JPH01294247A - 光記録媒体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明は光記録媒体、更に詳しくは２枚のプラスチック
基板を記録層が内側になるように接着剤により接着した
貼合せ構造の光記録媒体に関する。

（従来の技術） 近年、大容量メモリーの１つとして光ディスクの商品化
、開発が活発である。その中でも書替え可能な光磁気デ
ィスクの実用化研究が精力的に行われている。

最近の光磁気ディスクの代表的構成として次のものを挙
げることができる。即ち、透明プラスチック基板として
ポリカーボネート、光磁気記録層にＴｂＦｅＣ０膜を用
い、プラスチック基板と光磁気記録膜の間の誘電体層及
び光磁気記録層の保護膜としてｌｎＳを用いた媒体であ
る。このように、光磁気記録膜は両面もしくは片面から
誘電体により保護された構造になっている。これにより
、光磁気膜が大気にざらされている場合に比べ光磁気記
録膜の寿命は大幅に長くなる。現在の技術レベルでは５
〜６年と考えられている。

しかし、実用化のためには少なくとも１０年の寿命が必
要であることを考えると現在の技術では実用化には不充
分である。

前述の代表的構成の光磁気記録媒体を６０℃、　９０％
ＲＨの加速試験にかけたところ、約５０時間で記録膜に
ピンホールが発生し、Ｃ／Ｎ及びＢＥＲ（ビットエラー
レート）の低下が認められた。

又、光磁気記録膜が大気に接したまま保存されると、大
気中の酸素や水により選択的に腐蝕おるいは酸化されて
しまい、情報の記録、再生が不可能となる。

そこで、一般には、前記光磁気記録膜の表面に保護層を
設けたり、または媒体の記録層側へ透明プラスチック基
板を接着させる（片面記録媒体）とか、２つ媒体をその
記録層が対向するように接着させる（両面記録媒体）こ
とにより耐久性向上を図ることが試みられている。

しかしながら現状では、Ｓｉｎ、　Ｓ！Ｏｚの如き防湿
性の無機保護層を設けた場合においても、均一で−様な
製膜が難しく、防湿性が充分な保護層は（ｑられず光磁
気記録層の経時劣化の改善は充分ではない。

また、常温硬化性樹脂による塗膜保護層でも充分な防湿
性は得られず、現段階では前述した保護用の透明プラス
チック基板を接着させるか或いは２つの光磁気記録媒体
同志を接着させることにより、水分、酸素の記録層への
透過を防止することにより、光磁気記録媒体の耐久性向
上を図ることに主眼が置かれている。所謂透明プラスチ
ック基板の貼合せによる方法である。

しかし実際には、接着により貼合せ構造の光磁気記録媒
体を得ようとする場合、接着剤（樹脂）硬化時の体積収
縮による媒体の反り等の歪及びそれによる記録膜のクラ
ック発生等の問題がある。

例えば、熱硬化型樹脂による接着の場合、長時間に亘る
加熱キュアのため、基板である透明プラスチック自体の
熱変形（歪など）に加えて、硬化樹脂の体積収縮に暴く
貼合せ媒体の反り、ざらには硬化樹脂の収縮が密着して
いる記録膜に歪を発生させ、クラックなどにつながる等
問題点が多く好ましくない。

（発明の目的） 本発明の目的は、高温高湿度雰囲気中においても光記録
層の劣化が防止され、耐湿熱劣化性のすぐれた光記録媒
体を供給することにある。

上記本発明の目的は、更に具体的に述べると、光記録層
への透明プラスチック基板の接着貼合せ、或いは光記録
媒体同志の接着貼合ぜにより、記録層を水分及び酸素か
ら保護するようになした貼合せ構造の光記録媒体に関し
、高温・長時間の熱硬化によるプラスチック基板の熱歪
等を発生させることなく、光記録層と接触する接着剤が
長期に亘って記録層に対し安定であり、かつ湿熱雰囲気
下においても優れた接着力を有する貼合せ構造の光記録
媒体を提供することである。

