JPH04150969A - ディッピング処理方法及びその装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本願はゴム焼付部品の芯金等からなる被処理物に対して
接着剤等をディッピング処理するための方法及び装置に
係り、ディッピング処理の品質向上と作業の効率化を実
現したものに関する。

［従来の技術〕 従来のディッピングによる接着剤塗布工程では、被処理
物を入れたかごを接着液槽上方からチェーン等で品り下
げて接着液中へ浸漬し、液中で揺り動かすことによりデ
ィッピングを行い、その後液中から引上げて静止するこ
とにより、タレ切り及び乾燥を行っていた。

また、ディッピング中に接着剤によりかごが目詰まりす
るので、接着剤塗布工程を数ターン行った後、目詰まり
が生じる都度、かごを外して積み上げておき、ある程度
の数が貯えられた段階でまとめて溶剤中へ浸漬し、手作
業により洗浄していた。

［発明が解決しようとする課題］ しかし前記方法では、ディッピング時におけるかごの揺
動が手作業であるから、かご内部で被処理物を十分に撹
拌できず被処理物が相互に重なったままの場合があり、
このような場合には部分的に接着剤が塗布しない等塗膜
の不均一化を招いた。また、乾燥時においても、被処理
物が相互に接着してしまったり、タレのあるまま乾燥す
ることにより部分的に盛り上がった状態で固まることに
より塗膜厚に偏りが生じることがあった。しかも、この
ような手作業によると、作業ムラがあり、かつ時間がか
かる等の問題があり、作業効率の向上が望まれていた。

さらに、上記洗浄方法によれば、かごを多数必要とする
点で不経済であり、かつ洗浄の度に着脱しなければなら
ないという点でも効率が悪い、また、比較的長い時間か
ごを放置後洗浄するので、接着剤が強固に付着して洗浄
しにくく、その後のディッピングにおける品質に影響を
与えるおそれがあった。そのうえ、人手による洗浄は溶
剤に触れざるを得す作業員に敬遠されがちであった。

そこで本願に係るディッピング処理方法は、均一な塗膜
形成を可能とし、かつ作業効率の向上を主目的とする。

併せて、かごの洗浄工程を連続的にかつ効率的に行うこ
とを目的とする。

また、本願に係るディッピング装置は、上記有利なディ
ッピング処理方法を可能とする装置の提供を主目的とし
、併せて構造を簡単にすること並びに操作を簡単かつ効
率よ（できる装置及びディッピング処理を経済的にでき
る装置の提供を目的とする。

［課題を解決するための手段］ 上記課題を解決するため、本願に係るディッピング処理
方法は、予め被処理物を収容したかごの少な（とも一部
を処理液中へ浸漬した状態で動力により回転させる回転
ディッピングを行い、その後かごを処理液から出して回
転を停止させることにより余剰の処理液を滴下させるタ
レ切りを行い、続いて処理液から出したままの状態で再
びかごを回転させることにより被処理物表面に塗布され
た処理液を乾燥させる回転乾燥を行うことを特徴とする
。

この場合、回転ディッピング時にかごの回転面を傾ける
ことができる。また、タレ切り時にもかごを傾けること
ができ、さらに傾けられた状態のかごを連続的にスイン
グさせることもできる。また、回転乾燥時にかごの回転
面を略鉛直に保持することかでき、このとき同時にかご
に向かって送風することもでき、かつ送風中に処理液表
面を覆うこともできる。

回転乾燥後、回転軸へ取付けたままの状態で内容物を空
にしたかごを溶剤中へ浸漬して回転させることによりか
ごの洗浄を行うこともできる。このとき、回転ディッピ
ング、タレ切り及び回転乾燥からなる定常工程を複数回
反復する間にかごの洗浄工程を割り込ませ、かごの洗浄
工程を定常工程と連続してかつ定期的に行うこともでき
る。また、ディッピングの処理液を接着剤とすることが
できる。但し、本願のディッピングには化成処理等も含
まれる。

本願に係るディッピング処理装置は、被処理物を収容可
能なかごと、このかごを先端側に着脱自在に片持ち支持
した回転軸と、回転軸の基端側を揺動自在に支持する支
持部材と、回転軸を回転させるための回転駆動手段と、
回転軸の先端側を略水平から略鉛直方向下向きの間で首
振動作させて、かごの少な（とも一部を液槽中へ出没自
在とするための首振駆動手段とを備えたことを特徴とす
る。このとき、液槽の内壁面を傾斜面にしてもよい。ま
た、かごの枠部材を丸棒状とすることもできる。さらに
、回転乾燥中のかごへ送風するダクトを支持部材へ設け
ることもできる。

支持部材自体をかごと一体に水平移動させるため水平方
向駆動手段を設け、かごの移動線に沿って予め配設され
た液槽の上方又は非上方位置へかごを選択的に水平移動
させることもできる。この場合、かごを取付けたままの
状態で、支持部材の水平方向移動並びに回転軸の回転及
び首振動作をさせることができる。

