JPH01293676A - 磁気センサ - Google Patents
磁気センサInfo
- Publication number
- JPH01293676A JPH01293676A JP63125212A JP12521288A JPH01293676A JP H01293676 A JPH01293676 A JP H01293676A JP 63125212 A JP63125212 A JP 63125212A JP 12521288 A JP12521288 A JP 12521288A JP H01293676 A JPH01293676 A JP H01293676A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- thick
- glaze
- film electrode
- electrode
- thin film
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は主にモータの回転速度、回転角の検知等に利用
される磁気センサに関するものである。
される磁気センサに関するものである。
従来の技術
従来、この種の磁気センサは、第２図に示すような構造
であった。すなわち、アルミナ等の絶縁基板１上の一部
にムｇ −ｐａ等の厚膜電極２を印刷・焼成等によシ形
成する。次に絶縁基板１上および厚膜電極２上の一部に
重なるような表面が平滑なガラスグレーズ３を印刷・焼
成等により形成する。
であった。すなわち、アルミナ等の絶縁基板１上の一部
にムｇ −ｐａ等の厚膜電極２を印刷・焼成等によシ形
成する。次に絶縁基板１上および厚膜電極２上の一部に
重なるような表面が平滑なガラスグレーズ３を印刷・焼
成等により形成する。
次にガラスグレーズ３および厚膜電極２上にＮ１合金薄
膜４を真空蒸着法またはスパッタリング法によシ形成す
る。次にフォトエツチングによシ所望のパターンに形成
後、厚膜電極２のうち取り出し電極となる電極取出部２
１Ｌを除く基板上に保護膜６を形成する。次にリードフ
レーム６を電極取出部２＆にハンダ付けし、電極取出部
２＆およびハンダ接合部を熱硬化性樹脂７により被覆し
て磁気センサとするものである。
膜４を真空蒸着法またはスパッタリング法によシ形成す
る。次にフォトエツチングによシ所望のパターンに形成
後、厚膜電極２のうち取り出し電極となる電極取出部２
１Ｌを除く基板上に保護膜６を形成する。次にリードフ
レーム６を電極取出部２＆にハンダ付けし、電極取出部
２＆およびハンダ接合部を熱硬化性樹脂７により被覆し
て磁気センサとするものである。
発明が解決しようとする課題
従来の構造では、厚膜電極上と、厚膜電極と一部が重な
ったガラスグレーズ上とを磁電変換薄膜の形成によシ導
通を得ているが、厚膜電極を印刷・焼成した後にガラス
グレーズを形成するため、厚膜電極とガラスグレーズの
表面には、最大ガラスグレーズ厚み相当の段差が生じる
ため、磁電変換薄膜形成時のステップカバレージが十分
ではない。
ったガラスグレーズ上とを磁電変換薄膜の形成によシ導
通を得ているが、厚膜電極を印刷・焼成した後にガラス
グレーズを形成するため、厚膜電極とガラスグレーズの
表面には、最大ガラスグレーズ厚み相当の段差が生じる
ため、磁電変換薄膜形成時のステップカバレージが十分
ではない。
また、厚膜電極とガラスグレーズはその成分２組成等が
異なるため、当然、線膨張係数が異なるので、これらの
上に形成された磁電変換薄膜は、特に、厚膜電極とガラ
スグレーズの境界付近で周囲のあるいは通電等による素
子自身の温度変化によシ機械的ストレスを受け、断線に
至シやすい等の問題があった。
異なるため、当然、線膨張係数が異なるので、これらの
上に形成された磁電変換薄膜は、特に、厚膜電極とガラ
スグレーズの境界付近で周囲のあるいは通電等による素
子自身の温度変化によシ機械的ストレスを受け、断線に
至シやすい等の問題があった。
本発明は、このような問題点を解決するもので、信頼性
の高い磁気センサを得ることを目的とするものである。
の高い磁気センサを得ることを目的とするものである。
課題を解決するための手段
この問題点を解決するために、本発明は、絶縁基板上に
その一部が重なるように印刷され、同時焼成によ多形成
された厚膜電極およびグレーズと、前記グレーズ上に形
成された磁電変換薄膜と、この磁電変換薄膜と前記厚膜
電極とを導通させる機能を有する電極膜とを備えたもの
である。
その一部が重なるように印刷され、同時焼成によ多形成
された厚膜電極およびグレーズと、前記グレーズ上に形
成された磁電変換薄膜と、この磁電変換薄膜と前記厚膜
電極とを導通させる機能を有する電極膜とを備えたもの
である。
作用
この構造により、厚膜電極とガラスグレーズの接合部は
、互いに拡散することにより、形状的にもなだらかに接
合し、また、その成分１組成等も徐々に変化するため線
膨張係数も急激にではなく、連続的に変化するので、こ
れらの上に形成された磁電変換薄膜は、ガラスグレーズ
上の薄膜パターンと厚膜電極とを高い信頼性をもって導
通させる電極膜として機能し、信頼性の高い磁気センサ
を得ることが可能となる。
、互いに拡散することにより、形状的にもなだらかに接
合し、また、その成分１組成等も徐々に変化するため線
膨張係数も急激にではなく、連続的に変化するので、こ
れらの上に形成された磁電変換薄膜は、ガラスグレーズ
上の薄膜パターンと厚膜電極とを高い信頼性をもって導
通させる電極膜として機能し、信頼性の高い磁気センサ