（発明の構成） 本発明は、前述の貼合せ構造すなわち２枚の透明プラス
チック基板からなり、少なくともその一方に、記録層を
積層し、記録層が内側になるように透明プラスチック基
板を接着剤により接着させた貼合せ構造の光記録媒体に
おいて、該接着剤が（Ａ）架橋性オリゴマー （Ｂ）多官能のアクリル酸エステル及び／またはメタア
クリル酸エステル （Ｃ）光重合開始剤 から主として成る紫外線硬化型樹脂であり、（１）前記
架橋性オリゴマーのアクロイル基当りの分子量が少くと
も１５０であり、 （２）３官能以上のアクリル酸エステル及び／またはメ
タアクリル酸エステルの含有量が少くとも１５重量％で
おり、 （３）硬化後の膜の軟化点が５０’Ｃ以上であることを
特徴とする光記録媒体でおる。

本発明においては、紫外線硬化樹脂中、架橋性オリゴマ
ーはそのアクロイル基当りの分子量が少くとも１５０で
おるものを使用する。好ましくは３５０以上でおり、特
に好ましくは１，０００以上である。

ここで、アクロイル基当りの分子量が１５０より小さい
場合、紫外線照射による架橋膜の物性は伸びが小さく脆
いものとなる。その結果、貼合せ接着力は弱くなり、更
に湿熱雰囲気下での低下が著しく実用に適さない。

架橋膜の靭性（タフネス）及び硬化時の体積収縮という
点から見て、架橋性オリゴマーのアクロイル基当りの分
子量は大きい方がより望ましい。

湿熱雰囲気下等での基板変形への接着硬化膜の追随、更
には貼合せ時紫外線照銅による硬化収縮に起因する媒体
歪（記録膜の浮き上がりや媒体の反り等）を極力なくす
ためには、架橋性オリゴマーのアクロイル基当りの分子
量は３５０以上が好ましく、更にｉ、ｏｏｏ以上がより
好ましい。

本発明で用いる架橋性オリゴマーは、分子中に少くとも
１つのエチレン性不飽和結合を有する付加重合可能な化
合物をいい、代表的なものとして次の７クリレート及び
又はメタアクリレート（以下パ（メタ）アクリレート′
と略称する場合がある）化合物を例示することができる
。

ポリエステル（メタ）アクリレート、ポリエーテル（メ
タ）アクリレート、ポリウレタン（メタ）アクリレート
、エポキシ（メタ）アクリレート。

シリコーン（メタ）アクリレート等である。これらの具
体例として、ざらに次のものを挙げることができる。

ポリブチレンアジペートジアクリレート、ポリエチレン
グリコールジメタアクリレート、ポリプロピレングリコ
ールジアクリレート、（ポリエステルグリコールとイソ
シアナートから成る）ポリウレタンのジアクリレート、
スピログリコールウレタンジアクリレート、ビスフェノ
ールＡ型エポキシアクリレート、ビスフェノールＦ型エ
ポキシメタアクリレート、フェノールノボラック型エポ
キシアクリレート、クレゾールノボラック型エポキシメ
タアクリレート、ポリジメチルシロキサンジメタクリレ
ート等。

これらのアクリレート類は実用性に冨む架橋性オリゴマ
ーとして有用であるが、これら以外の架橋性オリゴマー
として不飽和ポリエステル、ダツプ樹脂の如きアリル樹
脂、スチレン共重合体の如きビニル樹脂、あるいは、側
鎖に活性基を有するポリアミド、ポリ「クレタン、ポリ
エステル、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリ
フェニレンオキシド等の如き樹脂をアクリル酸エステル
変性したものも充分に使用できる。

本発明の架橋性オリゴマーは少くとし１５市ω％、好ま
しくは２５重量％以上用いることが望ましい。

この架橋性オリゴマーは、１種類でもよいし、２種以上
を併用してもよい。

本発明で用いる３官能以上のアクリル酸エステル及び／
またはメタアクリル酸エステルは少くとも１５重量％使
用する。好ましくは２０重量％以上であり、特に好まし
くは２５重量％以上である。

３官能以上のアクリル酸エステル及び／またはメタアク
リル酸エステルが１５重量％より少い場合、紫外線によ
り硬化した膜の架橋度が不足し、接着強力などの初期物
性の低下のみならず湿熱雰囲気下における接着力の低下
が著しく実用的でない。