また、液槽を処理液と洗浄液で構成すれば、支持部材を
いずれかの液槽上方へ選択移動させることにより、ディ
ッピングとかごの洗浄を連続して行わせることもできる
。さらに、洗浄槽中にブラシを設けることもできる。

これらディッピング工程並びにかごの洗浄工程における
支持部材の移動及び回転軸の回転並びに首振動作を自動
制御手段によって連続的に自動制御することもできる。

［発明の作用・効果］ 請求項１において、ディッピング及び乾燥時に回転軸を
介してかごを動力回転させると、内容物である被処理物
がかごの内部で十分に撹拌されるので、被処理物が相互
に重なり合いにくい。このため、回転ディッピングでは
各被処理物表面へ均一に処理液が塗布され、回転乾燥で
は均一な塗膜を維持したまま迅速に乾燥される。また、
回転乾燥に先立ってタレ切りを行うことにより、回転中
における処理液の飛散を防ぎ、乾燥をより迅速にするこ
とができる。しかも動力回転のため、作業ムラが少な（
かつ短時間でできるため、作業効率を上げることができ
る。

請求項２において、回転ディッピング中にかごの回転面
を傾けると、かごの内部で被処理物が三次元的な複雑な
挙動をするよう撹拌されるので、被処理物相互の重なり
合いがさらに少なく、かつ、処理液の塗布がよりまんべ
んなく均一に行われる。

請求項３において、回転ディッピング後かごを処理液か
ら出して傾けた状態で回転を止めると、かご内に残存す
る余剰の処理液が速やかに滴下するので、タレ切りが迅
速になる。

請求項４において、タレ切り時にかごを連続的にスイン
グさせ、その傾斜角度を変化させると、さらにタレ切り
を促進できる。

請求項５において、かごの回転面を略鉛直にすると、か
ごの内部で被処理物はほぼ鉛直方向の回転面に添って二
次元的に挙動するよう整然として撹拌されるので、被処
理物相互の重なり合いが少な（なるとともに、乾燥過程
で塗膜の厚さに偏りが生じにく（、均一な塗膜を形成し
やす（なり、かつ、迅速に乾燥できる。

請求項６において、回転するかごに向かって送風すると
、−層乾燥が迅速になる。

請求項７において、送風時に処理液の表面をフタなどで
覆うと、処理液の飛散を防止できる。

請求項８において、回転乾燥後かごの内容物を空にして
から、溶剤液中へ入れて再びかごを回転させると、かご
は回転洗浄されて目詰りが除去される。ゆえに、洗浄作
業を容易にでき、しかも、ディッピング工程後直ちに洗
浄できるので、付着物が短時間でより良好に除去され易
（なり、洗浄時間を短縮できる。そのうえ、洗浄で除去
されない付着物の量が少な（なるので、これら付着物の
処理液中へ混入する量が少な（なり、デイラビング工程
の品質を安定させることができる。

請求項９において、定常工程を複数回反復する間に洗浄
工程を割り込ませると、定常工程であるディッピングと
かごの洗浄を連続する一連の作業として定期的に行うこ
とができ、洗浄工程を特別に別の場所で行うことなくか
つ洗浄頻度を多くできるので、常時かごの目詰りを防止
できる。ゆえに、作業の効率をより高めることができ、
同時にディッピングの品質向上を図ることができる。

請求項１０において、接着剤のディッピング処理である
場合、接着剤の粘性によってかごが目詰まりし易いが、
このようなディッピングと連続する洗浄を行うことによ
り目詰りを防止できる。

請求項１１において、先端側に片持ち支持されている回
転軸が回転駆動手段及び首振駆動手段によって回転及び
首振動作可能である。したがって、首振駆動手段により
回転軸の先端側だけを水平から下向き状態の間で上下動
させることができ、回転軸の先端側を下方へ傾けてかご
を少な（とも部分的に液槽中へ入れて回転駆動手段によ
り回転させると、内容物が処理液の場合には回転ディッ
ピングが、溶剤の場合にはかごの洗浄がそれぞれ行われ
る。このとき、回転軸の傾きは首振駆動手段によって任
意に設定できる。しかも、かごの回転面を傾けた状態で
回転させることができ、回転ディッピングに好適なもの
となる。

回転ディッピング後、首振駆動手段により回転軸を上方
へ移動させてかごを処理液上へ出した状態で傾けるとと
もに回転軸を回転停止させた状態を保持するとタレ切り
が行われる。このタレ切り時に回転軸の傾きを連続変化
するようスイングさせることも容易に可能である。タレ
切り後、回転軸を首振駆動手段により略水平にして回転
駆動手段により回転させると回転乾燥が行われる。ゆえ
に、かごの回転、上下動並びに傾動を一軸で簡単にでき
、装置の構造が簡単になる。

