JPH0128502Y2 - - Google Patents
Info
- Publication number
- JPH0128502Y2 JPH0128502Y2 JP1981044859U JP4485981U JPH0128502Y2 JP H0128502 Y2 JPH0128502 Y2 JP H0128502Y2 JP 1981044859 U JP1981044859 U JP 1981044859U JP 4485981 U JP4485981 U JP 4485981U JP H0128502 Y2 JPH0128502 Y2 JP H0128502Y2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- temperature
- processing
- processing liquid
- automatic developing
- relay
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
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- Control Of Temperature (AREA)
- Photographic Processing Devices Using Wet Methods (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】
本考案は自動現像装置に関し、特に、処理液の
疲労を軽減できる自動現像装置に関する。
疲労を軽減できる自動現像装置に関する。
周知のように、自動現像装置においては、いつ
たん停止してしまうと復旧にかなりの時間を要す
るため、随時の現像処理に備えて常に待機状態に
おかれる場合がある。このような要求は、救急患
者のレントゲンフイルムの緊急な処理が必要な救
急病院等に多いが、自動現像装置を常に稼動状態
におくと、次のような問題が生じる。即ち、待機
状態においては、処理液の温度は常に処理適正温
度に維持されかつ処理液は循環ポンプによつて常
にかく伴されるから、処理液が早期に酸化・疲労
し、温度維持のための稼動経費が割高となる。こ
とに、このような問題は、24時間診療体制の病
院、救急病院や１日の処理枚数が20〜30枚程度の
小規模施設では、顕著であり、処理液劣化が激し
いために、処理液の適正補充が困難な状態にあ
る。
たん停止してしまうと復旧にかなりの時間を要す
るため、随時の現像処理に備えて常に待機状態に
おかれる場合がある。このような要求は、救急患
者のレントゲンフイルムの緊急な処理が必要な救
急病院等に多いが、自動現像装置を常に稼動状態
におくと、次のような問題が生じる。即ち、待機
状態においては、処理液の温度は常に処理適正温
度に維持されかつ処理液は循環ポンプによつて常
にかく伴されるから、処理液が早期に酸化・疲労
し、温度維持のための稼動経費が割高となる。こ
とに、このような問題は、24時間診療体制の病
院、救急病院や１日の処理枚数が20〜30枚程度の
小規模施設では、顕著であり、処理液劣化が激し
いために、処理液の適正補充が困難な状態にあ
る。
本考案は、処理液の疲労が処理液循環量が多い
ほど著しくなり、特に待機時には循環ポンプをか
ならずしも連続運転する必要はない事実に鑑み、
処理液の疲労を軽減でき、循環ポンプの寿命の延
長を図り、稼動経費を削減しようとするものであ
る。
ほど著しくなり、特に待機時には循環ポンプをか
ならずしも連続運転する必要はない事実に鑑み、
処理液の疲労を軽減でき、循環ポンプの寿命の延
長を図り、稼動経費を削減しようとするものであ
る。
以下、図面に示す本考案の実施例の詳細を説明
する。
する。
図示実施例はレントゲンフイルムを処理する自
動現像装置の場合を例示するが、本考案の自動現
像装置はアマチユア写真用または印刷用フイルム
の自動現像装置にも適用できる。
動現像装置の場合を例示するが、本考案の自動現
像装置はアマチユア写真用または印刷用フイルム
の自動現像装置にも適用できる。
第１図は本考案による自動現像装置の電源回路