本発明で用いる３官能以上のアクリル酸エステル及び／
またはメタアクリル酸エステルの代表的なものとして次
のものを挙げることができる。

トリメヂロールプロパントリ（メタ）アクリレート、テ
トラメチロールメタン１〜す（メタ）アクリレート（以
上３官能）、テトラメチロールメタンテトラ（メタ）ア
クリレート２ヘキサメチレンジイソシアートとグリセリ
ン付加物のジアクリレート・ジメタクリレート（以上４
官能）、ジペンタエリスリトールへキナアクリレート、
及び次式（Ａ）で示されるトリアクリレート・トリメタ
アクリレート（以上６官能）等である。

・・・・・・（Ａ） δ　　　　０ 実際に使用する紫外線硬化型樹脂には上記の３官能以上
の（メタ）アクリレートの外に２官能（メタ）アクリレ
ートあるいは単官能（メタ）アクリレートを併用するこ
とが可能であり、粘度調節及び硬化後の物性最適化の点
から各種のアクリル酸エステルを選ぶことができる。

紫外線照射により得られた本発明の硬化膜の軟化点は５
０℃以上でなければならない。好ましくは８０℃以上で
おり、特に好ましくは１１５°Ｃ以上である。

ここで用いる「軟化点」の定義は次の通りである。［ダ
イナミック熱機械分析装置（米国、　ＤｕＰＯｎｔ社ｌ
ＤＭＡ　９８２型）により測定したヤング率損失［Ｉ＋
の極大値を与える温度」を架橋により硬化した膜の軟化
点とする。

硬化膜の軟化点が５０℃より低い場合、硬化膜の耐熱性
が不足し、湿熱雰囲気下における接着力の低下が署しく
好ましくない。

更に、レーザー照射時の瞬間的昇温も繰返されることに
より硬化膜の疲労を促進し経時劣化を助長することにな
るので軟化点は５０℃より高いことが必要であり、望ま
しくは８０’Ｃ以上、特に１１５°Ｃ以上であれば極め
て優れた耐熱性を有することになる。

一般に、高分子物質の耐熱性指標としてガラス転移点（
Ｔｇ）が多く用いられる。

しかし、架橋高分子の場合、セグメント運動単位がかな
り大きな分布を有すると考えられ、このため試料高分子
の温度変化に伴う熱的状態の変化（熱膨服係数等）は明
瞭でないことが多く、通常の鎖状高分子等で観測される
明らかなＴ（Ｉを得ることが難しい。このため、試料高
分子の粘弾性の比率ｔａｎδ（ヤング率に対するヤング
率損失の比率）を丁ｇと見なす例も児受けられるが、普
通ｔａｎδはＴｇより高く、ざらに測定周波数が高い程
ｔａｎδは高温側にずれるため好ましい方法とは言えな
い。

上記の点に留意して、本発明者らは架橋高分子の耐熱性
の指標として、先に定義した硬化膜の軟化点（試料高分
子のヤング率損失Ｅ′の極大値を与える温度）を用いた
。

本発明でいう軟化点を求める硬化膜は次のようにして作
成した。

清浄なガラス板上に測定する紫外線硬化樹脂組成液を置
き、スペーサーにより硬化後の膜厚が０゜１〜０．５ｍ
ｍとなるようにしてドクターナイフで均一に塗布した。

次いでガラス板ごと樹脂の上部から高圧水銀灯（８０ｗ
／ｃｍ）により紫外線照射して硬化膜を得た。膜厚によ
り照射時間を加減し、充分架橋し物性的に満足しうる硬
化膜を得、軟化点を測定した。

次に具体例を挙げる。ビスフェノールＡ型エポキシアク
リレート（５０ｗｔ％）、トリメチロールプロパントリ
アクリレート（３０ｗｔ％）及びネオペンチルグリコー
ルジアクリレート（２０ｗｔ％）からなる組成物に増感
剤としてＤａｒＯＣ（Ｊｒ　１１７３　（）ｆｅｒｃｋ
社）（１，０ｗｔ％）を添加し、上記の方法に従って紫
外線照射により硬化膜を得た。ダイナミック熱機械分析
装置（米国、　Ｄｕ　ｐｏｎｔ社、　ＤＭＡ　９８２型
〉により測定した該硬化膜のヤング率損失（Ｅ”）は１
１５℃に４粗大点を有し、これを該硬化膜の軟化点と見
做した。

