JPH01290578A - 陶磁器の施釉機 - Google Patents
陶磁器の施釉機Info
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- JPH01290578A JPH01290578A JP1019417A JP1941789A JPH01290578A JP H01290578 A JPH01290578 A JP H01290578A JP 1019417 A JP1019417 A JP 1019417A JP 1941789 A JP1941789 A JP 1941789A JP H01290578 A JPH01290578 A JP H01290578A
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B28—WORKING CEMENT, CLAY, OR STONE
- B28B—SHAPING CLAY OR OTHER CERAMIC COMPOSITIONS; SHAPING SLAG; SHAPING MIXTURES CONTAINING CEMENTITIOUS MATERIAL, e.g. PLASTER
- B28B11/00—Apparatus or processes for treating or working the shaped or preshaped articles
- B28B11/04—Apparatus or processes for treating or working the shaped or preshaped articles for coating or applying engobing layers
- B28B11/045—Apparatus or processes for treating or working the shaped or preshaped articles for coating or applying engobing layers by dipping
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B28—WORKING CEMENT, CLAY, OR STONE
- B28B—SHAPING CLAY OR OTHER CERAMIC COMPOSITIONS; SHAPING SLAG; SHAPING MIXTURES CONTAINING CEMENTITIOUS MATERIAL, e.g. PLASTER
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- B28B11/04—Apparatus or processes for treating or working the shaped or preshaped articles for coating or applying engobing layers
- B28B11/044—Apparatus or processes for treating or working the shaped or preshaped articles for coating or applying engobing layers with glaze or engobe or enamel or varnish
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
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- B28B—SHAPING CLAY OR OTHER CERAMIC COMPOSITIONS; SHAPING SLAG; SHAPING MIXTURES CONTAINING CEMENTITIOUS MATERIAL, e.g. PLASTER
- B28B5/00—Producing shaped articles from the material in moulds or on moulding surfaces, carried or formed by, in or on conveyors irrespective of the manner of shaping
- B28B5/06—Producing shaped articles from the material in moulds or on moulding surfaces, carried or formed by, in or on conveyors irrespective of the manner of shaping in moulds on a turntable
- B28B5/08—Producing shaped articles from the material in moulds or on moulding surfaces, carried or formed by, in or on conveyors irrespective of the manner of shaping in moulds on a turntable intermittently rotated
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- Y10S198/957—Conveyor material