図であつて、符号SW１は電源スイツチを、符号
Ａは処理液電源回路を、符号Ｂは処理液電源回路
Ａを制御する温度制御回路を、符号Ｃは自動現像
装置の動作モードを選ぶスタンバイ回路をそれぞ
れ示している。即ち、スイツチSW２で回路投入
される処理液電源回路Ａは、処理液を加熱するヒ
ータＨ及び処理液を循課させるポンプＰを有し、
ポンプＰは短時間タイマＴ１の接点、TS1によつ
て選択的に通電される。また、スタンバイ回路Ｃ
は、常閉接点で構成される緊急時使用スイツチ
SW３と直列に長時間タイマＴ２を有し、この長
時間タイマＴ２で動作されるリレーＲ１は温度制
御回路Ｂの設定温度を制御する。前記温度制御回
路Ｂは、コントローラTCに処理温度を入力させ
る温度検出器Ｓと、処理液温度を処理適正温度よ
りも低い温度に設定する第１の設定抵抗Ｌ１及び
処理液温度を処理適正温度に設定する第２の設定
抵抗Ｌ２とを備えており、コントローラTCの出
力によつて駆動されるリレーＲ２によつて前記短
時間タイマＴ１またはヒータＨに選択的に通電が
行なわれる。
図であつて、符号SW１は電源スイツチを、符号
Ａは処理液電源回路を、符号Ｂは処理液電源回路
Ａを制御する温度制御回路を、符号Ｃは自動現像
装置の動作モードを選ぶスタンバイ回路をそれぞ
れ示している。即ち、スイツチSW２で回路投入
される処理液電源回路Ａは、処理液を加熱するヒ
ータＨ及び処理液を循課させるポンプＰを有し、
ポンプＰは短時間タイマＴ１の接点、TS1によつ
て選択的に通電される。また、スタンバイ回路Ｃ
は、常閉接点で構成される緊急時使用スイツチ
SW３と直列に長時間タイマＴ２を有し、この長
時間タイマＴ２で動作されるリレーＲ１は温度制
御回路Ｂの設定温度を制御する。前記温度制御回
路Ｂは、コントローラTCに処理温度を入力させ
る温度検出器Ｓと、処理液温度を処理適正温度よ
りも低い温度に設定する第１の設定抵抗Ｌ１及び
処理液温度を処理適正温度に設定する第２の設定
抵抗Ｌ２とを備えており、コントローラTCの出
力によつて駆動されるリレーＲ２によつて前記短
時間タイマＴ１またはヒータＨに選択的に通電が
行なわれる。
電源スイツチSW１及びスイチSW２を閉成す
ると、閉成している緊急時使用スイツチSW３に
より長時間タイマＴ２がセツトされると共に、閉
成状態にある長時間タイマＴ２の接点TS2を通じ
てリレーR1のソレノイドRL1が励磁される。この
ため、リレーR1の接点RS1-1によりポンプＰが連
続運転され、温度制御回路ＢではリレーR1の接
点RS1-2により第２の設定抵抗L2が選らばれ、処
理液の温度は処理適正温度に設定される。したが
つて、コントローラTCからは処理液の加熱命令
が発信され、この出力信号によりリレーR2のソ
レノイドRL2が励磁され、リレーR2の接点RL2に
よりヒータＨに通電が行なわれる。しかし、タイ
マT2の時間経過後は接点TS2が開放され、ソレノ
イドRL1の作用により接点RS1-2は切換えられて抵
抗L1が接続し、温度制御回路Ｂは低温による温
度調節を行い、処理後は低温度で維持される。こ
のとき、コントローラTCが作動しソレノイド
RL2が消磁されると、スタンバイ回路Ａの接点RS2
は切換えられ、ヒータＨが切断され、タイマT1
が動作し、所定時間経過後ポンプＰは停止する。
ると、閉成している緊急時使用スイツチSW３に
より長時間タイマＴ２がセツトされると共に、閉
成状態にある長時間タイマＴ２の接点TS2を通じ
てリレーR1のソレノイドRL1が励磁される。この
ため、リレーR1の接点RS1-1によりポンプＰが連
続運転され、温度制御回路ＢではリレーR1の接
点RS1-2により第２の設定抵抗L2が選らばれ、処
理液の温度は処理適正温度に設定される。したが
つて、コントローラTCからは処理液の加熱命令
が発信され、この出力信号によりリレーR2のソ
レノイドRL2が励磁され、リレーR2の接点RL2に
よりヒータＨに通電が行なわれる。しかし、タイ
マT2の時間経過後は接点TS2が開放され、ソレノ
イドRL1の作用により接点RS1-2は切換えられて抵
抗L1が接続し、温度制御回路Ｂは低温による温
度調節を行い、処理後は低温度で維持される。こ