一方、市販の紫外線硬化型樹脂である大日本インキ化学
工業■製品ｒｓＤ−１７Ｊについて同様な硬化膜を得、
ヤング率損失（Ｅ”）を測定したところ室温以上で極大
点を示さず、ここでいう軟化点が室温以下であり耐熱性
の低い結果を示した。

なお、本発明において、Ｔｂ、　ＤＶ、　Ｎｄ等の希土
類金属を含む光磁気記録膜等の如く酸化し易い記録膜に
使用する場合、特にこの記録膜等直接接して用いる場合
、その酸化劣化の防止という面から前記紫外線硬化型樹
脂は、その酸化が１．５以下であることが好ましい。更
に好ましくは０．９以下、特に好ましくは０．５以下で
ある。酸価が１．５より大きい場合、記録膜が酸化劣化
（腐蝕）され易く、例えば前述の光磁気記録膜の場合湿
熱雰囲気下に保つと、最初記録膜にピンホールが発生し
、次第に増加し、次いで記録膜は透明化し、最後に記録
膜自体が消失してしまう。なお、本発明で用いるｒｔｔ
＃ＪＪは、試料１ｇを中和するのに必要な水酸化カリウ
ム（ＫＯＨ＞のミリグラム数で表わす。

この酸価は、硬化前の液状樹脂については、以下の手順
で測定する。

（ア）試料を必要１を精密にはかり取る。

（イ）滴定容器に移し、二酸化炭素を除いたガス（例え
ばＮｚ）を容器中へ流し込む。

（つ）溶媒（通常、エタノール−水等容混合物を用いる
。試料によりエチレングリコールメチルエーテル又はジ
オキサン等の溶媒を用いる）の適当量を加え、かきまぜ
ながら加温して試料を溶解する。

（工〉指示薬としてフェノールフタレイン（またはチモ
ールフタレイン）及び必要に応じ予め煮沸して中性にし
た水を加える。

（オ）Ｎ／ｌｏｏ水酸化カリウム（ＫＯＨ＞を用いて滴
定する。

（滴定には、０．０２ｍまで目盛られたミクロビユレッ
トを用いる） （力）Ｍ価（Ａｃｉｄ　Ｖａｌｕｅ）は次式により計唾
する。

ＶＸＮＸ５６．１０８Ｘ１０３ 酸価＝□ ここで、Ｗ：試料の車量［ｎ＋ｏ　］ Ｖ：使用した水酸化カリウムの液■ ［Ｉｎ！！］ Ｎ：水酸化カリウム液の規定度 又硬化後の硬化樹脂については、下記手順で試料を調整
後、液状樹脂の手順（１）〜（カ）と同じようにして測
定する。

（ア）試料となるべき硬化樹脂を充分に粉砕する。

（イ）粉砕した試料の必要量を精密にはかり取る。

（つ）滴定容器に移し、二酸化炭素を除いたガス（例え
ばＮ２）を容器中へ流し込み充分置換する。

（１）溶媒（通常、エタノール−水等容混合物を用いる
。試料によりエチレングリコールメチルエーテルまたは
ジオキサン等の溶媒を用いる）の適当量を加え、還流冷
却器（ｒｅｆｌｕｘ　ｃｏｎｄｅｎ−ｓｅｒ）を付けて
、少くとも６０分間還流する。

なあ、本発明において紫外線硬化型樹脂は、光記録媒体
においては紫外線により硬化した硬化樹脂を、製法にお
いては硬化前の液状樹脂を意味する。

ところで、本発明における紫外線により硬化しつる樹脂
または紫外線照射により硬化した樹脂が示す酸性の度合
い（酸価が１つの指標である）は、樹脂中に含まれる遊
離酸に依存している。即ち、アクリル酸エステルまたは
メタアクリル酸エステル中に含まれる未反応のアクリル
酸またはメタアクリル酸に代表されるカルボン酸、エス
テル反応触媒として一般に用いられる硫酸等の無機酸、
更に製造工程上混入してくる痕跡の酸性物質（α−等）
が主である。

これらを除くためには、酸性物質を中和し、）濾過を繰
返すことが常道であるが、本発明が目指す低い酸価を達
成するためには、さらに蒸沼（低分子量化合物）、イオ
ン交換、あるいは清浄な水（または水−溶媒混合液）に
よる洗浄が必要であり、これらを組合せるか、有効な方
法を繰返すことが重要である。

