JPH01291012A - 排ガス処理装置 - Google Patents
排ガス処理装置Info
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- JPH01291012A JPH01291012A JP12099588A JP12099588A JPH01291012A JP H01291012 A JPH01291012 A JP H01291012A JP 12099588 A JP12099588 A JP 12099588A JP 12099588 A JP12099588 A JP 12099588A JP H01291012 A JPH01291012 A JP H01291012A
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Landscapes
- Incineration Of Waste (AREA)
- Waste-Gas Treatment And Other Accessory Devices For Furnaces (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
この発明は排ガス処理装置に関し、特に、セラミック焼
成炉から排出された有機物バインダを含むガスを燃焼さ
せて排出する、直接燃焼式の排ガス処理装置に関する。
成炉から排出された有機物バインダを含むガスを燃焼さ
せて排出する、直接燃焼式の排ガス処理装置に関する。
セラミック生ユニットの焼成に際して、セラミック生ユ
ニットが有機物バインダを含んでいる場合、２００〜４
００°Ｃの温度でセラミック住ユニットを加熱し、セラ
ミック生ユニット中の有機物バインダを燃焼させて除去
する脱パインダニ程が採られる。しかし、この脱パイン
ダニ程で有機物バインダを完全燃焼させることは難しく
、有機物バインダの大部分は不完全燃焼のまま排ガスと
して焼成炉から排出される。この排ガスは、異臭を放つ
公害源となるためそのまま大気へ放出することはできず
、そのため、従来でも、排ガスは直接燃焼式排ガス処理
装置や触媒燃焼式排ガス処理装置によって燃焼処理を施
した後で放出するようにしている。
ニットが有機物バインダを含んでいる場合、２００〜４
００°Ｃの温度でセラミック住ユニットを加熱し、セラ
ミック生ユニット中の有機物バインダを燃焼させて除去
する脱パインダニ程が採られる。しかし、この脱パイン
ダニ程で有機物バインダを完全燃焼させることは難しく
、有機物バインダの大部分は不完全燃焼のまま排ガスと
して焼成炉から排出される。この排ガスは、異臭を放つ
公害源となるためそのまま大気へ放出することはできず
、そのため、従来でも、排ガスは直接燃焼式排ガス処理
装置や触媒燃焼式排ガス処理装置によって燃焼処理を施
した後で放出するようにしている。
第２図は従来の直接燃焼式排ガス処理装置を示す図解図
である。焼成炉１からの排ガスは、バイブ２を通して、
ブロア３によって吸引され、空気と混合されて燃焼室４
に送り込まれ、バーナ５の火炎によって完全燃焼される
。すなわち、バーナ５には、燃料供給装置６から燃料ガ
スが供給される。そのガスをバーナ５によって排ガスと
ともに送り込まれた空気によって燃焼させる。
である。焼成炉１からの排ガスは、バイブ２を通して、
ブロア３によって吸引され、空気と混合されて燃焼室４
に送り込まれ、バーナ５の火炎によって完全燃焼される
。すなわち、バーナ５には、燃料供給装置６から燃料ガ
スが供給される。そのガスをバーナ５によって排ガスと
ともに送り込まれた空気によって燃焼させる。
燃焼室４で完全燃焼させられた排ガスは、連通孔７を通
して冷却室８に送り込まれ、排出プロア９によって大気
へ放出される。
して冷却室８に送り込まれ、排出プロア９によって大気
へ放出される。
一方、触媒燃焼式排ガス処理装置は、図示しないが、白
金等の酸化触媒によって排ガスを処理するものである。
金等の酸化触媒によって排ガスを処理するものである。
第２図に示すような直接燃焼式排ガス処理装置では、大
損りな設備を必要とするので初期コストが高いとともに
、燃料代すなわちランニングコストが高くなるという欠
点があった。また、高温で燃焼させるため、ＮＯｘやＳ
Ｏｘが発生するという新たな問題も生じた。