請求項１２において、ディッピング時にかごが傾いてい
る場合、これと対応するように液槽の壁面を斜面にする
と、それだけ内容量を少なくでき経済的であり、かつ処
理液等の交換サイクルを早（して品質を一定に維持でき
る。

請求項１３において、かごの枠部材を丸棒状とすること
により、余剰の処理液の滴下を促進できるので、タレ切
りがさらに迅速になる。

請求項１４において、送風用のダクトを支持部材へ一体
化してお（と、支持部材が移動しても常時かごとダクト
の位置関係を一定に維持できる。

請求項１５において、水平移動駆動手段によって支持部
材を水平移動させるとかごも一体に水平移動するので、
かごは回転軸の首振動作による上下動に加えて直交する
水平方向へも移動可能であり、予めかごの移動線に沿っ
て配設されている液槽上へ選択移動させて、回転ディッ
ピング、クレ切り及び回転乾燥の各処理を行うことがで
きる。

液槽上以外の位置へ選択移動させれば被処理物の投入又
は取り出しを行うことができる。

また、複数の液槽をかごの移動線に沿って設けると、支
持部材をこの液槽毎に順次移動させることにより、複数
回のディッピングを連続処理できる。ゆえに、かごを同
一の回転軸へ取付けた状態で、回転及び傾き変化を行う
ことにより、回転ディッピング、タレ切り及び回転乾燥
の各処理操作をすることができ、かごの着脱作業を不要
とするので、作業効率がよい。

請求項１６において、ディッピング工程後、かごを回転
軸へ取付けたままの状態で内容物を空にしてから、水平
方向駆動手段により支持部材を洗浄槽上へ選択移動させ
、首振駆動手段によりかごを溶剤液中へ入れ、再びかご
を回転させると、かごは同一の回転軸へ取付けられたま
まの状態で回転洗浄できる。ゆえに、洗浄に伴うかごの
着脱作業が不要となる。しかも、ディッピング工程後直
ちに洗浄することができる。また、洗浄を回転軸の動力
回転によって行うので、作業員が溶剤と接触しないで済
む。

請求項１７において、洗浄槽内でかごを回転させると、
ブラシがかごの周囲へ接触するので、洗浄効率がより高
（なる。

請求項１８において、支持部材の移動、回転軸の首振動
作並びにその回転を自動制御手段によって自動制御する
と、各処理を自動化でき作業効率が向上する。

［実施例］ 以下、第１図乃至第９図に基づいて実施例を説明する。

デ　ッピング　　の 第１図は接着剤のディッピング及びかごの洗浄工程全体
を示す概念図であり、この工程は、投入（Ｐ・１）、塗
布（Ｐ・２）、取出しくＰ・３）、洗浄（Ｐ・４）から
なる。このうち（Ｐ・１）、（Ｐ・２）、　（Ｐ・３）
の各工程は連続して１ターンを構成する定常工程であり
、（Ｐ・４）工程のみはこの定常工程を適当ターン数反
復後、（Ｐ・１）工程へ移行する前に（Ｐ・３）工程に
続いて行われる割り込み工程である。以下、各工程を概
説する。

（Ｐ・１）投入工程 まず、かご１の口部を上に向けてフタ２を開き、ゴム焼
付部品の芯金などからなる被処理物３を内部へ投入する
。

（Ｐ・２）ディッピング工程 続いてディッピング（Ｐ・２）工程へ移る。この工程は
サブ工程（Ｐ・２・１）乃至（Ｐ・２・４）からなる。

なお、図は各サブ工程毎に上段にかご１の正面視状態を
、下段にその側面視状態をそれぞれ併記しである。まず
、かご１を処理液槽４上へ移動させ、回転軸５を略水平
に位置させる（Ｐ・２・１）。次に、回転軸５の首振り
動作によってかご取付側が下がるように傾け、かご１を
処理液槽４内へ漫潰し、回転軸５と一体で回転させるこ
とによる回転ディッピングを行う（Ｐ・２・２）。所定
時間後、回転軸５の回転を止め、略水平へ戻してかご１
を処理液槽４から出し、回転軸５の静止状態で余分な処
理液のタレ切りを行う（Ｐ・２・３）。その後、回転軸
５を回転させるとともに、ダクト６から温風又は冷風を
吹き付けることにより回転乾燥させる（Ｐ・２・４）。

このとき、処理液槽４にはフタ７を被せる。

以上のサブ工程（Ｐ・２・１）乃至（Ｐ・２・４）でデ
ィッピングの単位工程が完了する。−液処理の場合は、
次に（Ｐ・３）工程へ移り、二液又はそれ以上の処理を
行う場合は、各処理液槽毎にこの単位工程を反復した後
、（Ｐ・３）工程へ移る。