を得ることが可能となる。
実施例
第１図は本発明の一実施例による磁気センナの断面図で
ある。まず、アルミナ等の絶縁基板８上に、Ａｇ−Ｐｄ
等の厚膜電極９とガラスグレーズ１゜をその一部が重な
るように印刷し、同時に焼成を行う。これによシ絶縁基
板８上の厚膜電極９とガラスグレーズ１ｏの間に、線膨
張係数等の特性が連続的に変化する拡散部分１１が形成
される。この厚膜電極９．ガラスグレーズ１ｏおよび拡
散部分１１上にＮ１合金薄膜１２を真空蒸着法またはス
パッタリング法によ多形成する。次にフォトエッチ〉′
グ法によシ、所望のパターンに形成後、厚膜電極９のつ
ち熾シ出し電極となる電極Ｊ！＋２田部９ａを除く基板
上に保護膜１３を形成する。次にリードフレーム１４を
電極取出部９ａにハンダ付けし、電極取出部９ａおよび
ハンダ接合部を熱硬化性樹脂１５によシ被覆する。
ある。まず、アルミナ等の絶縁基板８上に、Ａｇ−Ｐｄ
等の厚膜電極９とガラスグレーズ１゜をその一部が重な
るように印刷し、同時に焼成を行う。これによシ絶縁基
板８上の厚膜電極９とガラスグレーズ１ｏの間に、線膨
張係数等の特性が連続的に変化する拡散部分１１が形成
される。この厚膜電極９．ガラスグレーズ１ｏおよび拡
散部分１１上にＮ１合金薄膜１２を真空蒸着法またはス
パッタリング法によ多形成する。次にフォトエッチ〉′
グ法によシ、所望のパターンに形成後、厚膜電極９のつ
ち熾シ出し電極となる電極Ｊ！＋２田部９ａを除く基板
上に保護膜１３を形成する。次にリードフレーム１４を
電極取出部９ａにハンダ付けし、電極取出部９ａおよび
ハンダ接合部を熱硬化性樹脂１５によシ被覆する。
なお、本実施例において、絶縁基板８はアルミナ等、厚
膜電極９はムｇ−Ｐａ等、磁電変換薄膜１２はＮ１合金
薄膜、また塗料は熱硬化性樹脂としたが、同様な目的を
達成できるものであれば何でもよい。
膜電極９はムｇ−Ｐａ等、磁電変換薄膜１２はＮ１合金
薄膜、また塗料は熱硬化性樹脂としたが、同様な目的を
達成できるものであれば何でもよい。
また、厚膜電極９とガラスグレーズ１ｏの印刷の頴序は
問わない。
問わない。
発明の効果
以上のように本発明によれば、リードフレーム接合用の
厚膜電極とガラスグレーズとを極めてなだらかに連続し
て形成することができ、線膨張係数等の特性もゆるやか
に変化するので、これらの上に形成された磁電変換薄膜
は、周囲あるいは通電等による素子自身の温度変化が生
じても機械的ストレスを受けにくく、従ってガラスグレ
ーズ上の薄膜パターンと厚膜電極この導通が保たれ、信
頼性の高い磁気センサを得ることができるという効果が
得られる。
厚膜電極とガラスグレーズとを極めてなだらかに連続し
て形成することができ、線膨張係数等の特性もゆるやか
に変化するので、これらの上に形成された磁電変換薄膜
は、周囲あるいは通電等による素子自身の温度変化が生
じても機械的ストレスを受けにくく、従ってガラスグレ
ーズ上の薄膜パターンと厚膜電極この導通が保たれ、信
頼性の高い磁気センサを得ることができるという効果が
得られる。
第１図は本発明の一実施例による磁気センサを示す断面
図、第２図は従来例を示す断面図である。 ８・・・・・・絶縁基板、９・・・・・・厚膜電極、１
０・・・・・・グレーズ、１１・・・・・・拡散部分、
１２・・・・・・Ｎ１合金薄膜、１３・・・・・・保護
膜、１４・・・・・・リードフレーム、１５・・・・・
・熱硬化性樹脂。
図、第２図は従来例を示す断面図である。 ８・・・・・・絶縁基板、９・・・・・・厚膜電極、１
０・・・・・・グレーズ、１１・・・・・・拡散部分、
１２・・・・・・Ｎ１合金薄膜、１３・・・・・・保護
膜、１４・・・・・・リードフレーム、１５・・・・・
・熱硬化性樹脂。
Claims (1)
- 絶縁基板上にその一部が重なるように印刷され、同時
焼成により形成された厚膜電極およびグレーズと、前記
グレーズ上に形成された磁電変換薄膜と、この磁電変換
薄膜と前記厚膜電極とを導通させる機能を有する電極膜
とを備えたことを特徴とする磁気センサ。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63125212A JPH01293676A (ja) | 1988-05-23 | 1988-05-23 | 磁気センサ |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63125212A JPH01293676A (ja) | 1988-05-23 | 1988-05-23 | 磁気センサ |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01293676A true JPH01293676A (ja) | 1989-11-27 |
Family
ID=14904650
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63125212A Pending JPH01293676A (ja) | 1988-05-23 | 1988-05-23 | 磁気センサ |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH01293676A (ja) |
-
1988
- 1988-05-23 JP JP63125212A patent/JPH01293676A/ja active Pending
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