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- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
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- Devices For Post-Treatments, Processing, Supply, Discharge, And Other Processes (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は陶磁器の施釉機とそのための工作物ホルダに係
り、さらに詳しくは工作物ホルダを有する多数の支持ア
ームを備えた回転クロスを有し、この回転クロスは作業
周期に関係して少なくとも施釉ステーションと施釉済の
材料が水平に保たれる他のステーションへ切り換え可能
である、特に皿等に注入され、回転されあるいは圧縮さ
れた陶６〃器の施釉機に関するものである。
り、さらに詳しくは工作物ホルダを有する多数の支持ア
ームを備えた回転クロスを有し、この回転クロスは作業
周期に関係して少なくとも施釉ステーションと施釉済の
材料が水平に保たれる他のステーションへ切り換え可能
である、特に皿等に注入され、回転されあるいは圧縮さ
れた陶６〃器の施釉機に関するものである。
この種の公知の施釉機においては、複雑な駆動装置が必
要である。さらに実際のところ、公知の機械では陶磁器
を高品質で施釉することができないので、今日まで高価
な陶＠、器を製造する場合には手動で施釉を行っている
。手動の施釉は時間がかかりかつ煩雑であって、特にこ
の施釉作業に従事する人は常に釉薬液に直接触れること
になる。
要である。さらに実際のところ、公知の機械では陶磁器
を高品質で施釉することができないので、今日まで高価
な陶＠、器を製造する場合には手動で施釉を行っている
。手動の施釉は時間がかかりかつ煩雑であって、特にこ
の施釉作業に従事する人は常に釉薬液に直接触れること
になる。
さらに、依然として陶磁器に均一に釉薬を施すには困難
がある。
がある。
したがって、陶磁器製造の分野で自動化を進めるために
、大きな生産能力で全自動で陶磁器に高品質の施釉を行
うことのできる陶磁器の施釉機に対する需要がある。
、大きな生産能力で全自動で陶磁器に高品質の施釉を行
うことのできる陶磁器の施釉機に対する需要がある。
したがって本発明は、前述の従来の困難を克服し、全自
動作業でかつ生産能力を向上させて高品質の施釉を可能
にする、特に皿等の陶磁器の施釉機とそのための工作物
ホルダを提供することを目的としている。
動作業でかつ生産能力を向上させて高品質の施釉を可能
にする、特に皿等の陶磁器の施釉機とそのための工作物
ホルダを提供することを目的としている。
上記の課題を解決するために本発明によれば、工作物ホ
ルダを有する多数の支持アームを備えた回転クロスを有
し、この回転クロスが作業周期に従って少なくとも施釉
ステーションと施柚済の材料が水平に保たれる他のステ
ーションへ切り換え可能である。特に皿等の陶磁器の施
釉機において、施釉ステーションの前段に心出しステー
ションが接続されており、到着し心出しされた材料が吸
引器によって前記心出しステーションから施釉ステーシ
ョンの工作物ホルダへ引き渡される構成が採用されてい
る。
ルダを有する多数の支持アームを備えた回転クロスを有
し、この回転クロスが作業周期に従って少なくとも施釉
ステーションと施柚済の材料が水平に保たれる他のステ
ーションへ切り換え可能である。特に皿等の陶磁器の施
釉機において、施釉ステーションの前段に心出しステー
ションが接続されており、到着し心出しされた材料が吸
引器によって前記心出しステーションから施釉ステーシ
ョンの工作物ホルダへ引き渡される構成が採用されてい
る。
以下、添付図面に示す実施例を用いて、本発明の特徴お
よび利点を詳細に説明する。
よび利点を詳細に説明する。
図示の実施例においては、陶磁器としての皿に釉薬を施
す機械について説明を行う。これは当然のことなから一
実施例にすぎないものであり、この機械を他の種類の陶
磁器に釉薬を施すのにも同様に使用することができる。
す機械について説明を行う。これは当然のことなから一
実施例にすぎないものであり、この機械を他の種類の陶
磁器に釉薬を施すのにも同様に使用することができる。
第１図において、施釉機は全体を符号１で示されている
。図示の実施例においては、施釉機１の回転クロス２に
は６本の支持アームが等角度間隔で配置されている。支
持アームは施釉機１の供給領域Ａから矢印Ｂで示す移動
方向へ順次３ａ、３ｂ、３ｃ、３ｄ、３ｅ、３ｆで示さ
れている。各支持アーム３ａ〜３ｆにはそれぞれ同機で
処理する材料を支持する工作物ホルダ４が取り付けられ
ている。各工作物ホルダ４には２つの釉薬っぽ５゜６が
設けられている。それぞれの支持アーム３ａ〜３ｆのそ
れぞれの側にそれぞれ１つの釉薬っぽ５．６が配置され
ている。釉薬っぽ５，６は、釉薬つぼ５，６がそれ自身
の軸を中心に回転可能であって、支持アーム３ａ〜３「
の軸に対して揺動動作を行うことができるように支持ア
ーム３ａ〜３ｆと結合されており、かつそのための駆動
装置を有している。図示の実施例にあっては支持アーム
３ａ〜３ｆは水平面に配置されているので、釉薬つぼ５
，６は支持アーム３ａ〜３ｆの支持アーム軸の水平線に
