合の結果を曲線Ｆとし
て併せて示す。
なお、各曲線と熱処理条件との関係およびそれぞれの処
理後のＮ２の透過係数は、以下の通りである。
理後のＮ２の透過係数は、以下の通りである。
曲線Ｃ・・・５００℃×１時間、透過係数＝４２０ Ｘ
ｌ ０−” （ｒ＝３／ｒｒｒ ・Ｐ ・ｓｅｅ ）
曲線Ｄ・・・５００℃×５時間、透過係数＝４８９Ｘ１
０−９（ｍ３／ｒｒＩｔ−Ｐ −８ｅＣ）曲線Ｅ・・・
５００℃×２１時間、透過係数＝４９２Ｘ １０’ （
ｒｎ３／ｒｒｒ・Ｐ −５ｅｃ ）曲線Ｆ・・・熱処
理なし。透過係数＝２８２Ｘ１０’ （ｍ３／ｒｄ−Ｐ
−５ｅｅ ）第２図に示す結果から明らかな様に、
本発明の複合多孔質セラミックス管の分離比は、多孔質
アルミナ管のそれと実質的に変わらない。
ｌ ０−” （ｒ＝３／ｒｒｒ ・Ｐ ・ｓｅｅ ）
曲線Ｄ・・・５００℃×５時間、透過係数＝４８９Ｘ１
０−９（ｍ３／ｒｒＩｔ−Ｐ −８ｅＣ）曲線Ｅ・・・
５００℃×２１時間、透過係数＝４９２Ｘ １０’ （
ｒｎ３／ｒｒｒ・Ｐ −５ｅｃ ）曲線Ｆ・・・熱処
理なし。透過係数＝２８２Ｘ１０’ （ｍ３／ｒｄ−Ｐ
−５ｅｅ ）第２図に示す結果から明らかな様に、
本発明の複合多孔質セラミックス管の分離比は、多孔質
アルミナ管のそれと実質的に変わらない。
しかるに、Ｎ２の透過速度は、むしろ向上している。
このような事実から、本発明による複層セラミックス系
濾過材は、５００℃で十分な耐熱性を備えていることが
明らかである。
濾過材は、５００℃で十分な耐熱性を備えていることが
明らかである。
第１図および第２図は、本発明の複合多孔質セラミック
ス管のＮ２−Ｎ２混合ガスのＮ２分離比を多孔質アルミ
ナ管のそれと対比して示すグラフである。 （以上） 第１図 差 ｒＬ（ａｔｍ） 第２図 ０ ０．５ ｆ、ｏ １．５ ２
０ ２５ ３．０差 圧（ａｔｍ）
ス管のＮ２−Ｎ２混合ガスのＮ２分離比を多孔質アルミ
ナ管のそれと対比して示すグラフである。 （以上） 第１図 差 ｒＬ（ａｔｍ） 第２図 ０ ０．５ ｆ、ｏ １．５ ２
０ ２５ ３．０差 圧（ａｔｍ）
Claims (2)
- （１）多孔質セラミックス基材上にシリカ−ジルコニア
系多孔質ガラス膜を備えたガラス・セラミック系濾過材
。 - （２）多孔質セラミックス基材上にシリカ源およびジル
コニア源となるアルコキシドの混合溶液を付与し、乾燥
し、焼成することを特徴とするガラス・セラミックス系
濾過材の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11071688A JPH01281119A (ja) | 1988-05-06 | 1988-05-06 | ガラス・セラミックス系濾過材及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11071688A JPH01281119A (ja) | 1988-05-06 | 1988-05-06 | ガラス・セラミックス系濾過材及びその製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01281119A true JPH01281119A (ja) | 1989-11-13 |
| JPH0582B2 JPH0582B2 (ja) | 1993-01-05 |
Family
ID=14542669
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11071688A Granted JPH01281119A (ja) | 1988-05-06 | 1988-05-06 | ガラス・セラミックス系濾過材及びその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH01281119A (ja) |
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5139540A (en) * | 1991-07-24 | 1992-08-18 | Texaco Inc. | Membrane separation of gases |
| US5160352A (en) * | 1991-09-06 | 1992-11-03 | Texaco Inc. | Method of forming membranes useful for separation of gases |
| US5183482A (en) * | 1991-06-19 | 1993-02-02 | Texaco Inc. | Separation by membrane techniques |
| CN1058908C (zh) * | 1997-06-20 | 2000-11-29 | 清华大学 | 用于海水淡化的超滤二氧化硅薄膜的制备方法 |
| US6372020B2 (en) * | 1999-08-26 | 2002-04-16 | Jae-Jin Hong | Oxygen enriching membrane |
| JP2002292261A (ja) * | 2001-03-30 | 2002-10-08 | Kyocera Corp | ガス分離フィルタ用無機多孔質体およびガス分離フィルタ並びにその製造方法 |
| WO2007112340A3 (en) * | 2006-03-27 | 2007-12-21 | 3M Innovative Properties Co | Glass ceramic self-supporting film and process for its production |
| JP2016055272A (ja) * | 2014-09-11 | 2016-04-21 | 株式会社ノリタケカンパニーリミテド | 片端封止型筒状セラミックス |
-
1988
- 1988-05-06 JP JP11071688A patent/JPH01281119A/ja active Granted
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5183482A (en) * | 1991-06-19 | 1993-02-02 | Texaco Inc. | Separation by membrane techniques |
| US5139540A (en) * | 1991-07-24 | 1992-08-18 | Texaco Inc. | Membrane separation of gases |
| US5160352A (en) * | 1991-09-06 | 1992-11-03 | Texaco Inc. | Method of forming membranes useful for separation of gases |
| CN1058908C (zh) * | 1997-06-20 | 2000-11-29 | 清华大学 | 用于海水淡化的超滤二氧化硅薄膜的制备方法 |
| US6372020B2 (en) * | 1999-08-26 | 2002-04-16 | Jae-Jin Hong | Oxygen enriching membrane |
| JP2002292261A (ja) * | 2001-03-30 | 2002-10-08 | Kyocera Corp | ガス分離フィルタ用無機多孔質体およびガス分離フィルタ並びにその製造方法 |
| WO2007112340A3 (en) * | 2006-03-27 | 2007-12-21 | 3M Innovative Properties Co | Glass ceramic self-supporting film and process for its production |
| JP2016055272A (ja) * | 2014-09-11 | 2016-04-21 | 株式会社ノリタケカンパニーリミテド | 片端封止型筒状セラミックス |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0582B2 (ja) | 1993-01-05 |
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Legal Events
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|---|---|---|---|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |