JPH01293640A - 半導体パッケージ構造 - Google Patents
半導体パッケージ構造Info
- Publication number
- JPH01293640A JPH01293640A JP12612788A JP12612788A JPH01293640A JP H01293640 A JPH01293640 A JP H01293640A JP 12612788 A JP12612788 A JP 12612788A JP 12612788 A JP12612788 A JP 12612788A JP H01293640 A JPH01293640 A JP H01293640A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- semiconductor element
- metal cap
- view
- semiconductor
- lead
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Structures Or Materials For Encapsulating Or Coating Semiconductor Devices Or Solid State Devices (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
この発明は、樹脂封止型半導体装置のパッケージ構造に
関するものであり、特に銅箔パターンを表面に有したポ
リイミド等の可撓性絶縁フィルム、いわゆるテープキャ
リアを用いてTAB法(Tape Automate
d Bonding法)により半導体素子と外部の間
の電気的接合がなされる半導体装置のパッケージ構造に
関するものである。
関するものであり、特に銅箔パターンを表面に有したポ
リイミド等の可撓性絶縁フィルム、いわゆるテープキャ
リアを用いてTAB法(Tape Automate
d Bonding法)により半導体素子と外部の間
の電気的接合がなされる半導体装置のパッケージ構造に
関するものである。
[関連技術]
集積回路素子(半導体素子)の電極接合技術として、従
来から最も多く用いられているワイヤボンディング法に
代わり、テープキャリアを用いた、いわゆるTAB法が
採用されようとしている。第4A図および第4B図は、
このTAB法に用いられるテープキャリアの一例を示す
平面図および断面図である。絶縁フィルム1は、ポリイ
ミド等の可撓性を有する絶縁材料により長尺フィルム状
に形成されており、テープキャリアの基材となる。7こ
の絶縁フィルム1には、幅方向の中央部分に形成され、
半導体素子3が設置される部分に相当するセンターデバ
イス孔2が形成されている。また、幅方向の両端の部分
には所定間隔をおいてスプロケットホール4が形成され
ている。このスプロケットホール4は絶縁フィルム1に
接合する際に粗い位置決めをするためのものである。セ
ンターデバイス孔2の周囲には四方に4つのアウターリ
ード孔5が形成されており、このアウターリード孔5は
後述するアウターリードボンディングの際に使用される
。アウターリード孔5の間には、架橋部6が設けられて
いる。センターデバイス孔2およびアウターリード孔5
にまたがって、銅等の導電性材料からなる複数本のり−
ド7が設けられている。リード7の先端は、インナーリ
ード部7aをなし、半導体素子3に接続されている。リ
ード7のアウターリード孔5の近傍部分は、アウターリ
ード部7bをなしている。また、リード7の他方の端は
、テストパッド7Cをなしている。このテストバッド7
Cは、インナーリード部7aと半導体素子3との接続不
良や半導体素子の不良等を、インナーリードボンディン
グの後に調べるためのものである。第4B図に示される
ように、半導体素子3の上には突起電極であるバンブ3
aが形成されており、この3aによりインナーリード部
7aと接続されている。
来から最も多く用いられているワイヤボンディング法に
代わり、テープキャリアを用いた、いわゆるTAB法が
採用されようとしている。第4A図および第4B図は、
このTAB法に用いられるテープキャリアの一例を示す
平面図および断面図である。絶縁フィルム1は、ポリイ
ミド等の可撓性を有する絶縁材料により長尺フィルム状
に形成されており、テープキャリアの基材となる。7こ
の絶縁フィルム1には、幅方向の中央部分に形成され、
半導体素子3が設置される部分に相当するセンターデバ
イス孔2が形成されている。また、幅方向の両端の部分
には所定間隔をおいてスプロケットホール4が形成され
ている。このスプロケットホール4は絶縁フィルム1に
接合する際に粗い位置決めをするためのものである。セ
ンターデバイス孔2の周囲には四方に4つのアウターリ
ード孔5が形成されており、このアウターリード孔5は
後述するアウターリードボンディングの際に使用される
。アウターリード孔5の間には、架橋部6が設けられて
いる。センターデバイス孔2およびアウターリード孔5
にまたがって、銅等の導電性材料からなる複数本のり−
ド7が設けられている。リード7の先端は、インナーリ
ード部7aをなし、半導体素子3に接続されている。リ
ード7のアウターリード孔5の近傍部分は、アウターリ
ード部7bをなしている。また、リード7の他方の端は
、テストパッド7Cをなしている。このテストバッド7
Cは、インナーリード部7aと半導体素子3との接続不
良や半導体素子の不良等を、インナーリードボンディン
グの後に調べるためのものである。第4B図に示される
ように、半導体素子3の上には突起電極であるバンブ3
aが形成されており、この3aによりインナーリード部
7aと接続されている。
第4A図および第4B図は、テープキャリアに半導体素
子3を実装した状態を示している。以下、テープキャリ
アに半導体素子3を実装する工程について説明する。第
5A図は、テープキャリアテープと半導体素子を接続す
る前の状態を示す斜視図である。第5B図は;テープキ
ャリアテープに半導体素子を接続しテープキャリアにし
た後の状態を示す斜視図である。第5A図に示すように
、絶縁フィルム1のセンターデバイス孔2内に半導体素
子3が位置するように設定し、半導体素子3上のバンブ
3aがインナーリード部7aの位置に対向するように半
導体素子3およびテープキャリアを相対的に位置決めす
る。次に、この半導体素子3のバンブ3aとインナーリ
ード部7aを熱圧着することにより接続する。これによ
り、第5B図に示すような、半導体素子3を実装したテ
ープキャリアが形成される。
子3を実装した状態を示している。以下、テープキャリ
アに半導体素子3を実装する工程について説明する。第
5A図は、テープキャリアテープと半導体素子を接続す
る前の状態を示す斜視図である。第5B図は;テープキ
ャリアテープに半導体素子を接続しテープキャリアにし
た後の状態を示す斜視図である。第5A図に示すように
、絶縁フィルム1のセンターデバイス孔2内に半導体素
子3が位置するように設定し、半導体素子3上のバンブ
3aがインナーリード部7aの位置に対向するように半
導体素子3およびテープキャリアを相対的に位置決めす
る。次に、この半導体素子3のバンブ3aとインナーリ
ード部7aを熱圧着することにより接続する。これによ
り、第5B図に示すような、半導体素子3を実装したテ
ープキャリアが形成される。
第6A図は、テープキャリアの他の例を示す平面図であ
り、図中第4A図と同一符号は相当部分を示している。
り、図中第4A図と同一符号は相当部分を示している。
第6B図および第6C図は、第6A図に示すテープキャ
リアに従来組合わされる導電支持体としての金属キャッ
プを示す平面図および側面図である。金属キャップ9に
は、鍔部9aが設けられており、この鍔部9aが絶縁フ
ィルム1の裏面に当接する。なお、9bは金属キャップ
9の底部を示している。第6A図に示すようなテープキ
ャリアに半導体素子を実装した後、第6B図および第6
C図に示すような金属キャップ9が組合わされトランス
ファ封止により封止されパッケージにされる。本出願人
は、このようなパッケージについて既に出願中である。
リアに従来組合わされる導電支持体としての金属キャッ
プを示す平面図および側面図である。金属キャップ9に
は、鍔部9aが設けられており、この鍔部9aが絶縁フ
ィルム1の裏面に当接する。なお、9bは金属キャップ
9の底部を示している。第6A図に示すようなテープキ
ャリアに半導体素子を実装した後、第6B図および第6
C図に示すような金属キャップ9が組合わされトランス
ファ封止により封止されパッケージにされる。本出願人
は、このようなパッケージについて既に出願中である。
第7図は、テープキャリアのさらに他の例を示す平面図
である。第7図において、第4A図と同一符号は相当部
分を示している。第7図に示すテープキャリアにおいて
は、裏面コンタクトをとるための裏面コンタクト用孔1
0が形成されている。
である。第7図において、第4A図と同一符号は相当部
分を示している。第7図に示すテープキャリアにおいて
は、裏面コンタクトをとるための裏面コンタクト用孔1
0が形成されている。
さらに、この裏面コンタクト用孔10内には、裏面コン
タクト用リード11が設けられている。これらの裏面コ
ンタクト用孔10および裏面コンタクト用リード11は
、半導体素子3の裏面電位を半導体素子3の表面から制
御する目的で設けられるものである。このようなテープ
キャリアの構造についても、本出願人は既に出願中であ
る。
タクト用リード11が設けられている。これらの裏面コ
ンタクト用孔10および裏面コンタクト用リード11は
、半導体素子3の裏面電位を半導体素子3の表面から制
御する目的で設けられるものである。このようなテープ
キャリアの構造についても、本出願人は既に出願中であ
る。
第8A図および第8B図は、従来用いられている導電支
持体である金属キャップを示す平面図および断面図であ
る。第8A図の■B−■B線に沿う断面が、第8B図に
示されている。第8A図および第8B図において、9は
金属キャップ、9aは鍔部、9bは底部を示している。
持体である金属キャップを示す平面図および断面図であ
る。第8A図の■B−■B線に沿う断面が、第8B図に
示されている。第8A図および第8B図において、9は
金属キャップ、9aは鍔部、9bは底部を示している。
第7図に示すような半導体素子を実装したテープキャリ
アに、第8A図および第8B図に示すような金属キャッ
プを取付け、次いでトランスファ封止により樹脂封止し
パッケージとする。このようなパッケージの平面図を第
9図に示す。
アに、第8A図および第8B図に示すような金属キャッ
プを取付け、次いでトランスファ封止により樹脂封止し
パッケージとする。このようなパッケージの平面図を第
9図に示す。
第10図は、第9図に示すXA−0−XB線に沿う部分
切欠断面図である。第10図に示すように、樹脂封止部
12は、第10図に示す図面の上方から樹脂がトランス
ファされ、金属キャップ9の半導体素子3側に設けられ
る。なお、金属キャップ9と半導体素子3との間にはダ
イボンド剤13が設けられている。
切欠断面図である。第10図に示すように、樹脂封止部
12は、第10図に示す図面の上方から樹脂がトランス
ファされ、金属キャップ9の半導体素子3側に設けられ
る。なお、金属キャップ9と半導体素子3との間にはダ
イボンド剤13が設けられている。
[発明が解決しようとする課題]
しかしながら、このような従来の半導体パッケージ構造
においては、第10図に示す図面の上下方向に種々の材
料が積重ねられ、それぞれの材料の線膨張係数および縦
弾性係数等が異なるため、周囲の温度の変化に伴なう半
導体パッケージに反りを生じるという問題があった。
においては、第10図に示す図面の上下方向に種々の材
料が積重ねられ、それぞれの材料の線膨張係数および縦
弾性係数等が異なるため、周囲の温度の変化に伴なう半
導体パッケージに反りを生じるという問題があった。
以下に各材料の線膨張係数(α)を示す。
エポキシ樹脂:18〜32X10−’/’C半導体素子
(S i): 3.5X10− ’ /’C金属キャッ
プ(4270イ材): 4.5〜5.5X10−6/”C ダイボンド剤(半田ダイボンド): 28.7xlO−’/’C ダイボンド剤(樹脂ダイボンド): 30〜60xlO−’/’C また各材料の縦弾性係数(E)を以下に示す。
(S i): 3.5X10− ’ /’C金属キャッ
プ(4270イ材): 4.5〜5.5X10−6/”C ダイボンド剤(半田ダイボンド): 28.7xlO−’/’C ダイボンド剤(樹脂ダイボンド): 30〜60xlO−’/’C また各材料の縦弾性係数(E)を以下に示す。
エポキシ樹脂:
1.3〜1.6X10− ” kg/mm2半導体素子
(SL): 17X10〜’kg/mm2 金属キャップ(4270イ材): 14.3x10− ” kg/mm2 ダイボンド剤(半田ダイボンド): 1.75X10” ” kg/mm2 ダイボンド剤(樹脂ダイボンド): 約0.3X10−” kg/mm2 このように、従来の半導体パッケージは上から順に樹脂
封止部、半導体素子、ダイボンド剤および金属キャップ
の4層の構造になっているが、それぞれの材料の線膨張
係数および縦弾性係数が上述のように異なるため、半導
体パッケージの置かれる温度の違いにより反りを生じる
。
(SL): 17X10〜’kg/mm2 金属キャップ(4270イ材): 14.3x10− ” kg/mm2 ダイボンド剤(半田ダイボンド): 1.75X10” ” kg/mm2 ダイボンド剤(樹脂ダイボンド): 約0.3X10−” kg/mm2 このように、従来の半導体パッケージは上から順に樹脂