対して揺動することができる。
。図示の実施例においては、施釉機１の回転クロス２に
は６本の支持アームが等角度間隔で配置されている。支
持アームは施釉機１の供給領域Ａから矢印Ｂで示す移動
方向へ順次３ａ、３ｂ、３ｃ、３ｄ、３ｅ、３ｆで示さ
れている。各支持アーム３ａ〜３ｆにはそれぞれ同機で
処理する材料を支持する工作物ホルダ４が取り付けられ
ている。各工作物ホルダ４には２つの釉薬っぽ５゜６が
設けられている。それぞれの支持アーム３ａ〜３ｆのそ
れぞれの側にそれぞれ１つの釉薬っぽ５．６が配置され
ている。釉薬っぽ５，６は、釉薬つぼ５，６がそれ自身
の軸を中心に回転可能であって、支持アーム３ａ〜３「
の軸に対して揺動動作を行うことができるように支持ア
ーム３ａ〜３ｆと結合されており、かつそのための駆動
装置を有している。図示の実施例にあっては支持アーム
３ａ〜３ｆは水平面に配置されているので、釉薬つぼ５
，６は支持アーム３ａ〜３ｆの支持アーム軸の水平線に
対して揺動することができる。
施釉機１において各支持アーム３ａ〜３ｆは、たとえば
矢印Ｂ方向に見て多数の位置ないしステーションを通過
する。供給領域Ａにはコンベヤベルト７が設けられてお
り、施釉機で加工しようとする材料がこのコンベヤベル
ト７に載せられて到着し、かつこのコンベヤベルトには
互いに距離をおいて２つのベルト部分が設けられている
。たとえば皿８によって形成される加工すべき材料がコ
ンベヤベルト７によって心出しステーション１０へ達し
、ここで皿はローラ１１により心出しされる。
矢印Ｂ方向に見て多数の位置ないしステーションを通過
する。供給領域Ａにはコンベヤベルト７が設けられてお
り、施釉機で加工しようとする材料がこのコンベヤベル
ト７に載せられて到着し、かつこのコンベヤベルトには
互いに距離をおいて２つのベルト部分が設けられている
。たとえば皿８によって形成される加工すべき材料がコ
ンベヤベルト７によって心出しステーション１０へ達し
、ここで皿はローラ１１により心出しされる。
心出しステーション１０の構成の詳細は第２図と第３図
を用いて説明する。心出しされた皿８は心出しステーシ
ョン１０からほぼ支持アーム３ａの軸方向に工作物ホル
ダ４へ引き渡される。皿８が工作物ホルダ４に収容され
た後に、皿は施釉ステーション１２において釉薬を施さ
れる。この詳細については後に第４図と第５図を用いて
説明する。
を用いて説明する。心出しされた皿８は心出しステーシ
ョン１０からほぼ支持アーム３ａの軸方向に工作物ホル
ダ４へ引き渡される。皿８が工作物ホルダ４に収容され
た後に、皿は施釉ステーション１２において釉薬を施さ
れる。この詳細については後に第４図と第５図を用いて
説明する。
施釉ステーション１２で施釉の後に、施釉された皿８は
工作物ホルダ４によって符号１３で示すステーションへ
送られ、このステーションでは皿３はほぼ垂直に向けら
れる。回転クロス２をさらに切り換えると、皿８はステ
ーション１４へ達シ、ここでは皿８はほぼ水平に向けて
保たれている。
工作物ホルダ４によって符号１３で示すステーションへ
送られ、このステーションでは皿３はほぼ垂直に向けら
れる。回転クロス２をさらに切り換えると、皿８はステ
ーション１４へ達シ、ここでは皿８はほぼ水平に向けて
保たれている。
その後回８は他の少なくとも１つのステーション１５を
通過し、このステーションでは皿８は水平の位置を維持
している。回転クロス２がさらに切り換えられると、皿
はステーション１５がら引渡しステーション１６へ送ら
れる。この引を度しステーション１６で皿８は工作物ホ
ルダ４がら取り出されて、領域１７で他の加工を施され
る。この領域１７から皿は搬出領域Ｃへ移される。この
搬出領域Ｃには他のコンベヤベルト１８が配置さ［おり
、加工済の皿８はこのコンベヤベルト１８に載せられて
施釉機１から搬出される。第１図において矢印方向に移
動するコンベヤベルト１８は、たとえば燃焼炉などの他
の加工装置へ通じている。
通過し、このステーションでは皿８は水平の位置を維持
している。回転クロス２がさらに切り換えられると、皿
はステーション１５がら引渡しステーション１６へ送ら
れる。この引を度しステーション１６で皿８は工作物ホ
ルダ４がら取り出されて、領域１７で他の加工を施され
る。この領域１７から皿は搬出領域Ｃへ移される。この
搬出領域Ｃには他のコンベヤベルト１８が配置さ［おり
、加工済の皿８はこのコンベヤベルト１８に載せられて
施釉機１から搬出される。第１図において矢印方向に移
動するコンベヤベルト１８は、たとえば燃焼炉などの他
の加工装置へ通じている。
引渡しステーション１６、加工領域１７および嵜出領域
Ｃの構造についての詳細は第６図と第７図を用いて説明
する。その後、それぞれの支持アーム３ａ〜３ｆは引渡
しステーション１６を経てさらに切り換えられて他のス
テーション１９へ達し、このステーション１６には釉薬
つぼ５と６を有する工作物ホルダ４が、加工すべき材料
を持たない状態で配置されている。このステーション１
９の詳細は、第８図を用いて説明する。
Ｃの構造についての詳細は第６図と第７図を用いて説明
する。その後、それぞれの支持アーム３ａ〜３ｆは引渡
しステーション１６を経てさらに切り換えられて他のス
テーション１９へ達し、このステーション１６には釉薬
つぼ５と６を有する工作物ホルダ４が、加工すべき材料
を持たない状態で配置されている。このステーション１
９の詳細は、第８図を用いて説明する。
