JPH0128686Y2 - - Google Patents

Description

【考案の詳細な説明】 〔考案の利用分野〕 本考案は真空排気装置内に設置される移動台に
関するものである。

〔考案の背景〕

近年薄膜・半導体プロセス等において真空中で
エツチング・薄膜形全・レジスト露光・イオン打
込みなどを行なう必要性が急速に高まつている。

これにともない真空容器内で精度よく移動で
き、かつ振動のない試料移動台の必要性がますま
す高まつてきている。これらは移動自由度がＸ，
Ｙ，Ｚ方向、回転・傾斜などを必要とされるもの
が多く、機構的に複雑となるうえ、スペースも大
きく必要とされる。そのうえテーブルを真空中で
移動され、その移動機構の操作部は大気中で行な
うという困難さが加わつており精度がよく、また
振動の少ないことが要求されている。第１図に従
来の、真空中で操作される、試料移動台の例を示
す。真空チヤンバ１の内部にＸ，Ｙ方向に移動可
能なテーブルを設置する場合、チヤンバの下部か
ら一箇所のみのとりつけによつて簡便にとりつ
け、とりはずしのできる試料台は以下のような構
造をとる。

真空チヤンバ１にフランジ５１，５２をとりつ
け支持部１１，１２を介して移動テーブル部７〜
１０がとりつけられる。Ｘ方向の移動テーブル７
は、クロスローラ・ガイドなどの摺動案内機構を
介して支持部１２に移動可能なようにとりつけら
れ、マイクロメータヘツド８により精度よく移動
される。またＹ方向のテーブル９は、同じく摺動
案内機構を介してＸ方向テーブル７にとりつけら
れ、マイクロメータヘツド１０により精度よく移
動される。そしてこのＹ方向のテーブルより支持
棒３を介して試料台２がとりつけられることにな
る。さらに真空を保つため、溶接ベローズ６が、
フランジ５２とＹ方向テーブル１０の両者に真空
用の溶接をされる。

概略以上のような構造であるが、この場合にお
いて溶接ベローズの可動性には限度があり、たと
えばテーブルの移動量を10mmとするためには溶接
ベローズの長さを50mm以上とる必要がある。この
ためテーブル１０と試料台２の距離が非常に長く
なり、振動に弱い構造となる。すなわち、ベロー
ズ３の長さを十分に長くとるために支持部１１の
長さを大きくとる必要がある。このため重いテー
ブル部分７，８，９，１０，１２がチヤンバから
下に垂れ下つた構造となり、まずこのテーブル部
がチヤンバ１に対して相対的に振動しやすい。そ
のうえ、このテーブル部に対して試料台２をとり
つけて支持する支持棒３も非常に長いものとな
る。したがつて試料台はテーブル部に対して振動
しやすい。以上より従来の真空容器に一方向から
とりつける構造の試料テーブルは２重の振動しや
すい構造を有しており、テーブルの移動量を確保
するためにベローズを長くするにつれ、きわめて
振動を起しやすいことがわかる。前に述べた半導
体プロセス等のビーム応用技術においてはサブミ
クロンの精度を必要とするものが多く、テーブル
が容器に対してサブμ〜1μの幅においても振動
した場合に問題となることは明らかである。

以上のべてきたように従来真空チヤンバに対し
て一方向からとりつける構造の試料テーブルは十
分な移動量をもたせる値とすると振動をおこしや
すいという実用上致命的な欠陥があつた。

〔考案の目的〕

本考案の目的は上記した問題点を解決し、真空
容器に一方向からとりつける構造の試料移動台
で、大きい移動量を確保する場合においても振動
がおきにくいような構造のものを提供することに
ある。

〔考案の概要〕

真空チヤンバに対してフランジを介してテーブ
ル部を直下につける。これより試料台を上方に支
持棒を介して、とりつける。そしてテーブル部と
試料台とをベローズでつなぐ。これによりシヤフ
トの長さは短かく、かつ、ベローズを振動のダン
パーとして用いることのできる機構が提供され
る。