更に実際に使用に際して上記紫外線硬化樹脂には周知の
如く光重合開始剤が使用される。かかる光重合開始剤と
しては、アセトフェノンやベンゾフェノン及びこれらの
各種誘導体が主でおり、これらの具体例としては次のも
のを挙げることができる。

［）ａｒｏｃｕｒ　１１１Ｂ、　Ｄａｒｏｃｕｒ　１１
７３　（以上）ｌｅｒｃｋ社）。

Ｖｉｃｕｒ　５５　（Ｓｔａｕｆｆｅｒ社）　、　Ｉｒ
ｇａｃｕｒ　６５１．　　Ｉｒｇａｃｕｒ１８４（以上
Ｃｉｂａ−ＧｅｉｇＶ社）等である。

ざらに、ベンゾインエチルエーテルの如きベンゾインエ
ーテル系の光重合開始剤を使用することも可能である。

これらは、１種のみ使用することも、また２種以上併用
することもできる。

これら光重合開始剤の使用量は、紫外線硬化型樹脂組成
物１００部に対し、少くとも０．３重量部、好ましくは
１．０重量部以上、特に好ましくは２．０重量部以上用
いる。

本発明の接着層は、以上の紫外線硬化型樹脂の塗布によ
り形成される。中でもスピンコードが膜厚の均−化及び
生産面で好ましく適用される。又、貼り合わせる両基板
に接着層を予め形成し、次いで貼り合わせる方法が気泡
混入防止等から好ましい。

かかる面から紫外線硬化型樹脂の粘度は、２５℃におい
て１０〜５，０００　ｃｐｓである。好ましく−は５０
〜２．０００　ＣｐＳ　、特に好ましくは１００〜１，
０００　ｃｐｓで必る。

粘度がｉｏ　ｃｐｓより低い場合、樹脂が流れ易く、貼
合せ時にタレ易いなど扱いにくい外、重ね合せる場合に
気泡が発生し易く作業性が劣り好ましくない。

５．０００　ｃｐｓより高い場合、均一なＨＥに拡げに
くく、かつ徂ね合せる時に大きな抑圧が必要である外、
−度気泡が入ると脱泡が困難である。また、自動計量→
供給に時間がかかり作業性もよくない。

なお、粘度の測定はＢ形粘度系ＢＨ形（東京計器製）を
用いて常法により行なう。

以上の本発明を、以下光磁気記録媒体を例に説明するが
、本発明は光磁気記録媒体に限定されるものではなく、
光磁気記録層と同様の劣化を伴なう光記録層を用いる光
記録媒体に広く適用できるものであることは、その趣旨
から明らかである。

第１図、第２図は本発明になる光磁気記録媒体の代表構
成例の部分側断面図である。第１図は、光磁気記録層を
設けた透明プラスチック基板１に単なる透明プラスチッ
ク基板１゛を接着貼り合わせた片面記録媒体の例であり
、光磁気記録層３にＳｉＯ，Ａｉ！Ｎなどの保護層４を
介して接着層５により透明プラスチック基板１°が貼合
されている。

第２図は、両面記録媒体の例であり、光磁気記録層３及
び３゛上に各々保護層４，４”が形成された透明プラス
チック基板１，１°が光磁気記録層３．３°が内側にな
るように接着層５により接着貼合された例である。

尚、図において２，２゛は誘電体層である。

これらの接着層５は、スパッタリング等により得られた
光磁気記録層３（３°）又は保護層４（４°）の上に、
前述の通りスピンコードあるいはロールコート等により
塗イ５する外、貼合せる透明プラスチック基板間に介在
させた後抑圧して仝而に塗布する方法等により設けるこ
とができる。塗布厚みは、０．５〜１，０００　μｍ　
、好ましくは１０〜５００μｍである。次いで、紫外線
照射により硬化接着することができる。