損りな設備を必要とするので初期コストが高いとともに
、燃料代すなわちランニングコストが高くなるという欠
点があった。また、高温で燃焼させるため、ＮＯｘやＳ
Ｏｘが発生するという新たな問題も生じた。
一方、触媒燃焼式排ガス処理装置では、排ガスは３００
〜４００℃の比較的低温で処理されるので、新たな有害
ガス発生の問題は生じないけれども、処理効率が悪いば
かりでなく、使用回数が増えるに従って触媒の活性が低
下してくるため処理能力も次第に低下するという問題が
あった。
〜４００℃の比較的低温で処理されるので、新たな有害
ガス発生の問題は生じないけれども、処理効率が悪いば
かりでなく、使用回数が増えるに従って触媒の活性が低
下してくるため処理能力も次第に低下するという問題が
あった。
なお、バーナ５の代わりに棒状のヒータを用いた直接燃
焼式排ガス処理装置もあるが、この従来技術では、排ガ
スと棒状ヒータとの間の熱交換率が低く、排ガスが十分
燃焼しないという問題があった。
焼式排ガス処理装置もあるが、この従来技術では、排ガ
スと棒状ヒータとの間の熱交換率が低く、排ガスが十分
燃焼しないという問題があった。
それゆえに、この発明の主たる目的は、より小型でしか
も安価な、直接燃焼式排ガス処理装置を提供することで
ある。
も安価な、直接燃焼式排ガス処理装置を提供することで
ある。
この発明は、セラミック焼成炉から排出されたガスを処
理するための排ガス処理装置であって、空気とともに入
口から送り込まれた排ガスを燃焼させるための燃焼室、
燃焼室に配置されたスパイラルヒータ、燃焼室内に配置
された多孔質の撹拌板、隔壁を通して燃焼室に連通ずる
冷却室、冷却室に空気を送り込んで燃焼済みの排ガスを
冷却して出口に導くための送風手段を備える、排ガス処
理装置である。
理するための排ガス処理装置であって、空気とともに入
口から送り込まれた排ガスを燃焼させるための燃焼室、
燃焼室に配置されたスパイラルヒータ、燃焼室内に配置
された多孔質の撹拌板、隔壁を通して燃焼室に連通ずる
冷却室、冷却室に空気を送り込んで燃焼済みの排ガスを
冷却して出口に導くための送風手段を備える、排ガス処
理装置である。
空気とともに燃焼室に送り込まれる排ガスは、スパイラ
ルヒータおよびそれによって加熱されている多孔質の撹
拌板に接触し、そこで熱交換が行われ、燃焼する。燃焼
室で完全燃焼された排ガスは、隔壁を通して冷却室に導
かれ、そこに送り込まれた空気と混合されるなどして冷
却され、出口を介して大気へ放出される。
ルヒータおよびそれによって加熱されている多孔質の撹
拌板に接触し、そこで熱交換が行われ、燃焼する。燃焼
室で完全燃焼された排ガスは、隔壁を通して冷却室に導
かれ、そこに送り込まれた空気と混合されるなどして冷
却され、出口を介して大気へ放出される。
この発明によれば、排ガスの熱交換すなわち燃焼が燃焼
室に配置されたスパイラルヒータと多孔質の撹拌板とに
よって行われる。したがって、従来の直接燃焼式排ガス
処理装置のように、バーナを用いないので、たとえばガ
スのような燃料を供給して燃焼させるための大損りな装
置を必要としない。そのため、初期コスト、ランニング
コストともに小さくて済む。さらに、棒状ヒータを用い
た従来の他の直接燃焼式排ガス処理装置に比べても、熱
交換率が高く、効率的である。そして、触媒燃焼式排ガ
ス処理装置のように処理効率が低くしかも処理能力が経
時的に低下するという問題も生じない。
室に配置されたスパイラルヒータと多孔質の撹拌板とに
よって行われる。したがって、従来の直接燃焼式排ガス
処理装置のように、バーナを用いないので、たとえばガ
スのような燃料を供給して燃焼させるための大損りな装
置を必要としない。そのため、初期コスト、ランニング
コストともに小さくて済む。さらに、棒状ヒータを用い
た従来の他の直接燃焼式排ガス処理装置に比べても、熱
交換率が高く、効率的である。そして、触媒燃焼式排ガ
ス処理装置のように処理効率が低くしかも処理能力が経
時的に低下するという問題も生じない。
この発明の上述の目的、その他の目的、特徴および利点
は、図面を参照して行う以下の実施例の詳細な説明から
一層明らかとなろう。
は、図面を参照して行う以下の実施例の詳細な説明から
一層明らかとなろう。
第１図はこの発明の一実施例を示す図解図である。排ガ
ス処理装置１０は本体１２を含み、この本体１２は焼成