まず、第２図と第３図を用いて心出しステーション１０
について詳細に説明する。心出しステーション１０には
対角線上に対向した多数、たとえば４つの心出しローラ
２０が配置されており、この心出しローラは矢印で示す
ように水平方向に並進移動することができる。この心出
しローラ２０によって皿８がコンベヤベルト７上で心出
しされる。コンベヤベルト７のオーバーベルトの下方に
はスタンプ工具２１が配置されている。スタンプ工具２
１には絵具パレット２２と絵具つぼ２３とスタンプへラ
ド２４が設けられている。絵具パレット２２は絵具つぼ
２３とスタンプヘッド２４の間で水平方向に移動する。
について詳細に説明する。心出しステーション１０には
対角線上に対向した多数、たとえば４つの心出しローラ
２０が配置されており、この心出しローラは矢印で示す
ように水平方向に並進移動することができる。この心出
しローラ２０によって皿８がコンベヤベルト７上で心出
しされる。コンベヤベルト７のオーバーベルトの下方に
はスタンプ工具２１が配置されている。スタンプ工具２
１には絵具パレット２２と絵具つぼ２３とスタンプへラ
ド２４が設けられている。絵具パレット２２は絵具つぼ
２３とスタンプヘッド２４の間で水平方向に移動する。
スタンプヘッド２４は絵具パレット２２から絵具を取っ
て、それを皿８の底へ移す。このときにスタンプへラド
２４は垂直移動を行い、コンベヤベルト７の２つのベル
ト部分の間を通過する。スタンプ工具２１による底スタ
ンプの転写は、部材の心出しの後に行われる。
て、それを皿８の底へ移す。このときにスタンプへラド
２４は垂直移動を行い、コンベヤベルト７の２つのベル
ト部分の間を通過する。スタンプ工具２１による底スタ
ンプの転写は、部材の心出しの後に行われる。
さらに、特に第２図から明らかなように吸引器２５が設
けられており、心出しされ、スタンプをプリントされた
皿がこの吸引器２５によって工作物ホルダ４の釉薬つぼ
５，６へ引き渡される（第１図を参照）。この吸引器２
５は垂直方向に上下移動することができる。
けられており、心出しされ、スタンプをプリントされた
皿がこの吸引器２５によって工作物ホルダ４の釉薬つぼ
５，６へ引き渡される（第１図を参照）。この吸引器２
５は垂直方向に上下移動することができる。
吸引器２５は皿８を第４図に示すように釉薬つぼ５の上
側へ設置する。第４図には釉薬つぼ５は１つしか図示さ
れていないが、第１図に示すようｊこ釉薬つぼ５のすぐ
後ろには第２の釉薬つぼ６が配置されており、この第２
の釉薬つぼ６の構造はほぼ図示の釉薬つぼ５と同じであ
って、同一あるいは同様の方法で支持アーム３ａにたと
えば軸承されているので、以下においては釉薬つぼ５に
ついてだけ説明する。釉薬つぼ５はほぼ円筒状の容器と
して形成されており、その上側にはリング状の収容面２
６が形成されている。この収容面２６は柔軟である。こ
れは収容面２６の領域の材料を適当に選択し、あるいは
適当に形成することによって柔軟にすることができる。
側へ設置する。第４図には釉薬つぼ５は１つしか図示さ
れていないが、第１図に示すようｊこ釉薬つぼ５のすぐ
後ろには第２の釉薬つぼ６が配置されており、この第２
の釉薬つぼ６の構造はほぼ図示の釉薬つぼ５と同じであ
って、同一あるいは同様の方法で支持アーム３ａにたと
えば軸承されているので、以下においては釉薬つぼ５に
ついてだけ説明する。釉薬つぼ５はほぼ円筒状の容器と
して形成されており、その上側にはリング状の収容面２
６が形成されている。この収容面２６は柔軟である。こ
れは収容面２６の領域の材料を適当に選択し、あるいは
適当に形成することによって柔軟にすることができる。
たとえば第５図にはこの種の柔軟な収容面２６の一部が
示されており、この収容面には皿８の糸底８ａに釉薬が
溜まるのを防止するために、多数の径方向の畝２７が設
けられている。図には示されていないが、収容面２６を
柔軟に形成することと共に、施釉すべき部材ないし皿８
の糸底８ａの形状に収容面２６を確実に合わせることが
できるようにするために、収容面２６を釉薬つぼ５の軸
に対してわずかに傾斜させて配置することも可能である
。釉薬つぼ５はその下部を回転軸承されており、回転数
制御されるモータ２８によって駆動され、その際に自ら
の軸を中心に回転される。釉薬つぼ５のほぼ中央に吸引
バイブ２９が配置されており、この吸引バイブは釉薬つ
ぼ５の高さのほぼ半分まで達している。吸引バイブ２９
には吸気装置３０が接続されているので、釉薬つぼ５の
内部には負圧が形成され、それによって施釉すべき皿が
収容面２６上に固定される。１つの同一の釉薬つぼ５な
いし６を用いて種々の直径の施釉すべき材料を収容する
ことができるようにするために、収容面２６を図示の例
よりも広く形成することも可能である。径方向の畝２７
の間に形成されるスリットは、たとえば１ｍｌＴ１幅で
約０．１ｍｍの深さにすることができる。
示されており、この収容面には皿８の糸底８ａに釉薬が
溜まるのを防止するために、多数の径方向の畝２７が設
けられている。図には示されていないが、収容面２６を
柔軟に形成することと共に、施釉すべき部材ないし皿８
の糸底８ａの形状に収容面２６を確実に合わせることが
できるようにするために、収容面２６を釉薬つぼ５の軸
に対してわずかに傾斜させて配置することも可能である
。釉薬つぼ５はその下部を回転軸承されており、回転数
制御されるモータ２８によって駆動され、その際に自ら