封止部、半導体素子、ダイボンド剤および金属キャップ
の4層の構造になっているが、それぞれの材料の線膨張
係数および縦弾性係数が上述のように異なるため、半導
体パッケージの置かれる温度の違いにより反りを生じる
。
第11A図は、従来の半導体パッケージが、パッケージ
封止温度よりも高い温度になったときの状態を示してい
る。このように、樹脂封止部の熱膨張係数が高いため、
パッケージ封止温度よりも高い温度になると、樹脂封止
部12の伸びが大きくなり、第11A図に示すように反
る。
封止温度よりも高い温度になったときの状態を示してい
る。このように、樹脂封止部の熱膨張係数が高いため、
パッケージ封止温度よりも高い温度になると、樹脂封止
部12の伸びが大きくなり、第11A図に示すように反
る。
第11B図は、従来の半導体パッケージがパッケージ封
止温度と同じ温度のときの状態を示している。このよう
に、パッケージ封止温度と同じ温度であれば、反りを生
じない。
止温度と同じ温度のときの状態を示している。このよう
に、パッケージ封止温度と同じ温度であれば、反りを生
じない。
第11C図は、従来の半導体パッケージがパッケージ封
止温度よりも低い温度になったときの状態を示している
。樹脂封止部の縮みが大きいために、第11C図に示す
ように反対方向に反る。
止温度よりも低い温度になったときの状態を示している
。樹脂封止部の縮みが大きいために、第11C図に示す
ように反対方向に反る。
このような半導体パッケージの反りは、外観的な問題だ
けではなく、半導体素子に応力がかかることから、製品
の信頼性にも大きく影響する。
けではなく、半導体素子に応力がかかることから、製品
の信頼性にも大きく影響する。
この発明は、かかる従来の問題点を解消するためなされ
たものであり、温度変化による反りの発生が抑制された
半導体パッケージ構造を提供することにある。
たものであり、温度変化による反りの発生が抑制された
半導体パッケージ構造を提供することにある。
[課題を解決するための手段]
この発明の半導体パッケージ構造は、半導体素子と、半
導体素子を載せて支持する導電支持体と、半導体素子の
周囲に設けられる絶縁フィルムと、一端が半導体素子の
電極に接続されて絶縁フィルム上に設けられるリードと
、半導体素子のまわりを樹脂封止する樹脂封止部とを備
え、この樹脂封止部が導電支持体を挾み、半導体素子側
とその反対側の両方に設けられていることを特徴として
いる。
導体素子を載せて支持する導電支持体と、半導体素子の
周囲に設けられる絶縁フィルムと、一端が半導体素子の
電極に接続されて絶縁フィルム上に設けられるリードと
、半導体素子のまわりを樹脂封止する樹脂封止部とを備
え、この樹脂封止部が導電支持体を挾み、半導体素子側
とその反対側の両方に設けられていることを特徴として
いる。
この発明の好ましい1つの実施態様では、導電支持体に
孔を形成し、樹脂封止の際この孔を通して封止する樹脂
を導電支持体の反対側にも流し込み、半導体素子側とそ
の反対側の両方に樹脂封止部を形成する。
孔を形成し、樹脂封止の際この孔を通して封止する樹脂
を導電支持体の反対側にも流し込み、半導体素子側とそ
の反対側の両方に樹脂封止部を形成する。
[作用]
この発明によれば、導電支持体を挾み半導体素子側とそ
の反対側の両方に樹脂封止部が設けられている。このた
め、導電支持体の両側の線膨張係数および縦弾性係数等
の物性値が近似し、温度変化による反りが少なくなる。
の反対側の両方に樹脂封止部が設けられている。このた
め、導電支持体の両側の線膨張係数および縦弾性係数等
の物性値が近似し、温度変化による反りが少なくなる。
[実施例]
第1図は、この発明の一実施例を示す部分切欠断面図で
あり、従来の半導体パッケージ構造の第10図に相当す
る図である。第1図に示す実施例では、金属キャップ9
に孔14が形成されており、この孔14を通り樹脂封止
部12が金属キャップ9の半導体素子3側とその反対側
の両方に形成されている。金属キャップ9の底部9bに
はダイボンド剤13を介し半導体素子3が載せられてお
り、半導体素子3の上のバンブ3aにはリード7のイン
ナーリード部7aが接続されている。リード7のアウタ
ーリード部7bは絶縁フィルム1上に載せられている。
あり、従来の半導体パッケージ構造の第10図に相当す
る図である。第1図に示す実施例では、金属キャップ9
に孔14が形成されており、この孔14を通り樹脂封止
部12が金属キャップ9の半導体素子3側とその反対側
の両方に形成されている。金属キャップ9の底部9bに
はダイボンド剤13を介し半導体素子3が載せられてお