炉１４の上に取り付けられる。
ス処理装置１０は本体１２を含み、この本体１２は焼成
炉１４の上に取り付けられる。
焼成炉１４で生じた排ガスは、ダクト１６に集められ、
パイプ１８を通り、吸引ブロア２０によってダクト１６
に形成された孔を通して吸引される空気とともに燃焼室
２２に送り込まれる。すなわち、吸引ブロア２０が駆動
されると、吸引ブロア２０から燃焼室２２に空気が送り
込まれるので、ダクト１６には負圧が生じる。この負圧
によって焼成炉１４の排ガスも燃焼室２２に送り込まれ
る。
パイプ１８を通り、吸引ブロア２０によってダクト１６
に形成された孔を通して吸引される空気とともに燃焼室
２２に送り込まれる。すなわち、吸引ブロア２０が駆動
されると、吸引ブロア２０から燃焼室２２に空気が送り
込まれるので、ダクト１６には負圧が生じる。この負圧
によって焼成炉１４の排ガスも燃焼室２２に送り込まれ
る。
本体１２は全体として断熱材料によって形成され、内部
には隔壁２４で仕切られかつ互いに連通ずる燃焼室２２
と冷却室２６とを有する。
には隔壁２４で仕切られかつ互いに連通ずる燃焼室２２
と冷却室２６とを有する。
燃焼室２２内には、耐酸性材料からなり、かつ比較的広
い表面積を有するスパイラルヒータ２８が配置される。
い表面積を有するスパイラルヒータ２８が配置される。
このスパイラルヒータ２８の断面形状は、第１図のよう
に、いわゆる千鳥形にされる。スパイラルヒータ２８を
このように千鳥形に配置することによって、燃焼室２２
内に送り込まれた排ガスとの接触の機会を多くして、排
ガスの均一な加熱を可能にしている。
に、いわゆる千鳥形にされる。スパイラルヒータ２８を
このように千鳥形に配置することによって、燃焼室２２
内に送り込まれた排ガスとの接触の機会を多くして、排
ガスの均一な加熱を可能にしている。
燃焼室２２内には、さらに、排ガスが流通可能な多孔質
のセラミック材料で形成されたフィルタ３０および３２
が配置され、したがって、燃焼室２２には複数段の燃焼
部２２ａ〜２２ｃが形成される。これらのフィルタ３０
および３２は、スパイラルヒータ２日によって加熱され
て排ガスの熱交換に寄与する。すなわち、燃焼室２２の
燃焼部２２ａに送り込まれた排ガスは、スパイラルヒー
タ２８からの熱をある程度吸収した後に、フィルタ３０
の孔を通って次段の燃焼部２２ｂに移動する。このとき
、フィルタ３０がスパイラルヒータ２８によって加熱さ
れているので、排ガスがこのフィルタ３０を通過する際
にも熱交換が行われ、さらに次段の燃焼部２２ｃにもた
らされる。このときにも、スパイラルヒータ２８および
フィルタ３２の効果によって、排ガスをより一層高温に
して、完全燃焼させる。
のセラミック材料で形成されたフィルタ３０および３２
が配置され、したがって、燃焼室２２には複数段の燃焼
部２２ａ〜２２ｃが形成される。これらのフィルタ３０
および３２は、スパイラルヒータ２日によって加熱され
て排ガスの熱交換に寄与する。すなわち、燃焼室２２の
燃焼部２２ａに送り込まれた排ガスは、スパイラルヒー
タ２８からの熱をある程度吸収した後に、フィルタ３０
の孔を通って次段の燃焼部２２ｂに移動する。このとき
、フィルタ３０がスパイラルヒータ２８によって加熱さ
れているので、排ガスがこのフィルタ３０を通過する際
にも熱交換が行われ、さらに次段の燃焼部２２ｃにもた
らされる。このときにも、スパイラルヒータ２８および
フィルタ３２の効果によって、排ガスをより一層高温に
して、完全燃焼させる。
燃焼室２２内において、フィルタ３０および３２で囲ま
れる燃焼部２２ｂ内には、燃焼室２２の温度を検出する
ための熱電対３４が設けられる。
れる燃焼部２２ｂ内には、燃焼室２２の温度を検出する
ための熱電対３４が設けられる。
熱電対３４で検出した温度によって、スパイラルヒータ
２８の加熱温度をフィードバック制御し、結果的には燃
焼室２２内の温度を制御する。
２８の加熱温度をフィードバック制御し、結果的には燃
焼室２２内の温度を制御する。
冷却室２６内には、フィルタ３０および３２と同じ材料
で形成されたフィルタ３６が設けられる。フィルタ３６
で仕切られた冷却部２６ａには、排出ブロア３８から空
気が送り込まれる。この空気によって冷却部２６ａ内に
若干の負圧が生じ、この負圧によって燃焼部２２ａ内で
完全燃焼の状態にされた排ガスが流入する。そして、冷