単なる透明プラスチック基板を貼合せる場合、紫外線照
射は単なる透明プラスチック基板側から行なうことで充
分に硬化させることが可能である。

一方、光磁気記録層を形成した透明プラスチック基板同
志を貼合せる場合、記録層の部分は基板のように透明で
はないため紫外線を通しにくく、外周及び内周の記録層
のない透明部分を通過した紫外線による硬化に頼らざる
を（坪ないため短時間硬化が難しい。このため、一方ま
たは両方の貼合１面に予め光重合触媒を含むプライマー
液を塗布しておき、その上に接着層を設は貼合せた後紫
外線照射し仝而の硬化反応を短時間で終了させることが
できる。光重合触媒としては、ベンゾイルパーオキ（Ｊ
イド等の過酸化物、鉄、ニッケル等の金属イオンあるい
は酸化還元系触Ｉｓ等が多く使用される。

上述の光磁気記録媒体は、接着層を除いてその構成は特
に限定されず、公知の構成がそのまま適用できる。例え
ば透明基板としてはポリカーボネート樹脂、アクリル樹
脂等の透明プラスチック基板から、誘電体層としてはＺ
ｎＳ、Ｓｉｎ、ＡｉＮ等から、光磁気配ＢＢとしてはＦ
ｅＴｂＣｏ、　ＦｅＴｂＧｄ合金等のＦｃＴｂ系の合金
、　Ｆ（１’Ｎｄ系の合金等からなるものが挙げられる
。中でも光磁気記録層が耐湿性に乏しい例示のＦｅ丁ｂ
ＣＯ合金等に効果が大きい。そしてこれら誘電体層、光
磁気記録層は常法例えばスパッタリング法等の物理蒸着
法によって形成される。

以下に本発明による上述の光磁気記録媒体の実施例を具
体的に説明するが、本発明はこれらの実施例によってい
ささかの限定を受けるものではない。

実施例１〜４．比較例１，２ 第１図に示す積層構成の光磁気記録媒体を以下のように
して作成した。なお、第１図において、１、］゛は透明
プラスチック基板、２は誘電体層。

３は光磁気記録層、４は無機物保護層、５は接着層であ
る。

すなわち、直径１３０ｍｍ　、厚さ１．２ｍｍの円板で
１．６μｍピッチのグル−プを有するポリカーボネート
樹脂（ＰＣ）から成る基板１をターゲラ８３個装着可能
な高周波マグネトロンスパッタ装置（日電アネルバ■製
５ＰＦ−４３０型）の真空槽内に固定し、４　ｘ　１０
−７　Ｔｏｒｒ以下になるまで排気する。なお、膜形成
において基板１は水冷し、１５ｒｐｍで回転させた。

次に、酊ガスを真空槽内へ導入し、圧力５．３×１０−
３　ｒｏｒｒになるようにＡｒガスの流量を調整し、直
径１００ｍｍ　、厚さ５ｍｍのＺｎＳ円盤をターゲット
とし、放電電力１００Ｗ、放電周波数１３．５６　ＭＨ
２で高周波スパッタリングを行ない、誘電体層２として
ＺｎＳ膜を６５０人堆積した。

次いで記録層３としてＴＩ）２３Ｆ　８６ｇｃＯａ合金
（添数字は組成（原子％）を示す）に変え、Ａｒガスを
真空槽内に導入し上述と同様の放電条件でＴｂＦｃＣｏ
合金膜を８００人堆積した。更に、無機保護層４として
、ターゲットを　ＡＪ！Ｎに変え、Ａｒガスを真空槽内
に導入し上述と同様の放電条件でＡｉＮ膜を５００人堆
積した。

第１表に示した架橋性オリゴマー及び多官能アクリレー
トを含有する紫外線硬化型樹脂による接着層５をスピン
コーターにより約５０μｍの厚さに均一に塗布した後、
同じポリカーボネートよりなる単なる透明プラスチック
基板１′を気泡を入れないように市ね貼合せると共に、
少なくとも記録層３の側面まで上記紫外線硬化型樹脂で
被覆した。

次いで透明プラスチック基板１゛の側から８０４／ｃｍ
の高圧水銀灯により紫外線を照射し樹脂を硬化させるこ
とにより接着させ、側面被覆の第１図に示す貼合せ構造
の片面記録媒体を（ｑだ。ｊｑられた各媒体に付いて６
０’Ｃ，９０％ＲＨの雰囲気下で加速劣化試験を行なっ
た。

一方、前述のように、第１表に記した組成の紫外線硬化
樹脂をガラス板上に塗布し、紫外線照射により硬化膜を
得、ダイナミック熱機械分析装置（ＤＮＡ　９８２型）
により各々硬化膜の軟化点を測定した。また、その酸価
も測定した。