また同様に、真空チヤンバに対してフランジを
介してテーブル部を直下につけた後、これに対し
下方に支持部を介して軽い支持板をとりつけこれ
より試料台を支持棒を介して上方へとりつける。
そして試料台と支持板とをベローズでつなぐ。こ
れにより、支持棒の長さが短かく、かつ重いテー
ブル部が垂れ下がつた構造をなくしたため振動の
小さいテーブルが実現できる。

〔考案の実施例〕

第２図に本考案にかかる真空用の試料テーブル
の構成の一例を示す。真空チヤンバにとりつけら
れたフランジ５１に対してＯリング又はガスケー
ト４により真空を保ちつつフランジ５２がとりつ
けられる。そしてこれに対しクロスローラガイド
などの摺動案内機構を介してＸ方向テーブルがと
りつけられ、マイクロメータヘツド８により移動
可能である。またこのＸ方向テーブルに対して同
様の摺動案内機構を介してＹ方向テーブル９がと
りつけられマイクロメータヘツド１０により移動
が可能である。ここで、Ｙ方向テーブル９に対し
て試料台２を支持する支持棒３により立ち上げて
試料台を真空チヤンバ１の内部に支持する。真空
を保つためには、溶接ベローズ２をＸ方向のテー
ブル５２の突出部５３と試料台の間に設置し、
各々へ真空用の溶接により接合する。このような
構造であるから真空ベローズの内側が大気側、外
側が真空側となり第１図の場合と逆となつてい
る。

そして、可動範囲を保つためベローズの長さは
第１図と同じ長さにしても、支持棒３の長さは短
かくできる。これにより支持棒部の剛性は大とな
り振動の問題を小さくできる。また、この構造で
は、第１図の場合のように重いテーブル部を真空
チヤンバより下方に垂れ下げる必要がなく、直接
に真空チヤンバへとりつけているため、この部分
で振動が発生する恐れは小さい。さらにこの構造
においては、テーブル２が振動する際、ベローズ
３は、これを減衰させるダンパーとしての働きを
有する。したがつて振動は第１図のようにテーブ
ル２が支持棒の自由端になつている場合に比べて
はるかに小さくできる。

第３図には他の実施例を示した。この場合には
真空容器にフランジを介して直接テーブル部をと
りつける点では第２図の例と同じであるがこれよ
り下方に支持棒１４により支持された支持板１３
を設けこれより支持棒３により立上げて試料台を
とりつけている。そして真空を保つためのベロー
ズはフランジ５２と支持台１３の間に設置され、
この各々に真空用の溶接でとりつけられている。
この場合は従来の第１図のように重いテーブル部
分を垂れ下げるのでなく軽い支持板１３を設けた
ことにより第１図の場合より振動が小さく減衰し
やすい構造となつている。また支持板１３にベロ
ーズ６をとりつけることにより、同じベローズの
長さであつても支持棒の長さを短かくでき支持板
に対する試料台の振動を小さくできる。

〔考案の効果〕

本考案により真空容器に対し一方向から容易に
とりつけることができかつ、十分な移動量を確保
しつつ振動を生じにくい構造の真空用移動台が提
供された。これによりサブミクロンの精度を問題
とする真空中での各種プロセスに対して十分に実
用的な振動のない真空用テーブルが実現される。

【図面の簡単な説明】

第１図は従来の構造の真空容器用のテーブルを
示す断面図、第２図は本考案の一実施例の真空容
器用テーブルを示す断面図、第３図は本考案の他
の実施例の真空容器用テーブルを示す断面図であ
る。 ２……試料台、３……支持棒、８，１０……マ
イクロメータヘツド、９……Ｙ方向テーブル、５
２……Ｘ方向テーブル。

Claims (1)

【実用新案登録請求の範囲】
1. 真空容器の内部に設置する移動台において、テ
   ーブル移動機構を真空容器にとりつけ、テーブル
   より試料台を真空容器内に支持棒によりたち上
   げ、かつ試料台とテーブルとをベローズで接続す
   ることにより、試料台の十分な移動量を有しつつ
   かつ試料台の真空容器に対する振動を小さくした
   ことを特徴とする真空容器用移動台。