却部２６ａ内では、排ガスがその送り込まれた空気によ
って冷却されるとともに、フィルタ３６の熱交換作用に
よってさらに冷却された後、冷却部２６ｂへ送られる。
で形成されたフィルタ３６が設けられる。フィルタ３６
で仕切られた冷却部２６ａには、排出ブロア３８から空
気が送り込まれる。この空気によって冷却部２６ａ内に
若干の負圧が生じ、この負圧によって燃焼部２２ａ内で
完全燃焼の状態にされた排ガスが流入する。そして、冷
却部２６ａ内では、排ガスがその送り込まれた空気によ
って冷却されるとともに、フィルタ３６の熱交換作用に
よってさらに冷却された後、冷却部２６ｂへ送られる。
こうして、冷却部２６ｂ内の排ガスは冷却部２６ａ内の
排ガスよりさらに温度が下げられており、出口４０を通
ってそのまま大気に放出されても何ら支障はない。
排ガスよりさらに温度が下げられており、出口４０を通
ってそのまま大気に放出されても何ら支障はない。
このような構成によれば、排ガスとの接触面積が大きい
スパイラルヒータ２８とセラミックフィルタ３０および
３２とによって、徘ガスの熱交換率が高くされているの
で、燃焼室２２としては必。
スパイラルヒータ２８とセラミックフィルタ３０および
３２とによって、徘ガスの熱交換率が高くされているの
で、燃焼室２２としては必。
要最小限の容量があればよく、また冷却室２６において
もセラミックフィルタ３６による効率的な冷却が行われ
るのでその容量は小さくてよい。そのために、本体１２
を小形化でき、しかも従来のような配管部品等が不要な
ため、この実施例のように、焼成炉１４上に設置するこ
とも可能となる。したがって、排出パイプ１８から燃焼
室２２までの管路長も短くでき、排ガスが高温のまま燃
焼室２２へ送り込まれるので、熱効率が一層改善され得
る。
もセラミックフィルタ３６による効率的な冷却が行われ
るのでその容量は小さくてよい。そのために、本体１２
を小形化でき、しかも従来のような配管部品等が不要な
ため、この実施例のように、焼成炉１４上に設置するこ
とも可能となる。したがって、排出パイプ１８から燃焼
室２２までの管路長も短くでき、排ガスが高温のまま燃
焼室２２へ送り込まれるので、熱効率が一層改善され得
る。
第１図はこの発明の一実施例を示す図解図である。
第２図は従来の直接燃焼式排ガス処理装置を示す図解図
である。 図において、１２は本体、１４は焼成炉、２２は燃焼室
、２４は隔壁、２６は冷却室、２８はスパイラルヒータ
、３０： ３°２および３６はフィルタ、３４は熱電対
、３８は排出ブロアを示す。 特許出願人 株式会社 村田製作所 代理人 弁理士 山 １） 義 人 第 １ 図 第２図
である。 図において、１２は本体、１４は焼成炉、２２は燃焼室
、２４は隔壁、２６は冷却室、２８はスパイラルヒータ
、３０： ３°２および３６はフィルタ、３４は熱電対
、３８は排出ブロアを示す。 特許出願人 株式会社 村田製作所 代理人 弁理士 山 １） 義 人 第 １ 図 第２図
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ セラミック焼成炉から排出されたガスを処理するた
めの排ガス処理装置であって、 空気とともに入口から送り込まれた前記排ガスを燃焼さ
せるための燃焼室、 前記燃焼室に配置されたスパイラルヒータ、前記燃焼室
内に配置された多孔質の撹拌板、隔壁を通して前記燃焼
室に連通する冷却室、前記冷却室に空気を送り込んで燃
焼済みの前記排ガスを冷却して出口に導くための送風手
段を備える、排ガス処理装置。 ２ 前記冷却室に設けられる多孔質の撹拌板を備える、
特許請求の範囲第１項記載の排ガス処理装置。 ３ 前記燃焼室は複数の前記多孔質の撹拌板によって複
数段に形成される、特許請求の範囲第１項または第２項
記載の排ガス処理装置。 ４ 前記多孔質の撹拌板はセラミックフィルタである、
特許請求の範囲第１項ないし第３項のいずれかに記載の
排ガス処理装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63120995A JP2674086B2 (ja) | 1988-05-18 | 1988-05-18 | 排ガス処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63120995A JP2674086B2 (ja) | 1988-05-18 | 1988-05-18 | 排ガス処理装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01291012A true JPH01291012A (ja) | 1989-11-22 |