のとき、コントローラTCが作動しソレノイド
RL2が消磁されると、スタンバイ回路Ａの接点RS2
は切換えられ、ヒータＨが切断され、タイマT1
が動作し、所定時間経過後ポンプＰは停止する。
以上のようにして処理液の温度は、いつたん処
理適正温度まで上昇されるけれども、長時間タイ
マＴ２が動作すると、接点TS2が開放され、リレ
ーR1のソレノイドRL1が消磁される。このため、
温度制御回路ＢではリレーR1の接点RS1-1によつ
て第１の設定抵抗Ｌ１が選らばれ、処理液の温度
は前述したものよりも低い温度に設定される。同
時に、処理液電源回路ＡではリレーR1が接点
RS1-2が開放し、ポンプＰの連続運転が禁止され
る。この結果、温度制御回路Ｂの制御下にヒータ
ＨとポンプＰとに断続的な通電が行なわれ、処理
液の温度が処理適正温度よりも数度低い温度に維
持される。
理適正温度まで上昇されるけれども、長時間タイ
マＴ２が動作すると、接点TS2が開放され、リレ
ーR1のソレノイドRL1が消磁される。このため、
温度制御回路ＢではリレーR1の接点RS1-1によつ
て第１の設定抵抗Ｌ１が選らばれ、処理液の温度
は前述したものよりも低い温度に設定される。同
時に、処理液電源回路ＡではリレーR1が接点
RS1-2が開放し、ポンプＰの連続運転が禁止され
る。この結果、温度制御回路Ｂの制御下にヒータ
ＨとポンプＰとに断続的な通電が行なわれ、処理
液の温度が処理適正温度よりも数度低い温度に維
持される。
次に、緊急時にフイルムの現像処理を行なう場
合には、緊急時使用スイツチSW３を開放すれば
よい。緊急時使用スイツチSW３の開放により、
長時間タイマＴ２の接点TS2が再び閉成され、リ
レーR1のソレノイドRL1が励磁され、前述したと
同様にして、温度制御回路Ｂが処理適正温度に設
定されると共にポンプＰが連続運転される。した
がつて、処理液の温度が短時間で処理適正温度に
上昇されるから、ほとんど待時間を要せずに現像
処理を行なうことができる。
合には、緊急時使用スイツチSW３を開放すれば
よい。緊急時使用スイツチSW３の開放により、
長時間タイマＴ２の接点TS2が再び閉成され、リ
レーR1のソレノイドRL1が励磁され、前述したと
同様にして、温度制御回路Ｂが処理適正温度に設
定されると共にポンプＰが連続運転される。した
がつて、処理液の温度が短時間で処理適正温度に
上昇されるから、ほとんど待時間を要せずに現像
処理を行なうことができる。
なお、前述した実施例では緊急時使用スイツチ
SW３を閉成位置に戻せば、自動現像装置は再び
待機状態になるが、本発明は、この構成に限定さ
れるものではなく、例えば緊急時使用スイツチ
SW３及び長時間タイマＴ２の代りに、フイルム
の挿入によつてセツトされる別のタイマを設け
て、一定時間だけフイルムの挿入がない場合に
は、自動現像装置を自動的に待機状態としてもよ
い。また、前記実施例においては、処理液循環ポ
ンプの連続運転によつて温度制御を終えたとき、
同ポンプの連続運転を中止するものを述べたが、
本考案においては、待機状態でのみ、同ポンプの
連続運転を中止する構成であつてもよい。
SW３を閉成位置に戻せば、自動現像装置は再び
待機状態になるが、本発明は、この構成に限定さ
れるものではなく、例えば緊急時使用スイツチ
SW３及び長時間タイマＴ２の代りに、フイルム
の挿入によつてセツトされる別のタイマを設け
て、一定時間だけフイルムの挿入がない場合に
は、自動現像装置を自動的に待機状態としてもよ
い。また、前記実施例においては、処理液循環ポ
ンプの連続運転によつて温度制御を終えたとき、
同ポンプの連続運転を中止するものを述べたが、
本考案においては、待機状態でのみ、同ポンプの
連続運転を中止する構成であつてもよい。
以上の説明から明らかなように、本考案によれ
ば、自動現像装置においては、処理液の一時的な
温度制御の後循環ポンプの連続運転は禁止される
ため、処理液の無用のかく伴はなくなりかつ循環
ポンプの発熱を防止できるので、処理液の劣化は
少なくなる。また、本考案によれば、長時間に亙
る待機状態では、処理液の温度が現像可能温度よ