の軸を中心に回転される。釉薬つぼ５のほぼ中央に吸引
バイブ２９が配置されており、この吸引バイブは釉薬つ
ぼ５の高さのほぼ半分まで達している。吸引バイブ２９
には吸気装置３０が接続されているので、釉薬つぼ５の
内部には負圧が形成され、それによって施釉すべき皿が
収容面２６上に固定される。１つの同一の釉薬つぼ５な
いし６を用いて種々の直径の施釉すべき材料を収容する
ことができるようにするために、収容面２６を図示の例
よりも広く形成することも可能である。径方向の畝２７
の間に形成されるスリットは、たとえば１ｍｌＴ１幅で
約０．１ｍｍの深さにすることができる。
空気量が多い場合には、吸気装置３０によって釉薬つぼ
５内に形成される負圧は小さい。皿８の糸底８ａに釉薬
が溜まるのを防止するために、畝２７により形成される
スリットを通して所定量の空気を導入することも可能で
ある。制御可能なモータ３２が釉薬つぼ５とその上に固
定されている皿８を釉薬槽３３中へ揺動させ、このとき
に同時に釉薬つぼ５が回転する。第２図に示す釉薬つぼ
５が下方へ揺動した位置において（この位置における釉
薬つぼは符号５゛で示されている）、皿８の外面の施釉
が行われる。第５図に示すように、柚薬つぼ５′は保持
している皿８と共に一部だけ釉薬槽の釉薬の中へ浸され
る。この位置にある釉薬つぼ５°はモータ２８によって
自らの軸を中心に制御された回転を行うので、このよう
に一部だけ浸されることで十分である。同時に皿８の底
面が釉薬つぼ５の位置５′において施釉される。という
のは釉薬つぼ５の内部には皿８を設置する前に収容面２
６へすでに所定量の釉薬が配置されているからである。
５内に形成される負圧は小さい。皿８の糸底８ａに釉薬
が溜まるのを防止するために、畝２７により形成される
スリットを通して所定量の空気を導入することも可能で
ある。制御可能なモータ３２が釉薬つぼ５とその上に固
定されている皿８を釉薬槽３３中へ揺動させ、このとき
に同時に釉薬つぼ５が回転する。第２図に示す釉薬つぼ
５が下方へ揺動した位置において（この位置における釉
薬つぼは符号５゛で示されている）、皿８の外面の施釉
が行われる。第５図に示すように、柚薬つぼ５′は保持
している皿８と共に一部だけ釉薬槽の釉薬の中へ浸され
る。この位置にある釉薬つぼ５°はモータ２８によって
自らの軸を中心に制御された回転を行うので、このよう
に一部だけ浸されることで十分である。同時に皿８の底
面が釉薬つぼ５の位置５′において施釉される。という
のは釉薬つぼ５の内部には皿８を設置する前に収容面２
６へすでに所定量の釉薬が配置されているからである。
それぞれ施釉すべき部材の形状および大きさに従って、
施釉すべき部材に施釉ステーション１２において確実か
つ完璧に施釉することができるように、釉薬つぼ５，６
の回転数と揺動は制御される。
施釉すべき部材に施釉ステーション１２において確実か
つ完璧に施釉することができるように、釉薬つぼ５，６
の回転数と揺動は制御される。
次に第６図と第７図を用いて引渡しステーション１６と
領域１７および搬出領域Ｃとの関連で行われる処理の詳
細について詳しく説明する。
領域１７および搬出領域Ｃとの関連で行われる処理の詳
細について詳しく説明する。
引渡しステーション１６には全体を符号３４で示す吸引
ユニットが設けられており、この吸引ユニットには２つ
の吸引器３５．３６が設けられている。吸引ユニット３
４全体は水平方向へ移動することができる。施釉ステー
ション１２で施された釉薬がステーション１３〜１５を
通過した後に十分に乾燥している施釉済の皿８が引渡し
ステーション１６において吸引器３５によって釉薬つぼ
５から取り出され、かつこの吸引器は垂直方向へ上下移
動することができる。吸引器は次に水平方向へ移動され
、皿を領域１７のスポンジベルト３７の上方で位置決め
し、静止しているスポンジベルト３７上に皿を設置する
。吸引器３５は皿８をスポンジベルト３７上に設置した
後にスポンジベルト３７の上方の位置から第６図の左に
示す位置へ復帰する。吸引器３６がスポンジベルト３７
上に載置されている皿８上へ下降し、回転を始めたスポ
ンジベルト３７上で皿をその軸を中心に回転させる。こ
のために他のモータ３８が設けられている。皿８の糸底
８ａがスポンジで拭かれるときに糸底の領域に付着して
いる釉薬が除去される。
ユニットが設けられており、この吸引ユニットには２つ
の吸引器３５．３６が設けられている。吸引ユニット３
４全体は水平方向へ移動することができる。施釉ステー
ション１２で施された釉薬がステーション１３〜１５を
通過した後に十分に乾燥している施釉済の皿８が引渡し
ステーション１６において吸引器３５によって釉薬つぼ
５から取り出され、かつこの吸引器は垂直方向へ上下移
動することができる。吸引器は次に水平方向へ移動され
、皿を領域１７のスポンジベルト３７の上方で位置決め
し、静止しているスポンジベルト３７上に皿を設置する
。吸引器３５は皿８をスポンジベルト３７上に設置した
後にスポンジベルト３７の上方の位置から第６図の左に
示す位置へ復帰する。吸引器３６がスポンジベルト３７
上に載置されている皿８上へ下降し、回転を始めたスポ
ンジベルト３７上で皿をその軸を中心に回転させる。こ
のために他のモータ３８が設けられている。皿８の糸底
８ａがスポンジで拭かれるときに糸底の領域に付着して
いる釉薬が除去される。
スポンジベルト３７上でこのように皿８が処理された後
に、吸引器３６が皿８をスポンジベルト３７から持ち上