り、半導体素子3の上のバンブ3aにはリード7のイン
ナーリード部7aが接続されている。リード7のアウタ
ーリード部7bは絶縁フィルム1上に載せられている。
また、絶縁フィルム1には金属キャップ9の鍔部9aが
当接している。
当接している。
第2A図および第2B図は、この発明に用いられる導電
支持体としての金属キャップの一例を示す平面図および
断面図である。第2B図は第2A図のIIB−nB線に
沿う断面を示している。第2A図および第2B図に示さ
れるように、この金属キャップ9の底部9bには、複数
の孔14が形成されている。
支持体としての金属キャップの一例を示す平面図および
断面図である。第2B図は第2A図のIIB−nB線に
沿う断面を示している。第2A図および第2B図に示さ
れるように、この金属キャップ9の底部9bには、複数
の孔14が形成されている。
このような金属キャップ9を、第7図に示すような半導
体を実装したテープキャリアに導電性のダイボンド剤1
3を用い接続した状態を示すのが第3図である。なお、
裏面コンタクト用リード11は、金属キャップ9の底部
9bに、導電性接着剤または導電性ダイボンド剤13に
より電気的に接続されている。
体を実装したテープキャリアに導電性のダイボンド剤1
3を用い接続した状態を示すのが第3図である。なお、
裏面コンタクト用リード11は、金属キャップ9の底部
9bに、導電性接着剤または導電性ダイボンド剤13に
より電気的に接続されている。
このような孔を有した金属キャップ9を取付けたテープ
キャリアに樹脂を封止すると、樹脂は金属キャップ9の
孔14を通り金属キャップ9の裏面にまで流れ込む。こ
のため、金属キャップ9の半導体素子側およびその反対
側の両方に樹脂封止部12が形成される。金属キャップ
9の両側に樹脂封止部が形成されるめ、その両側におけ
る熱膨張率等がほぼ等しくなるため、温度変化による半
導体パッケージの反りが少なくなる。
キャリアに樹脂を封止すると、樹脂は金属キャップ9の
孔14を通り金属キャップ9の裏面にまで流れ込む。こ
のため、金属キャップ9の半導体素子側およびその反対
側の両方に樹脂封止部12が形成される。金属キャップ
9の両側に樹脂封止部が形成されるめ、その両側におけ
る熱膨張率等がほぼ等しくなるため、温度変化による半
導体パッケージの反りが少なくなる。
この実施例では、導電支持体である金属キャップの底部
に複数の孔を形成し、この孔を通して封止樹脂を半導体
素子と反対側にも流れ込まぜ、これによって両側に樹脂
封止部を形成している。孔の形状、数および形成箇所は
この実施例のものに限定されるものでないことは言うま
でもない。
に複数の孔を形成し、この孔を通して封止樹脂を半導体
素子と反対側にも流れ込まぜ、これによって両側に樹脂
封止部を形成している。孔の形状、数および形成箇所は
この実施例のものに限定されるものでないことは言うま
でもない。
また、この実施例では、金属キャップの底部に孔をあけ
ることによって、樹脂封止部を金属キャップの両側に形
成しているが、たとえば半導体素子側とその反対側の両
側から樹脂を流し込むなどの他の方法によって、導電支
持体の金属キャップの両側に樹脂封止部を形成させても
よい。
ることによって、樹脂封止部を金属キャップの両側に形
成しているが、たとえば半導体素子側とその反対側の両
側から樹脂を流し込むなどの他の方法によって、導電支
持体の金属キャップの両側に樹脂封止部を形成させても
よい。
[発明の効果]
以上説明したように、この発明によれば、樹脂封止部が
導電支持体を挾み半導体素子側とその反対側の両方に設
けられている。このため、導電支持体を挾み両側に位置
する材料の熱膨張率等がほぼ等しくなり、温度変化によ
る半導体パッケージの反りを抑制することができる。さ
らに、このことにより半導体部品の信頼性を向上させる
ことができる。
導電支持体を挾み半導体素子側とその反対側の両方に設
けられている。このため、導電支持体を挾み両側に位置
する材料の熱膨張率等がほぼ等しくなり、温度変化によ
る半導体パッケージの反りを抑制することができる。さ
らに、このことにより半導体部品の信頼性を向上させる
ことができる。
第1図は、この発明の一実施例を示す部分切欠断面図で
ある。第2A図は、この発明に用いられる導電支持体の
一例を示す平面図である。第2B図は、第2A図のII
B−nB線に沿う断面図である。第3図は、第2A図お
よび第2B図に示す導電支持体をテープキャリアに取付
けた状態を示す底面図である。第4A図は、テープキャ
リアの一例を示す平面図である。第4B図は、テープキ