（Ｐ・３）取出し工程 かごｌを適当位置まで移動させた後、口部を下へ向けて
フタ２を開き、ディッピング済の被処理物３を取り出す
。これで定常処理工程の１ターンを終了し、次ターン開
始のため（Ｐ・１）工程へ戻り、以後所定ターンを反復
する。

（Ｐ・４）洗浄工程 定常処理工程を所定数反復して最後の取出し工程（Ｐ・
３）を終了した段階で、かご１の目詰まりを取るため、
洗浄工程（Ｐ・４）定期的に割り込ませる。この工程で
は内容物が空のかご１を洗浄槽（後述）上へ移動させ、
その後はディッピング工程（Ｐ・２）と殆ど同様に浸漬
回転、タレ切り、乾燥と連続して行われる。この工程後
、再び投入工程（Ｐ・１）へ移り、継続して定常工程が
再開される。

デ　ッピング 第２図は処理装置全体を概略的に示す図であり、ブース
８内の壁面には奥行方向へ上下平行に延びる２本のガイ
ドレール９．９が設けられ、これにスライダ１０が支持
されている。スライダ１０は本願における支持部材の具
体例であり、がご１を着脱自在に支持するとともに、ガ
イドレール９．９によって案内移動可能である。また、
かご１を回転させるための第１モータ１１とかご１を傾
かせるため回転軸５を首振動作させる第２モータ１２が
設けられている。かご１はガイドレール９．９間にこれ
と平行に設けられたネジ軸１３と係合しており、ネジ軸
１３の一端に設けられたステップモータ１４の回転量に
応じて移動するようになっている。また、図では想像線
で示しであるが、ダクト６がかご１の周囲へ位置するよ
うにスライダ１０上へ取付けられている。第１モータ１
１、第２モータ１２及びステップモータ１４はそれぞれ
本願における回転駆動手段、首振駆動手段及び水平方向
駆動手段を構成し、シーケンサからなるコントローラ１
５によって制御されている。

コントローラ１５はステップモータ１４、第１モータ１
１、第２モータ１２及び送風ダクト６のそれぞれと電気
的に接続し、予め定められた処理時間毎にそれぞれを順
次作動制御するようになっている。個々の動作に対する
設定時間は作業員によって任意に設定できることは当然
である。但し、コントローラ１５をマイクロコンピュー
タにすることができ、この場合にはよりキメ細かな制御
ができる。

ガイドレール９．９の下方にばかご１の移動方向に沿っ
て単数又は複数の液槽すなわち処理液槽４及び洗浄槽１
６が配置されている。処理液槽４は処理内容に応じた数
になるよう適宜増減される。本実施例の処理液槽４は、
第１接着剤槽（Ａ）と第２接着剤槽（Ｂ）の２槽からな
る２液処理用に構成されている。以下、処理液槽を区別
する必要があるときのみ、符号４に（Ａ）又は（Ｂ）を
添えるものとする。各種４．１６はキャスターにより移
動可能であり、各槽上にはフタ７．１７が自動又は手動
で開閉可能に設けられる。本実施例ではスライダ１０が
順次処理液槽４（Ａ）−同４（Ｂ）−洗浄槽１６上へ選
択移動する構成になっているが、逆にスライダ１０を停
止しておき、これらの処理液槽４　（Ａ）　、４　（Ｂ
）及び洗浄槽１６側を手動又は自動的にスライダ１０の
下方へ移動させることもできる。ブース８の最奥部下方
には排風ダクト１８が設けられ、好ましくはダクト６の
吹き出し口の方向をこの排風ダクト１８へ向けるように
する。

第３図はスライダ１０の正面側、第４図は側面側の各詳
細構造を示す。スライダ１ｏには角筒状のスプロケット
ケース２０がガイドレール９．９と平行な横軸２１を介
して軸回り方向へ回動可能に連結されている。このスプ
ロケットケース２０内には回転軸５の軸端部へ一体回転
可能に取付けられた従動スプロケット２２が収容されて
いる。

従動スプロケット２２はチェーン２３を介して第１モー
タ１１の駆動スプロケット２４へ連結されている。第１
モータ１１はステー２５によってスプロケットケース２
０上へ固定されている。さらに、第４図に明らかなよう
に、第１モータ１１と直交方向にスライダ１０へ取付け
られている第２モータ１２の駆動スプロケット２６は巻
き上げ用チェーン２７と噛み合っており、巻き上げ用チ
ェーン２７の一端はスプロケットケース２０上に突出形
成されたステー２８へ取付けられている。

第２モータ１２の正転（巻き上げ側を正転とする、以下
同）によって巻き上げ用チェーン２７が巻き上げられる
と、従動スプロケット２２は図示の水平状態になり、第
２モータ１２の逆転により巻き上げ用チェーン２７が延
びると、従動スプロケット２２は横軸２１を中心に先端
が略４５°まで下向きに傾動することにより、首振り動
作を行う。但し、首振り時の傾動角θ、（第６図）は水
平に対して０°〜９０°の範囲で任意に設定可能である
。