これらの結果は第１表に示した。なお、第１表において
光重合開始剤の添加量単位のＰＨＲ（Ｐａｒｔｓ　ｐｅ
ｒ　　旦ｕｎｄｒｅｄ　　Ｒｅｓｉｎ）は樹脂１００部
に対する添加重量部のことである。

第１表に示した架橋性オリゴマーの化学構造式、（メタ
）アクリル酸エステル及び光重合開始剤の１１８号は各
々次の通りでおる。

・３官能以上の（メタ）アクリレート ＴＭＰＴＡ　：　トリメチロールプロパントリアクリレ
ート ＣＨ２０ＣＯＣＨ＝ＣＨ２ ＤＰＥＨＡ　ニジペンタエリスリトールへキサアクリレ
ート ・他（メタ）アクリレート ＮＰＧ−ＤＡ：ネオベンチルグリコールジアクリレート ＨＤ−ＤＭ：１．６−ヘキサンシオールジメタクリレー
ト ・光重合開始剤 Ｄ：ダロキュア１１７３（メルク社製）■＝バイキュア
５５（ストウフトケミカル社製）Ｂ：ベンゾフェノン（
和光紬薬社製） 本発明の実施例１〜４は、比較例１，２に比較して、紫
外線硬化膜の軟化点がいずれも５０℃より高く、貼合せ
媒体の湿熱雰囲気下での耐久性結果も極めて良好である
。即ち、６０℃、　９０％ＲＨ、１０００ｈｒ経過後も
媒体の反り発生はなく、貼合せ部接着も強固で剥離の兆
候は全く見られず、かつ媒体の記録膜にもピンホール、
孔食の如き劣化は認められない。これには酸価が１．５
以下と小さい点も寄与していると考えられる。

一方、比較例１は、架橋性オリゴマーのアクロイル基当
りの分、子量が１０７と小さく、硬化膜の軟化点が２０
℃より低い上に酸価が１．５より大きいため、貼合せ媒
体の湿熱劣化テストにより、媒体反りが大きく、接着部
の剥離を発生し、さらに記録膜は著しい酸化劣化を受は
使用に耐えない。

また、比較例２は、３官能以上の（メタ）アクリレート
であるトリメチロールプロパントリアクリレート（以下
ＴＭＰＴＡと略す）を僅か１０ｗｔ％しか含有しないた
め、硬化膜の架橋密度が不足し、初期の接着力低下をも
たらし、更に軟化点（４０℃）が５０℃より低いこと及
び酸価が１．５より大きいことも加わって、湿熱劣化テ
スト結果は、媒体の一部剥離及び記録膜の劣化を示した
。

実施例５〜８．比較例３ 実施例１〜４と同様に、マグネトロンスパッタリング装
置を用い、ＴｂＦｅＣｏ合金ターゲット。

Ｉｎ２０３ターゲツト及びＴｉターゲットにより、ポリ
カーボネートよりなる透明プラスチック基板１上にＩｎ
２０３　（６５０人）からなる誘電体層２２丁ｂＦｅｃ
。

（５００人）からなる光磁気記録層３及びＴｉ（５５０
人）からなる保護層４の順に膜を形成させた。

第２表に示した架橋性オリゴマー及び多官能アクリレー
トを含有する紫外線硬化型樹脂による接着層５を、上記
積層体の保護層４上とこれに貼り合わせる透明ポリカー
ボネート基板上の双方に実施例１〜４と同様にスピンコ
ーターにより夫々２５μｍ厚に形成し、次いで透明ポリ
カーボネート基板を重ね合わせた後紫外線照射により、
第１図に示す貼合せ構造の片面記録媒体を得た。このよ
うに重ね合わせに先立ち両接着面に接着層５を形成して
おくことにより、重ね合わせの際の気泡の混入を効果的
に防止できることがわかった。得られた各媒体に付いて
６０℃、９０％ＲＨの雰囲気下で加速劣化試験を行った
。