ャリアの一例を示す断面図である。第5A図は、テープ
キャリアテープと半導体素子を接続する前の状態を示す
斜視図である。第5B図は、テープキャリアテープに半
導体素子を接続しテープキャリアにした後の状態を示す
斜視図である。第6A図は、テープキャリアの他の例を
示す平面図である。 第6B図は、従来用いられている導電支持体の一例を示
す平面図である。第6C図は、従来用いられている導電
支持体の一例を示す側面図である。 第7図は、テープキャリアのさらに他の例を示す平面図
である。第8A図は、従来用いられている導電支持体の
他の例を示す平面図である。第8B図は、第8A図の■
B−■B線に沿う断面図である。第9図は、第7図に示
すテープキャリアに第8A図および第8B図に示す導電
支持体を組合わせた後、樹脂封止してパッケージした状
態を示す平面図である。第10図は、第9図に示すXA
−0−XB線に沿う部分切欠断面図である。第11A図
は、従来の半導体パッケージ構造を示す部分切欠断面図
であり、半導体パッケージがパッケージ封止温度よりも
高い温度になったときの状態を示している。第11’B
図は、従来の半導体パッケージ構造を示す部分切欠断面
図であり、半導体パッケージがパッケージ封止温度と同
じ温度のときの状態を示している。第11C図は、従来
の半導体パッケージ構造を示す部分切欠断面図であり、
半導体パッケージがパッケージ封止温度よりも低い温度
になったときの状態を示している。 図において、1は絶縁フィルム、2はセンターデバイス
孔、3は半導体素子、3aはバンブ、4はスプロケット
ホール、5はアウターリード孔、6は架橋部、7はリー
ド、7aはインナーリード部、7bはアウターリード部
、7Cはテストパッド、9は金属キャップ、9aは鍔部
、9bは底部、10は裏面コンタクト用孔、11は裏面
コンタクト用リード、12は樹脂封止部、13はダイボ
ンド剤、14は孔を示す。 なお、図中、同一符号は同一、または相当部分を示す。
ある。第2A図は、この発明に用いられる導電支持体の
一例を示す平面図である。第2B図は、第2A図のII
B−nB線に沿う断面図である。第3図は、第2A図お
よび第2B図に示す導電支持体をテープキャリアに取付
けた状態を示す底面図である。第4A図は、テープキャ
リアの一例を示す平面図である。第4B図は、テープキ
ャリアの一例を示す断面図である。第5A図は、テープ
キャリアテープと半導体素子を接続する前の状態を示す
斜視図である。第5B図は、テープキャリアテープに半
導体素子を接続しテープキャリアにした後の状態を示す
斜視図である。第6A図は、テープキャリアの他の例を
示す平面図である。 第6B図は、従来用いられている導電支持体の一例を示
す平面図である。第6C図は、従来用いられている導電
支持体の一例を示す側面図である。 第7図は、テープキャリアのさらに他の例を示す平面図
である。第8A図は、従来用いられている導電支持体の
他の例を示す平面図である。第8B図は、第8A図の■
B−■B線に沿う断面図である。第9図は、第7図に示
すテープキャリアに第8A図および第8B図に示す導電
支持体を組合わせた後、樹脂封止してパッケージした状
態を示す平面図である。第10図は、第9図に示すXA
−0−XB線に沿う部分切欠断面図である。第11A図
は、従来の半導体パッケージ構造を示す部分切欠断面図
であり、半導体パッケージがパッケージ封止温度よりも
高い温度になったときの状態を示している。第11’B
図は、従来の半導体パッケージ構造を示す部分切欠断面
図であり、半導体パッケージがパッケージ封止温度と同
じ温度のときの状態を示している。第11C図は、従来
の半導体パッケージ構造を示す部分切欠断面図であり、
半導体パッケージがパッケージ封止温度よりも低い温度
になったときの状態を示している。 図において、1は絶縁フィルム、2はセンターデバイス
孔、3は半導体素子、3aはバンブ、4はスプロケット
ホール、5はアウターリード孔、6は架橋部、7はリー
ド、7aはインナーリード部、7bはアウターリード部
、7Cはテストパッド、9は金属キャップ、9aは鍔部
、9bは底部、10は裏面コンタクト用孔、11は裏面
コンタクト用リード、12は樹脂封止部、13はダイボ
ンド剤、14は孔を示す。 なお、図中、同一符号は同一、または相当部分を示す。
Claims (1)
- (1)半導体素子と、前記半導体素子を載せて支持する
導電支持体と、前記半導体素子の周囲に設けられる絶縁
フィルムと、一端が前記半導体素子の電極に接続されて
前記絶縁フィルム上に設けられたリードと、前記半導体