このように、本実施例によれば、回転軸５を上下方向へ
首振動作させたので、スライダ１０又は回転軸５全体を
上下動する必要がな（、装置をコンパクトかつ簡単な構
造にできる。但し、首振動作と異なり、回転軸５を上下
方向へ伸縮動作させたり、回転軸５の中間に関節部を設
けて先端側を関節動作により上下動させる等積々の構造
も可能である。

回転軸５はスプロケットケース２０に突設されたホルダ
２９に軸受部材２９ａ’ｒ介して回転可能に支持され、
その先端にはフランジ３０が設けられている。このフラ
ンジ３０にばかご１の取付座３１がボルト３１ａによっ
て着脱自在に取付けられている。

スライダ１０のガイドレール９．９と対面する側には、
レール噛み合いブロック３２が各ガイドレール９．９に
対応して上下に設けられ、上下のブロック３２．３２間
にネジ軸１３と係合するスライドナツト３３が取付けら
れている。ネジ軸１３はスライドナツト３３を貫通して
紙面の上下方向へ延出している。したがって、ネジ軸１
３の正転（スライダ１０を進める回転）又は逆転によっ
てスライドナツト３３が進退方向の力を受けるので、ス
ライダ１０がガイドレール９．９に案内されて進退動を
行うことになる。なお、本願では第１図に示すブース８
の奥行方向への移動を進むとし、これと逆方向の移動を
退くとする。

本実施例の装置によれば、回転軸５の首振動作によりか
ご１を上下動させることができるので、回転ディッピン
グ、タレ切り及び回転乾燥の各処理操作の全てが、かご
ｌを回転軸５へ取付けたままの状態で行うことができる
。また、回転と上下動を一軸でまかなうことができ、装
置の構造を簡単にできる。さらに、回転軸５の首振りに
より回転ディッピング及びタレ切り時におけるかご１の
傾動を容易とし、かつ、その傾き試節を自由に変化可能
になる。

また、スライダ１０を水平方向へ移動自在としたので、
かご１を投入、ディッピング工程、取出しの各工程間で
移動させること並びにディッピング時における複数の処
理液槽４間の移動、さらには洗浄槽１６上への移動をそ
れぞれステップモータ１４の動力で選択的に行うことが
できる。ゆえに、かご１を回転軸５へ取付けたままで連
続作業ができ、作業効率が良い。しかも、スライダ１０
の水平移動並びに回転軸５の首振動作等をコントローラ
１５によって連続制御するので、ディッピング処理の品
質を安定にできると共に、自動化によって作業効率を一
層高めることができる。また、コントローラ１５をシー
ケンサとすることにより制固部を安価に製造できる。但
し、マイクロコンピュータにすれば、回転の強弱変化や
傾斜角の連続変化等をよりキメ細かく実現できる。

そのうえ、スライダ１０ヘダクト６を取付けてお（と、
スライダ１０が移動しても常時ダクト６を一体に移動で
きるので、かご１とダクト６の位置関係を一定にでき、
送風に好都合である。

第５図はかご１の詳細構造を示す。かご１は全体が略円
筒状をなし、丸棒状の枠部材３４とステンレス製の金網
３５で構成されている。円周側側面の一部には口部３６
が開口形成され、フタ２により開閉自在である。フタ２
は基端側か開口部３６周囲の枠部材ヘヒンジ３７により
回動自在に連結され、他端側にはフック３８が設けられ
ている。このフック３８は開口部３６周囲の対応部に設
けられたバックル３９と係脱可能である。また、−側面
の中央部には前述の取付座３１（第４図）が設けられて
いる。

第６図は処理液槽４の断面構造（第２図Ｃ−Ｃ線断面）
が示されている。これより明らかなように、処理液槽４
の枠４０の内側上方には略Ｖ字型断面の処理液収容部４
１が設けられている。処理液収容部４１をなす２つの傾
斜壁面のうち、内側傾斜壁面４２の水平となす角θ２は
略４５°であり、ディッピング時におけるかご１の回転
中心軸りの傾斜角θ１とほぼ等しい。一方、反対側の外
側傾斜壁面４３はこれよりも緩い傾斜をなし、その水平
となす角θ、はθ２よりも若干小さくなっている。外側
傾斜壁面４３側の傾斜を緩くすると、かご１が首振動作
するときの逃げを確保できる。なお、図中の符号４４は
液抜き用バルブ、４５は処理液である。処理液収容部４
１の内壁を傾斜面にすると、かご１が斜め下方へ首振り
状態で回転ディッピングを行うとき、その外形に略沿う
ことができ、処理液４５の容量を必要かつ十分にできる
。また、処理液４５の内容量を少なくできるので経済的
であり、しかも交換サイクルを早くして性能を一定に維
持できる。