また、第２表に示した組成の紫外線硬化樹脂につき硬化
膜の軟化点、酸価も測定した。

これらの結果は第２表に示した。

第２表に示した架橋性オリゴマーの化学構造式、および
（メタ）アクリル酸エステルの略号は各々次の通りであ
る。その他略号は第１表と同じである。

・３官能以上の（メタ）アクリレート Ｕ−４８Ａ：ウレタンジメタクリレートージアクリレー
ト （他アクリレート及び光重合開始剤の略号は実施例１〜
４と同じ。） 本発明の実施例５〜８は、比較例３に比較して、紫外線
硬化膜の軟化点がいずれも５０℃より高く、貼合せ媒体
の湿熱雰囲気下での耐久性試験は優れた結果である。

即ら、６０℃、　９０％ＲＨ、１０００ｈｒ経過後も貼
合せ部は強固な接着で剥離は認められなく、また記録膜
の劣化も発生しなかった。これは酸価が１．５以下と小
ざいことも寄与していると考えられる。

一方、比較例３は、架橋性オリゴマーのアクロイル基当
りの分子種が１２１と小さいため、紫外線硬化後に硬化
膜の収縮に起因すると考えられる媒体の反りが大きく実
用上問題である。ざらに、硬化膜の軟化点が２０℃以下
と低く酸価も１．５より大きいため、６０℃、９０％Ｒ
Ｈ雰囲気下での耐久性結果も、接着層剥離及び記録膜の
劣化を示した。

（発明の効果） 前述したところから明らかなように、本発明によれば、
貼合せ構造の光記録媒体において、接着剤として、 （Ａ）架橋性オリゴマー （８）多官能（メタ）アクリル酸エステル（Ｃ）光重合
開始剤 かう主として成り、 （１）前記架橋性オリゴマーのアクロイル基当りの分子
量が少くとも１５０であり、 （２）３官能以上のアクリル酸エステル及び／またはメ
タアクリル酸エステルの含有量が少くとも１５重量％で
あり、 （３）硬化膜の軟化点が５０℃以上 でおることを特徴とする紫外線硬化型樹脂を用いれば、
高温多湿雰囲気下においても長期耐久性（高接着性の維
持、記録膜の安定性）の充分優れた光記録媒体が１ｑら
れる。特に酸価が１．５以下のものについては記録膜の
劣化に対して有利でおる。

従って、本発明は上述した如く記録膜劣化が問題となる
ＴｂＦｅＣｏ系合金あるいはＮｄＤｙＦｅＣｏ系合金等
で代表される希土類金属と遷移金属の合金膜からなる光
磁気記録膜を用いる光磁気記録媒体において特に大きな
効果を秦する。このように、本発明は光記録媒体、中で
も光磁気記録媒体の耐久性向上に大きく寄与するもので
ある。

【図面の簡単な説明】

第１図は、本発明になる単なる透明プラスチック基板を
貼合せた片面記録の光磁気記録媒体の例の部分概略断面
図である。 第２図は、第１図の単なる透明プラスチック基板を記録
層付に替えて貼合せた両面記録の例の部分概略断面図で
ある。 １．１°　：透明プラスチック基板、２，２°　：誘電
体層、３．３’：光磁気記録層、４．４’：保護層、５
：接着層

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、２枚のディスク状の透明プラスチック基板からなり
   、少なくともその一方に、記録層を積層し、かつ記録層
   が内側になるように透明プラスチック基板を接着剤によ
   り接着させた貼合せ構造の光記録媒体において、該接着
   剤が （Ａ）架橋性オリゴマー （Ｂ）多官能のアクリル酸エステル及び／またはメタア
   クリル酸エステル （Ｃ）光重合開始剤 から主として成る紫外線硬化型樹脂であり、（１）前記
   架橋性オリゴマーのアクロイル基当りの分子量が少くと
   も１５０であり、 （２）３官能以上のアクリル酸エステル及び／またはメ
   タアクリル酸エステルの含有量が少くとも１５重量％で
   あり、 （３）硬化後の膜の軟化点が５０℃以上であることを特
   徴とする光記録媒体。 ２、前記紫外線硬化樹脂の酸化が１．５以下である請求
   項第１項記載の光記録媒体。 ３、前記記録層が光磁気記録層である請求項第１項又は
   第２項記載の光記録媒体。 ４、該記録層の基板側に誘電体層が、接着側に保護層が
   設けられた請求項第１項、第２項又は第３項項記載の光
   記録媒体。