| JP2674086B2 JP2674086B2 (ja) | 1997-11-05 |
Family
ID=14800176
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63120995A Expired - Lifetime JP2674086B2 (ja) | 1988-05-18 | 1988-05-18 | 排ガス処理装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2674086B2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007010268A (ja) * | 2005-07-01 | 2007-01-18 | Pajiko:Kk | 陶芸用電気式加熱処理器の排気ガス処理装置及び排気ガス処理方法 |
| CN114992648A (zh) * | 2022-05-18 | 2022-09-02 | 北京势蓝科技有限公司 | 一种组合式油气处理系统及方法 |
Citations (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS4983874U (ja) * | 1972-11-09 | 1974-07-19 | ||
| JPS5214080A (en) * | 1975-07-23 | 1977-02-02 | Daiki Sangyo Kk | Method for re-incineration |
| JPS55126519U (ja) * | 1979-03-03 | 1980-09-08 | ||
| JPS5912226A (ja) * | 1982-07-13 | 1984-01-21 | Toshiba Corp | 燃焼気体の安全処理装置 |
| JPS6097746U (ja) * | 1983-12-10 | 1985-07-03 | 新日本製鐵株式会社 | コ−クス乾式消火設備 |
| JPS6138445U (ja) * | 1984-08-08 | 1986-03-11 | 株式会社イナックス | 屋内設置用給湯機 |
| JPS62133018A (ja) * | 1985-12-06 | 1987-06-16 | Komatsu Ltd | 流動層熱処理装置 |
| JPS62243710A (ja) * | 1986-04-15 | 1987-10-24 | Godo Seitetsu Kk | 電気製鋼炉排ガスの冷却方法および装置 |
-
1988
- 1988-05-18 JP JP63120995A patent/JP2674086B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (8)
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Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| JP2007010268A (ja) * | 2005-07-01 | 2007-01-18 | Pajiko:Kk | 陶芸用電気式加熱処理器の排気ガス処理装置及び排気ガス処理方法 |
| CN114992648A (zh) * | 2022-05-18 | 2022-09-02 | 北京势蓝科技有限公司 | 一种组合式油气处理系统及方法 |
| CN114992648B (zh) * | 2022-05-18 | 2024-06-07 | 北京势蓝科技有限公司 | 一种组合式油气处理系统及方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2674086B2 (ja) | 1997-11-05 |
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