第９図には洗浄槽１６についての同様断面が示されてい
る。洗浄槽１６は処理液槽４とほぼ同様の構造をなし、
溶剤収容部４６は内側傾斜面４７と外側傾斜面４８によ
ってＶ字状断面に形成され、それぞれの傾斜角θ２、θ
、も処理液槽４と同じであり、内部には洗浄液である溶
剤４９が収容されている。また、各傾斜面４７．４８に
はブラシ５０が設けられ、かご１が溶剤４９中へ浸漬さ
れたとき、その周囲へ接触可能になっている。溶剤収容
部４６を略■字状断面にした利点は処理液槽４における
と同じである。

ディッピングエ　の・ 次に、ディッピング工程の各サブ工程（Ｐ・２・１）〜
（Ｐ・２・４）につき詳述する。

（Ｐ・２・１）かご移動 かご１に対する投入工程（Ｐ・１、第１図）では、スラ
イダ１０がガイドレール９．９の左端に位置する（第２
図）。そこで投入が終了すると、スライダ１０がコント
ローラ１５の指令によるネジ軸１３の回転によりガイド
レール９．９上を処理液槽４（Ａ）の上方へ移動して停
止する。このとき回転軸５はほぼ水平に保持されている
。また、フタ７（第２図）は手動又は自動的に開けられ
る。

（Ｐ・２・２）回転ディッピング 第６図はディッピング状態を示す。前工程に続いて、コ
ントローラ１５によって第２モータ１２が逆転し、巻き
上げ用チェーン２７が延びるので、スプロケットケース
２０が横軸２１を中心に先端側が下方へ首振り動作を行
い、回転軸５が水平に対してθ、（４４５°）だけ傾く
ので、回転軸５の先端側へ取付けられているかご１は処
理液槽４の処理液（接着剤）中へ略半分程度没する。

このとき、かごｌの回転軸線りも傾斜角θ工と等しく、
略４５＠どなっている。

続いて、コントローラ１５によりスプロケットケース２
０と一体に回動している第１モータ１１を駆動させると
、駆動スプロケット２４が回転しチェーン２３を介して
従動スプロケット２２へ回転力を伝達するので、回転軸
５が回転し、同時にかご１が一部を液中へ浸漬した状態
で回転する。

この回転は傾斜角θ１なる傾斜した回転軸線りの周囲で
行われるため、かご１の回転面が傾き、内部の被処理物
３は三次元的な複雑な挙動によって、相互がよく分離し
た状態でかご１内で十分に撹拌されるので、被処理物３
が相互に密着することなく、かつその表面全体へ均一に
処理液が塗布される。

このとき、処理液収容部４１を略■字型断面とすること
により、内容物である処理液４５の量を少なくでき、そ
れだけ処理液４５の交換サイクルが早くなるので、処理
液４５の品質を安定化でき、かつ交換が容易となって経
済的でもある。

（Ｐ・２・３）タレ切り 所定時間が経過すると、コントローラ１５により第１モ
ータ１１の回転が止められ、第２モータ１２が正転側へ
回転されて巻き上げ用チェーン２７を巻き上げるため、
回転軸５のスプロケットケース２０と一体になって第７
図に示すように横軸２１を中心に上方へ回動し、この状
態でタレ切りを行う。このとき、かご１は処理液槽４（
Ａ）の液面上方へ出るとともに、その軸線りは傾斜角θ
４　（θ４くθ１）だけ傾いている。

二の状態でかご１及び回転軸５を回転停止させて所定時
間保持することにより、かご１内の余分な処理液は処理
液槽４内へ迅速に回収される。したがって、タレ切りが
十分に行われるので、以後の回転乾燥時に周囲へ処理液
が飛散しなくなり、かつ、被処理物３の表面に部分的な
タレを生じたまま不均一の塗膜形成することが少な（な
り、ディッピング処理の品質を安定させることができる
。しかも、傾斜角θ４は第２モータ１２により回転軸５
の首振角を調整するだけで任意に設定できるので、自由
度が大きい。そのうえ、かごｌの枠部材３４を丸棒状と
したので、枠部材３４への付着量も少なくなり一層タレ
切りが早くなる。

また、第２モータ１２をゆっくりと正逆転させることに
より、タレ切り工程の間中又は一部の時間で回転軸５を
連続的に首振させてかご１を傾動変化させれば、かご１
が処理液４５の液面より上方でスイングするので、さら
にタレ切りを促進できる。