げて、搬出領域に配置されているコンベヤベルト１８へ
移送する。コンベヤベルト１８上にはたとえば燃焼カプ
セル３９が配置されており、皿８は心出しされた状態で
この燃焼カプセルへ挿入されなければならない。スポン
ジベルト３７上で下端縁を拭かれた皿８が吸引器３６に
よって燃焼カプセル３９へ挿入される。それから皿８は
この燃焼カプセル３９に入ってコンベヤベル）１８によ
り、たとえば図示していないがさらに加工するために燃
焼炉へ移送される。
に、吸引器３６が皿８をスポンジベルト３７から持ち上
げて、搬出領域に配置されているコンベヤベルト１８へ
移送する。コンベヤベルト１８上にはたとえば燃焼カプ
セル３９が配置されており、皿８は心出しされた状態で
この燃焼カプセルへ挿入されなければならない。スポン
ジベルト３７上で下端縁を拭かれた皿８が吸引器３６に
よって燃焼カプセル３９へ挿入される。それから皿８は
この燃焼カプセル３９に入ってコンベヤベル）１８によ
り、たとえば図示していないがさらに加工するために燃
焼炉へ移送される。
第６図と第７図では詳しく図示されていないが、もちろ
ん２つの吸引ユニット３４が互いに平行に配置されてい
るので、引渡しステーション１６がら加工領域１７、コ
ンベヤベルト１８までの両釉薬つぼ５，６による材料の
処理を同時に行うことができる。
ん２つの吸引ユニット３４が互いに平行に配置されてい
るので、引渡しステーション１６がら加工領域１７、コ
ンベヤベルト１８までの両釉薬つぼ５，６による材料の
処理を同時に行うことができる。
図示の実施例とは異なる実施例として、皿８をスポンジ
ベルト３７上で処理した後にたとえば直接コンベヤベル
ト１８上に設置し、その後段に接続されている他の加工
装置へ送るようにすることも可能である。
ベルト３７上で処理した後にたとえば直接コンベヤベル
ト１８上に設置し、その後段に接続されている他の加工
装置へ送るようにすることも可能である。
次に第８図を用いて第１図に示す施釉機１の他のステー
ション１９の詳細について説明する。他のステーション
１９において釉薬つぼ５，６ （第８図では簡単にする
ために釉薬つぼ５だけが示されている）は、第８図に示
す所定の位置へ揺動される。図示されていない釉薬ミキ
サーから出ている釉薬オーバーフローバイブ４０の一端
が釉薬つぼ５の内部空間の方向へ開放している。図にお
いて破線と矢印で示すように、釉薬つぼ５が図示の位置
にあるときに、供給された釉薬の余分が、ン蚤方向の畝
２７ （第５図）を通して振り落とされて、図示されて
いない捕捉装置で捕捉され、フィルター装置を介して釉
薬の循環系に供給される。釉薬つぼ５の揺動位置に従っ
て釉薬つぼ５の内部には所定レベルの釉薬が配置され、
このレベルはたとえば施釉すべき材料の底に施釉するの
に必要な釉薬の量を示している。釉薬オーバーフローバ
イブ１０を介して新しく釉薬が釉薬つぼ５へ充填される
とき、それ以前に釉薬つぼ５に入っていた？！１１］薬
を交換して釉薬の質を保証することも可能である。
ション１９の詳細について説明する。他のステーション
１９において釉薬つぼ５，６ （第８図では簡単にする
ために釉薬つぼ５だけが示されている）は、第８図に示
す所定の位置へ揺動される。図示されていない釉薬ミキ
サーから出ている釉薬オーバーフローバイブ４０の一端
が釉薬つぼ５の内部空間の方向へ開放している。図にお
いて破線と矢印で示すように、釉薬つぼ５が図示の位置
にあるときに、供給された釉薬の余分が、ン蚤方向の畝
２７ （第５図）を通して振り落とされて、図示されて
いない捕捉装置で捕捉され、フィルター装置を介して釉
薬の循環系に供給される。釉薬つぼ５の揺動位置に従っ
て釉薬つぼ５の内部には所定レベルの釉薬が配置され、
このレベルはたとえば施釉すべき材料の底に施釉するの
に必要な釉薬の量を示している。釉薬オーバーフローバ
イブ１０を介して新しく釉薬が釉薬つぼ５へ充填される
とき、それ以前に釉薬つぼ５に入っていた？！１１］薬
を交換して釉薬の質を保証することも可能である。
したがって、釉薬つぼ５の揺動軸受を然るべく選択する
ことによって、釉薬つぼの内部にその後存在しかつ底の
施釉に適した量の釉薬を配置することが簡単にできる。
ことによって、釉薬つぼの内部にその後存在しかつ底の
施釉に適した量の釉薬を配置することが簡単にできる。
それによって施釉機１を容易にそれぞれ所望の要請に合
わせることができる。
わせることができる。
外面および収容面２６に流れ落ちる釉薬がある場合は、
クリーニング装置を用いてきれいにすることができる。
クリーニング装置を用いてきれいにすることができる。
第１図は本発明による陶磁器の施釉機の全体を示す上面
図、 第２図はスタンプ工具との関連において細部を示す施釉
機の心出しステーションの側面図、第３図は第２図に示
す心出しステーションの領域の上面図、 第４図は心出しステーションから施釉ステーションへの
引き渡しに関連して施釉機の施釉ステーションを示す側
面図、 第５図は釉薬つぼの上側の柔軟な収容面の構成を示す部
分的な図、 第６図は施釉機の引渡しステーションの領域を示す側面
図、 第７図は第６図に示す引渡しステーションの領域の上面
図、 第８図は施釉機の心出しステーションのすぐ前および引
渡しステーションのすぐ後ろの領域をはっきりと示すた
めの概略図である。 Ａ・・・供給領域、Ｂ・・・施釉機の回転方向を示す矢
印、Ｃ・・・搬出領域、１・・・施釉機会体、２・・・