素子のまわりを樹脂封止する樹脂封止部とを備える半導
体パッケージ構造において、 前記樹脂封止部が前記導電支持体を挾み半導体素子側と
その反対側の両方に設けられていることを特徴とする、
半導体パッケージ構造。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12612788A JPH01293640A (ja) | 1988-05-23 | 1988-05-23 | 半導体パッケージ構造 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12612788A JPH01293640A (ja) | 1988-05-23 | 1988-05-23 | 半導体パッケージ構造 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01293640A true JPH01293640A (ja) | 1989-11-27 |
Family
ID=14927329
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP12612788A Pending JPH01293640A (ja) | 1988-05-23 | 1988-05-23 | 半導体パッケージ構造 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH01293640A (ja) |
-
1988
- 1988-05-23 JP JP12612788A patent/JPH01293640A/ja active Pending
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP3779789B2 (ja) | 半導体装置およびその製造方法 | |
| JP3377001B2 (ja) | 半導体装置及びその製造方法、回路基板並びに電子機器 | |
| EP0915505B1 (en) | Semiconductor device package, manufacturing method thereof and circuit board therefor | |
| JP2825083B2 (ja) | 半導体素子の実装構造 | |
| US5569960A (en) | Electronic component, electronic component assembly and electronic component unit | |
| KR100445072B1 (ko) | 리드 프레임을 이용한 범프 칩 캐리어 패키지 및 그의제조 방법 | |
| JP3238004B2 (ja) | 半導体装置の製造方法 | |
| JPH01293640A (ja) | 半導体パッケージ構造 | |
| JPH0964080A (ja) | 半導体装置及びその製造方法 | |
| JP4038021B2 (ja) | 半導体装置の製造方法 | |
| JPH0917910A (ja) | 半導体装置及びその製造方法、検査方法、実装基板 | |
| JPH11186440A (ja) | 半導体装置 | |
| JP2748771B2 (ja) | フィルムキャリア半導体装置及びその製造方法 | |
| JP2944586B2 (ja) | Bga型半導体装置及びその製造方法 | |
| JPH11176849A (ja) | 半導体装置の製造方法 | |
| JP3707639B2 (ja) | エリアアレイパッケージ型半導体装置の構造 | |
| JP2000299399A (ja) | 半導体装置 | |
| JPH0437050A (ja) | 樹脂封止型半導体装置 | |
| JPH0775253B2 (ja) | 半導体装置およびその製造方法 | |
| JP2624212B2 (ja) | Tabテープ | |
| TW200836316A (en) | Substrate of Chip-On-Film package for preventing film deformation | |
| KR100195507B1 (ko) | 박형 반도체 칩 패키지 소자 | |
| JP4175339B2 (ja) | 半導体装置の製造方法 | |
| JPH0344050A (ja) | 半導体装置及びその製造方法 | |
| KR100525452B1 (ko) | 반도체 패키지와 상기 반도체 패키지가 장착되는인쇄회로기판 |