（Ｐ・２・４）回転乾燥 この状態で所定時間が経過すると、コントローラ１５に
より第２モータが正転して、回転軸５を水平にするとと
もに第１モータ１１が再び駆動し、回転軸５を介してか
ご１が回転され、同時にかご】の側面に沿って設けられ
たダクト６から温風又は冷風が吹き付けられて、第８図
に示す回転乾燥が行われる。このとき、処理液槽４上は
フタ７によって閉じられ、送風下における処理液の飛散
防止が図られている。この回転により、かご１の回転面
は略鉛直方向になるから、内部の被処理物３はかごｌの
回転面にほぼ沿って二次元的な挙動をするよう整然と攪
拌され、被処理物３が相互に密着したり、傾（ことによ
って部分的にタレが固まって盛り上がるようなことが少
なくなり、表面に塗布された処理液の塗膜の厚さが均一
化した状態で乾燥される。しかも、回転に加えてダクト
６から送風するので、乾燥がより迅速になる。また、ダ
クト６の吹き出し方向を排風ダクト１８方向へ指向させ
ることにより、ブース８外へ飛散する処理液の量を少な
くできる。

所定時間駆動後、コントローラ１５により第１モーク１
１が停止されて乾燥工程を終了する。その後、コントロ
ーラ１５によってステップモータ１４を正転させること
により、スライダ１０を次の処理液槽４（Ｂ）上へ移動
させ、再び異なる処理液について全く同様のディッピン
グ工程を反復する。その後、ネジ軸１３の逆転によりス
ライダＩＱを後退させれば取出し工程となる。

本実施例では、かご１を同一の回転軸５へ取付けたまま
の状態でディッピング工程やかごの洗浄を行うことがで
きるので、その都度かご１を回転軸５に対して着脱する
必要がない。また、かご１を動力回転させるので、作業
ムラが少な（、短時間で作業できる。したがって、作業
効率がよく、ディッピング処理の品質が向上する。しか
も、回転ディッピング及び回転乾燥の採用により、被処
理物３相互の重なり合いを避けることができるので、塗
膜を均一にすることができる。

え置二ｎ夏豆１ 次に、洗浄工程について詳細に説明する。

第１図において、（Ｐ・１）乃至（Ｐ・３）からなる定
常工程の所定ターンが終了すると、かごｌは空の状態で
フタ２を閉じられ、洗浄工程（Ｐ・４）へ移る。まず、
第２図において、コントローラ１５により、巻き上げ用
チェーン２７が第２モータ１２によって巻き上げられて
回転軸５が上方へ首振りし、かご１の回転軸線を略水平
にする。続いてステップモータ１４の駆動でネジ軸１３
が正転することにより、スライダ１０がガイドレール９
．９に沿って洗浄槽１６上へ移動する。このとき、フタ
１７を手動又は自動で開（。

さらに、コントローラ１５によって第１モーク１１が逆
転すると、第９図に示すように、巻き上げ用チェーン２
７が延びるので、スプロケットケース２０が横軸２１を
中心に先端側が下方へ傾き、回転軸５も水平に対して傾
斜角θ、なる首振り動作を行うため、回転軸５の先端側
へ取付けられているかごｌは洗浄槽１６の溶剤４９中へ
略半分程度没する。この状態は第６図に示したディッピ
ング時と実質的に同じである。続いて、コントローラ１
５により第１モータ１１を駆動させると、回転軸５を介
してかご１が一部を液中へ浸漬した状態で回転する。こ
の回転による溶剤４９との激しい接触並びに回転するか
ご１の周囲へブラシ５０が接触することによってかご１
に付着していた接着剤は効率よく洗浄される。しかも、
洗浄をディッピングの直後に連続して行うため、がご１
へ付着した処理液があまり硬化せず、迅速かつより完全
に除去される。

所定時間が経過すると、コントローラ１５により第１モ
ータ１１の回転が止められ、第２モータ１２が正転側へ
回転されて巻き上げ用チェーン２７を巻き上げるため、
スプロケットケース２０は横軸２１を中心に上方へ囲動
し、かご１が洗浄槽１６の溶剤４９から脱する。そこで
、回転軸線りを若干傾けた状態又は水平にした状態で回
転軸５を停止させ、溶剤のタレ切りが行われる。所定時
間後、コントローラ１５により第１モータ１１が再び駆
動回転されることにより、回転軸５を介してかご１が回
転され、同時にかご１の側面に沿って設けられたダクト
６から温風又は冷風が吹き付けられる。このとき、洗浄
槽１６上はフタ１７によって閉じられ、溶剤４９の飛散
防止が図られている。この洗浄後、再びコントローラ１
５の指令で逆転駆動されるステップモータ１４によって
回転するネジ軸１３を介してスライダ１０をブース８外
へ後退させる。これにより、かごｌは新たな投入工程（
Ｐ−１）へ移り、再びディッピング処理の定常工程を開
始する。

この洗浄工程によれば、洗浄をディッピング処理工程と
連続して定期的に行うことができ、かご１の着脱が不要
となるので、作業効率が著しく向上する。特に、接着剤
の場合目詰りし易いので、洗浄の頻度を多くしなければ
ならないから、作業効率を顕著に向上させることができ
る。しかも、洗浄は接着剤塗布と同一の装置で自動的に
行われるので、作業員が溶剤液に触れずに作業が可能で
ある。そのうえ、かごｌを大量に用意する必要がなくな
るので、経済的である。さらに、付着物の除去をより完
全にできるため、ディッピング中に剥離した付着物が処
理液４５中に混入したり、被処理物３の表面へ付着する
おそれが少なくなり、ディッピング時の品質をより安定
させることができる。