回転クロス、３ａ〜３ｆ・・・支持アーム、４・・・工
作物ホルダ全体、５・・・釉薬つぼ、５′ ・・・第４
図下方の釉薬っぽ、６・・・釉薬つぼ、７・・・コンベ
ヤベルト、８・・・皿、８ａ・・・皿８の糸底、１０・
・・心出しステーション、１１ ・・・ローラ、１２・
・・施釉ステーション、１３・・・材料を垂直方向に向
けるステーション、１４・・・材料をほぼ水平方向に向
けるステーション、１５・・・中間のステーション、１
６・・・引渡しステーション、１７・・・領域、１８・
・・コンベヤベルト、１９・・・他のステーション、２
０・・・心出しローラ、２１・・・スタンプ工具、２２
・・・絵具パレット、２３・・・絵具つぼ、２４・・・
スタンプヘッド、２５・・・吸引器、２６・・・収容面
、２７・・・径方向の畝、２８・・・モータ、２９・・
・吸引パイプ、３０・・・吸気装置、３２・・・制御可
能なモータ、３３・・・釉薬槽、３４・・・吸引ユニッ
ト、３５・・・吸引器、３６・・・吸引器、３７・・・
スポンジヘッド、３８・・・モータ、３９・・・燃焼カ
プセル、４０・・・釉薬オーバーフローパイプ。 特許出願人 ミヒャエル・ボイド・ジー・エム・ビ
ー・エイチ 代理人 弁理士 筒 井 大 和 同 松 倉 秀 実 同 中 野 敏 夫 Ｕ８１１ ＦＩＧ、 ４ ＦＩＧ、 ８ ｑ
図、 第２図はスタンプ工具との関連において細部を示す施釉
機の心出しステーションの側面図、第３図は第２図に示
す心出しステーションの領域の上面図、 第４図は心出しステーションから施釉ステーションへの
引き渡しに関連して施釉機の施釉ステーションを示す側
面図、 第５図は釉薬つぼの上側の柔軟な収容面の構成を示す部
分的な図、 第６図は施釉機の引渡しステーションの領域を示す側面
図、 第７図は第６図に示す引渡しステーションの領域の上面
図、 第８図は施釉機の心出しステーションのすぐ前および引
渡しステーションのすぐ後ろの領域をはっきりと示すた
めの概略図である。 Ａ・・・供給領域、Ｂ・・・施釉機の回転方向を示す矢
印、Ｃ・・・搬出領域、１・・・施釉機会体、２・・・
回転クロス、３ａ〜３ｆ・・・支持アーム、４・・・工
作物ホルダ全体、５・・・釉薬つぼ、５′ ・・・第４
図下方の釉薬っぽ、６・・・釉薬つぼ、７・・・コンベ
ヤベルト、８・・・皿、８ａ・・・皿８の糸底、１０・
・・心出しステーション、１１ ・・・ローラ、１２・
・・施釉ステーション、１３・・・材料を垂直方向に向
けるステーション、１４・・・材料をほぼ水平方向に向
けるステーション、１５・・・中間のステーション、１
６・・・引渡しステーション、１７・・・領域、１８・
・・コンベヤベルト、１９・・・他のステーション、２
０・・・心出しローラ、２１・・・スタンプ工具、２２
・・・絵具パレット、２３・・・絵具つぼ、２４・・・
スタンプヘッド、２５・・・吸引器、２６・・・収容面
、２７・・・径方向の畝、２８・・・モータ、２９・・
・吸引パイプ、３０・・・吸気装置、３２・・・制御可
能なモータ、３３・・・釉薬槽、３４・・・吸引ユニッ
ト、３５・・・吸引器、３６・・・吸引器、３７・・・
スポンジヘッド、３８・・・モータ、３９・・・燃焼カ
プセル、４０・・・釉薬オーバーフローパイプ。 特許出願人 ミヒャエル・ボイド・ジー・エム・ビ
ー・エイチ 代理人 弁理士 筒 井 大 和 同 松 倉 秀 実 同 中 野 敏 夫 Ｕ８１１ ＦＩＧ、 ４ ＦＩＧ、 ８ ｑ
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、陶磁器の施釉機であって、工作物ホルダを有する多
数の支持アームを備えた回転クロスを有し、該回転クロ
スにより作業周期に応じて、少なくとも、施釉ステーシ
ョンと、施釉された被施釉材料をほぼ水平に保つ他のス
テーションとへの切換が可能であり、前記施釉ステーシ
ョン（１２）の前段には心出しステーション（１０）が
接続されており、該心出しステーションに到着して心出
しされた前記被施釉材料（８）は吸引器（２５）によっ
て該心出しステーションから前記施釉ステーション（１
２）の前記工作物ホルダ（４）へ引き渡されることを特
徴とする、特に皿等の、陶磁器の施釉機。 ２、前記被施釉材料（８）がほぼ水平位置に保たれる前
記ステーション（１４）を通過後に引渡しステーション
（１６）によって、該材料（８）の脚部（８ａ）が吸引
器（３４、３５、３６）によって前記工作物ホルダ（４
、５、６）からスポンジベルト（３７）上へ設置される
ことを特徴とする、請求項１に記載の施釉機。 ３、前記吸引器を少なくとも２つ（３５、３６）有する
吸引ユニット（３４）が、前記引渡しステーション（１
６）に前記支持アーム（３ａ〜３ｆ）の延長部に移動で
きるように軸承されており、前記吸引器（３５、３６）
が上下移動可能であることを特徴とする、請求項２に記
載の施釉機。 ４、第１の前記吸引器（３５）は、工作物ホルダ（４、
５、６）の前記被施釉材料（８）を静止した前記スポン
ジベルト（３７）上へ運んで設置し、第２の前記吸引器
（３６）は該スポンジベルト（３７）上の該材料（８）
上へ下降して、該スポンジベルト（３７）が回転すると
きに該材料をその軸を中心に回転させることを特徴とす
る、請求項３に記載の施釉機。 ５、前記第２の吸引器（３６）が回転運動の停止後に前
記被施釉材料（８）を前記スポンジベルト（３７）から
持ち上げて、移送装置へ引き渡すことを特徴とする、請
求項４に記載の施釉機。 ６、前記スポンジベルト（３７）から前記被施釉材料（