りも低い温度に維持されるので、処理液の酸化に
よる疲労が少なくなり、処理液や循環ポンプの寿
命が長く、電力消費量の少ない自動現像装置を達
成できる効果がある。
ば、自動現像装置においては、処理液の一時的な
温度制御の後循環ポンプの連続運転は禁止される
ため、処理液の無用のかく伴はなくなりかつ循環
ポンプの発熱を防止できるので、処理液の劣化は
少なくなる。また、本考案によれば、長時間に亙
る待機状態では、処理液の温度が現像可能温度よ
りも低い温度に維持されるので、処理液の酸化に
よる疲労が少なくなり、処理液や循環ポンプの寿
命が長く、電力消費量の少ない自動現像装置を達
成できる効果がある。
第１図は本考案を施こした自動現像装置の電源
回路図である。 Ａ……処理液電源回路、Ｂ……温度制御回路、
Ｃ……スタンバイ回路、Ｈ……ヒータ、Ｐ……ポ
ンプ、T1，T2……タイマ、L1，L2……設定抵
抗、RL1，RL2……リレー・ソレノイド、RS1-1，
RS1-2，RS2……リレー接点。
回路図である。 Ａ……処理液電源回路、Ｂ……温度制御回路、
Ｃ……スタンバイ回路、Ｈ……ヒータ、Ｐ……ポ
ンプ、T1，T2……タイマ、L1，L2……設定抵
抗、RL1，RL2……リレー・ソレノイド、RS1-1，
RS1-2，RS2……リレー接点。
Claims (1)
- フイルムが挿入されない待機時にフイルムの現
像処理が可能な下限温度に処理液を維持する制御
手段を備えた自動現像装置において、待機状態が
所定時間以上に持続されたとき、前記現像可能下
限温度よりも低い温度に処理液温度を維持する制
御手段を有することを特徴とする自動現像装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1981044859U JPH0128502Y2 (ja) | 1981-03-30 | 1981-03-30 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1981044859U JPH0128502Y2 (ja) | 1981-03-30 | 1981-03-30 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS57157947U JPS57157947U (ja) | 1982-10-04 |
| JPH0128502Y2 true JPH0128502Y2 (ja) | 1989-08-30 |
Family
ID=29841780
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1981044859U Expired JPH0128502Y2 (ja) | 1981-03-30 | 1981-03-30 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0128502Y2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP3848194B2 (ja) * | 2002-03-25 | 2006-11-22 | 富士写真フイルム株式会社 | 自動現像装置 |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS557580B2 (ja) * | 1973-05-23 | 1980-02-26 | ||
| JPS5926357Y2 (ja) * | 1976-09-28 | 1984-07-31 | コニカ株式会社 | 自動現像装置 |
| JPS566181Y2 (ja) * | 1978-06-22 | 1981-02-10 |
-
1981
- 1981-03-30 JP JP1981044859U patent/JPH0128502Y2/ja not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS57157947U (ja) | 1982-10-04 |
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