なお、上記実施例は接着剤のディッピング処理に関する
ものであったが、本願はこれに限定されるものでなく、
化成処理など種々のディッピング処理に応用可能である
。

【図面の簡単な説明】

第１図乃至第９図は実施例であり、第１図は全体工程の
概念図、第２図は装置全体の概略図、第３２乃び第４図
はそれぞれ装置要部を示す拡大図、第５図は要部の斜視
図、第６図乃至第９図は各工程を説明するための図であ
る。 （符号の説明） １・・・かご、３・・・被処理物、４・・・処理液槽、
５・・・回転軸、６・・・ダクト、９・・・ガイドレー
ル、１ｏ・・・スライダ、１１・・・第１モータ、１２
・・・第２モータ、１３・・・ネジ軸、１４・・・ステ
ップモータ、１５・・・コントローラ、１６・・・洗浄
槽、５０・・・ブラシ。 特　許　出　願　人　株式会社　片山ゴム代理人　弁理
士　小　松　　清　先 竿 図

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、予め被処理物を収容したかごの少なくとも一部を処
   理液中へ浸漬して回転させる回転ディッピングを行い、
   その後かごを処理液から出して回転を停止することによ
   り余剰の処理液を滴下させるタレ切りを行い、続いて処
   理液から出したままの状態で再びかごを回転させること
   により被処理物表面に塗布された処理液を回転乾燥させ
   ることを特徴とするディッピング処理方法。 ２、回転デイツピング中、かごの回転面を傾斜させるこ
   とを特徴とする請求項１　記載のディッピング処理方法
   。 ３、タレ切り時にかごを処理液から出して傾斜状態で保
   持することを特徴とする請求項１記載のディッピング処
   理方法。 ４、タレ切り時にかごを連続的にスイングさせることを
   特徴とする請求項３記載のディッピング処理方法。 ５、回転乾燥中、かごの回転面を略鉛直に保持すること
   を特徴とする請求項１記載のディッピング処理方法。 ６、回転するかごに向かって送風することを特徴とする
   請求項５記載のディッピング処理方法。 ７、送風中、処理液表面を覆うことを特徴とする請求項
   ６記載のディッピング処理方法。８、回転乾燥後、内容
   物を空にしたかごを溶剤中へ浸漬して回転させることに
   よりかごの洗浄を行うことを特徴とする請求項１記載の
   ディッピング処理方法。 ９、回転ディッピング、タレ切り及び回転乾燥からなる
   定常工程を複数回反復する間にかごの洗浄工程を割り込
   ませ、かごの洗浄工程を定常工程と連続してかつ定期的
   に行うことを特徴とする請求項８記載のディッピング処
   理方法。 １０、処理液が接着剤であることを特徴とする請求項９
   記載のディッピング処理方法。 １１、被処理物を収容可能なかごと、このかごを先端側
   に着脱自在に片持ち支持した回転軸と、回転軸の基端側
   を揺動自在に支持する支持部材と、回転軸を回転させる
   ための回転駆動手段と、回転軸の先端側を略水平から略
   鉛直方向下向きの間で首振動作させてかごの少なくとも
   一部を液槽へ出没自在とするための首振駆動手段とを備
   えたことを特徴とするディッピング処理装置。 １２、液槽の内壁面を傾斜面としたことを特徴とする請
   求項１１記載のディッピング処理装置。 １３、かごの枠部材を丸棒状としたことを特徴とする請
   求項１１記載のディッピング処理装置。 １４、回転乾燥中のかごへ送風するためのダクトを支持
   部材に設けたことを特徴とする請求項１１記載のディッ
   ピング処理装置。 １５、かごと一体に支持部材を水平方向へ移動させるた
   めの水平方向駆動手段と、かごの水平方向における移動
   線に沿って配設された液槽とを備えるとともに、かごは
   水平移動により液槽の上方又は非上方位置へ選択移動可
   能であることを特徴とする請求項１１記載のディッピン
   グ処理装置。 １６、液槽が処理液槽と溶剤槽からなり、かごをいずれ
   かの液槽上へ選択的に移動することにより、かごを同一
   回転軸へ取付けたままの状態でディッピング及びかごの
   洗浄を連続して行うことを特徴とする請求項１５記載の
   ディッピング処理装置。 １７、溶剤槽中にかごの周囲と接触可能なブラシを設け
   たことを特徴とする請求項１６記載のディッピング処理
   装置。 １８、支持部材の移動及び回転軸の回転並びに首振動作
   を連続的に自動制御するための自動制御手段を備えたこ
   とを特徴とする請求項１４、１５又は１６のいずれかに
   記載したディッピング処理装置。