８）を送り出すと同時に前記工作物ホルダ（４）から取
り出された次の被施釉材料（８）が該スポンジベルト（
３７）へ引き渡されるように前記両吸引器（３５、３６
）の動作が同調されていることを特徴とする、請求項５
に記載の施釉機。 ７、前記施釉ステーション（１２）の前段に他のステー
ション（１９）が接続されており、該ステーションにお
いて、前記工作物ホルダ（４、５、６）は施釉された前
記材料（８）を取り出した後に所定の揺動位置へ移動可
能であり、この揺動位置において釉薬オーバーフローパ
イプ（４０）により該工作物ホルダ（４、５、６）内に
所定レベルの釉薬を供給することを特徴とする、請求項
１から６のいずれか１項に記載の施釉機。 ８、前記工作物ホルダ（４、５、６）を水平線に対し傾
斜させることによって釉薬の量を決定することを特徴と
する、請求項７に記載の施釉機。 ９、前記水平に保たれるステーション（１４）と前記引
渡しステーション（１６）との間に少なくとも１つの中
間ステーション（１５）が設けられており、該中間ステ
ーション（１５）においては前記被施釉材料（８）がほ
ぼ水平の位置に配置されていることを特徴とする、請求
項１から８のいずれか１項に記載の施釉機。 １０、前記工作物ホルダ（４）のそれぞれに少なくとも
２つの釉薬つぼ（５、６）が設けられ、各釉薬つぼ（５
、６）には前記被施釉材料（８）の脚部（８ａ）を収容
する収容面（２６）が設けられていることを特徴とする
、請求項１に記載の施釉機。 １１、前記収容面（２６）が前記釉薬つぼ（５、６）の
中心軸に対してわずかに傾斜していることを特徴とする
、請求項１０に記載の施釉機。 １２、前記収容面（２６）に多数の径方向の畝（２７）
が形成されていることを特徴とする、請求項１０あるい
は１１に記載の施釉機。 １３、前記釉薬つぼ（５、６）内に負圧を発生させるた
めの吸気装置（３０）が設けられており、該吸気装置は
空気量が多い場合にはわずかな負圧を発生させることを
特徴とする、請求項１０から１２のいずれか１項に記載
の施釉機。 １４、前記釉薬つぼ（５、６）は施釉ステーション（１
２）において釉薬槽（３３）中へ揺動して沈み、その状
態で自らの軸を中心に回転運動を行い、かつそこから揺
動して出ることを特徴とする、請求項１０から１３のい
ずれか１項に記載の施釉機。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE3815822.1 | 1988-05-09 | ||
| DE3815822A DE3815822A1 (de) | 1988-05-09 | 1988-05-09 | Maschine zum glasieren von ton- und porzellanwaren und werkstueckhalter hierfuer |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01290578A true JPH01290578A (ja) | 1989-11-22 |
| JP2588961B2 JP2588961B2 (ja) | 1997-03-12 |
Family
ID=6353996
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1019417A Expired - Lifetime JP2588961B2 (ja) | 1988-05-09 | 1989-01-27 | 陶磁器の施釉機 |
Country Status (6)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4995331A (ja) |
| EP (1) | EP0341387B1 (ja) |
| JP (1) | JP2588961B2 (ja) |
| CS (1) | CS274687B2 (ja) |
| DE (3) | DE8806156U1 (ja) |
| ES (1) | ES2041857T3 (ja) |
Families Citing this family (31)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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| JPH04256625A (ja) * | 1991-02-06 | 1992-09-11 | Inax Corp | 衛生陶器未焼成品の移載装置 |
| DE4232631A1 (de) * | 1992-09-29 | 1994-03-31 | Michael Voit Gmbh Maschinenfab | Verfahren zum Betreiben einer Durchlaufbrennanlage, insbesondere für Ton- oder Porzellanwaren und Durchlaufbrennanlage hierfür |
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- 1988-05-09 DE DE3815822A patent/DE3815822A1/de active Granted
-
1989
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